JPH0723933B2

JPH0723933B2 - 光路長補償光学系

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Publication number: JPH0723933B2
Application number: JP60182436A
Authority: JP
Inventors: 誠上原; 一正遠藤; 晋森; 秀平高木; 幸雄柿崎
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1985-08-20
Filing date: 1985-08-20
Publication date: 1995-03-15
Anticipated expiration: 2010-03-15
Also published as: JPS6242112A; US4723846A

Description

【発明の詳細な説明】〔発明の技術分野〕本発明は、光学装置における光路長補償光学系、特に半
導体製造のフォトリソグラフィ工程で使用される露光装
置のアライメント光学系に好適な光路長補償光学系に関
する。

〔発明の背景〕

近年、半導体集積回路の高集積化に伴い、フォトリソグ
ラフィ工程に用いられる露光装置もコンタクト方式やミ
ラープロジェクション方式から、より微細な転写が可能
な縮小投影露光方式へと移向が目ざましい。この方式
は、縮小投影型露光装置（以下「ステッパー」と称す
る。）により、レティクルのパターンをウエハに縮小転
写する方式である。通常、100mm角〜75mm角のレティク
ルパターンを、投影レンズにより1/10〜1/5に縮小し、
直径100mm〜150mm程度のウエハに、ステップ・アンド・
リピートと呼ばれる干渉計基準で送られるステージの移
動操作を伴って10mm角〜15mm角の露光領域で順次露光し
て転写が行われる。

半導体の製造工程では、同一の露光領域に対しても、十
数回の露光とプロセス処理とが繰り返して行われ、その
際、前工程で転写されたパターンに新たなレティクルパ
ターンを所望の精度で光学的に重ねて転写するいわゆる
アライメントが必要となる。この場合、理想的には前工
程で転写されたウエハ上のパターン内に含まれるアライ
メントマークに、新たなレティクルパターン内に含まれ
るアライメントマークを縮小投影レンズを介して露光と
ほぼ同じ波長で重ね合わせて確認し、次の露光に移向す
ることが望ましい。このように正確を期する為、一回の
露光毎にアライメントを行い、一回に露光する部分のみ
をアライメントする方法をダイ・バイ・ダイ・アライメ
ントと称するが、このダイ・バイ・ダイ・アライメント
には、アライメント光学系をレティクル上のアライメン
トマークに一致させることが必要である。このアライメ
ントマークは、レティクル上のパターンの周辺に設けら
れているが、半導体回路の設計によりパターンのサイズ
が異なるため、アライメント光学系をそのアライメント
マークに一致させるためには、パターンの異なるサイズ
に応じて、アライメント光学系を移動させることが必須
となる。

さらに、高精度のダイ・バイ・ダイ・アライメントを実
現するためには、レティクルとウエハとのアライメント
マークの合致の確認ばかりでなく、自動的にアライメン
トを行うためには、そのアライメントを光電的に高い精
度で検出する必要がある。その為には、フーリエ変換面
としてのアライメント光学系の瞳位置でアライメント信
号を検出する必要が有り、その瞳位置は、アライメント
光学系の移動にも拘らず不変に維持されることが望まし
い。

一方、平行光束中に斜設された一対の平面鏡を平行移動
させて光路長の補正で行ういわゆるオプチカル・トロン
ボーンの技術が投影検査機などに用いられて従来からよ
く知られているが、このオプチカル・トロンボーン光学
系を用いて、像および瞳の共役関係を維持させた投影型
露光装置が、例えば特開昭58−150924号公報により公開
され、既に公知である。この公開特許公報中の実施例に
用いられているアライメント光学系においては、レティ
クル上の一方向（ｘ方向）のアライメントマークの位置
の変化に対する光路長の変化のみが補正できるように構
成されているため、次のような欠点が有る。

ダイ・バイ・ダイ・アライメントでは、露光波長とほぼ
同一の波長の光でアライメントの確認が一般に行われる
為、アライメントの際に、そのとき使用されるウエハ上
のアライメントマークが露光され、プロセスを径た後は
消滅してしまうので再使用不能である。従って、次のア
ライメントのときには、その消滅したアライメントマー
クに隣接したｙ方向の未露光マークを用いてアライメン
トを行う必要が有る。その為、パターンサイズの大小お
よび各露光工程時のアライメントマークの位置を考慮す
ると、レティクルに対向するアライメント光学系中の対
物レンズは、１軸（ｘ方向）の移動ばかりで無く平面
（二次元）的に２軸（xy方向）に対して移動可能に構成
することが望ましい。しかもその際にも、高精度のアラ
イメントが行われるためには、フーリエ変換面としての
アライメント光学系の瞳の位置が安定して維持される必
要が有る。しかしながら、前記従来公知のアライメント
光学系においては、対物レンズの一方向（ｘ方向）の移
動に対してのみトロンボーン光学系が有効に作用するよ
うに構成されているため、これに直角な方向（ｙ方向）
のアライメントの際には、アライメント光学系全体をｙ
方向に移動させなければならず、装置が大型化するばか
りで無く、迅速且つ精密なアライメント動作が不可能に
なる欠点が有る。また、xy方向ばかりで無く回転方向の
アライメントを行うために、レティクルの左右に一組づ
つのアライメント光学系を配置する場合、ｘ方向にはそ
れぞれのアライメント光学系を独立に移動させてアライ
メントを自由に行うことができても、これと直角なｙ方
向には、左右のアライメント光学系を一体に移動させね
ばならないので、アライメントマークに関する半導体回
路設計がこれにより大きく制約される欠点が有る。

〔発明の目的〕

本発明は、上記従来装置の欠点を解決し、アライメント
マークの位置の変化に応じて対物レンズを二次元平面内
で自由に移動しても、像および瞳の共役関係が維持でき
る光路長補償光学系を提供することを目的とする。

〔発明の概要〕

上記の目的を達成するために本発明は、前側焦点位置を
物点とし且つ該物点を含む所定の二次元平面に沿って移
動可能な第１対物レンズと、後側焦点位置を像点とする
第２対物レンズと、前記第１対物レンズと前記第２対物
レンズとの間の光路中に該光路に沿って移動可能に配置
された第１反射手段及び第２反射手段とを含み、前記第
１反射手段は、前記第１対物レンズからの光路を前記二
次元平面に沿って所定の角度だけ転向する少なくとも１
個の反射面を有し、前記第２反射手段は前記第１反射手
段からの光を前記第２対物レンズへ導く少なくとも一対
の反射面を有し、前記第１反射手段は、前記第１反射手
段と前記第２反射手段との間の光路長が変化するよう
に、前記二次元平面内の所定の第１方向では前記第１対
物レンズと共に移動可能に構成されると共に、前記第１
対物レンズと前記第１反射手段との間の光路長が前記第
１対物レンズのみの移動によって変化するように、前記
二次元平面内の前記第１方向と直交する第２方向では固
定的に構成され、前記第１反射手段と前記第２反射手段
との間の光路長の変化及び前記第１対物レンズと前記第
１反射手段との間の光路長の変化に際して、前記第１対
物レンズの後側焦点位置と前記第２対物レンズの前側焦
点位置とが常に一致するように、前記第２反射部材が移
動可能に構成することを技術的要点とするものである。

〔実施例〕

次に、本発明の実施例を添付の図面に基づいて詳しく説
明する。

第１図は縮小投影型露光装置に用いられた本発明の実施
例を示す光学系の平面配置図で、第２図は第１図に示す
光学系の立面配置図である。

図示されない超高圧水銀灯からの照明光El（ｇ線:435.8
nm）によって平均証明されたレティクルR₀上のパターン
は、投影レンズL₀（第２図参照）を介してウェハW₀上に
投影され、そのウェハW₀上にパターン像が投影レンズL₀
によって形成される。

一方、露光用の照明光Elとほぼ等しい波長（442nm）の
光を発する２個のレーザLA₁、LA₂（He・Cdレーザ）から
の平行光束は、第１図に示すように互いに直交し、その
交点位置に設けられた透過型スキヤナーS₀を通過する。
その透過型スキヤナーS₀は紙面に垂直な軸を中心として
回転し、レーザ光束をその回転に応じて平行移動させる
ように構成されている。透過型スキヤナーS₀とレーザLA
₁、LA₂との間には、それぞれシリンドリカルレンズC₁、
C₂が配置され、レーザ光が透過型スキヤナーS₀を通過し
た、点A₁₁、A₂₁の位置で、シリンドリカルレンズの屈折
パワーを有する軸（以下「Ｃ軸」という。）方向のレー
ザ光は集束結像し、屈折パワーのかからない軸（以下
「Ｓ軸」という。）方向のレーザ光は平行光束のまま進
むように構成されている。なお、これ等のシリンドリカ
ルレンズC₁、C₂の円柱面の母線（Ｓ軸に平行）は紙面に
垂直に設けられている。

第１図中で、点A₁₁を通過して左方へ進むレーザ光は、
第８ミラーM₁₈によって下方へ転向され、さらに第７ミ
ラーM₁₇により左方へ転向され、ハーフミラーM₁₆を透過
した後、第５ミラーM₁₅にて上方へ転向して第２対物レ
ンズL₁₂に入射する。この第２対物レンズL₁₂は、後側焦
点位置が点A₁₁と一致するように配置され、Ｃ軸のレー
ザ光は、第２対物レンズL₁₂によって平行光束となって
進み、オプチカル・トロンボーンを構成する移動可能な
第４ミラーM₁₄と第３ミラーM₁₃とにより下方へ折り返さ
れ、さらに移動ミラーM₁₂によって右方へ転向されて第
１対物レンズL₁₁に入射する。この第１対物レンズL
₁₁は、前側焦点位置が落射ミラーM₁₁を介してレティク
ルR₀のパターン面上の点A₁₂（第２図参照）にくるよう
に配置され、Ｃ軸のレーザ光は再びその点A₁₂に集束結
像されるように構成されている。

また、移動ミラーM₁₂は、第３図に示す如くｙ軸移動装
置Mv₁により第１図中で上下方向（ｙ方向）に第１対物
レンズL₁₁および落射ミラーM₁₁と一体に動かされるよう
に構成され、さらに第１対物レンズL₁₁と落射ミラーM₁₁
とは、ｘ軸移動装置Mv₂により第１図中で左右方向（ｘ
方向）に移動ミラーM₁₂とは独立して動かされるように
構成されている。この場合、第１対物レンズL₁₁と落射
ミラーM₁₁とは、レティクルR₀に平行な二次元平面内
で、ｘ方向とｙ方向に変位可能に構成され、第１対物レ
ンズL₁₁とレティクルR₀との間の光路長は、レティクルR
₀の厚さが変らない限り不変である。一方、光路長補正
のためにオプチカル・トロンボーンを構成する一対のミ
ラーM₁₃、M₁₄は、補正移動装置Mv₃（第３図参照）によ
って第２対物レンズL₁₂の光軸に沿って一体に動かさ
れ、第１対物レンズL₁₁がｘ、ｙいずれの方向に移動し
ても、第２対物レンズL₁₂の前側焦点位置B₁₁が第１対物
レンズL₁₁の後側焦点位置と常に一致するように構成さ
れている。

一方、第２対物レンズL₁₂に入射する平行光束のＳ軸の
レーザ光は、第２対物レンズL₁₂により第２対物レンズL
₁₂の前側焦点位置B₁₁に集束結像される。第１対物レン
ズL₁₁は、後側焦点位置がこの第２対物レンズL₁₂の前側
焦点位置B₁₁と一致するように配置されているので、Ｓ
軸のレーザ光は、第１対物レンズL₁₁によって再び平行
光束となる。すなわち、第２対物レンズL₁₂と第１対物
レンズL₁₁とでＳ軸のレーザ光に関してアフォーカル系
が構成される。そのため、第１対物レンズL₁₁により、
Ｃ軸のレーザ光は、レティクルR₀上の前側焦点位置A₁₂
に集束結像され、Ｓ軸のレーザ光は平行光束となる。従
って、レティクルR₀上のA₁₂点におけるレーザ光束はｘ
方向に長く伸びた楕円状ビームとなる。

また一方、別のレーザLA₂から出たレーザ光は点A₂₁にお
いてＣ軸が結像した後、第１図中で左側の送光系とほぼ
左右対称に配置された第７ミラーM₂₇、ハーフミラー
M₂₆、第５ミラーM₂₅、第２対物レンズL₂₂、オプチカル
・トロンボーンを構成する第４ミラーM₂₄、第３ミラーM
₂₃および移動ミラーM₂₂を介して進み、点B₂₁にＳ軸のレ
ーザ光が結像され、さらに進んで第１対物レンズL₂₁、
落射ミラーM₂₁を介してＣ軸のレーザ光がレティクルR₀
上の点A₂₂に結像される。上記の各光学要素の構成は前
述の左側の送光系と同一であるから、その詳しい説明は
省略する。また、上記の光学系を移動させる移動装置も
同様であるため、その説明は省略されている。

第２図において、レティクルR₀の下面（パターン面）と
ウエハW₀の上面（転写面）とは縮小投影レンズL₀に関
し、像共役な位置に設置され、また、その縮小投影レン
ズL₀は物体側（レティクルR₀側）と像側（ウエハW₀側）
との主光線が共に光軸に平行で両側でテレセントリック
になるように構成されている。その為、レティクルR₀上
の点A₁₂に結像されたＣ軸のレーザ光は、第２図に示す
如く縮小投影レンズL₀の瞳位置B₀を通りウェハW₀上の点
A₁₃に再結像される。また、Ｓ軸のレーザ光は瞳位置B₀
に集束結像され、像側では再び平行光束となって点A₁₃
に達する。同様にして、レティクルR₀上の点A₂₂に結像
されたＣ軸のレーザ光は瞳位置B₀を通り、ウエハW₀上の
点A₂₃に再結像され、また、Ｓ軸のレーザ光は、瞳位置B
₀集束結像され、像側では平行光束となって点A₂₃に達す
る。すなわち、上記の送光系では、左側のオプチカル・
トロンボーン系を通るレーザ光は、互いに像共役な点A
₁₁、A₁₂、A₁₃において楕円ビームとなり、また、右側で
は、像共役点A₂₁、A₂₂、A₂₃において同様に楕円ビーム
となる。従って、レティクルR₀上のアライメントマーク
とウエハW₀上のアライメントマークとは、その楕円ビー
ムによって楕円の短軸（レーザ光のＣ軸）方向に透過型
スキヤナーS₀の回転に従って走査される。

次に、アライメント光学系において、上記の送光系とは
逆に光路を辿ってアライメントマークの位置検出が行わ
れる受光系について説明する。この場合、第１図中で左
側の受光系と右側の受光系とは、ほぼ左右対称に配置さ
れ、各部の機能も同一であるから、左側の受光系につい
てのみ詳しく説明し、右側のそれについては説明を省略
する。

ウエハW₀上の点A₁₃にあるアライメントマークから反射
されたレーザ光は、縮小投影レンズL₀の瞳位置B₀と、ウ
エハW₀と像共役なレティクルR₀上の点A₁₂とを通り、そ
の像共役点A₁₂上にあるアライメントマークからの反射
光と共に、落射ミラーM₁₁にて反射され、第１対物レン
ズL₁₁によって平行光束となる。その平行光束は、縮小
投影レンズL₀の瞳位置B₀と共役な点B₁₁を通り、移動ミ
ラーM₁₂にて反射され、さらにオプチカル・トロンボー
ンを構成する一対のミラーM₁₃、M₁₄にて反射された後、
第２対物レンズL₁₂に入射する。この第２対物レンズL₁₂
を通過した光は、第５ミラーM₁₅およびハーフミラーM₁₆
にて反射され、瞳結像レンズL₁₃を介して像共役点A₁₄に
達し、この像共役点A₁₄の位置にレティクルR₀上のアラ
イメントマークとウエハW₀上のアライメントマークとの
像が重畳して結像する。

その瞳結像レンズL₁₃は、第２対物レンズL₁₂の前側焦点
位置B₁₁にある瞳を再結像させるために設けられ、瞳結
像レンズL₁₃の後側焦点位置B₁₂は瞳共役な位置となり、
その瞳共役点B₁₂上に空間フィルターF₁が配置される。
像共役点A₁₄を通過した光は、空間フィルターF₁により
空間周波数フィルタリングがなされ、そのフィルタリン
グされた回折光による物体像がリレーレンズL₁₃により
像共役点A₁₅に形成される。この像共役点A₁₅上に撮像素
子等が設けられ、これからの情報によってアライメント
マークの位置検出が行われる。

次に、上記の受光系において、アライメント準備のため
に、レティクルR₀に対して第１図中で左側の第１対物レ
ンズL₁₁が落射ミラーM₁₁と共にレティクルR₀に平行な二
次元平面内に動かされ、レティクルR₀上の別の位置に設
けられたアライメントマークに光軸を一致させる場合を
考える。いま、落射ミラーM₁₁が第１対物レンズL₁₁と共
に点Ｏから点Ｐまで第４図において変位させるものとす
る。その落射ミラーM₁₁の移動量OPはｘ軸移動装置Mv₂と
ｙ軸移動装置Mv₁とにより、ｘ方向とｙ方向に分解され
る。これにより、ｘ方向の移動量Δｘだけ移動ミラーM
₁₂と第１対物レンズL₁₁との間の光路長が変化し、ｙ方
向の移動量Δｙだけ移動ミラーM₁₂と第３ミラーM₁₃との
間の光路長が変化し、第１対物レンズL₁₁と第２対物レ
ンズL₁₂との間の光路長の変化量はΔｘ＋Δｙとなる。
また一方、補正移動装置Mv₃によって、第２対物レンズL
₁₂の光軸に沿って移動可能な一対のミラーM₁₃、M₁₄をδ
だけ移動すると、第１対物レンズL₁₁と第２対物レンズL
₁₂までの光路長は２δだけ変化する。従って、落射ミラ
ーM₁₁と第１対物レンズL₁₁とをΔｘおよびΔｙだけ移動
したときに生じる第１対物レンズL₁₁と第２対物レンズL
₁₂との間の光路長の変化を補正し、光路長を一定に維持
するためには、次の式を満足するように一対のミラーM
₁₃、M₁₄を移動させればよい。

δ＝（Δｘ＋Δｙ）/2 ……（１）上記（１）式に従って、オプチカル・トロンボーンを構
成するミラーM₃、M₄を移動させれば、常に第２対物レン
ズL₁₂の前側焦点位置を第１対物レンズL₁₁の後側焦点位
置と一致させることができ、第１対物レンズL₁₁を移動
させても像共役点A₁₄は一定に保たれ、また瞳共役点B₁₂
も移動することなく所定の位置に維持される。従って、
常に安定した精度のよいアライメントを行うことが可能
となる。

右側の受光系についても、同様にして光路長の補正が行
われ、瞳結像レンズL₂₃を介して像共役点A₂₄に物体像が
結像される。さらにその像共役点A₂₄を通過した光は、
瞳結像レンズL₂₃によって形成される瞳共役点B₂₂に設け
られた空間フィルターF₂により空間周波数フィルタリン
グがなされ、そのフィルタリングされた回折光による物
体像がリレーレンズL₂₃により像共役点A₂₅に形成され
る。

なお、レティクルR₀の厚さ及び硝種が異なるとき、レテ
ィクルR₀上の像共役点A₁₂と第１対物レンズL₁₁との間の
光路長に誤差を生じ、像共役位置A₁₄および瞳共役位置B
₁₂が許容し得ない程に変化する場合が有る。いま、レテ
ィクルR₀の屈折率をｎ、厚さの差をΔｔとすると、点A
₁₄から第１対物レンズL₁₁までの光路長の差Δｌは、次
の式で与えられる。

Δｌ＝Δｔ（１−1/n） ……（２）この場合、Δｌだけ第１対物レンズL₁₁を落射ミラーM₁₁
に対して変位させると共に、オプチカル・トロンボーン
を構成する一対のミラーM₁₃、M₁₄をΔｌの半分だけ移動
させて、第１対物レンズL₁₁と第２対物レンズL₁₂との間
の光路長を不変に保てばよい。また、第１対物レンズL
₁₁を変位させる代わりに、第２対物レンズL₁₂とミラーM
₁₃、M₁₄を適当に変位させることによって、像共役点A₁₄
と瞳共役点B₁₂とを実質的に不変に保つことも可能であ
る。

しかし、レティクルR₀の厚さが大きく異なる場合には、
上記のような光学素子の微調整にて像及び瞳の共役関係
を完全に維持することが難しくなる。このため、第２図
中に二点鎖線で示したごとく、レティクルR₀と落射ミラ
ーM₁₁、M₂₁及び第１対物レンズL₁₁、L₂₁との間にレティ
クルR₀をおおうように保護ガラスＰを配置し、レティク
ルR₀の厚さが変わった場合に保護ガラスＰを異なる厚さ
のものに交換すればよい。このとき、レティクルR₀の下
面即ちパターン面と第１対物レンズL₁₁、L₂₁との間に介
在する平行平面板としてのレティクルR₀と保護ガラスＰ
との厚さの総和が常に一定となるように構成することが
可能である。従って、この保護ガラスＰは、レティクル
R₀上にゴムやホコリが付着するのを防止するという本来
の機能に加えて、光路長の補正機能をも具備するもので
ある。

なお、第１図の実施例においては、オプチカル・トロン
ボーンを構成するミラーを互いに直交する一対の平面鏡
M₁₃、M₁₄またはM₂₃、M₂₄にて形成したが、これをコーナ
ーキューブやハローキューブに置き換えることにより、
ミラーの移動の際の傾きを光学的にキャンセルすること
ができ、移動装置の作製が容易となる。但し、この場
合、コーナーキューブやハローキューブのダハ面の稜線
部にレーザ光が入射すると、レーザ光が散乱されてアラ
イメント精度が低下するため、稜線部に光が入射しない
ように構成することが望ましい。また、上記の実施例に
おいては、レーザビームの走査手段として透過型スキヤ
ナーS₀を用いたが、これに限らず反射型スキヤナー等を
用いて投光系を構成してもよいことは言うまでも無い。

なおまた、上記の縮小投影型露光装置中に用いられた光
路長補償装置は、アライメント光学系ばかりでなく、顕
微鏡対物レンズを用いる各種測定装置や物点を拡大投影
する投影検査機等に使用しても有効に上記の機能を発揮
できる。

〔発明の効果〕

以上の如く本発明によれば、第１対物レンズが二次元平
面内で移動しても、これに追従する移動ミラーM₁₂、M₂₂
（第１反射手段）とトロンボーン光学系M₁₃、M₁₄、
M₂₃、M₂₄（第２反射手段）とはそれぞれ一次元方向の移
動で共役関係が保たれるため、比較的簡単な構成で装置
の高精度化、高信頼性を得ることができ、また、同一の
被検物体等における２点を同時に拡大して位置決め、測
定または検査等を行う場合、複数の対物レンズをそれぞ
れ独立して移動することが可能となるので、装置の使用
範囲が拡大され、取扱いも簡便なものとすることができ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は、縮小投影型露光装置のアライメント光学系中
に組み込まれた本発明の実施例を示す光学系の平面配置
図、第２図は、第１図に示す実施例の対物レンズ部分を
示す立面配置図、第３図は、第１図に示す実施例の光学
系移動装置を示す概略平面図、第４図は第１図に示す実
施例における光路長補償説明図である。〔主要部分の符号の説明〕 A₁₁、A₂₁……後側焦点位置 A₁₂、A₂₂……前側焦点位置 C₁、C₂……シリンドリカルレンズ L₁₁、L₂₁……第１対物レンズ L₁₂、L₂₂……第２対物レンズ LA₁、LA₂……レーザ L₀……縮小投影レンズ M₁₂、M₂₂……移動ミラー（第１反射手段） M₁₃、M₂₃……第３ミラー（第２反射手段） M₁₄、M₂₄……第４ミラー（第２反射手段） R₀……レティクル W₀……ウエハ Mv₁……ｙ軸移動装置 Mv₂……ｘ軸移動装置 Mv₃……補正移動装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者高木秀平東京都品川区西大井１丁目６番３号日本光学工業株式会社大井製作所内 (72)発明者柿崎幸雄東京都品川区西大井１丁目６番３号日本光学工業株式会社大井製作所内 (56)参考文献特開昭58−150924（ＪＰ，Ａ)

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】前側焦点位置を物点とし且つ該物点を含む
所定の二次元平面に沿って移動可能な第１対物レンズ
と、後側焦点位置を像点とする第２対物レンズと、前記
第１対物レンズと前記第２対物レンズとの間の光路中に
該光路に沿って移動可能に配置された第１反射手段及び
第２反射手段とを含み、前記第１反射手段は、前記第１対物レンズからの光路を
前記二次元平面に沿って所定の角度だけ転向する少なく
とも１個の反射面を有し、前記第２反射手段は前記第１反射手段からの光を前記第
２対物レンズへ導く少なくとも一対の反射面を有し、前記第１反射手段は、前記第１反射手段と前記第２反射
手段との間の光路長が変化するように、前記二次元平面
内の所定の第１方向では前記第１対物レンズと共に移動
可能に構成されると共に、前記第１対物レンズと前記第
１反射手段との間の光路長が前記第１対物レンズのみの
移動によって変化するように、前記二次元平面内の前記
第１方向と直交する第２方向では固定的に構成され、前記第１反射手段と前記第２反射手段との間の光路長の
変化及び前記第１対物レンズと前記第１反射手段との間
の光路長の変化に際して、前記第１対物レンズの後側焦
点位置と前記第２対物レンズの前側焦点位置とが常に一
致するように、前記第２反射部材が移動可能であること
を特徴とする光路長補償光学系。
【請求項２】前記第１反射手段の反射面（M₁₂,M₂₂）と
前記第２反射手段の前記一対の反射面（M₁₃,M₁₄;M₂₃,M
₂₄）とは、前記二次元平面（R₀）に平行な一平面内に設
けられていることを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載の光路長補償光学系。