JPS6242112A - 光路長補償光学系 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、光学装置における光路長補償光学系、特に半
導体製造のフォトリソグラフィ工程で使用される露光装
置のアライメント光学系に好適な光路長補償光学系に関
する。

〔発明の背景〕

近年、半導体集積回路の高集積化に伴い、フォトリソグ
ラフィ工程に・用いられる露光装置もコンタクト方式や
ミラープロジェクション方式から、より微細な転写が可
能な縮小投影露光方式へと移尤 向が目ざましい。この方式は、縮小投影型置ｔｌｌｌｔ
装Ｎ（以下「ステッパー」と称する。）により、レティ
クルのパターンをウェハに縮小転写する方式である。通
常、１００ｍｍ角〜７５ｍｍ角のレティクルパターンを
、投影レンズにより１／１ｏ〜１１５に縮小し、直径１
００ｍｍ〜１５０ｍｍ程度のウェハに、ステップ・アン
ド・リピートと呼ばれる干渉計基準で送られるステージ
の移動操作を伴って１０１１ＩＩＢ角〜１５ｍｎ＋角の
露光領域で順次露光して転写が行われる。

半導体の製造工程では、同一の露光領域に対しても、十
数回の露光とプロセス処理とが繰り返して行われ、その
際、前工程で転写されたパターンに新たなレティクルパ
ターンを所望の精度で光学的に重ねて転写するいわゆる
アライメントが必要となる。この場合、理想的には前工
程で転写されたウェハ上のパターン内に含まれるアライ
メントマークに、新たなレティクルパターン内に含まれ
るアライメントマークを縮小投影レンズを介して露光と
ほぼ同じ波長で重ね合わせて確認し、次の露光に検量す
ることが望ましい。このように正確を期する為、−回の
露光毎にアライメントを行い、−回に露光する部分のみ
をアライメントする方法をグイ・パイ・グイ・アライメ
ントと称するが、このグイ・パイ・グイ・アライメント
には、アライメント光学系をレティクル上のアライメン
トマークに一致させることが必要である。このアライメ
ントマークは、レティクル上のパターンの周辺に設けら
れているが、半導体回路の設計によりパターンのサイズ
が異なるため、アライメント光学系をそのアライメント
マークに一致させるためには、パターンの異なるサイズ
に応じて、アライメント光学系を移動させることが必須
となる。

さらに、高精度のグイ・パイ・グイ・アライメントを実
現するためには、レティクルとウェハどのアライメント
マークの合致の確認ばかりでなく、自動的にアライメン
トを行うためには、そのアライメン１へを光電的に高い
精度で検出する必要がある。その為には、フーリエ変換
面としてのアライメント光学系の瞳位置でアライメント
信号を検出する必要が有り、その瞳位置は、アライメン
ト光学系の移動にも拘らず不変に維持されることが望ま
しい。

一方、平行光束中に斜設された一対の平面鏡を平行移動
させて光路長の補正を行ういわゆるオプチカル・トロン
ポーンの技術が投影検査機などに用いられて従来からよ
く知られているが、このオでチカル・トロンポーン光学
系を用いて、像および瞳の共役関係を維持させた投影型
露光装置が、例えば特開昭５１１１５０９２４号公報に
より公開され、既に公知である。この公開特許公報中の
実施例に用いられているアライメント光学系においては
、レティクル上の一方向（Ｘ方向）のアライメントマー
クの位置の変化に対する光路長の変化のみが補正できる
ように構成されているため、次のような欠点が有る。

グイ・パイ・グイ・アライメントでは、露光波長とほぼ
同一の波長の光でアライメントの確認が一般に行われる
為、アライメントの際に、そのとき使用されるウェハ上
のアライメントマークが露光され、プロセスを径た後は
消滅してしまうので再使用不能である。従って、次のア
ライメントのときには、その消滅したアライメントマー
クに隣接したＸ方向の未露光マークを用いてアライメン
トを行う必要が有る。その為、パターンサイズの大小お
よび各露光工程時のアライメントマークの位置を考慮す
ると、レティクルに対向するアライメント光学系中の対
物レンズは、１軸（Ｘ方向）の移動ばかりで無く平面（
二次元）的に２軸（ＸＸ方向）に対して移動可能に構成
することが望ましい。しかもその際にも、高精度のアラ
イメントが行われるためには、フーリエ変換面としての
アライメント光学系の瞳の位置が安定して維持される必
要が有る。しかしながら、前記従来公知のアライメント
光学系においては、対物レンズの〜方Ｕ（Ｘ方向）の移
動に対してのみトロンポーン光学系が有効に作用するよ
うに構成されているため、これに直角な方向（Ｘ方向）
のアライメントの際には、アライメント光学系全体をＸ
方向に移動させなければならず、装置が大型化するばか
りで無く、迅速且つ精密なアライメント動作が不可能に
なる欠点が有る。また、ｘｙＸ方向かりで無く回転方向
のアライメントを行うために、レテイクルの左右に一組
づつのアライメント光学系を配置する場合、Ｘ方向には
それぞれのアライメント光学系を独立に移動させてアラ
イメントを自由に行うことができても、これと直角なＸ
方向には、左右のアライメント光学系を一体に移動させ
ねばならないので、アライメントマークに関する半導体
回路設計がこれにより大きく制約される欠点が有る。

〔発明の目的〕

本発明は、上記従来装置の欠点を解決し、アライメント
マークの位置の変化に応じて対物レンズを二次元平面内
で自由に移動しても、像および瞳の共役関係が維持でき
る光路長補償光学系を提供することを目的とする。

〔発明の概要〕

上記の目的を達成するために本発明は、前側焦点位置を
物点とし且つその物点を含む所定の二次元平面に沿って
移動可能な第１対物レンズと、後側焦点位置を像点とす
る第２対物レンズと、第１対物レンズと第２対物レンズ
との間の光路に沿って移動可能に配置された第１反射手
段と第２反射手段とを含み、その第１反射手段は、第１
対物レンズからの光を前記の二次元平面に沿って所定の
角度だけに転向し且つ第１対物レンズと共に移動可能な
少なくとも１個の反射面を有し、第２反射手段は第１反
射手段からの光を第２対物レンズへ轟く少なくとも一対
の反射面を有し、第１対物レンズの後側焦点位置と第２
対物レンズの前側焦点位置とが常に一致するように前記
第２反射部材を移動可能に構成することを技術的要点と
するものである。

〔実施例〕

次に、本発明の実施例を添付の図面に基づいて詳しく説
明する。

第１図は縮小投影型露光装置に用いられた本発明の実施
例を示す光学系の平面配置図で、第２図は第１図に示す
光学系の立面配置図である。

図示されない超高圧水銀灯からの照明光Ｅ７！（ｇ線：
　４３５．８ｎｍ）によって平均照明されたレティクル
Ｒ０上のパターンは、投影レンズ■５゜（第２図参照）
を介してウェハＷ。上に投影され、そのウェハＷ０上に
パターン像が投影レンズＬ、によって形成される。

一方、露光用の照明光Ｅ６とほぼ等しい波長（４４，２
ｎｍ）の光を発する２個のレーザＬＡＩ、ＬＡｚ　　（
Ｈｅ−Ｃｄレーザ）からの平行光束は、第１図に示すよ
うに互いに直交し、その交点位置に設けられた透過型ス
キャナーＳ。を通過する。その透過型スキャナーＳ０は
紙面に垂直な軸を中心として回転し、レーザ光束をその
回転に応じて平行移動させるように構成されている。透
過型スキャナーＳ０とレーザＬ　Ａ　Ｉ、Ｌ　Ａ　ｚと
の間には、それぞれシリンドリカルレンズＣＩ　、ＣＺ
が配置され、レーザ光が透過型スキャナー８０を通過し
て、点Ａ、いＡ２１の位置で、シリンドリカルレンズの
屈折パワーを有する軸（以下「Ｃ軸」という。

）方向のレーザ光は集束結像し、屈折パワーのかからな
い軸（以下「Ｓ軸」という。）方向のレーザ光は平行光
束のまま進むように構成されている。

なお、これ等のシリンドリカルレンズＣＩ、Ｃ２の円柱
面の母線（Ｓ軸に平行）は紙面に垂直に設けられている
。

第１図中で、点Ａ　（１を通過して左方へ進むレーザ光
は、第８ミラーＭ　＋　ｅによって下方へ転向され、さ
らに第７ミラーＭ　＋　７により左方へ転向され、ハー
フミラ−Ｍ　＋　ｂを透過した後、第５ミラーＭ　１５
にて上方へ転向して第２対物レンズＬＩ２に入射する。

コノ第２対物レンズＬ＋ｚは、後側焦点位置が点Ａ　＋
　＋と一致するように配置され、Ｃ軸のレーザ光は、第
２対物レンズＬ＋ｚによって平行光束となって進み、オ
プチカル・ドロンポーンを構成する移動可能な第４ミラ
ーＭ　１４と第３ミラーＭｌ、とにより下方へ折り返さ
れ、さらに移動ミラーＭｌｚによって右方へ転向されて
第１対物レンズＬｌ＋に入射する。

この第１対物レンズＬ＋＋は、前側焦点位置が落射ミラ
ーＭＩ＋を介してレティクルＫＲ，のパターン面上の点
Ａ１□（第２図参照）にくるように配置され、Ｃ軸のレ
ーザ光は再びその点Ａ１２に集束結像されるように構成
されている。

また、移動ミラーＭ　Ｉｚは、第３図に示す如くｙ軸移
動装置Ｍ　ｖ　＋により第１図中で上下方向（ｙ方向）
に第１対物レンズＬ口および落射ミラーＭ口と一体に動
かされるように構成され、さらに第１対物レンズＬ１１
と落射ミラーＭＩ＋とは、Ｘ軸移動装置Ｍ　Ｖ　２によ
り第１図中で左右方向（Ｘ方向）に移動ミラーＭ１ｚと
は独立して動かされるように構成されている。この場合
、第１対物レンズＬ目と落射ミラーＭ、とは、レティク
ルＲ０に平行な二次元平面内で、Ｘ方向とＸ方向に変位
可能に構成され、第１対物レンズＬｚとレティクルＲ０
との間の光路長は、レティクルＲ８の厚さが変らない限
り不変である。一方、光路長補正のためにオプチカル・
トロンポーンを構成する一対のミラーＭ　（３、Ｍ　＋
　４は、補正移動装置Ｍｖ３　（第３図参照）によって
第２対物レンズＬ　１２の光軸に沿って一体に動かされ
、第１対物レンズＬｚがｘ、ｙいずれの方向に移動して
も、第２対物レンズＬ８□の前側焦点位置ＢＩＩが第１
対物レンズＬｌｌの後側焦点位置と常に一致するように
構成されている。

一方、第２対物レンズＬ１２に入射する平行光束のＳ軸
のレーザ光は、第２対物レンズＬＩＺにより第２対物レ
ンズＬ１□の前側焦点位置Ｂｌｌに集束結像される。第
１対物レンズＩ−１，は、後側焦点位置がこの第２対物
レンズＬ１□の前側焦点位置Ｂｌｌと一致するように配
置されているので、Ｓ軸のレーザ光は、第１対物レンズ
Ｌ１１によって再び平行光束となる。すなわち、第２対
物レンズＬ　１２と第１対物レンズＬｌｌとでＳ軸のレ
ーザ光に関してアフォーカル系が構成される。そのため
、第１対物レンズＬ　１１により、Ｃ軸のレーザ光は、
レティクルＲｏ上の前側焦点位”７１　Ａ　１□に集束
結像され、Ｓ軸のレーザ光は平行光束となる。従って、
レティクルＲ０上のＡ１□点におけるレーザ光束はＸ方
向にＡＨにおいてＣ軸が結像した後、第１図中で左側の
送光系とほぼ左右対称に配置された第７ミラーＭ　ｚ　
７、ハーフミラ−Ｍ　ｚ　ｂ、第５ミラーＭ２１、第２
対物レンズＬ２□、オプチカル・トロンポーンを構成す
る第４ミラーＭ　２４、第３ミラーＭ　Ｚ　：ｌおよび
移動ミラーＭ２□を介して進み、点Ｂ２１にＳ軸のレー
ザ光が結像され、さらに進んで第１対物レンズＬｚ＋、
落射ミラーＭ　ｚ　（を介してＣ軸のレーザ光がレティ
クルＲｏ上の点Ａ２□に結像される。上記の各光学要素
の構成は前述の左側の送光系と同一であるから、その詳
しい説明は省略する。また、」二記の光学系を移動させ
る移動装置も同様であるため、その説明は省略されてい
る。

第２図において、レティクルＲ８の下面（パターン面）
とウェハＷ、の上面（転写面）とは縮小投影レンズＬ０
に関し、像共役な位置に設置され、また、その縮小投影
レンズＬ０は物体側（レティクルＲ０側）と像側（ウェ
ハＷ０側）との主光線が共に光軸に平行で両側でテレセ
ントリックになるように構成されている。その為、レテ
ィクルＲ０上の点Ａ　Ｉ　２に結像されたＣ軸のレーザ
光は、第２図に示す如く縮小投影レンズＬ０の瞳位置Ｂ
。を通りウェハＷ０上の点ＡＩ３に再結像される。また
、Ｓ軸のレーザ光は瞳位置Ｂ０に集束結像され、像側で
は再び平行光束となって点、６．、：ｌに達する。同様
にして、レティクルＲ０上の点Ａ２□に結像されたＣ軸
のレーザ光は瞳位置Ｂ０を通り、ウェハＷ０上の点ＡＺ
３に再結像され、また、Ｓ軸のレーザ光は、瞳位置Ｂ０
に集束結像され、像側では平行光束となって点Ａ、に達
する。すなわち、上記の送光系では、左側のオプチカル
・トロンポーン系を通るレーザ光は、互いに像共役な点
Ａ　＋　＋、ＡＨｌＡｈｆｆにおいて楕円ビームとなり
、また、右側では、像共役点Ａｌｌ、Ａ２□、Ａ　ｚ　
３において同様に楕円ビームとなる。従って、レティク
ルＲ０上のアライメントマークとウェハＷ。上のアライ
メントマークとは、その楕円ビームによって楕円の短軸
（レーザ光のＣ軸）方向に透明型スキャナー８０の回転
に従って走査される。

次に、アライメント光学系において、上記の送光系とは
逆に光路を辿ってアライメントマークの位置検出が行わ
れる受光系について説明する。この場合、第１図中で左
側の受光系と右側の受光系とは、はぼ左右対称に配置さ
れ、各部の機能も同一であるから、左側の受光系につい
てのみ詳しく説明し、右側のそれについては説明を省略
する。

ウェハＷ０上の点Ａ　１３にあるアライメントマークか
ら反射されたレーザ光は、縮小投影レンズＬＯの瞳位置
Ｂ０と、ウェハＷ０と像共役なレティクルＲ８上の点Ａ
１２とを通り、その像共役点Ａｄｚ上にあるアライメン
トマークからの反射光と共に、落射ミラーＭ　ＨＩにて
反射され、第１対物レンズＬ　Ｉ　＋移動ミラーＭＢに
て反射され、さらにオプチカル・トロンポーンを構成す
る一対のミラーＭ　１３、Ｍ１４にて反射された後、第
２対物レンズＬ、＋ｚに入射する。この第２対物レンズ
ＬＩ２を通過した光は、第５ミラーＭ　１５およびハー
フミラ−Ｍ　１６にて反射され、瞳結像レンズＬ＋３を
介して像共役点Ａ　１４に達し、この像共役点Ａ　＋　
ａの位置にレティクルＲ８上のアライメントマークとウ
ェハＷ０上のアライメントマークとの像が重畳して結像
する。

その瞳結像レンズＬ＋３は、第２対物レンズＬＩＺの前
側焦点位置Ｂ１１にある瞳を再結像させるために設けら
れ、瞳結像レンズＬＩ３の後側焦点位置Ｂ１□は瞳共役
な位置となり、その瞳共役点Ｂ１□Ｌに空間フィルター
Ｆ、が配置される。像共役点Ａ１４を通過した光は、空
間フィルターＦ１により空間周波数フィルタリングがな
され、そのフィルタリングされた回折光による物体像が
リレーレンズＬ１３により像共役点Ａ、＋ｓに形成され
る。この像共役点ＡＩＳ上に撮像素子等が設けられ、こ
れからの情報によってアライメントマークの位置検出が
行われる。

次に、上記の受光系において、アライメント準備のため
に、レティクルＲ６に対して第１図中で左側の第１対物
レンズＬ　１１が落射ミラーＭ　Ｉ　Ｈと共にレティク
ルＲ０に平行な二次元平面内で動かされ、レティクルＲ
０上の別の位置に設けられたアライメントマークに光軸
を一致させる場合を考える。いま、落射ミラーＭ、が第
１対物レンズＬ。

と共に点Ｏから点Ｐまで第４図において変位させ。るも
のとする。その落射ミラーＭ、の移動ＩＯＰはＸ軸移動
装置Ｍｖ□とｙ軸移動装置Ｍ　ｖ　Ｉとにより、Ｘ方向
とＸ方向に分解される。これにより、Ｘ方向の移動量Δ
Ｘだけ移動ミラーＭ、２と第１対物レンズＬｌ＋との間
の光路長が変化し、Ｘ方向の移動量Δｙだけ移動ミラー
Ｍ　＋　２と第３ミラーＭｌｆｆとの間の光路長が変化
し、第１対物レンズＬ目と第２対物レンズＬｌｉ＋との
間の光路長の変化量はΔχ＋Δｙとなる。また一方、補
正移動装置Ｍ　Ｖ　３によって、第２対物レンズＬ１□
の光軸に沿って移動可能な一対のミラーＭ　１３、Ｍ　
Ｈ４をδだけ移動すると、第、１対物レンズＬ１１と第
２対物レンズＬ１□までの光路長は２δだけ変化する。

従って、落射ミラーＭ　１１と第１対物レンズＬ１１と
をΔＸおよびΔｙだけ移動したときに生じる第１対物レ
ンズＬ、と第２対物レンズＬ１□との間の光路長の変化
を補正し、光路長を一定に維持するためには、次の式を
満足するように一対のミラーＭ　１３、Ｍ　１４を移動
させればよい。

δ＝（ΔＸ＋Δｙ）／２−・−・−・−・−−−（Ｉｌ
ｌ上記（１）式に従って、オプチカル・トロンポーンを
構成するミラーＭ３　、Ｍ４を移動させれば、常に第２
対物レンズＬ１□の前側焦点位置を第１対物レンズし、
の後側焦点位置と一敗させることかでき、第１対物レン
ズＬｌ＋を移動させても像共役点Ａ、は一定に保たれ、
また瞳共役点Ｂ１２も移動することなく所定の位置に維
持される。従って、常に安定した精度のよいアライメン
トを行うことが可能となる。

右側の受光系についても、同様にして光路長の補正が行
われ、瞳結像レンズＬＺ：１を介して像共役点Ａ２４に
物体像が結像される。さらにその像共役点Ａｚａを通過
した光は、瞳結像レンズＬ２３によって形成される瞳共
役点Ｂ２□に設けられた空間フィルターＦ２により空間
周波数フィルタリングがなされ、そのフィルタリングさ
れた回折光による物体像がリレーレンズＬ２．により像
共役点Ａｓｓに形成される。

なお、レティクルＲ０の厚さ及び硝種が異なるとき、レ
ティクルＲ０上の像共役点Ａ１□と第１対物レンズＬ、
との間の光路長に誤差を生じ、像共役位置Ａ１４および
瞳共役位ｑ　Ｂ　＋□が許容し得ないる 程に変化する場合が有千。いま、レティクルＲ０の屈折
率をｎ、厚さの差をΔｔとすると、点Ａ１４から第１対
物レンズＬ　Ｉ　１までの光路長の差Δｌは、次の式で
与えられる。

Δｌ＝Δｔ　　（１−１／　ｎ　）　　・−−−一一一
−−−−−−−（２）この場合、ΔＥたけ第１対物レン
ズＬ１１を落射ミラーＭ　目に対して変位させると共に
、オプチカル・トロンポーンを構成する一対のミラーＭ
１３＼Ｍ　１４をΔｌの半分だけ移動させて、第１対物
レンズＬ目と第２対物レンズＬ１□との間の光路長を不
変に保てばよい。また、第１対物レンズＬｌ＋を変位さ
ゼる代わりに、第２対物レンズＬ＋２とミラーＭＩ３、
Ｍ　１４を適当に変位させることによって、像共役点Ａ
、４と瞳共役点Ｂ１□とを実質的に不変に保つことも可
能である。

しかし、レティクルＲ０の厚さが大きく異なる場合には
、上記のような光学素子の微調整にて像及び瞳の共役関
係を完全に維持することが難しくなる。このため、第２
図中に二点鎖線で示したごとく、レティクルＲ０と落射
ミラーＭｌ１％　ＭＺ＋及び第１対物レンズＬｌｌ、Ｌ
２１との間にレティクルＲ０をおおうように保護ガラス
Ｐを配置し、レティクルＲ６の厚さが変わった場合に保
護ガラスＰを異なる厚さのものに交換すればよい。この
とき、レティクルＲ０の下面即ちパターン面と第１対物
レンズＬ１いＬｚ＋との間に介在する平行平面板として
のレティクルＲ０と保護ガラスＰとの厚さの総和が常に
一定となるように構成することが可能である。従って、
この保護ガラスＰは、レティクルＲ０上にゴミやホコリ
が付着するのを防止するという本来の機能に加えて、光
路長の補正機能をも具備するものである。

なお、第１図の実施例においては、オプチカル・トロン
ポーンを構成するミラーを互いに直交する一対の平面鏡
Ｍ１３、Ｍ　（４またはＭ２３、Ｍ　ｚ　４にて形成し
たが、これをコーナーキューブやハローキューブに置き
換えることにより、ミラーの移動の際の傾きを光学的に
キャンセルすることができ、移動装置の作製が容易とな
る。但し、この場合、コーナーキューブやハローキュー
ブのダハ面の稜線部にレーザ光が入射すると、レーザ光
が散乱されてアライメント精度が低下するため、稜線部
に光が入射しないように構成することが望ましい。

また、上記の実施例においては、レーザビームの走査手
段として透過型スキャナーＳ０を用いたが、これに限ら
ず反射型スキャナー等を用いて投光系を構成してもよい
ことは言うまでも無い。

なおまた、上記の縮小投影型露光装置中に用いられた光
路長補償装置は、アライメント光学系ばかりでなく、顕
微鏡対物レンズを用いる各種測定装置や物点を拡大投影
する投影検査機等に使用しても有効に上記の機能を発揮
できる。

〔発明の効果〕

以上の如く本発明によれば、第１対物レンズが二次元平
面内で移動しても、これに追従する移動ミラーＭ１ｇ、
Ｍ２□（第１反射手段）とトロンポーン光学系Ｍ＋、、
Ｍ　１４、Ｍｚｓ、Ｍｇ２　（第２反射手段）とはそれ
ぞれ一次元方向の移動で共役関係が保たれるため、比較
的簡単な構成で装置の高精度化、高信顛性を得ることが
でき、また、同一の被検物体等にお、ける２点を同時に
拡大して位置決め、測定または検査等を行う場合、複数
の対物レンズをそれぞれ独立して移動することが可能と
なるので゛、装置の使用範囲が拡大され、取扱いも簡便
なものとすることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、縮小投影型露光装置のアライメント光学系中
に組み込まれた本発明の実施例を示す光学系の平面配置
図、第２図は、第１図に示す実施例の対物レンズ部分を
示す立面配置図、第３図は、第１図に示す実施例の光学
系移動装置を示す概略平面図、第４図は第１図に示す実
施例における光路長補償説明図である。 〔主要部分の符号の説明〕

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）前側焦点位置を物点とし且つ該物点を含む所定の
   二次元平面に沿って移動可能な第１対物レンズと、後側
   焦点位置を像点とする第２対物レンズと、前記第１対物
   レンズと前記第２対物レンズとの間の光路中に該光路に
   沿って移動可能に配置された第１反射手段と第２反射手
   段とを含み、前記第１反射手段は、前記第１対物レンズ
   からの光路を前記二次元平面に沿って所定の角度だけ転
   向し、且つ前記第１対物レンズと共に移動可能な少なく
   とも１個の反射面を有し、前記第２反射手段は前記第１
   反射手段からの光を前記第２対物レンズへ導く少なくと
   も一対の反射面を有し、前記第１対物レンズの後側焦点
   位置と前記第２対物レンズの前側焦点位置とが常に一致
   するように、前記第２反射部材が移動可能であることを
   特徴とする光路長補償装置。
2. （２）前記第１反射手段の反射面（Ｍ＿１＿２、Ｍ＿２
   ＿２）と前記第２反射手段の前記一対の反射面（Ｍ＿１
   ＿３、Ｍ＿１＿４；Ｍ＿２＿３、Ｍ＿２＿４）とは、前
   記一次元平面（Ｒ＿０）に平行な一平面内に設けられて
   いることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光路
   長補償装置。