JPH0251165B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0251165B2 JPH0251165B2 JP57034366A JP3436682A JPH0251165B2 JP H0251165 B2 JPH0251165 B2 JP H0251165B2 JP 57034366 A JP57034366 A JP 57034366A JP 3436682 A JP3436682 A JP 3436682A JP H0251165 B2 JPH0251165 B2 JP H0251165B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- positive lens
- lens group
- image
- optical
- afocal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 63
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 claims description 28
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 13
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 241000276498 Pollachius virens Species 0.000 description 6
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000021615 conjugation Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70241—Optical aspects of refractive lens systems, i.e. comprising only refractive elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
- G02B13/22—Telecentric objectives or lens systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lenses (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、物体と像との距離が変化しても、物
体又は像の位置を一定に維持し得る光学系の改良
に関する。
体又は像の位置を一定に維持し得る光学系の改良
に関する。
従来、2つのレンズの間を平行光学系に構成し
て両者を相対的に移動することにより物体と像と
の距離を変え得る光学系が知られている。すなわ
ち、第1図A,Bに示すごとく、第1正レンズ
L01の前側焦点に物体Pを配置すれば第2正レン
ズL02の後側焦点に物体Pの像P′が形成され、両
レンズ間の距離を変えれば物体Pと像P′との距離
を任意に変えることができる。そして、像倍了は
両レンズの焦点距離の比で定まる一定値であり、
一方のレンズのみを移動すれば物体又は像の位置
を固定できることも周知である。ところが、この
光学系において、両レンズの間隔が第1図Aのご
とく両レンズの焦点距離の和(f1+f2)に等しい
場合に、像P′側から第2正レンズL02に入射する
光軸に平行な光線は図中点線で示すごとく第1正
レンズL01を射出後も光軸に平行になりいわゆる
テレセントリツク性が両側で維持されるが、第1
図Bのごとく両レンズの間隔が変わるともはや物
体P側でのテレセントリツク性は維持され得な
い。すなわち、両レンズの間隔を変えることによ
つて物体と像との距離を任意に変えることができ
ても、この光学系の瞳の共役関係を一定に維持す
ることはできない。従つて、物体Pを同軸落射照
明する場合にテレセントリツクな照明光を供給で
きるのは両レンズの間隔が特定の時のみであり、
他の場合には光源自体を移動しない限り、テレセ
ントリツク照明すなわちケーラー照明を行なうこ
とは不可能であつた。
て両者を相対的に移動することにより物体と像と
の距離を変え得る光学系が知られている。すなわ
ち、第1図A,Bに示すごとく、第1正レンズ
L01の前側焦点に物体Pを配置すれば第2正レン
ズL02の後側焦点に物体Pの像P′が形成され、両
レンズ間の距離を変えれば物体Pと像P′との距離
を任意に変えることができる。そして、像倍了は
両レンズの焦点距離の比で定まる一定値であり、
一方のレンズのみを移動すれば物体又は像の位置
を固定できることも周知である。ところが、この
光学系において、両レンズの間隔が第1図Aのご
とく両レンズの焦点距離の和(f1+f2)に等しい
場合に、像P′側から第2正レンズL02に入射する
光軸に平行な光線は図中点線で示すごとく第1正
レンズL01を射出後も光軸に平行になりいわゆる
テレセントリツク性が両側で維持されるが、第1
図Bのごとく両レンズの間隔が変わるともはや物
体P側でのテレセントリツク性は維持され得な
い。すなわち、両レンズの間隔を変えることによ
つて物体と像との距離を任意に変えることができ
ても、この光学系の瞳の共役関係を一定に維持す
ることはできない。従つて、物体Pを同軸落射照
明する場合にテレセントリツクな照明光を供給で
きるのは両レンズの間隔が特定の時のみであり、
他の場合には光源自体を移動しない限り、テレセ
ントリツク照明すなわちケーラー照明を行なうこ
とは不可能であつた。
本発明の目的は、物体と像との距離が変化して
も一部のレンズの移動により両者の共役関係を維
持するとともに、瞳位置等他の特定点に関係する
共役関係をも一定状態に維持し得る二重共役維持
光学系を提供することにある。
も一部のレンズの移動により両者の共役関係を維
持するとともに、瞳位置等他の特定点に関係する
共役関係をも一定状態に維持し得る二重共役維持
光学系を提供することにある。
そして、さらに物体と像との距離が変わつて
も、常に両側でテレセントリツク性が維持される
光学系、及び、常に完全なケーラー照明を維持す
ることのできる優れた光学系の提供を目的とす
る。
も、常に両側でテレセントリツク性が維持される
光学系、及び、常に完全なケーラー照明を維持す
ることのできる優れた光学系の提供を目的とす
る。
本発明による2重共役維持光学系は複数のレン
ズ群からなるアフオーカル系とこれの両側にそれ
ぞれ同軸配置された2つの正レンズ群とを有し、
2つの正レンズ群のうち一方及びアフオーカル系
が光軸にそつて移動可能に構成され、該光学系に
関して共役や物体と像との距離が変化した場合に
移動可能正レンズ群とアフオーカル系とを所定の
関係で連動することによつて2組の共酪関係を維
持するものである。
ズ群からなるアフオーカル系とこれの両側にそれ
ぞれ同軸配置された2つの正レンズ群とを有し、
2つの正レンズ群のうち一方及びアフオーカル系
が光軸にそつて移動可能に構成され、該光学系に
関して共役や物体と像との距離が変化した場合に
移動可能正レンズ群とアフオーカル系とを所定の
関係で連動することによつて2組の共酪関係を維
持するものである。
以下本発明を図面を参照して説明する。第2図
A,Bは本発明の基本構成図である。第1正レン
ズ群L11と第2正レンズ群L12との間に負レンズ群
L21と正レンズ群L22とから成るアフオーカル系
L20が配置されている。第1正レンズ群L11の前側
焦点上に配置された物体Pの像P′は、図中実線で
示すごとく第1正レンズ群L11と第2正レンズ群
L12との間が平行光学系となるため第2正レンズ
群L12の後側焦点上に形成される。ここで、第1
正レンズ群L11、負レンズ群L21、正レンズ群L22、
第2正レンズ群L12の焦点距離をこの順にそれぞ
れf1,f2,f3,f4とし、また第1正レンズ群L11と
アフオーカル系の負レンズ群L21との距離をf1+
d1、アフオーカル系L20を構成する、負レンズ群
L21と正レンズ群L22との距離をd2、アフオーカル
系中の正レンズ群L22と第2正レンズ群L12との距
離をd3として、第2図中点線で示すごとく、物体
側及び像側とで共にテレセントリツクである場合
すなわち、4つの群全体としてアフオーカル系と
なる条件を求めてみると、 d1=f2/3f2+f2/2f4+f2/2f3/f2/3−f2/2/f
2/3d3(1) となる。
A,Bは本発明の基本構成図である。第1正レン
ズ群L11と第2正レンズ群L12との間に負レンズ群
L21と正レンズ群L22とから成るアフオーカル系
L20が配置されている。第1正レンズ群L11の前側
焦点上に配置された物体Pの像P′は、図中実線で
示すごとく第1正レンズ群L11と第2正レンズ群
L12との間が平行光学系となるため第2正レンズ
群L12の後側焦点上に形成される。ここで、第1
正レンズ群L11、負レンズ群L21、正レンズ群L22、
第2正レンズ群L12の焦点距離をこの順にそれぞ
れf1,f2,f3,f4とし、また第1正レンズ群L11と
アフオーカル系の負レンズ群L21との距離をf1+
d1、アフオーカル系L20を構成する、負レンズ群
L21と正レンズ群L22との距離をd2、アフオーカル
系中の正レンズ群L22と第2正レンズ群L12との距
離をd3として、第2図中点線で示すごとく、物体
側及び像側とで共にテレセントリツクである場合
すなわち、4つの群全体としてアフオーカル系と
なる条件を求めてみると、 d1=f2/3f2+f2/2f4+f2/2f3/f2/3−f2/2/f
2/3d3(1) となる。
そして、第1正レンズ群L11から第2正レンズ
群L12までの距離すなわちレンズ系全長をdtとす
ると、 dt=f1+d1+d2+d3 =f1+{f2/3f2+f2/2f4+f2/2f3/f2/3+d2+d3
(1 −f2/2/f2/3)} (2) となり、両側テレセントリツクであるための条件
は(2)式として表わされる。いまこの(2)式をd3で微
分すると、 Δdt=(1−f2/2/f2/3)Δd3 (3) が得られ、ΔdtとΔd3とが線形であることが分る。
すなわち、レンズ系全長dtの変化量とアフオーカ
ル系L20の移動量とが線形であり、第1正レンズ
群L11を移動する時にアフオーカル系L20も(3)式の
関係を満足しつつ移動するならば常に(1)式及び(2)
式の状態が維持される。従つて、物体Pの位置が
変つた場合物体Pの移動量と同量だけ第1正レン
ズ群L11を移動して、常に第1正レンズ群の前側
焦点上に物体Pが位置するようにし、同時にアフ
オーカル系L20を(3)式を満たすように連動させる
ことによつて、物体像P′を一定位置に保ちつつ、
物体と像との共役関係を維持するとともに、物体
側と像側とでテレセントリツク性を常に維持する
ことができる。
群L12までの距離すなわちレンズ系全長をdtとす
ると、 dt=f1+d1+d2+d3 =f1+{f2/3f2+f2/2f4+f2/2f3/f2/3+d2+d3
(1 −f2/2/f2/3)} (2) となり、両側テレセントリツクであるための条件
は(2)式として表わされる。いまこの(2)式をd3で微
分すると、 Δdt=(1−f2/2/f2/3)Δd3 (3) が得られ、ΔdtとΔd3とが線形であることが分る。
すなわち、レンズ系全長dtの変化量とアフオーカ
ル系L20の移動量とが線形であり、第1正レンズ
群L11を移動する時にアフオーカル系L20も(3)式の
関係を満足しつつ移動するならば常に(1)式及び(2)
式の状態が維持される。従つて、物体Pの位置が
変つた場合物体Pの移動量と同量だけ第1正レン
ズ群L11を移動して、常に第1正レンズ群の前側
焦点上に物体Pが位置するようにし、同時にアフ
オーカル系L20を(3)式を満たすように連動させる
ことによつて、物体像P′を一定位置に保ちつつ、
物体と像との共役関係を維持するとともに、物体
側と像側とでテレセントリツク性を常に維持する
ことができる。
いま、この系の倍率を求めると、アフオーカル
系L20と第2の正レンズ群L12との合成焦点距離f
は、 f=f2f4/f3 であるから、第1正レンズ群L11の焦点距離との
比をとつて、全系の倍率βは、 β=f2f4/f1f3 (4) となる。すなわち、倍率は各群の焦点距離のみの
関係となり、物体と像との距離に関係なく一定で
ある。
系L20と第2の正レンズ群L12との合成焦点距離f
は、 f=f2f4/f3 であるから、第1正レンズ群L11の焦点距離との
比をとつて、全系の倍率βは、 β=f2f4/f1f3 (4) となる。すなわち、倍率は各群の焦点距離のみの
関係となり、物体と像との距離に関係なく一定で
ある。
尚、第2図ではアフオーカル系を負レンズ群と
正レンズ群とで構成したガリレオタイプの場合を
示したが、正負の順序は逆でもよく、またアフオ
ーカル系を2つの正レンズ群で構成したケプラー
タイプでも上記(1)〜(4)式が同様に成り立つことは
いうまでもない。
正レンズ群とで構成したガリレオタイプの場合を
示したが、正負の順序は逆でもよく、またアフオ
ーカル系を2つの正レンズ群で構成したケプラー
タイプでも上記(1)〜(4)式が同様に成り立つことは
いうまでもない。
第3図A,Bは本発明による第1実施欄の構成
図であり、前述した4群系を用いて物体側と像側
とで常にテレセントリツク性を維持するテレセン
トリツク光学系が形成されている。第2図と同様
の機能を有するレンズ群は同一の符号で示した。
ここでは第1正レンズ群L11の後側焦点すなわち
アフオーカル系L20側の焦点に絞りSを設け、第
1正レンズ群L11と絞りSとを一体に移動可能に
設けるとともに、負レンズ群L21と正レンズ群L22
とからなるアフオーカル系L20を第1レンズ群L11
と連動可能としたものである。これにより、第3
図Aに示すごとく第1正レンズ群L11の前側焦点
上の物体Pの像P′がf1+dt+f4だけ離れた第2正
レンズ群L12の後側焦点上に形成され、また第3
図Bに示すごとく第1正レンズ群L11と絞りSと
を一体にΔdtだけ前方へ移動するとともにアフオ
ーカル系をΔd3だけ前方へ移動させると物体Pよ
りΔdtだけ前方の物体Qの像Q′がf1+dt+Δdt+f4
だけ離れた第2正レンズ群L12の後側焦点上に形
成される。従つて、第2正レンズ群L12を固定し
ておけば物体側と像側とで共にテレセントリツク
性を維持しつつ物体PとQとの像が共に第2正レ
ンズ群L12の後側焦点という一定位置に形成され
る。そして像倍率は前記(4)式のとおり不変であ
る。すなわち、物体PとQとに限らず、任意の位
置の物体に対して両側でのテレセントリツク性を
維持しつつ、しかも定倍率で固定位置に像を形成
することが可能である。
図であり、前述した4群系を用いて物体側と像側
とで常にテレセントリツク性を維持するテレセン
トリツク光学系が形成されている。第2図と同様
の機能を有するレンズ群は同一の符号で示した。
ここでは第1正レンズ群L11の後側焦点すなわち
アフオーカル系L20側の焦点に絞りSを設け、第
1正レンズ群L11と絞りSとを一体に移動可能に
設けるとともに、負レンズ群L21と正レンズ群L22
とからなるアフオーカル系L20を第1レンズ群L11
と連動可能としたものである。これにより、第3
図Aに示すごとく第1正レンズ群L11の前側焦点
上の物体Pの像P′がf1+dt+f4だけ離れた第2正
レンズ群L12の後側焦点上に形成され、また第3
図Bに示すごとく第1正レンズ群L11と絞りSと
を一体にΔdtだけ前方へ移動するとともにアフオ
ーカル系をΔd3だけ前方へ移動させると物体Pよ
りΔdtだけ前方の物体Qの像Q′がf1+dt+Δdt+f4
だけ離れた第2正レンズ群L12の後側焦点上に形
成される。従つて、第2正レンズ群L12を固定し
ておけば物体側と像側とで共にテレセントリツク
性を維持しつつ物体PとQとの像が共に第2正レ
ンズ群L12の後側焦点という一定位置に形成され
る。そして像倍率は前記(4)式のとおり不変であ
る。すなわち、物体PとQとに限らず、任意の位
置の物体に対して両側でのテレセントリツク性を
維持しつつ、しかも定倍率で固定位置に像を形成
することが可能である。
第4図A,Bは本発明による第2実施例の構成
図である。本実施例ではアフオーカル系L20が2
つの正レンズ群L23,L24で構成されているが第3
図A,Bと同様の作用効果を有している。この場
合にも第1正レンズ群L11とその後側焦点に設け
られた絞りSとが一体的に移動可能であり、これ
らに連動してアフオーカル系L20が移動する。ア
フオーカル系L20を構成する2つの正レンズ群の
焦点距離の和に等しい。そして第4図Aのごとき
物体Pとその像P′とに共役状態から第1正レンズ
群L11と絞りSとを一体に移動し、同時にアフオ
ーカル系L20を連動させることによつて、第4図
Bのごとく異なる位置の物体Qの像Q′を元の物
体像P′と同一の位置に形成することができ、しか
も物体側、像側ともテレセントリツク性が維持さ
れる。像倍率も一定である。従つて、この場合に
も任意の位置の物体に対して、両側でのテレセン
トリツク性を維持しつつしかも定倍率で固定位置
に像を形成することができる。
図である。本実施例ではアフオーカル系L20が2
つの正レンズ群L23,L24で構成されているが第3
図A,Bと同様の作用効果を有している。この場
合にも第1正レンズ群L11とその後側焦点に設け
られた絞りSとが一体的に移動可能であり、これ
らに連動してアフオーカル系L20が移動する。ア
フオーカル系L20を構成する2つの正レンズ群の
焦点距離の和に等しい。そして第4図Aのごとき
物体Pとその像P′とに共役状態から第1正レンズ
群L11と絞りSとを一体に移動し、同時にアフオ
ーカル系L20を連動させることによつて、第4図
Bのごとく異なる位置の物体Qの像Q′を元の物
体像P′と同一の位置に形成することができ、しか
も物体側、像側ともテレセントリツク性が維持さ
れる。像倍率も一定である。従つて、この場合に
も任意の位置の物体に対して、両側でのテレセン
トリツク性を維持しつつしかも定倍率で固定位置
に像を形成することができる。
このように、物体側で常にテレセントリツク性
が維持されるから、物体面に凹凸があつても像の
ボケによる倍率変化がないため物体の大きさの正
確な測定ができ、物体の位置合せを行なうにも正
確である。また、像側で常にテレセントリツク性
が維持されるから、像倍率が一定に保たれ、撮像
管CCD(電荷結合素子)で受光する場合にもこれ
らの特性上有効である。そして、像面が一定であ
れば、物体観察のための接眼レンズ或は撮像管を
全く移動する必要がないため機構を極めて簡単か
つ小型にすることができる。さらに、物体位置が
変わつても倍率が一定であることは物体の測定に
おいては大変好都合である。
が維持されるから、物体面に凹凸があつても像の
ボケによる倍率変化がないため物体の大きさの正
確な測定ができ、物体の位置合せを行なうにも正
確である。また、像側で常にテレセントリツク性
が維持されるから、像倍率が一定に保たれ、撮像
管CCD(電荷結合素子)で受光する場合にもこれ
らの特性上有効である。そして、像面が一定であ
れば、物体観察のための接眼レンズ或は撮像管を
全く移動する必要がないため機構を極めて簡単か
つ小型にすることができる。さらに、物体位置が
変わつても倍率が一定であることは物体の測定に
おいては大変好都合である。
ところで、第3図A,Bの第1実施例及び第4
図A,Bの第2実施例の比較から分るように、第
1正レンズ群L11の移動に対してアフオーカル系
L20の移動方向が両実施例で逆向きになつている。
これは、第1実施例のアフオーカル系がいわゆる
ガリレオタイプであり、第2実施例のアフオーカ
ル系がいわゆるケプラータイプであるという違い
によるものではなく、アフオーカル系L20を構成
する2つのレンズ群の各焦点距離の絶縁値のうち
どちらが大きいかによつている。すなわち、前述
した(3)式から分るように、|f2|<|f3|の場合
には、ΔdtとΔd3との符号は一致し、|f2|>|f3
|の場合にはΔdtとΔd3との符号は逆になり、|f2
|と|f3|との大小関係によつて、アフオーカル
系L20としての第1正レンズ群に対する相対的移
動方向が決定される。
図A,Bの第2実施例の比較から分るように、第
1正レンズ群L11の移動に対してアフオーカル系
L20の移動方向が両実施例で逆向きになつている。
これは、第1実施例のアフオーカル系がいわゆる
ガリレオタイプであり、第2実施例のアフオーカ
ル系がいわゆるケプラータイプであるという違い
によるものではなく、アフオーカル系L20を構成
する2つのレンズ群の各焦点距離の絶縁値のうち
どちらが大きいかによつている。すなわち、前述
した(3)式から分るように、|f2|<|f3|の場合
には、ΔdtとΔd3との符号は一致し、|f2|>|f3
|の場合にはΔdtとΔd3との符号は逆になり、|f2
|と|f3|との大小関係によつて、アフオーカル
系L20としての第1正レンズ群に対する相対的移
動方向が決定される。
第5図A,Bに示す第3実施例は、物体面と像
面とが直交する場合の構成である。第1正レンズ
群L11と絞りS及び反射鏡Mが対物鏡筒1に一体
的に設けられており、また負レンズ群L21と正レ
ンズ群L22とからなるアフオーカル系がアフオー
カル鏡筒2に設けられている。そして、対物鏡筒
1とアフオーカル鏡筒2とは第2正レンズ群L12
の光軸方向に連動する。第5図Aのごとく試料3
上の物点Pの像P′が第2正レンズ群L12の後側焦
点上に形成されている状態から、対物鏡筒1とア
フオーカル鏡筒2とを連動させることによつて、
第5図Bのごとく試料3上の異なる物点Qの像
Q′が同じく第2正レンズ群L12の後側焦点上に形
成される。従つて、対物鏡筒1とアフオーカル鏡
筒2とを連動させることによつて、試料3上の任
意の物点の像を固定位置に形成することができ
る。この場合の対物鏡筒1の移動量Δdt及びアフ
オーカル鏡筒2の移動量は前記(3)式を満たすこと
はいうまでもない。そして、物体側と像側とで常
にテレセントリツク性が維持され、像倍率も不変
であることも前記の実施例と同様である。アフオ
ーカル鏡筒2内に2つの正レンズ群からなるケプ
ラータイプのアフオーカル系を設けても同様であ
る。
面とが直交する場合の構成である。第1正レンズ
群L11と絞りS及び反射鏡Mが対物鏡筒1に一体
的に設けられており、また負レンズ群L21と正レ
ンズ群L22とからなるアフオーカル系がアフオー
カル鏡筒2に設けられている。そして、対物鏡筒
1とアフオーカル鏡筒2とは第2正レンズ群L12
の光軸方向に連動する。第5図Aのごとく試料3
上の物点Pの像P′が第2正レンズ群L12の後側焦
点上に形成されている状態から、対物鏡筒1とア
フオーカル鏡筒2とを連動させることによつて、
第5図Bのごとく試料3上の異なる物点Qの像
Q′が同じく第2正レンズ群L12の後側焦点上に形
成される。従つて、対物鏡筒1とアフオーカル鏡
筒2とを連動させることによつて、試料3上の任
意の物点の像を固定位置に形成することができ
る。この場合の対物鏡筒1の移動量Δdt及びアフ
オーカル鏡筒2の移動量は前記(3)式を満たすこと
はいうまでもない。そして、物体側と像側とで常
にテレセントリツク性が維持され、像倍率も不変
であることも前記の実施例と同様である。アフオ
ーカル鏡筒2内に2つの正レンズ群からなるケプ
ラータイプのアフオーカル系を設けても同様であ
る。
以上では物体と像との距離が変わつても物体側
及び像側の両方で常にテレセントリツク性が維持
される実施例について述べてきたが、両側でテレ
セントリツク性が維持されるということはこの光
学系の物体側及び像側での瞳位置、すなはち入射
瞳と射出瞳の位置が共に常に無限遠にあるという
ことに外ならない。すなわち、ここでいう2重共
役とは物体と像との共役関係及び瞳の共役関係の
2つの共役関係が維持されることである。以下で
は物体側及び像側での瞳位置の少なくとも一方が
有限距離にあり、これらについて詳述する。
及び像側の両方で常にテレセントリツク性が維持
される実施例について述べてきたが、両側でテレ
セントリツク性が維持されるということはこの光
学系の物体側及び像側での瞳位置、すなはち入射
瞳と射出瞳の位置が共に常に無限遠にあるという
ことに外ならない。すなわち、ここでいう2重共
役とは物体と像との共役関係及び瞳の共役関係の
2つの共役関係が維持されることである。以下で
は物体側及び像側での瞳位置の少なくとも一方が
有限距離にあり、これらについて詳述する。
第6図A,Bは第4実施例の構成図であり、物
体側及び像側の瞳が共に有限距離に位置してい
る。第6図Aでは物体P1と物体側瞳P2について
第6図Bでは物体Q1と物体側瞳Q2について共役
関係を示し、各図において物体とその像との共役
関係を表わす光像を実線で、また瞳の共役関係を
表わす光線を点線で、示した。これらの図では、
第2図A,Bで述べた本発明による原理との関係
を明確にし、かつ理解を容易にするために、同じ
機能を有する部材には同一の符号がつけられてい
る。ここでは物体側と像側との瞳位置を有限距離
とするために、第1正レンズ群L10は第2図にお
ける第1正レンズ群L11にもう1つ正レンズ群L13
を加えさらに強い屈折力を有するレンズ群で構成
され、第2正レンズ群L40も第2図における第2
正レンズ群L12にもう1つの正レンズ群L14を加え
たさらに強い屈折率を有するレンズ群で構成され
ている。第1及び第2正レンズ群L10,L40は実質
的には1つの正レンズ群であるが、理解を容易に
するためにそれぞれ2つのレンズ群からなる構成
として示した。第1レンズ群L10は2つの正レン
ズL13,L11が薄肉密着系で合成され、焦点距離
f10を有し、第2レンズ群L40は2つの正レンズ
L12,L14が薄肉密着系で合成され焦点距離f40を
有するものとする。
体側及び像側の瞳が共に有限距離に位置してい
る。第6図Aでは物体P1と物体側瞳P2について
第6図Bでは物体Q1と物体側瞳Q2について共役
関係を示し、各図において物体とその像との共役
関係を表わす光像を実線で、また瞳の共役関係を
表わす光線を点線で、示した。これらの図では、
第2図A,Bで述べた本発明による原理との関係
を明確にし、かつ理解を容易にするために、同じ
機能を有する部材には同一の符号がつけられてい
る。ここでは物体側と像側との瞳位置を有限距離
とするために、第1正レンズ群L10は第2図にお
ける第1正レンズ群L11にもう1つ正レンズ群L13
を加えさらに強い屈折力を有するレンズ群で構成
され、第2正レンズ群L40も第2図における第2
正レンズ群L12にもう1つの正レンズ群L14を加え
たさらに強い屈折率を有するレンズ群で構成され
ている。第1及び第2正レンズ群L10,L40は実質
的には1つの正レンズ群であるが、理解を容易に
するためにそれぞれ2つのレンズ群からなる構成
として示した。第1レンズ群L10は2つの正レン
ズL13,L11が薄肉密着系で合成され、焦点距離
f10を有し、第2レンズ群L40は2つの正レンズ
L12,L14が薄肉密着系で合成され焦点距離f40を
有するものとする。
第6図Aに示すごとく第1正レンズ群L10の前
側焦点に位置する物体P1の像P1′は、第1正レン
ズ群L10と第2正レンズ群L40との間が平行光学系
であるため第2正レンズ群L40の後側焦点上に形
成され、物体P1より距離Dだけ前方の物体側瞳
P2は、物体像P1′より距離D′だけ後方の像側瞳P′2
と共役である。ここで物体P1に対する像P1′の倍
率βはアフオーカル系L20を構成する2つのレン
ズ群L21,L22の焦点距離を第1正レンズ群L10側
からそれぞれf2,f3とすると、 β=f2f40/f10f3 (5) で与えられる。次に、第6図Bに示すごとく、第
1正レンズ群L10をΔdtだけ移動させ、これに連
動してアフオーカル系L20をΔd3だけ移動させる
と、物体P1からΔdtだけ離れた他の物体Q1の像
Q1′が第2正レンズ群L40の後側焦点に形成され、
また他の物体Q1から距離Dだけ離れた位置に物
体側瞳Q2が存在し、これは物体像Q1′から距離
D′だけ後方の像側瞳Q2′と共役となる。この時の
像倍率は(5)式と同一で変わらない。この時のΔdt
とΔd3との関係は(3)式と同一である。このよう
に、レンズ全長の変化によつて物体と像との距離
を変えることができ、この時、物体側及び像側の
瞳はそれぞれ物体から距離D及び像から距離
D′の一定位置にあり、像倍率も一定に維持され
る。
側焦点に位置する物体P1の像P1′は、第1正レン
ズ群L10と第2正レンズ群L40との間が平行光学系
であるため第2正レンズ群L40の後側焦点上に形
成され、物体P1より距離Dだけ前方の物体側瞳
P2は、物体像P1′より距離D′だけ後方の像側瞳P′2
と共役である。ここで物体P1に対する像P1′の倍
率βはアフオーカル系L20を構成する2つのレン
ズ群L21,L22の焦点距離を第1正レンズ群L10側
からそれぞれf2,f3とすると、 β=f2f40/f10f3 (5) で与えられる。次に、第6図Bに示すごとく、第
1正レンズ群L10をΔdtだけ移動させ、これに連
動してアフオーカル系L20をΔd3だけ移動させる
と、物体P1からΔdtだけ離れた他の物体Q1の像
Q1′が第2正レンズ群L40の後側焦点に形成され、
また他の物体Q1から距離Dだけ離れた位置に物
体側瞳Q2が存在し、これは物体像Q1′から距離
D′だけ後方の像側瞳Q2′と共役となる。この時の
像倍率は(5)式と同一で変わらない。この時のΔdt
とΔd3との関係は(3)式と同一である。このよう
に、レンズ全長の変化によつて物体と像との距離
を変えることができ、この時、物体側及び像側の
瞳はそれぞれ物体から距離D及び像から距離
D′の一定位置にあり、像倍率も一定に維持され
る。
第7図A,Bは第6図に示した第4実施例を
LSIや超LSI等の集積回路の製造に用いられる投
影型露光装置のアライメント光学系に応用した第
5実施例の構成図である。投影対物レンズL50に
関してウエハWとレテイクルRとが所定の倍率で
共役位置に配置されており、レテイクルRは図示
なき照明光学系によつて均一に照明され、レテイ
クルR上のパターンがウエハW上に投影焼付され
る。投影対物レンズL50は等価的に2つのレズ群
L51とL52及び両者の間に設けられた絞りS50とか
ら成つている。投影対物レンズL50は通常、ウエ
ハW側でテレセントリツク系になるよう設計され
ており、このために絞りS50はウエハ側正レンズ
群L51の焦点上に配置されている。このような投
影対物レンズL50を通して、ウエハWとレテイク
ルRとの位置の整合状態を観察或は測定するのが
本実施例によるアライメント光学系である。この
アライメント光学系は第1正レンズ群L10、アフ
オーカル系L20、第2正レンズ群L12及び第3の正
レンズ群L60及びアライメント用光源Eからなつ
ている。ここで、第1正レンズ群L10アフオーカ
ル系L20は前述した第4実施例のそれぞれとほぼ
同一の機能を有しており、レテイクルRは第1正
レンズ群L10の前側焦点位置に合致している。ま
た第2正レンズ群L12は前記第1〜第3実施例と
同一で像側でテレセントリツクである。そして、
第3正レンズ群(L60)は光源Eからの光束を平
行光束として供給するためのものである。ウエハ
W上のアライメントマークWm及びレテイクルR
上の基準マークRmは所定の露光パターンの周縁
部に設けられているため、アライメント光学系の
光軸(A×2)は投影対物レンズL50の光軸(A
×1)とは図示のとおり、基準マークRmのレテ
イクルR中心からの距離だけずれて配置されてい
る。第7図Aではアライメント光学系の瞳につい
ての共酪関係を表わす光線を示しており、アライ
メント光学系のレテイクルR側瞳位置が投影対物
レンズL50の入射瞳位置に合致している。すなわ
ち、第3正レンズ群L60をも通して、光源Eの像
E′が投影対物レンズL50の入射瞳位置に形成され、
投影対物レンズL50の絞りS50の位置に光源像E″が
形成され、いわゆるケーラー照明がなされてい
る。投影対物レンズL50とアライメント光学系と
が偏心しているため、光源Eもアライメント光学
系の光軸(A×2)から偏心して配置され、この
ため第2正レンズ群L12の像側では厳密にはテレ
セントリツクではなく平行系となつている。第7
図Bではアライメント光学系についての物体すな
わちレテイクルR上の基準マークRmについての
共役関係を表わす光線を示しており、レテイクル
R上の基準マークRmと第2正レンズ群L12の後
側焦点位置に形成される基準マークの像R′mとの
結像の様子が分る。基準マークRmの位置には投
影対物レンズL50によつてウエハW上の図示なき
アライメントマークの像が形成されており、寒準
マークの像R′mの位置にはウエハW上のアライメ
ントマークWmの像も形成され、これらの像によ
りウエハWとレテイクルRとの位置整合の状態が
観察及び測定される。
LSIや超LSI等の集積回路の製造に用いられる投
影型露光装置のアライメント光学系に応用した第
5実施例の構成図である。投影対物レンズL50に
関してウエハWとレテイクルRとが所定の倍率で
共役位置に配置されており、レテイクルRは図示
なき照明光学系によつて均一に照明され、レテイ
クルR上のパターンがウエハW上に投影焼付され
る。投影対物レンズL50は等価的に2つのレズ群
L51とL52及び両者の間に設けられた絞りS50とか
ら成つている。投影対物レンズL50は通常、ウエ
ハW側でテレセントリツク系になるよう設計され
ており、このために絞りS50はウエハ側正レンズ
群L51の焦点上に配置されている。このような投
影対物レンズL50を通して、ウエハWとレテイク
ルRとの位置の整合状態を観察或は測定するのが
本実施例によるアライメント光学系である。この
アライメント光学系は第1正レンズ群L10、アフ
オーカル系L20、第2正レンズ群L12及び第3の正
レンズ群L60及びアライメント用光源Eからなつ
ている。ここで、第1正レンズ群L10アフオーカ
ル系L20は前述した第4実施例のそれぞれとほぼ
同一の機能を有しており、レテイクルRは第1正
レンズ群L10の前側焦点位置に合致している。ま
た第2正レンズ群L12は前記第1〜第3実施例と
同一で像側でテレセントリツクである。そして、
第3正レンズ群(L60)は光源Eからの光束を平
行光束として供給するためのものである。ウエハ
W上のアライメントマークWm及びレテイクルR
上の基準マークRmは所定の露光パターンの周縁
部に設けられているため、アライメント光学系の
光軸(A×2)は投影対物レンズL50の光軸(A
×1)とは図示のとおり、基準マークRmのレテ
イクルR中心からの距離だけずれて配置されてい
る。第7図Aではアライメント光学系の瞳につい
ての共酪関係を表わす光線を示しており、アライ
メント光学系のレテイクルR側瞳位置が投影対物
レンズL50の入射瞳位置に合致している。すなわ
ち、第3正レンズ群L60をも通して、光源Eの像
E′が投影対物レンズL50の入射瞳位置に形成され、
投影対物レンズL50の絞りS50の位置に光源像E″が
形成され、いわゆるケーラー照明がなされてい
る。投影対物レンズL50とアライメント光学系と
が偏心しているため、光源Eもアライメント光学
系の光軸(A×2)から偏心して配置され、この
ため第2正レンズ群L12の像側では厳密にはテレ
セントリツクではなく平行系となつている。第7
図Bではアライメント光学系についての物体すな
わちレテイクルR上の基準マークRmについての
共役関係を表わす光線を示しており、レテイクル
R上の基準マークRmと第2正レンズ群L12の後
側焦点位置に形成される基準マークの像R′mとの
結像の様子が分る。基準マークRmの位置には投
影対物レンズL50によつてウエハW上の図示なき
アライメントマークの像が形成されており、寒準
マークの像R′mの位置にはウエハW上のアライメ
ントマークWmの像も形成され、これらの像によ
りウエハWとレテイクルRとの位置整合の状態が
観察及び測定される。
このアライメント光学系において、レテイクル
R、投影対物レンズL50及びウエハWがアライメ
ント光学系に対して相対的に移動する場合には、
第1正レンズ群L10を同量だけ移動して第1正レ
ンズ群L10の前側焦点をレテイクルR上に合致さ
せるとともに、前記(4)式の関係を満たすようにア
フオーカル系L20を連動させることによつて、レ
テイクルの像R′mを一定位置に形成できるととも
に、レテイクルRから一定位置に瞳像すなわち光
源像E″を形成することができるからケーラー照
明も厳密に維持される。従つて、レテイクルRの
位置が変化しても、常に一定位置にてレテイクル
とウエハーとの整合状態を観察及び測定すること
ができるとともに常にケーラー照明を維持するこ
とが可能である。ここでレテイクルR上の基準マ
ークRmの像R′m及びウエハW上のアライメント
マークWmの像は、第7図Bで示される平行光束
中すなわち、第1正レンズ群L10とアフオーカル
系L20との間若しくはアフオーカル系L20と第2正
レンズ群L12との間に、又は第2正レンズ群L12の
像側に半透過鏡を挿入して取り出すことができ
る。
R、投影対物レンズL50及びウエハWがアライメ
ント光学系に対して相対的に移動する場合には、
第1正レンズ群L10を同量だけ移動して第1正レ
ンズ群L10の前側焦点をレテイクルR上に合致さ
せるとともに、前記(4)式の関係を満たすようにア
フオーカル系L20を連動させることによつて、レ
テイクルの像R′mを一定位置に形成できるととも
に、レテイクルRから一定位置に瞳像すなわち光
源像E″を形成することができるからケーラー照
明も厳密に維持される。従つて、レテイクルRの
位置が変化しても、常に一定位置にてレテイクル
とウエハーとの整合状態を観察及び測定すること
ができるとともに常にケーラー照明を維持するこ
とが可能である。ここでレテイクルR上の基準マ
ークRmの像R′m及びウエハW上のアライメント
マークWmの像は、第7図Bで示される平行光束
中すなわち、第1正レンズ群L10とアフオーカル
系L20との間若しくはアフオーカル系L20と第2正
レンズ群L12との間に、又は第2正レンズ群L12の
像側に半透過鏡を挿入して取り出すことができ
る。
第8図に示した本発明による第6実施例は、第
7図に示した投影型露光装置用アライメント光学
系の応用例である。図中、第7図と同一の機能を
有する部材には同一の符号をつけた。本実施例で
は、第1正レンズ群L10の反射鏡M10とを対物レ
ンズ鏡筒10により一体的に設け、対物レンズ鏡
筒10をレテイクルRと平行に光軸にそつて移動
可能に設けている。そして、2つのレンズ群L21,
L22とによつて構成されるアフオーカル系を一体
的に有するアフオーカル鏡筒20は、対物レンズ
鏡筒10と連動して光軸にそつて移動可能であ
る。ウエハWとレテイクルRとは投影対物レンズ
L50に関して共役に配置されており、図示なき主
照明装置から供給される照明光50によつて、レ
テイクルR上のパターンがウエハW上に投影され
る。ウエハW上のアライメントマークWmとレテ
イクルR上の基準マークRmとの像が、反射鏡
M10、第1正レンズ群L10、アフオーカル系L21,
L22、第2正レンズ群L40及び半透過鏡M20を介し
て撮像管6の撮像面6aに形成される。一方、光
源Eからの光束は第3正レンズ群L60を介し、反
射鏡M30、半透過鏡M20で反射され、レテイクル
R及びウエハWに達し第2正レンズ群L40、アフ
オーカル系L22,L21、第1正レンズ群L10、反射
鏡M10により光源Eの像E″が投影対物レンズL50
の絞りS50の位置に投影され、ケーラー照明がな
される。このような構成において、レテイクルR
が別のレテイクルを交換され、アライメント用基
準マークRmの位置が変わつた場合には、対物レ
ンズ鏡筒10を移動して第1正レンズ群L11の前
側焦点に基準マークRmが位置するようにすると
ともに、アフオーカル鏡筒20をも移動させるこ
とによつて、他の部材を何ら移動させることなく
像管6の撮像面6a上に基準マークRmの像R′m
及びウエハW上のアライメントマークWmの像を
形成することができ、また、光源Eの像E″を投
影対物レンズL50の絞り位置に形成することがで
き、ケーラー照明を完全に維持することができ
る。
7図に示した投影型露光装置用アライメント光学
系の応用例である。図中、第7図と同一の機能を
有する部材には同一の符号をつけた。本実施例で
は、第1正レンズ群L10の反射鏡M10とを対物レ
ンズ鏡筒10により一体的に設け、対物レンズ鏡
筒10をレテイクルRと平行に光軸にそつて移動
可能に設けている。そして、2つのレンズ群L21,
L22とによつて構成されるアフオーカル系を一体
的に有するアフオーカル鏡筒20は、対物レンズ
鏡筒10と連動して光軸にそつて移動可能であ
る。ウエハWとレテイクルRとは投影対物レンズ
L50に関して共役に配置されており、図示なき主
照明装置から供給される照明光50によつて、レ
テイクルR上のパターンがウエハW上に投影され
る。ウエハW上のアライメントマークWmとレテ
イクルR上の基準マークRmとの像が、反射鏡
M10、第1正レンズ群L10、アフオーカル系L21,
L22、第2正レンズ群L40及び半透過鏡M20を介し
て撮像管6の撮像面6aに形成される。一方、光
源Eからの光束は第3正レンズ群L60を介し、反
射鏡M30、半透過鏡M20で反射され、レテイクル
R及びウエハWに達し第2正レンズ群L40、アフ
オーカル系L22,L21、第1正レンズ群L10、反射
鏡M10により光源Eの像E″が投影対物レンズL50
の絞りS50の位置に投影され、ケーラー照明がな
される。このような構成において、レテイクルR
が別のレテイクルを交換され、アライメント用基
準マークRmの位置が変わつた場合には、対物レ
ンズ鏡筒10を移動して第1正レンズ群L11の前
側焦点に基準マークRmが位置するようにすると
ともに、アフオーカル鏡筒20をも移動させるこ
とによつて、他の部材を何ら移動させることなく
像管6の撮像面6a上に基準マークRmの像R′m
及びウエハW上のアライメントマークWmの像を
形成することができ、また、光源Eの像E″を投
影対物レンズL50の絞り位置に形成することがで
き、ケーラー照明を完全に維持することができ
る。
第9図に示した第7実施例は、第8図に示した
第6実施例と基本的には同様の構成であるが、レ
テイクルR上の基準マークRm及びウエハW上の
アライメントマークWmをレテイクルR上での反
射光によつて観察する点で異なつている。この図
では同一の機能を有する部材には同一の符号をつ
けた。この構成においても、レテイクルR上での
基準マークRmの位置が変化した場合には、対物
レンズ鏡筒10とアフオーカル鏡筒20とを連動
させることによつて、撮像面6aに基準マーク
Rm及びアライメントマークWmの像を形成で
き、ケーラー照明を維持し続けることが可能であ
る。尚、上記第6及び第7実施例でも、投影対物
レンズL50の光軸(A×1)に対してアライメン
ト光学系の光軸(A×2)は、実質的に第5実施
例と同様に偏心してある。このため、光源像
E″を投影対物レンズL50の絞り中心に形成するた
めには、第7、第8、第9図にそれぞれ示したご
とく光源Eはアライメント光学系の光軸(A×
2)から離れた位置に設けることが望ましい。そ
して、対物レンズ鏡筒10の移動に伴つて光源E
も光軸(A×2)に垂直方向で移動させることも
有効であるが、光源Eをオプテイカルフアイバー
の射出面のごとく、ある程度の大きさを持つ面光
源とすれば固定しておくことも十分可能である。
さらに、光源Eの光軸上での位置は一定であるた
め、第8図、第9図に示したごとく光源Eの位置
に光源の形状を変えるための可変絞りS10を設け
ることによつて、投影対物レンズの瞳面内での光
源像の大きさ、形状を変えることができ、ウエハ
上のアライメントマークを最適状態で観察するこ
とができる。レテイクルが交換されて基準マーク
の位置及びアライメントマークの位置が変化して
も、本発明によるアライメント光学系においては
結像倍率が一定に保たれるため、投影対物レンズ
の瞳面内に形成される光源像の倍率は一定であ
る。尚、光源Eとしてはオプテイカルフアイバー
の射出面を用いることが可能であるし、光源Eの
代りに別のリレーレンズ系による光源像を配置す
ることも勿論可能である。
第6実施例と基本的には同様の構成であるが、レ
テイクルR上の基準マークRm及びウエハW上の
アライメントマークWmをレテイクルR上での反
射光によつて観察する点で異なつている。この図
では同一の機能を有する部材には同一の符号をつ
けた。この構成においても、レテイクルR上での
基準マークRmの位置が変化した場合には、対物
レンズ鏡筒10とアフオーカル鏡筒20とを連動
させることによつて、撮像面6aに基準マーク
Rm及びアライメントマークWmの像を形成で
き、ケーラー照明を維持し続けることが可能であ
る。尚、上記第6及び第7実施例でも、投影対物
レンズL50の光軸(A×1)に対してアライメン
ト光学系の光軸(A×2)は、実質的に第5実施
例と同様に偏心してある。このため、光源像
E″を投影対物レンズL50の絞り中心に形成するた
めには、第7、第8、第9図にそれぞれ示したご
とく光源Eはアライメント光学系の光軸(A×
2)から離れた位置に設けることが望ましい。そ
して、対物レンズ鏡筒10の移動に伴つて光源E
も光軸(A×2)に垂直方向で移動させることも
有効であるが、光源Eをオプテイカルフアイバー
の射出面のごとく、ある程度の大きさを持つ面光
源とすれば固定しておくことも十分可能である。
さらに、光源Eの光軸上での位置は一定であるた
め、第8図、第9図に示したごとく光源Eの位置
に光源の形状を変えるための可変絞りS10を設け
ることによつて、投影対物レンズの瞳面内での光
源像の大きさ、形状を変えることができ、ウエハ
上のアライメントマークを最適状態で観察するこ
とができる。レテイクルが交換されて基準マーク
の位置及びアライメントマークの位置が変化して
も、本発明によるアライメント光学系においては
結像倍率が一定に保たれるため、投影対物レンズ
の瞳面内に形成される光源像の倍率は一定であ
る。尚、光源Eとしてはオプテイカルフアイバー
の射出面を用いることが可能であるし、光源Eの
代りに別のリレーレンズ系による光源像を配置す
ることも勿論可能である。
以上のごとく、本発明によれば、物体と像との
距離が変化しても1部のレンズの移動により、両
者の共役関係が維持できるとともに、瞳の共役関
係も一定状態に維持することができ、異なる位置
の物体をテレセントリツク性を維持しつつ一定位
置で観察又は測定することができるとともに、さ
らには、物体位置が変化しても完全なケーラー照
明を維持することが可能である。
距離が変化しても1部のレンズの移動により、両
者の共役関係が維持できるとともに、瞳の共役関
係も一定状態に維持することができ、異なる位置
の物体をテレセントリツク性を維持しつつ一定位
置で観察又は測定することができるとともに、さ
らには、物体位置が変化しても完全なケーラー照
明を維持することが可能である。
第1図A,Bは従来の光学系の例を示す構成
図、第2図A,Bは本発明による原理的構成図、
第3図A,B、第4図A,B、第5図A,B、第
6図A,B、第7図A,B、第8図、第9図はそ
れぞれ本発明による第1、第2、第3、第4、第
5、第6、第7実施例の構成図である。 〔主要な符号の説明〕、L11……第1正レンズ
群、L12……第2正レンズ群、L20……アフオーカ
ル系、S,S50……絞り、L50……投影対物レン
ズ、E……光源。
図、第2図A,Bは本発明による原理的構成図、
第3図A,B、第4図A,B、第5図A,B、第
6図A,B、第7図A,B、第8図、第9図はそ
れぞれ本発明による第1、第2、第3、第4、第
5、第6、第7実施例の構成図である。 〔主要な符号の説明〕、L11……第1正レンズ
群、L12……第2正レンズ群、L20……アフオーカ
ル系、S,S50……絞り、L50……投影対物レン
ズ、E……光源。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 第1物点からの光束を平行光束に変換する第
1正レンズ群と、該第1正レンズ群からの光束を
所定の像面上に集光するための第2正レンズ群
と、前記第1正レンズ群と前記第2正レンズ群と
の間に配置された光学補正部材とを有し、前記第
1正レンズ群は前記第1物点とは異なる第2物点
からの光束を平行光束に変換するために移動可能
であり、前記光学補正部材は前記第1正レンズ群
の移動量に対して所定の関係で前記第1正レンズ
群と前記第2正レンズ群との間の光路上を移動可
能であり、前記第1正レンズ群と前記光学補正部
材との移動によつて、前記第2物体の像を前記第
1物体の像と同じく前記所定像面上に形成すると
ともに、前記第1物体の像を前記所定像面上に形
成する時と前記第2物体の像を前記所定像面上に
形成する時とで前記第1正レンズ群と前記第2正
レンズ群及び前記光学補正部材からなる光学系の
入射瞳及び射出瞳の位置を一定に維持することを
特徴とする2重共役維持光学系。 2 前記光学補正部材は前記第1正レンズ群から
の平行光束を前記第2正レンズ群へ向けて平行光
束として導くために一体的に移動可能に設けられ
た2つの光学要素を有していることを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の2重共役維持光学
系。 3 前記光学補正部材の2つの光学要素は、互い
の焦点距離の差だけ隔てて配置されたレンズから
なるアフオーカル系であることを特徴とする特許
請求の範囲第2項記載の2重共役維持光学系。 4 複数のレンズ群からなるアフオーカル系と、
該アフオーカル系の両側に共軸配置された2つの
正レンズ群、及び該2つの正レンズ群のうちの一
方の該アフオーカル系側の焦点位置に配置された
絞り部材とを有し、該一方の正レンズ群と該絞り
部材及び該アフオーカル系を光軸にそつて移動可
能に構成し、該一方の正レンズ群と該絞り部材と
の一体的移動に連動して前記アフオーカル系を移
動することによつて、物体と像との距離が変化し
ても両者の共役関係を維持するとともに前記2つ
の正レンズ群の両外側でテレセントリツク性が維
持されることを特徴とする2重共役維持光学系。 5 複数のレンズ群からなるアフオーカル系と、
該アフオーカル系の両側に共軸配置された2つの
正レンズ群と、該アフオーカル系及び該2つの正
レンズ群を介して物体面を照明するための光源及
び、該物体面を所定面に投影するための投影対物
レンズとを有し、該物体側の正レンズ群と該アフ
オーカル系とを前記光源に対して移動可能に構成
し、前記物体面及び前記投影対物レンズとが前記
光源に対して相対的に移動した場合にも前記物体
側正レンズ群と前記アフオーカル系とを連動する
ことによつて、物体面との共役位置を一定にする
とともに、前記光源の像を常に前記投影対物レン
ズの入射瞳位置に形成することを特徴とする2重
共役維持光学系。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57034366A JPS58150924A (ja) | 1982-03-04 | 1982-03-04 | 二重共役維持光学系 |
US06/469,015 US4592625A (en) | 1982-03-04 | 1983-02-23 | Double-conjugate maintaining optical system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57034366A JPS58150924A (ja) | 1982-03-04 | 1982-03-04 | 二重共役維持光学系 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58150924A JPS58150924A (ja) | 1983-09-07 |
JPH0251165B2 true JPH0251165B2 (ja) | 1990-11-06 |
Family
ID=12412164
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57034366A Granted JPS58150924A (ja) | 1982-03-04 | 1982-03-04 | 二重共役維持光学系 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4592625A (ja) |
JP (1) | JPS58150924A (ja) |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3339369C2 (de) * | 1983-10-29 | 1987-01-15 | Meditec GmbH, 8501 Heroldsberg | Neodym-YAG-Lasergerät insbesondere zur ophthalmologischen Behandlung |
US4585337A (en) * | 1985-01-14 | 1986-04-29 | Phillips Edward H | Step-and-repeat alignment and exposure system |
JPS61236116A (ja) * | 1985-04-12 | 1986-10-21 | Hitachi Ltd | 縮小投影式アライメント方法 |
JPH0723933B2 (ja) * | 1985-08-20 | 1995-03-15 | 株式会社ニコン | 光路長補償光学系 |
DE3707979A1 (de) * | 1987-03-12 | 1988-09-29 | Sick Optik Elektronik Erwin | Optische abtastvorrichtung mit telezentrischer zeilenkamera |
US4857744A (en) * | 1987-07-29 | 1989-08-15 | Hitachi, Ltd. | Optical projection printing apparatus wherein wafer mark has a grating pitch in the sagittal plane of the first optical system |
JPH0315018A (ja) * | 1989-01-13 | 1991-01-23 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 画像走査記録装置のレーザ露光装置 |
US5489986A (en) * | 1989-02-28 | 1996-02-06 | Nikon Corporation | Position detecting apparatus |
DD284768B5 (de) * | 1989-06-02 | 1995-06-29 | Zeiss Carl Jena Gmbh | Modulare Beleuchtungseinrichtung |
JPH0337610A (ja) * | 1989-07-04 | 1991-02-19 | Minolta Camera Co Ltd | 有限距離用ズームレンズ |
JPH04304411A (ja) * | 1991-04-01 | 1992-10-27 | Nikon Corp | 高感度顕微鏡 |
US5689339A (en) * | 1991-10-23 | 1997-11-18 | Nikon Corporation | Alignment apparatus |
US5422872A (en) * | 1993-03-08 | 1995-06-06 | Maxoptix Corporation | Telecentric rotary actuator in an optical recording system |
JPH09311278A (ja) | 1996-05-20 | 1997-12-02 | Nikon Corp | 反射屈折光学系 |
JP3360387B2 (ja) * | 1993-11-15 | 2002-12-24 | 株式会社ニコン | 投影光学系及び投影露光装置 |
JP3395801B2 (ja) | 1994-04-28 | 2003-04-14 | 株式会社ニコン | 反射屈折投影光学系、走査型投影露光装置、及び走査投影露光方法 |
USRE38438E1 (en) | 1994-08-23 | 2004-02-24 | Nikon Corporation | Catadioptric reduction projection optical system and exposure apparatus having the same |
JPH08179204A (ja) * | 1994-11-10 | 1996-07-12 | Nikon Corp | 投影光学系及び投影露光装置 |
JP3454390B2 (ja) | 1995-01-06 | 2003-10-06 | 株式会社ニコン | 投影光学系、投影露光装置及び投影露光方法 |
JP3611146B2 (ja) * | 1995-12-27 | 2005-01-19 | 株式会社ニコン | 変倍テレセントリック光学系 |
US6614539B1 (en) | 1999-05-11 | 2003-09-02 | Minolta Co., Ltd. | Telecentric optical system |
CA2406124A1 (en) * | 2000-04-21 | 2001-11-22 | Lawrence E. Albertelli | Wide-field extended-depth doubly telecentric catadioptric optical system for digital imaging |
US7643209B2 (en) * | 2006-08-02 | 2010-01-05 | Olympus Corporation | Microscope optical system, microscope apparatus, and microscope observation method |
US8462328B2 (en) | 2008-07-22 | 2013-06-11 | Orbotech Ltd. | Efficient telecentric optical system (ETOS) |
WO2018043657A1 (en) | 2016-08-31 | 2018-03-08 | Nikon Corporation | Wide-angle pupil relay for cellphone-based fundus camera |
US20230082427A1 (en) * | 2020-01-21 | 2023-03-16 | Torrey Pines Logic, Inc. | Afocal adapter for an optical device |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5487014A (en) * | 1977-12-05 | 1979-07-11 | Street Graham S B | Scanner |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6051094B2 (ja) * | 1978-08-15 | 1985-11-12 | キヤノン株式会社 | 合焦用可動レンズ群を有する光学系 |
JPS56165111A (en) * | 1980-05-26 | 1981-12-18 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | Telecentric illuminating system |
-
1982
- 1982-03-04 JP JP57034366A patent/JPS58150924A/ja active Granted
-
1983
- 1983-02-23 US US06/469,015 patent/US4592625A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5487014A (en) * | 1977-12-05 | 1979-07-11 | Street Graham S B | Scanner |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4592625A (en) | 1986-06-03 |
JPS58150924A (ja) | 1983-09-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0251165B2 (ja) | ||
USRE39024E1 (en) | Exposure apparatus having catadioptric projection optical system | |
US6201648B1 (en) | Optical system | |
JP3563800B2 (ja) | 観察光学装置 | |
JPH09311278A (ja) | 反射屈折光学系 | |
US4318585A (en) | Optical system with an afocal focusing group | |
JP2002287029A (ja) | 投影光学系およびこれを用いた投影露光装置 | |
JPH0350491Y2 (ja) | ||
US4437734A (en) | Lenses capable of close-up photography | |
US5805347A (en) | Variable-magnification telecentric optical system | |
JP3030563B2 (ja) | 実像式ファインダー | |
JPH08240776A (ja) | 少なくとも2本の立体観察光路に対応するズームシステム | |
JPS5979212A (ja) | 合成樹脂材料を用いたズ−ムレンズ | |
JPH09329752A (ja) | ファインダー光学系 | |
JPH08510567A (ja) | 可変イメージスケール付き光学系 | |
JPS58199317A (ja) | 一眼レフカメラ用アタツチメント光学系 | |
JPH0644097B2 (ja) | 変倍光学系 | |
JPS6257008B2 (ja) | ||
JP3600898B2 (ja) | 変倍テレセントリック光学系 | |
US5289226A (en) | Focus detecting device including a diffusion surface disposed on a predetermined image surface | |
JPH03240016A (ja) | 顕微鏡光学系 | |
KR950011549B1 (ko) | 실상식 줌파인더 | |
JP3239343B2 (ja) | 焦点位置検出装置 | |
JPH0784187A (ja) | 瞳投影光学系 | |
JPH0415924B2 (ja) |