JPH0349689A - 光学活性３―ヒドロキシカルボン酸エステルの製造方法 - Google Patents
光学活性３―ヒドロキシカルボン酸エステルの製造方法Info
- Publication number
- JPH0349689A JPH0349689A JP18376989A JP18376989A JPH0349689A JP H0349689 A JPH0349689 A JP H0349689A JP 18376989 A JP18376989 A JP 18376989A JP 18376989 A JP18376989 A JP 18376989A JP H0349689 A JPH0349689 A JP H0349689A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid ester
- yeast
- optically active
- hydroxy
- lower alkyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 240000004808 Saccharomyces cerevisiae Species 0.000 claims abstract description 18
- -1 enol ester Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims abstract description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 7
- 235000014680 Saccharomyces cerevisiae Nutrition 0.000 abstract description 17
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 abstract description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 4
- VEXDRERIMPLZLU-UHFFFAOYSA-N nilic acid Natural products CC(O)C(C)C(O)=O VEXDRERIMPLZLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N Glucose Natural products OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N 0.000 abstract description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 3
- 239000008103 glucose Substances 0.000 abstract description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 abstract description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 abstract description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 230000010933 acylation Effects 0.000 abstract 1
- 238000005917 acylation reaction Methods 0.000 abstract 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 abstract 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 10
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- BZFWGBFTIQSEBN-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-hydroxy-2-methylbutanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)C(C)O BZFWGBFTIQSEBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 4
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 3
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 3
- FNENWZWNOPCZGK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methyl-3-oxobutanoate Chemical group CCOC(=O)C(C)C(C)=O FNENWZWNOPCZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 2
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JJYKJUXBWFATTE-VIFPVBQESA-N (2s)-3,3,3-trifluoro-2-methoxy-2-phenylpropanoic acid Chemical compound CO[C@@](C(O)=O)(C(F)(F)F)C1=CC=CC=C1 JJYKJUXBWFATTE-VIFPVBQESA-N 0.000 description 1
- TYBSGNFITSHAJH-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-3-hydroxybutyric acid Chemical compound CCC(C(C)O)C(O)=O TYBSGNFITSHAJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXDRERIMPLZLU-UHFFFAOYSA-M 2-methyl-3-hydroxybutyrate Chemical compound CC(O)C(C)C([O-])=O VEXDRERIMPLZLU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MXLMTQWGSQIYOW-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-2-butanol Chemical compound CC(C)C(C)O MXLMTQWGSQIYOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M Butyrate Chemical compound CCCC([O-])=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YXAGIRHBJJLWHW-UHFFFAOYSA-N Ethyl 2-ethylhexanoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OCC YXAGIRHBJJLWHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000023 Kugelrohr distillation Methods 0.000 description 1
- 101150030723 RIR2 gene Proteins 0.000 description 1
- CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N Sucrose Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@]1(CO)O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N 0.000 description 1
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 1
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 1
- 229940090012 bentyl Drugs 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N beta-D-glucose Chemical compound OC[C@H]1O[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N 0.000 description 1
- LBEZBFLTUMLBMM-UHFFFAOYSA-N butyl 3-hydroxy-2-methylbutanoate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)C(C)O LBEZBFLTUMLBMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N butyl butanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCC XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 235000015097 nutrients Nutrition 0.000 description 1
- CFNJLPHOBMVMNS-UHFFFAOYSA-N pentyl butyrate Chemical compound CCCCCOC(=O)CCC CFNJLPHOBMVMNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 239000008363 phosphate buffer Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000005720 sucrose Substances 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000052 vinegar Substances 0.000 description 1
- 235000021419 vinegar Nutrition 0.000 description 1
Landscapes
- Preparation Of Compounds By Using Micro-Organisms (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野〉
本発明は光学活性３−ヒドロキシカルボン酸エステルの
！！遣方法に間するものである．詐しくは、従来法に比
較してｓｙｎ体のジアステレオ選択性の高い光学活性３
−ヒドロキシカルボン酸エステルを製造する方法に関す
るものである． （従来の技術） 近年、光学活性３−ヒドロキシカルボン酸エステルは、
医薬、農薬等の中間体あるいは液晶材料等の電子材料の
中間体として注目されており、例えば光学活性２−アル
キルー３−ヒドロキシブタン酸エステルは、２−アルキ
ルー３−オキソブタン酸エステルをパン酵母で還元する
ことにより製造されている［Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ
Ｌｅｔｔｅｒｓ，］，３１５５−３１５６（１９８６）
：Ｃｈｅｓ ．Ｐｈａｒｇｉ． Ｂｕ Ｉ ｌ ．
，３１ ． ４３７６ − ４３８３（ １９８３）］
。
！！遣方法に間するものである．詐しくは、従来法に比
較してｓｙｎ体のジアステレオ選択性の高い光学活性３
−ヒドロキシカルボン酸エステルを製造する方法に関す
るものである． （従来の技術） 近年、光学活性３−ヒドロキシカルボン酸エステルは、
医薬、農薬等の中間体あるいは液晶材料等の電子材料の
中間体として注目されており、例えば光学活性２−アル
キルー３−ヒドロキシブタン酸エステルは、２−アルキ
ルー３−オキソブタン酸エステルをパン酵母で還元する
ことにより製造されている［Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ
Ｌｅｔｔｅｒｓ，］，３１５５−３１５６（１９８６）
：Ｃｈｅｓ ．Ｐｈａｒｇｉ． Ｂｕ Ｉ ｌ ．
，３１ ． ４３７６ − ４３８３（ １９８３）］
。
しかしながら、この方法ではジアステレオマー（ｄｉａ
ｓｔｅｒｅｏｍｅｒ）の混合物が生成して、ｓｙｎ体の
ジアステレオ選択性が低いものであった。
ｓｔｅｒｅｏｍｅｒ）の混合物が生成して、ｓｙｎ体の
ジアステレオ選択性が低いものであった。
（発明が解決しようとする課題）
本発明は、ジアステレオ選択性が高く、とくに従来の方
法に比較してｓｙｎ体のジアステレオ選択性が高い光学
活性３−ヒドロキシカルボン酸エステルを製造する方法
を提供することを目的とするものである． （課題を解決するための手段〉 本発明は上記の目的を達成するために検討を重ねた結果
、従来法による２−７ルキルー３−オキソアルカン酸エ
ステルをパン酵母で直接還元する代りに、２−７ルキル
ー３−オキソアルカン酸エステルをエノールエステルに
変換した後、バン酵母で還元処理すると、ジアステレオ
選択性が改善されて、ｓｙｎ体の光学活性３−ヒドロキ
シカルボン酸エステルが従来の方法に比較して優先的に
得られることを見出し、本発明を達成した．即ち、本発
明の要旨は、次の一般式［１１ （式中Ｒｌ及びＲ３は低級アルキル基を示し、Ｒ２は低
級アルキル基又はアリル基を示す）で表されるエノール
エステルを、バン酵母と作用させて不斉還元することを
特徴とする一般式［１１（式中Ｒ１は低級アルキル基を
示し、Ｒ２は低級アルキル基又はアリル基を示を示し、
ＣＩは不斉炭素原子を示す） で表される光学活性３−ヒドロキシカルボン酸エステル
の製造方法に存する． 以下に本発明を詳繍に説明する． 本発明における、前示一般式［１ＦにおけるＲＩＲ２、
Ｒ３並びに一般式［■］におけるＲｌ，Ｒ２で示される
低級アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、
プロビル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙
げられる．またＲ２は上記の低級アルキル基の外、アリ
ル（ａｌｌｙｌ）基であってもよい。
法に比較してｓｙｎ体のジアステレオ選択性が高い光学
活性３−ヒドロキシカルボン酸エステルを製造する方法
を提供することを目的とするものである． （課題を解決するための手段〉 本発明は上記の目的を達成するために検討を重ねた結果
、従来法による２−７ルキルー３−オキソアルカン酸エ
ステルをパン酵母で直接還元する代りに、２−７ルキル
ー３−オキソアルカン酸エステルをエノールエステルに
変換した後、バン酵母で還元処理すると、ジアステレオ
選択性が改善されて、ｓｙｎ体の光学活性３−ヒドロキ
シカルボン酸エステルが従来の方法に比較して優先的に
得られることを見出し、本発明を達成した．即ち、本発
明の要旨は、次の一般式［１１ （式中Ｒｌ及びＲ３は低級アルキル基を示し、Ｒ２は低
級アルキル基又はアリル基を示す）で表されるエノール
エステルを、バン酵母と作用させて不斉還元することを
特徴とする一般式［１１（式中Ｒ１は低級アルキル基を
示し、Ｒ２は低級アルキル基又はアリル基を示を示し、
ＣＩは不斉炭素原子を示す） で表される光学活性３−ヒドロキシカルボン酸エステル
の製造方法に存する． 以下に本発明を詳繍に説明する． 本発明における、前示一般式［１ＦにおけるＲＩＲ２、
Ｒ３並びに一般式［■］におけるＲｌ，Ｒ２で示される
低級アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、
プロビル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙
げられる．またＲ２は上記の低級アルキル基の外、アリ
ル（ａｌｌｙｌ）基であってもよい。
本発明の原料物質である一般式［！］で表されるエノー
ルエステルは、一般に２−アルキルー３−オキソアルカ
ン酸エステルを、周知の方法により塩基の存在下アシル
化剤で処理することにより得られる。例えば（Ｚ）−３
−アセトキシー２−メチル−２−ブテン酸エチルは、２
−メチル−３−オキソブタン酸エチルエステルを水素化
ナトリウム及び無水酢酸で処理することによって容易に
得ることができる。
ルエステルは、一般に２−アルキルー３−オキソアルカ
ン酸エステルを、周知の方法により塩基の存在下アシル
化剤で処理することにより得られる。例えば（Ｚ）−３
−アセトキシー２−メチル−２−ブテン酸エチルは、２
−メチル−３−オキソブタン酸エチルエステルを水素化
ナトリウム及び無水酢酸で処理することによって容易に
得ることができる。
本発明は上記のようにして得られる一般式［夏］のエノ
ールエステルを基質として、パン９１により不斉還元す
るものである．バン酵母としては、生酵母又は乾燥酵母
が挙げられ、基質に対して等Ｉｔ〜５００倍量（重量）
が使用される．バン酵母による不斉還元は、基質及びパ
ン酵母を、グルコース、シュクロース等の酵母の栄養分
と共に水中で攪拌することにより行なわれる。反応は通
常１０〜５０℃、好ましくは２０〜４０℃で実施され、
反応時間は特に制限はないが、通常１〜３００時間の範
囲から選ばれる． 本発明の方法により得られる一般式［１１］で表される
光学活性光学活性３−ヒドロキシカルボン酸エステルの
具体例としては、例えば３−ヒトロキシー２−メチルブ
タン酸エチル、３−ヒドロキシ−２−（ｎｌプロビルブ
タン酸エチル、３−ヒドロキシ−２−アリルブタン酸エ
チル、３−ヒドロキシ−２−エチルブタン酸エチル、３
−ヒドロキシ−２−メチルブタン酸メチル、３−ヒドロ
キシ−２−メチルブタン酸−（ｎ）一ブロビル、３−ヒ
ドロキシ−２−メチルブタン酸−（ｎ）一ブチル、３−
ヒドロキジ−２−メチルブタンａ−２’・メチルブチル
、３−ヒドロキシ−２−メチルブタン酸−（ｎ）一ヘキ
シル、３−ヒドロキシ−２−エチルブタン酸−（ｉｓｏ
）−ブチル、３−ヒドロキシ−２−（ｎ）一ブロビルブ
タン酸（ｎ）一ベンチル、３−ヒドロキシ−２−（ｎ）
一ブチルブタン酸エチル、３−ヒドロキシ−２−（ｉｓ
ｏ）一ブチルブタン酸一（ｎ）一ブロビル、３−ヒドロ
キシ−２−（ｎ）一ベンチルブタン酸エチル、３−ヒド
ロキシー２−（ｎ）一ペンチルブタン酸−（ｎ）一ヘキ
シル、３−ヒドロキシ−２−（ｎ）−ヘキシルブタン故
エチル、３−ヒドロキシ−２ − （ ｎ ） −ヘキ
シルブタン酸−（ｎ）一ブロビル等が挙げられ、これ等
は後記実施例に示されるように、ｓｙｎ体の生成割合が
従来の方法に比較して多く、優れたジアステレオ選択性
を有する。
ールエステルを基質として、パン９１により不斉還元す
るものである．バン酵母としては、生酵母又は乾燥酵母
が挙げられ、基質に対して等Ｉｔ〜５００倍量（重量）
が使用される．バン酵母による不斉還元は、基質及びパ
ン酵母を、グルコース、シュクロース等の酵母の栄養分
と共に水中で攪拌することにより行なわれる。反応は通
常１０〜５０℃、好ましくは２０〜４０℃で実施され、
反応時間は特に制限はないが、通常１〜３００時間の範
囲から選ばれる． 本発明の方法により得られる一般式［１１］で表される
光学活性光学活性３−ヒドロキシカルボン酸エステルの
具体例としては、例えば３−ヒトロキシー２−メチルブ
タン酸エチル、３−ヒドロキシ−２−（ｎｌプロビルブ
タン酸エチル、３−ヒドロキシ−２−アリルブタン酸エ
チル、３−ヒドロキシ−２−エチルブタン酸エチル、３
−ヒドロキシ−２−メチルブタン酸メチル、３−ヒドロ
キシ−２−メチルブタン酸−（ｎ）一ブロビル、３−ヒ
ドロキシ−２−メチルブタン酸−（ｎ）一ブチル、３−
ヒドロキジ−２−メチルブタンａ−２’・メチルブチル
、３−ヒドロキシ−２−メチルブタン酸−（ｎ）一ヘキ
シル、３−ヒドロキシ−２−エチルブタン酸−（ｉｓｏ
）−ブチル、３−ヒドロキシ−２−（ｎ）一ブロビルブ
タン酸（ｎ）一ベンチル、３−ヒドロキシ−２−（ｎ）
一ブチルブタン酸エチル、３−ヒドロキシ−２−（ｉｓ
ｏ）一ブチルブタン酸一（ｎ）一ブロビル、３−ヒドロ
キシ−２−（ｎ）一ベンチルブタン酸エチル、３−ヒド
ロキシー２−（ｎ）一ペンチルブタン酸−（ｎ）一ヘキ
シル、３−ヒドロキシ−２−（ｎ）−ヘキシルブタン故
エチル、３−ヒドロキシ−２ − （ ｎ ） −ヘキ
シルブタン酸−（ｎ）一ブロビル等が挙げられ、これ等
は後記実施例に示されるように、ｓｙｎ体の生成割合が
従来の方法に比較して多く、優れたジアステレオ選択性
を有する。
（実施例〉
以下本発明を実施例について更に詳細に説明するが、本
発明はその要旨を超えない限りこれ等の実施例に限定さ
れるものではない。
発明はその要旨を超えない限りこれ等の実施例に限定さ
れるものではない。
実施１９１ １
光学活性３−ヒドロキシ−２−メチルブタン酸エチルの
製造 （１） （２１３−７セトキシー２−メチル−２−プテ
ン酸エチルの製造 水素化ナトリウム１．０１ ｇ（２５一ｓｏｌ）を乾燥
したエーテノレ１５−ｌに懸濁させ、これに２−メチノ
レ−３−オキソプタン酸エチル１．２１ ｇ（８．４
ｍｓｏｌ）を０℃で滴加し、更に無水酢１１１４．２８
ｇ（４２ ａｎａｌ）を加え１”３１１１間攪拌した
．反応生成液にリン酸緩衝液（ｐＨ ７．０）を添加し
、エーテルで抽出処理してエーテル層を分取し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去した後、シリカゲル
力ラムクロマトグラフィー（溶出液ヘキサン：酢酸エチ
ル＝ ｌＯ：ｌ）により精製して、（Ｚ）−３−アセト
キシー２−メチル−２−ブテン酸エチルｏ．ｓｏ ｇ＜
収率３２％〉を得た．本物質のＩＨ−ＮＭＲ、＋３ｃ−
ＮＭＲ、ＩＲ吸収スペクトル及びマススペクトル（ＭＳ
）の測定値は次の通りであった。
製造 （１） （２１３−７セトキシー２−メチル−２−プテ
ン酸エチルの製造 水素化ナトリウム１．０１ ｇ（２５一ｓｏｌ）を乾燥
したエーテノレ１５−ｌに懸濁させ、これに２−メチノ
レ−３−オキソプタン酸エチル１．２１ ｇ（８．４
ｍｓｏｌ）を０℃で滴加し、更に無水酢１１１４．２８
ｇ（４２ ａｎａｌ）を加え１”３１１１間攪拌した
．反応生成液にリン酸緩衝液（ｐＨ ７．０）を添加し
、エーテルで抽出処理してエーテル層を分取し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去した後、シリカゲル
力ラムクロマトグラフィー（溶出液ヘキサン：酢酸エチ
ル＝ ｌＯ：ｌ）により精製して、（Ｚ）−３−アセト
キシー２−メチル−２−ブテン酸エチルｏ．ｓｏ ｇ＜
収率３２％〉を得た．本物質のＩＨ−ＮＭＲ、＋３ｃ−
ＮＭＲ、ＩＲ吸収スペクトル及びマススペクトル（ＭＳ
）の測定値は次の通りであった。
ＩＮ−ＮＭＲ（ＣＣＩ４）：δ １．２３（ｔ，Ｊ＝７
．５ ｝１ｚ，３Ｈ），ｔ．８５（ｓ，３Ｎ），１．９
３（ｓ，３Ｈ）．２．０４（ｓ，３Ｈ）．４．０６（ｑ
，．１：７．５ ８２．２Ｈ）１ ３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤ
Ｃ Ｉ ３ ） ：δ 目．３ｏ．目．３６． １８．
５Ｂ，２０．８０，６０．４３， 目６．０１， １５
２．４７， １６６． １０， １６８．５４ＩＲ（Ｎ
ａＣｌ，ｅｌｆ−’）Ｖ ｓａｗ：３０００，２９５０
．１７６０．１？２０，＋６６０． １４４０， １３
６５， １３０５， ＋２７５． １２１５． １１８
０． １１３５ ． １０９５ ，１０２０．８６５．
７７０，６８５ ＭＳ（ｓ／ ｅ ｒｅｌ．ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ）：１
Ｂ？（８，（Ｍ＋ １）會），１８６（１，Ｍ◆）．
１４５（２２）， １４４（１００），９９（４３），
９８（４７），ＴＯ（３０）．４３（７Ｂ） （２〉光学活性３−ヒドロキシ−２−メチルブタン酸エ
チルの製造 乾燥酵母（オリエンタル酵母社！１）１０ｇ、グルコー
ス５ｇ及び水道水５０−１を混合して室温で１０分間攪
拌し、これに上記０）で得た（Ｚ）−３−アセトキシー
２−メチル−２−プテン酸エチル１００ ｍｇを０．２
ｍｌのエタノールに溶かした溶液を添加して４８時間
攪拌した。反応生成液にラジオライト（昭和ケミカル社
製凝集剤）３０ｇを加えた後、酢酸エチルで抽出処理（
５０ ｍｌ宛６回）し、抽出液を無水硫酸ナトリウムで
乾燥し次いで溶媒を留去した後、シリカゲル力ラムクロ
マトグラフィ−（溶出液ヘキサン：酢酸エチル＝ ８：
１）及びクーゲルロール蒸留により単離精製して、光学
活性３−ヒドロキシ−２−メチルブタン酸エチル５５
ｍｇ（収率７０％）を得た．本物質の比旋光度、ｔＨ−
ＮＭＲ、ＩＲ吸収スペクトル及びマススペクトル（ＭＳ
）を測定した．またジアステレオマー比をキャビラリー
ガスクロマトグラフィーで決定した．それ等の結果を以
下に示す。
．５ ｝１ｚ，３Ｈ），ｔ．８５（ｓ，３Ｎ），１．９
３（ｓ，３Ｈ）．２．０４（ｓ，３Ｈ）．４．０６（ｑ
，．１：７．５ ８２．２Ｈ）１ ３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤ
Ｃ Ｉ ３ ） ：δ 目．３ｏ．目．３６． １８．
５Ｂ，２０．８０，６０．４３， 目６．０１， １５
２．４７， １６６． １０， １６８．５４ＩＲ（Ｎ
ａＣｌ，ｅｌｆ−’）Ｖ ｓａｗ：３０００，２９５０
．１７６０．１？２０，＋６６０． １４４０， １３
６５， １３０５， ＋２７５． １２１５． １１８
０． １１３５ ． １０９５ ，１０２０．８６５．
７７０，６８５ ＭＳ（ｓ／ ｅ ｒｅｌ．ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ）：１
Ｂ？（８，（Ｍ＋ １）會），１８６（１，Ｍ◆）．
１４５（２２）， １４４（１００），９９（４３），
９８（４７），ＴＯ（３０）．４３（７Ｂ） （２〉光学活性３−ヒドロキシ−２−メチルブタン酸エ
チルの製造 乾燥酵母（オリエンタル酵母社！１）１０ｇ、グルコー
ス５ｇ及び水道水５０−１を混合して室温で１０分間攪
拌し、これに上記０）で得た（Ｚ）−３−アセトキシー
２−メチル−２−プテン酸エチル１００ ｍｇを０．２
ｍｌのエタノールに溶かした溶液を添加して４８時間
攪拌した。反応生成液にラジオライト（昭和ケミカル社
製凝集剤）３０ｇを加えた後、酢酸エチルで抽出処理（
５０ ｍｌ宛６回）し、抽出液を無水硫酸ナトリウムで
乾燥し次いで溶媒を留去した後、シリカゲル力ラムクロ
マトグラフィ−（溶出液ヘキサン：酢酸エチル＝ ８：
１）及びクーゲルロール蒸留により単離精製して、光学
活性３−ヒドロキシ−２−メチルブタン酸エチル５５
ｍｇ（収率７０％）を得た．本物質の比旋光度、ｔＨ−
ＮＭＲ、ＩＲ吸収スペクトル及びマススペクトル（ＭＳ
）を測定した．またジアステレオマー比をキャビラリー
ガスクロマトグラフィーで決定した．それ等の結果を以
下に示す。
［（Ｉ］２＠＋５．６３°（ｃ＝１．０３，ＣＩＩＣＩ
ｓ）Ｄ ３訃ＮＭＲ（ＣＣ１４）：δ０．９６−１．４０（ｍ，
９Ｈ）．２．ＩＯ−２．５０（ ＠ Ｔ Ｉ Ｈ ）
，２ ．５ ３ （ ｂ ｓ ，ｌ Ｈ ） ｌ３ ．
５ ３ − ３ ．９ ６ （ ｖ＋ ，Ｉ ＩＩ ）
，４ ．０ ５ （ Ｑ ．Ｊ ”７．５ Ｈｚ，
２Ｈ） ＩＲ（ＮａＣｌ．ｃｗ−’） ｖ ｓａｗ：３４７０．
３０００，２９５０．１？３０，１４６０， １３８０
， １２６０， １１９０， ＋０９０， １０４０，
９２５，９００，８６０，ＭＳ（ｓ／ｅ ｒｅｌ．ｉ
ｎｔｅｎｓｉｔｙ）：１４７（＋００．（門＋ １）◆
），１２９（３０） ， １０２（８７） ， １０
１（４４ ） ， ８５（ １４ ）， ７４（６３）
， ５６（２２）ジアステレオマー比の決定 ［キャビラリーガスクロマトグラフィー分析］ＰＥＧ−
２０Ｍキャビラリー力ラム：５ｏｌｌキャリャーガス：
ヘリウム、流速１．２ ｌｌｌ／ｎ＋ｉｎ．オーブン１
１０℃ ｃｉｅｔ １４０”Ｃ ｉｎｊ １４０’ｃ
滞留時間：２４．５７分（ａｎｔｉ体）：２６．５４分
（ ｓ ｙ ｒｒ体〉ｓｙｎ体：ａｎｔ自体＝ ９１
．５：８．５（面積比，ｄ．ｅ．＝８３％）であった。
ｓ）Ｄ ３訃ＮＭＲ（ＣＣ１４）：δ０．９６−１．４０（ｍ，
９Ｈ）．２．ＩＯ−２．５０（ ＠ Ｔ Ｉ Ｈ ）
，２ ．５ ３ （ ｂ ｓ ，ｌ Ｈ ） ｌ３ ．
５ ３ − ３ ．９ ６ （ ｖ＋ ，Ｉ ＩＩ ）
，４ ．０ ５ （ Ｑ ．Ｊ ”７．５ Ｈｚ，
２Ｈ） ＩＲ（ＮａＣｌ．ｃｗ−’） ｖ ｓａｗ：３４７０．
３０００，２９５０．１？３０，１４６０， １３８０
， １２６０， １１９０， ＋０９０， １０４０，
９２５，９００，８６０，ＭＳ（ｓ／ｅ ｒｅｌ．ｉ
ｎｔｅｎｓｉｔｙ）：１４７（＋００．（門＋ １）◆
），１２９（３０） ， １０２（８７） ， １０
１（４４ ） ， ８５（ １４ ）， ７４（６３）
， ５６（２２）ジアステレオマー比の決定 ［キャビラリーガスクロマトグラフィー分析］ＰＥＧ−
２０Ｍキャビラリー力ラム：５ｏｌｌキャリャーガス：
ヘリウム、流速１．２ ｌｌｌ／ｎ＋ｉｎ．オーブン１
１０℃ ｃｉｅｔ １４０”Ｃ ｉｎｊ １４０’ｃ
滞留時間：２４．５７分（ａｎｔｉ体）：２６．５４分
（ ｓ ｙ ｒｒ体〉ｓｙｎ体：ａｎｔ自体＝ ９１
．５：８．５（面積比，ｄ．ｅ．＝８３％）であった。
この結果は、後記従来法による比較例１の場合よりもｓ
ｙｎ体の生成量が多く、ジアステレオ選択性の大幅な向
上が認められた。
ｙｎ体の生成量が多く、ジアステレオ選択性の大幅な向
上が認められた。
また、上記で得られたジアステレオマー混合物を、ＭＴ
ＰＡ［（− ）一α−メトキシーα−（トリフルオロメ
チル）フェニル酢Ｍ］エステルとして、高速液体クロマ
トグラフ４ − （Ｚｏｒｂａｘ ｓｉｔ；流速０．５
１／ ｍｉｎ．，溶離液ヘキサン：テトラヒド口フラ
ン：メタノール＝ ６０００：５０：０．５）により測
定したｓｙｎ体の光学純度は９９％ｅ．ｅ．以上であっ
た。
ＰＡ［（− ）一α−メトキシーα−（トリフルオロメ
チル）フェニル酢Ｍ］エステルとして、高速液体クロマ
トグラフ４ − （Ｚｏｒｂａｘ ｓｉｔ；流速０．５
１／ ｍｉｎ．，溶離液ヘキサン：テトラヒド口フラ
ン：メタノール＝ ６０００：５０：０．５）により測
定したｓｙｎ体の光学純度は９９％ｅ．ｅ．以上であっ
た。
比較例ｌ
２−メチル−３−オキソブタン酸エチルの不斉還元によ
る光学活性３−ヒドロキシ−２−メチルブタン酸エチル
の製造 ２−メチル−３−オキソブタン酸エチル１００ ｍｇを
、前記実施例１の（２）と同様の方法により酵母と作用
させて不斉還元を行ない、単離精製して３−ヒドロキシ
−２−メチルブタン酸エチル７５ＩＩ＋８（収率７４％
）を得た．本物質の比旋光度、ＩＨ−ＮＭＲ， ＩＲ吸
収スペクトル及びマススペクトル（ＭＳ）を測定した。
る光学活性３−ヒドロキシ−２−メチルブタン酸エチル
の製造 ２−メチル−３−オキソブタン酸エチル１００ ｍｇを
、前記実施例１の（２）と同様の方法により酵母と作用
させて不斉還元を行ない、単離精製して３−ヒドロキシ
−２−メチルブタン酸エチル７５ＩＩ＋８（収率７４％
）を得た．本物質の比旋光度、ＩＨ−ＮＭＲ， ＩＲ吸
収スペクトル及びマススペクトル（ＭＳ）を測定した。
また、ジアステレオマー比をキャビラリーガスクロマト
グラフィーで決定した。それ等の結果を以下に示す． ［ａ］２８ ＋５．８２” （ｃ：Ｉ．１２，ＣＨＣＩ
３）ｐ ＩＨ−ＮＭＲ（ＣＣｌ４）：δ ０．９６−１．４０（
ｍ，９１１）．２．ＩＯ−２．５０（ｍ， ＩＨ） ．
２．５３（ｂｓ ， ＩＩ） ，３．５３−３．９６
（ｎ＋． ＬＨ） ，４ ．０５（ｑ ． Ｊ＝７．５
８２，２１１） ＩＲ（ＮａＣＩ ，ＣＩ−１） Ｖ ＃ｍＸ ：３４７
０，３０００，２９５０． １７３０．１４６０． １
３８０． １２６０， ＋１９０． １０９０， ＋０
４０，９２５，９００，８６０，ＭＳ（ｓ＋／ ｅ ｒ
ｅｌ．ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ）：１４７（１００，（Ｍ＋
１）＋）＋１２９（３０） ． １０２（８７） ，
１０１（４４ ） ， ８５（ ＋４） ， ７４（６
３） ， ５０（２２）ジアステレオマー比の決定 ［キャビラリーガスクロマトグラフィー分析コＰＥＧ−
２０Ｍキャビラリー力ラム：５０ ｒａキャリャーガス
：ヘリウム、流速１．２ ｉｆ／ ｍｉｎ．オーブン＋
１０℃ ｄｅｔ １４０６Ｃ ｉｎｊ １４０℃滞苗
時間：２４．５７分（ａｎｔｉ体）：２６．５４分 （
ｓｙｎ体） ｓｙｎ体：ａｎｔｉ体＝ ８８．５：１１．５（面積比
，ｄ．ｅ．＝７７％）であった。また実施例１の方法で
測定したｓｙｎ体の光学純度は９９％ｅ．ｅ．以上であ
った。
グラフィーで決定した。それ等の結果を以下に示す． ［ａ］２８ ＋５．８２” （ｃ：Ｉ．１２，ＣＨＣＩ
３）ｐ ＩＨ−ＮＭＲ（ＣＣｌ４）：δ ０．９６−１．４０（
ｍ，９１１）．２．ＩＯ−２．５０（ｍ， ＩＨ） ．
２．５３（ｂｓ ， ＩＩ） ，３．５３−３．９６
（ｎ＋． ＬＨ） ，４ ．０５（ｑ ． Ｊ＝７．５
８２，２１１） ＩＲ（ＮａＣＩ ，ＣＩ−１） Ｖ ＃ｍＸ ：３４７
０，３０００，２９５０． １７３０．１４６０． １
３８０． １２６０， ＋１９０． １０９０， ＋０
４０，９２５，９００，８６０，ＭＳ（ｓ＋／ ｅ ｒ
ｅｌ．ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ）：１４７（１００，（Ｍ＋
１）＋）＋１２９（３０） ． １０２（８７） ，
１０１（４４ ） ， ８５（ ＋４） ， ７４（６
３） ， ５０（２２）ジアステレオマー比の決定 ［キャビラリーガスクロマトグラフィー分析コＰＥＧ−
２０Ｍキャビラリー力ラム：５０ ｒａキャリャーガス
：ヘリウム、流速１．２ ｉｆ／ ｍｉｎ．オーブン＋
１０℃ ｄｅｔ １４０６Ｃ ｉｎｊ １４０℃滞苗
時間：２４．５７分（ａｎｔｉ体）：２６．５４分 （
ｓｙｎ体） ｓｙｎ体：ａｎｔｉ体＝ ８８．５：１１．５（面積比
，ｄ．ｅ．＝７７％）であった。また実施例１の方法で
測定したｓｙｎ体の光学純度は９９％ｅ．ｅ．以上であ
った。
実施例２〜５
一般式［１］におけるＲＩ Ｒ２及びＲ３が夫々表１
に示す基である一般式［！］のエノールエステルを使用
し、実施例１の（２）と同様の方法により表１に示す時
間、バン酵母と作用させて不斉還元を行ない、次いで単
離精製して夫々相当する光学活性３−ヒドロキシカルボ
ン酸エステルを得た．本物質の収率、ジアステレオマー
比［ｓｙｎ：ａｎｔｉ比、面偵比（ｄ．ｅ．％）］及び
光学純度（ｅ．ｅ．％）を表１に示す。
に示す基である一般式［！］のエノールエステルを使用
し、実施例１の（２）と同様の方法により表１に示す時
間、バン酵母と作用させて不斉還元を行ない、次いで単
離精製して夫々相当する光学活性３−ヒドロキシカルボ
ン酸エステルを得た．本物質の収率、ジアステレオマー
比［ｓｙｎ：ａｎｔｉ比、面偵比（ｄ．ｅ．％）］及び
光学純度（ｅ．ｅ．％）を表１に示す。
比較例２〜３
２−（ｎ）一ブロビル−３−オキソプタン酸エチル及び
２−アリルー３−オキソブタン酸エチルを、夫々前記実
施例ｌの（２）と同様の方法により酵母と作用させて不
斉還元を行ない、次いで単離精製して夫々相当する光学
活性３−ヒドロキシカルボン酸エステルを得た．本物質
の収率、ジアステレオマー比［ｓｙｎ：ａｎｔｉ比、面
稿比（ｄ．ｅ．％）］及び光学純度（ｅ．ｅ．％）を表
ｌに示す． 表 （注）：比較例２及び３は、３−オキソブタン酸エステ
ルを直接バンＩＳ！母で還元したもの．（発明の効果） 本発明によれば、従来法よりも、ｓｙｎ体のジアステレ
オ選択性が高く、医薬、農薬等の中間体あるいは液晶材
料等の電子材料の中間体として有用な光学活性３−ヒド
ロキシカルボン酸エステルを得ることができる．
２−アリルー３−オキソブタン酸エチルを、夫々前記実
施例ｌの（２）と同様の方法により酵母と作用させて不
斉還元を行ない、次いで単離精製して夫々相当する光学
活性３−ヒドロキシカルボン酸エステルを得た．本物質
の収率、ジアステレオマー比［ｓｙｎ：ａｎｔｉ比、面
稿比（ｄ．ｅ．％）］及び光学純度（ｅ．ｅ．％）を表
ｌに示す． 表 （注）：比較例２及び３は、３−オキソブタン酸エステ
ルを直接バンＩＳ！母で還元したもの．（発明の効果） 本発明によれば、従来法よりも、ｓｙｎ体のジアステレ
オ選択性が高く、医薬、農薬等の中間体あるいは液晶材
料等の電子材料の中間体として有用な光学活性３−ヒド
ロキシカルボン酸エステルを得ることができる．
Claims (1)
- （１）一般式［ I ］ ▲数式、化学式、表等があります▼・・［ I ］ （式中Ｒ＾１及びＲ＾３は低級アルキル基を示し、Ｒ＾
２は低級アルキル基又はアリル基を示す） で表されるエノールエステルを、バン酵母と作用させて
不斉還元することを特徴とする一般式［II］▲数式、化
学式、表等があります▼・・［II］ （式中Ｒ＾１は低級アルキル基を示し、Ｒ＾２は低級ア
ルキル基又はアリル基を示を示し、Ｃ＾＊は不斉炭素原
子を示す） で表される光学活性３−ヒドロキシカルボン酸エステル
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18376989A JPH0349689A (ja) | 1989-07-18 | 1989-07-18 | 光学活性３―ヒドロキシカルボン酸エステルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18376989A JPH0349689A (ja) | 1989-07-18 | 1989-07-18 | 光学活性３―ヒドロキシカルボン酸エステルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0349689A true JPH0349689A (ja) | 1991-03-04 |
Family
ID=16141642
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18376989A Pending JPH0349689A (ja) | 1989-07-18 | 1989-07-18 | 光学活性３―ヒドロキシカルボン酸エステルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0349689A (ja) |
-
1989
- 1989-07-18 JP JP18376989A patent/JPH0349689A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| FR2473519A1 (fr) | Terpenoides contenant deux groupes fonctionnels, leur preparation et leur application therapeutique | |
| JPH0349689A (ja) | 光学活性３―ヒドロキシカルボン酸エステルの製造方法 | |
| JPH06256278A (ja) | 光学活性α−カルバモイルアルカン酸誘導体およびその製法 | |
| JP4209022B2 (ja) | イソシアノ酢酸アルキルエステル類の製造法 | |
| JP3055273B2 (ja) | ５−メチレン−２−置換−２−シクロペンテン−１−オンの製造方法 | |
| JPS635056A (ja) | （１ｒ，４ｓ）−４−ヒドロキシ−２−シクロペンテニルエステル類の製造方法 | |
| JPH0248573A (ja) | ロバスタチンの６―デスメチル―６―エキソ―メチレン誘導体及びその類似体の製造方法 | |
| KR100543172B1 (ko) | 테레인 화합물의 제조방법 | |
| JPH0348641A (ja) | 光学活性ヒドロキシケトエステル及びその製造方法 | |
| JPH0227996A (ja) | 光学活性なシクロペンテノール誘導体の製造方法 | |
| JP3046383B2 (ja) | 光学活性インドールヒドロキシ酸類の製造方法 | |
| JPH08332096A (ja) | 光学活性（＋）−４，４，４−トリフルオロ−３−（インドール−３−）酪酸の製造方法 | |
| JPH02219583A (ja) | 光学活性４―ブタノリドの製造法 | |
| JPH02256652A (ja) | α―トリフルオロメチル―γ―ニトロ酪酸あるいはそのエステル並びにその製造方法 | |
| JPH04141093A (ja) | 有機酸エステルの製造法 | |
| JPS63222141A (ja) | アダマントイル置換オレフイン類の製造法 | |
| JPH06335398A (ja) | シクロヘキセンジオール誘導体 | |
| JPH04228093A (ja) | 光学活性なα−ヒドロキシアルケン誘導体の製造方法 | |
| JPS6153272A (ja) | グルタル酸誘導体の製法 | |
| JPS60262596A (ja) | （１ｓ，４ｒ）‐４‐ヒドロキシ‐２‐シクロペンテニルエステルの製造方法 | |
| JPH04108778A (ja) | 光学活性エステル誘導体 | |
| JPH05184375A (ja) | カルボキシアルキルアクリレートの製造方法及びこの製造方法において使用するアルコキシカルボニルアルキルアクリレートの製造方法。 | |
| JPH0339094A (ja) | 光学活性α―メチル―β―ヒドロキシアルカン酸の製造方法 | |
| JPH05255243A (ja) | アジリジン−２−カルボン酸誘導体及びその製造方法 | |
| JPH0331273A (ja) | 光学活性なフリルカルビノール類およびその製造法 |