JPH0350490Y2 - - Google Patents
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- JPH0350490Y2 JPH0350490Y2 JP1988161211U JP16121188U JPH0350490Y2 JP H0350490 Y2 JPH0350490 Y2 JP H0350490Y2 JP 1988161211 U JP1988161211 U JP 1988161211U JP 16121188 U JP16121188 U JP 16121188U JP H0350490 Y2 JPH0350490 Y2 JP H0350490Y2
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- beam splitting
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- optical system
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 29
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 claims description 10
- 230000004075 alteration Effects 0.000 claims description 6
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 206010010071 Coma Diseases 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0025—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/14—Beam splitting or combining systems operating by reflection only
- G02B27/144—Beam splitting or combining systems operating by reflection only using partially transparent surfaces without spectral selectivity
Description
【考案の詳細な説明】
産業上の利用分野
本考案は、マイクロ投影装置用の観察光学系に
関し、かつさらに詳しくは、マスクの像を感光性
ウエーハ上に形成するマイクロ投影装置中へ挿入
し、像面へ投影された像をその画質、寸法または
位置に影響を与えずに観察するための、光学的に
等価の厚さゼロの新たな薄膜光束分割装置に関す
る。本考案による光学系は、マイクロ投影装置中
の光学列中へ挿入し、感光性ウエーハ上に形成さ
れたマスクの像を観察することにより、このマス
ク像とウエーハ上のパターンとの緊密な整列を得
るために使用される。
関し、かつさらに詳しくは、マスクの像を感光性
ウエーハ上に形成するマイクロ投影装置中へ挿入
し、像面へ投影された像をその画質、寸法または
位置に影響を与えずに観察するための、光学的に
等価の厚さゼロの新たな薄膜光束分割装置に関す
る。本考案による光学系は、マイクロ投影装置中
の光学列中へ挿入し、感光性ウエーハ上に形成さ
れたマスクの像を観察することにより、このマス
ク像とウエーハ上のパターンとの緊密な整列を得
るために使用される。
従来の技術
マイクロ投影装置中に使用される光学列の適当
な例が米国特許明細書第3748015号に記載されて
いる。
な例が米国特許明細書第3748015号に記載されて
いる。
課題を解決するための手段
本考案によれば、前述の装置において、
光路中で像面の前方にあつて、光束を像面へ透
過させかつ、この像面から反射された１部分の光
束を観察方向へ反射させるように配置されたビー
ムスプリツト部材；および 前記ビームスプリツト部材の前方にあつて、そ
れらの凹面が相互に対向するように配置されてい
る、前記ビームスプリツト部材により惹起される
像の移動および収差を補正する装置を形成する１
対のメニスカスレンズ部材；より成り、 かつ前記それぞれのビームスプリツト部材およ
びメニスカスレンズ部材が無焦点であり、従つて
この光学系が等倍である観察光学系が得られる。
過させかつ、この像面から反射された１部分の光
束を観察方向へ反射させるように配置されたビー
ムスプリツト部材；および 前記ビームスプリツト部材の前方にあつて、そ
れらの凹面が相互に対向するように配置されてい
る、前記ビームスプリツト部材により惹起される
像の移動および収差を補正する装置を形成する１
対のメニスカスレンズ部材；より成り、 かつ前記それぞれのビームスプリツト部材およ
びメニスカスレンズ部材が無焦点であり、従つて
この光学系が等倍である観察光学系が得られる。
さらに本考案の１実施例において、ビームスプ
リツト部材がビームスプリツトキユーブより成
る。
リツト部材がビームスプリツトキユーブより成
る。
前記構造において、本考案による光学系は、像
面から反射された１部分の光束の観察を可能にす
るビームスプリツト部材、およびこのビームスプ
リツト部材の前方に配置された、ビームスプリツ
ト部材により惹起される像の移動および収差を補
正する装置としての１対のメニスカスレンズ部材
より成る。ビームスプリツト部材およびメニスカ
スレンズ部材はそれぞれ無焦点であるので、これ
ら部材より成る本考案の光学系は等倍である。
面から反射された１部分の光束の観察を可能にす
るビームスプリツト部材、およびこのビームスプ
リツト部材の前方に配置された、ビームスプリツ
ト部材により惹起される像の移動および収差を補
正する装置としての１対のメニスカスレンズ部材
より成る。ビームスプリツト部材およびメニスカ
スレンズ部材はそれぞれ無焦点であるので、これ
ら部材より成る本考案の光学系は等倍である。
従つて本考案による光学系は、１対のメニスカ
スレンズ部材により、ビームスプリツト部材によ
り惹起される焦点移動、コマ、歪曲および横の色
収差等の諸収差が補正されるとともに、それぞれ
の部材が無焦点であることにより、この光学系が
縦軸方向に移動しても不断に等倍であり、従つて
この縦軸方向の移動に対し像位置が不感である。
スレンズ部材により、ビームスプリツト部材によ
り惹起される焦点移動、コマ、歪曲および横の色
収差等の諸収差が補正されるとともに、それぞれ
の部材が無焦点であることにより、この光学系が
縦軸方向に移動しても不断に等倍であり、従つて
この縦軸方向の移動に対し像位置が不感である。
本考案による光学系は、前述のような作用を有
することにより、これが挿入されたマイクロ投影
装置の光路中で、感光性ウエーハの像面に投影さ
れたマスク像をその画質、寸法または位置に影響
を与えずに観察することを可能にし、その結果ウ
エーハ上のマスク像の結像状態を迅速に調節する
ことができるという利点が得られる。
することにより、これが挿入されたマイクロ投影
装置の光路中で、感光性ウエーハの像面に投影さ
れたマスク像をその画質、寸法または位置に影響
を与えずに観察することを可能にし、その結果ウ
エーハ上のマスク像の結像状態を迅速に調節する
ことができるという利点が得られる。
さらに本考案の光学系は、それぞれの構成部材
が無焦点であることにより、メニスカスレンズ部
材間の距離が変動しても無焦点のままであるの
で、組立て中にレンズ部材間の距離を調節し、像
を所望の位置に配置するという製造上の実際の利
点も得られる。
が無焦点であることにより、メニスカスレンズ部
材間の距離が変動しても無焦点のままであるの
で、組立て中にレンズ部材間の距離を調節し、像
を所望の位置に配置するという製造上の実際の利
点も得られる。
実施例
以下に、本考案を図面実施例につき詳説する。
第１図において、実線で示されるた影光１１がマ
イクロ投影装置中で、像面１３、すなわち感光性
ウエーハ上にマスクを結像する。ウエーハへの結
像状態を観察することを可能にするという要求が
なければ、それら投影光が直接に像面に投影され
ることができた。しかしながら前述せるように、
マスクの像とウエーハ上のパターンとを緊密に整
列させるため、ウエーハへの結像状態を観察する
必要がある。これを実施するため、例えばビーム
スプリツトキユーブ１５であつてもよいビームス
プリツト部材が光路中に挿入されている。光束
が、このビームスプリツトキユーブを像面へ透過
する；その後にこのビームスプリツトキユーブ１
５を透過しかつウエーハから反射された１部分の
光束１１が、ビームスプリツトキユーブへ戻りか
つその対角面により、光束１７により示されたよ
うに観察装置へ反射される。しかしながら、ビー
ムスプリツトキユーブが像移動および収差を生じ
させる。本考案によれば、これを補正するため、
換言すれば像面１３におけると同じ像点への収束
を保証するため、そのそれぞれが無焦点である２
つのメニスカスレンズ部材２１および２３より成
る無焦点等倍の光学系１９が光路中に挿入されて
いる。すなわち、ビームスプリツトキユーブを包
含するこの光学系は等倍である。この光学系を無
焦点とすることにより、このものは、この共役系
が場合により縦軸方向に移動した場合でも等倍の
ままである。また、像位置が縦軸方向に移動に不
感である。若干のマイクロ投影の用途で挙げられ
るのは、全光学系、すなわち部材１５，２１，２
３が１つのユニツトとして、投影光１１の光路中
へおよびその外へ旋回または回転することが所望
されることである。この光学系が無焦点および等
倍であるので、像位置が、このような運動に所要
の機械的許容差から生じる縦軸方向の移動に不感
である。
第１図において、実線で示されるた影光１１がマ
イクロ投影装置中で、像面１３、すなわち感光性
ウエーハ上にマスクを結像する。ウエーハへの結
像状態を観察することを可能にするという要求が
なければ、それら投影光が直接に像面に投影され
ることができた。しかしながら前述せるように、
マスクの像とウエーハ上のパターンとを緊密に整
列させるため、ウエーハへの結像状態を観察する
必要がある。これを実施するため、例えばビーム
スプリツトキユーブ１５であつてもよいビームス
プリツト部材が光路中に挿入されている。光束
が、このビームスプリツトキユーブを像面へ透過
する；その後にこのビームスプリツトキユーブ１
５を透過しかつウエーハから反射された１部分の
光束１１が、ビームスプリツトキユーブへ戻りか
つその対角面により、光束１７により示されたよ
うに観察装置へ反射される。しかしながら、ビー
ムスプリツトキユーブが像移動および収差を生じ
させる。本考案によれば、これを補正するため、
換言すれば像面１３におけると同じ像点への収束
を保証するため、そのそれぞれが無焦点である２
つのメニスカスレンズ部材２１および２３より成
る無焦点等倍の光学系１９が光路中に挿入されて
いる。すなわち、ビームスプリツトキユーブを包
含するこの光学系は等倍である。この光学系を無
焦点とすることにより、このものは、この共役系
が場合により縦軸方向に移動した場合でも等倍の
ままである。また、像位置が縦軸方向に移動に不
感である。若干のマイクロ投影の用途で挙げられ
るのは、全光学系、すなわち部材１５，２１，２
３が１つのユニツトとして、投影光１１の光路中
へおよびその外へ旋回または回転することが所望
されることである。この光学系が無焦点および等
倍であるので、像位置が、このような運動に所要
の機械的許容差から生じる縦軸方向の移動に不感
である。
第１図中の破線２５は、補正の行なわれる方法
を表わす。レンズ２１および２３にわたる屈折
が、ビームスプリツトキユーブ１５に入射する光
束を、一般にレンズ２１および２３が存在しなか
つたならばとるであろうそれら光束の位置から偏
倚させる。このことがビームスプリツトキユーブ
における屈折を補償し、従つてこれら光束は、ビ
ームスプリツトキユーブ１５から出射した後に、
本考案の全ての部材が挿入されなかつた場合と同
じ光路をフオローする。この方向で、ウエーハ上
のマスク像の位置および整列を観察するために必
要なビームスプリツトキユーブにより導入された
誤差が補償される。
を表わす。レンズ２１および２３にわたる屈折
が、ビームスプリツトキユーブ１５に入射する光
束を、一般にレンズ２１および２３が存在しなか
つたならばとるであろうそれら光束の位置から偏
倚させる。このことがビームスプリツトキユーブ
における屈折を補償し、従つてこれら光束は、ビ
ームスプリツトキユーブ１５から出射した後に、
本考案の全ての部材が挿入されなかつた場合と同
じ光路をフオローする。この方向で、ウエーハ上
のマスク像の位置および整列を観察するために必
要なビームスプリツトキユーブにより導入された
誤差が補償される。
第１図は、本考案による装置の１実施例の構造
を略示すする縦断面図である。 １１……投影光束、１３……像面、１５……ビ
ームスプリツトキユーブ、１７……観察方向へ反
射された光束、１９……無焦点等倍の光学系、２
１，２３……メニスカスレンズ部材、２５……補
正により生じた光束。
を略示すする縦断面図である。 １１……投影光束、１３……像面、１５……ビ
ームスプリツトキユーブ、１７……観察方向へ反
射された光束、１９……無焦点等倍の光学系、２
１，２３……メニスカスレンズ部材、２５……補
正により生じた光束。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 １ マスクの像を感光性ウエーハに形成するマイ
クロ投影装置中へ挿入し、像面へ投影された像
をその画質、寸法または位置に影響を与えずに
観察するための光学系において、この光学系
が、 光路中で像面１３の前方にあつて、光束を像
面１３へ透過させかつ、この像面から反射され
た１部分の光束を観察方向へ反射させるように
配置されたビームスプリツト部材１５；および 前記ビームスプリツト部材１５の前方にあつ
て、それらの凹面が相互に対向するように配置
されている、前記ビームスプリツト部材により
惹起される像の移動および収差を補正する装置
を形成する１対のメニスカスレンズ部材２１，
２３；より成り、 かつ前記それぞれのビームスプリツト部材１
５およびメニスカスレンズ部材２１，２３が無
焦点であり、従つてこの光学系が等倍であるこ
とを特徴とするマイクロ投影装置用の観察光学
系。 ２ 前記ビームスプリツト部材１５がビームスプ
リツトキユーブである請求項１記載の観察光学
系。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/070,568 US4288148A (en) | 1979-08-29 | 1979-08-29 | Beam-splitting optical system |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH021721U JPH021721U (ja) | 1990-01-08 |
| JPH0350490Y2 true JPH0350490Y2 (ja) | 1991-10-29 |
Family
ID=22096092
Family Applications (4)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11716080A Pending JPS5636623A (en) | 1979-08-29 | 1980-08-27 | Optical system for projector |
| JP1988161211U Expired JPH0350490Y2 (ja) | 1979-08-29 | 1988-12-12 | |
| JP1988161213U Expired JPH0350492Y2 (ja) | 1979-08-29 | 1988-12-12 | |
| JP1988161212U Expired JPH0350491Y2 (ja) | 1979-08-29 | 1988-12-12 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11716080A Pending JPS5636623A (en) | 1979-08-29 | 1980-08-27 | Optical system for projector |
Family Applications After (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1988161213U Expired JPH0350492Y2 (ja) | 1979-08-29 | 1988-12-12 | |
| JP1988161212U Expired JPH0350491Y2 (ja) | 1979-08-29 | 1988-12-12 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4288148A (ja) |
| EP (1) | EP0025832B1 (ja) |
| JP (4) | JPS5636623A (ja) |
| CA (1) | CA1143192A (ja) |
| DE (1) | DE3065609D1 (ja) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4412723A (en) * | 1981-05-28 | 1983-11-01 | The Perkin-Elmer Corporation | Optical system for correcting the aberrations of a beamsplitter in converging light |
| GB2162963B (en) * | 1984-08-07 | 1988-05-05 | Pilkington Perkin Elmer Ltd | Infra-red optical systems |
| US4711535A (en) * | 1985-05-10 | 1987-12-08 | The Perkin-Elmer Corporation | Ring field projection system |
| JP2563260B2 (ja) * | 1986-04-11 | 1996-12-11 | 松下電器産業株式会社 | 光ビ−ム走査装置 |
| US4890901A (en) * | 1987-12-22 | 1990-01-02 | Hughes Aircraft Company | Color corrector for embedded prisms |
| JP2510313Y2 (ja) * | 1990-11-20 | 1996-09-11 | 株式会社アイチコーポレーション | ブ―ム付き作業車の安全装置 |
| US5559629A (en) * | 1994-08-19 | 1996-09-24 | Tamarack Scientific Co., Inc. | Unit magnification projection system and method |
| US6567163B1 (en) | 2000-08-17 | 2003-05-20 | Able Signal Company Llc | Microarray detector and synthesizer |
| US6545758B1 (en) | 2000-08-17 | 2003-04-08 | Perry Sandstrom | Microarray detector and synthesizer |
| US7477392B2 (en) * | 2005-07-27 | 2009-01-13 | Key Technology, Inc | Electromagnetic energy measurement apparatus and method |
| US20090112482A1 (en) * | 2007-10-26 | 2009-04-30 | Sandstrom Perry L | Microarray detector and synthesizer |
| US9557547B2 (en) | 2014-07-24 | 2017-01-31 | University Of Rochester | Paraxial cloak design and device |
| US10739111B2 (en) | 2015-04-21 | 2020-08-11 | University Of Rochester | Cloaking systems and methods |
| WO2018027110A1 (en) | 2016-08-05 | 2018-02-08 | University Of Rochester | Virtual window |
| US10496238B2 (en) | 2016-08-22 | 2019-12-03 | University Of Rochester | 3D display ray principles and methods, zooming, and real-time demonstration |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3357769A (en) * | 1965-02-09 | 1967-12-12 | Kenneth B Thompson | Optical viewing apparatus |
| NL6701520A (ja) * | 1967-02-01 | 1968-08-02 | ||
| FR2134272B1 (ja) * | 1971-04-29 | 1975-02-21 | Cerco | |
| US3748015A (en) * | 1971-06-21 | 1973-07-24 | Perkin Elmer Corp | Unit power imaging catoptric anastigmat |
| US3726594A (en) * | 1971-12-09 | 1973-04-10 | Nippon Kogaku Kk | Image positioning optical arrangement in projection printing system |
-
1979
- 1979-08-29 US US06/070,568 patent/US4288148A/en not_active Expired - Lifetime
-
1980
- 1980-07-11 CA CA000355971A patent/CA1143192A/en not_active Expired
- 1980-07-17 EP EP80104203A patent/EP0025832B1/en not_active Expired
- 1980-07-17 DE DE8080104203T patent/DE3065609D1/de not_active Expired
- 1980-08-27 JP JP11716080A patent/JPS5636623A/ja active Pending
-
1988
- 1988-12-12 JP JP1988161211U patent/JPH0350490Y2/ja not_active Expired
- 1988-12-12 JP JP1988161213U patent/JPH0350492Y2/ja not_active Expired
- 1988-12-12 JP JP1988161212U patent/JPH0350491Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4288148A (en) | 1981-09-08 |
| JPH0350492Y2 (ja) | 1991-10-29 |
| JPH023520U (ja) | 1990-01-10 |
| JPH023519U (ja) | 1990-01-10 |
| CA1143192A (en) | 1983-03-22 |
| EP0025832B1 (en) | 1983-11-16 |
| JPS5636623A (en) | 1981-04-09 |
| JPH0350491Y2 (ja) | 1991-10-29 |
| EP0025832A1 (en) | 1981-04-01 |
| JPH021721U (ja) | 1990-01-08 |
| DE3065609D1 (en) | 1983-12-22 |
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