JP3055273B2 - 5−メチレン−2−置換−2−シクロペンテン−1−オンの製造方法 - Google Patents

5−メチレン−2−置換−2−シクロペンテン−1−オンの製造方法

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JP3055273B2 JP3331066A JP33106691A JP3055273B2 JP 3055273 B2 JP3055273 B2 JP 3055273B2 JP 3331066 A JP3331066 A JP 3331066A JP 33106691 A JP33106691 A JP 33106691A JP 3055273 B2 JP3055273 B2 JP 3055273B2
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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    • C07C45/67Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は5−メチレン−2−置換
−2−シクロペンテン−1−オンの製造方法の改良に関
する。5−メチレン−2−置換−2−シクロペンテン−
1−オンは各種の農薬、医薬、特にシクロペンテノイド
系抗生物質や制癌剤等の中間体として有用な化合物であ
る。
【0002】
【従来の技術】5−メチレン−2−置換−2−シクロペ
ンテン−1−オンの製造法としてはスピロシクロペンテ
ノン類の熱分解による方法が知られている(ジャーナル
オブオーガニック ケミストリー: Journal of Orga
nic Chemistry (47) 599〜601(1982))。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
方法は400〜450℃の高温、かつ0.05mmHg
の高真空下の反応であり、原料の入手を含めて、工業的
実施には難点がある。かかる事情に鑑み、5−メチレン
−2−置換−2−シクロペンテン−1−オンの製造方法
について鋭意検討した結果、5−置換−3−ヒドロキシ
−2−メチレン−1−トリアルキルシリル−4−ペンテ
ン−1−オンを過レニウム酸塩およびアリールスルホン
酸と処理することにより5−メチレン−2−置換−2−
シクロペンテン−1−オンが得られることを見出し、本
発明を完成するに至った。
【0004】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は一般
式(1)、 (式中、R1 はフェニル置換アルキル基、フェニル基ま
たはトリアルキルシリル基を、TRSはトリアルキルシ
リル基を表す)で示される5−置換−3−ヒドロキシ−
2−メチレン−1−トリアルキルシリル−4−ペンテン
−1−オンを過レニウム酸塩およびアリールスルホン酸
の存在下に環化脱シリル化させることを特徴とする一般
式(2)、 (式中、R1 は上記と同じ。)で示される5−メチレン
−2−置換−2−シクロペンテン−1−オンの製造方法
である。
【0005】本発明に用いられる一般式(1)で示され
る5−置換−3−ヒドロキシ−2−メチレン−1−トリ
アルキルシリル−4−ペンテン−1−オンの置換基R1
として、具体的には2−フェニルエチル、ベンジル基等
のフェニル置換アルキル基、フェニル基およびトリメチ
ルシリル、トリエチルシリル、トリブチルシリル基等の
トリアルキルシリル基が挙げられる。またTRSで示さ
れるトリアルキルシリル基としてもトリメチルシリル、
トリエチルシリル、トリブチルシリル基等が挙げられ
る。
【0006】5−置換−3−ヒドロキシ−2−メチレン
−1−トリアルキルシリル−4−ペンテン−1−オンと
して更に具体的には、5−フェニル−3−ヒドロキシ−
2−メチレン−1−トリメチルシリル−4−ペンテン−
1−オン、5−フェニル−3−ヒドロキシ−2−メチレ
ン−1−トリエチルシリル−4−ペンテン−1−オン、
5−フェニル−3−ヒドロキシ−2−メチレン−1−ト
リブチルシリル−4−ペンテン−1−オン、5−ベンジ
ル−3−ヒドロキシ−2−メチレン−1−トリメチルシ
リル−4−ペンテン−1−オン、5−ベンジル−3−ヒ
ドロキシ−2−メチレン−1−トリエチルシリル−4−
ペンテン−1−オン、5−ベンジル−3−ヒドロキシ−
2−メチレン−1−トリブチルシリル−4−ペンテン−
1−オン、5−フェニルエチル−3−ヒドロキシ−2−
メチレン−1−トリメチルシリル−4−ペンテン−1−
オン、5−フェニルエチル−3−ヒドロキシ−2−メチ
レン−1−トリエチルシリル−4−ペンテン−1−オ
ン、5−フェニルエチル−3−ヒドロキシ−2−メチレ
ン−1−トリブチルシリル−4−ペンテン−1−オン、
5−トリメチルシリル−3−ヒドロキシ−2−メチレン
−1−トリメチルシリル−4−ペンテン−1−オン、5
−トリメチルシリル−3−ヒドロキシ−2−メチレン−
1−トリエチルシリル−4−ペンテン−1−オン、5−
トリメチルシリル−3−ヒドロキシ−2−メチレン−1
−トリブチルシリル−4−ペンテン−1−オン、5−ト
リエチルシリル−3−ヒドロキシ−2−メチレン−1−
トリメチルシリル−4−ペンテン−1−オン、5−トリ
エチルシリル−3−ヒドロキシ−2−メチレン−1−ト
リエチルシリル−4−ペンテン−1−オン、5−トリエ
チルシリル−3−ヒドロキシ−2−メチレン−1−トリ
ブチルシリル−4−ペンテン−1−オン、5−トリブチ
ルシリル−3−ヒドロキシ−2−メチレン−1−トリメ
チルシリル−4−ペンテン−1−オン、5−トリブチル
シリル−3−ヒドロキシ−2−メチレン−1−トリエチ
ルシリル−4−ペンテン−1−オン、5−トリブチルシ
リル−3−ヒドロキシ−2−メチレン−1−トリブチル
シリル−4−ペンテン−1−オン等が挙げられる。
【0007】本発明に用いられる過レニウム酸塩として
は、過レニウム酸テトラアンモニウム、過レニウム酸テ
トラメチルアンモニウム、過レニウム酸テトラエチルア
ンモニウム、過レニウム酸テトラプロピルアンモニウ
ム、過レニウム酸テトラブチルアンモニウム、過レニウ
ム酸テトラペンチルアンモニウム等が挙げられる。
【0008】本発明に用いられるアリールスルホン酸と
しては、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸
およびメタニトロベンゼンスルホン酸等が挙げられる。
【0009】本発明は通常、溶媒の存在下に行われる。
溶媒は特に限定されるものではないが、ジクロルメタ
ン、1,2−ジクロルエタン、1,1,2−トリクロル
エタンおよびクロロホルム等の塩素化炭化水素が好まし
く用いられる。
【0010】反応は通常、5−置換−3−ヒドロキシ−
2−メチレン−1−トリアルキルシリル−4−ペンテン
−1−オンを溶媒に溶解した溶液と過レニウム酸塩とア
リールスルホン酸を溶解した溶液とを混合し、常温また
は必要により加熱し、攪拌して行われる。
【0011】
【発明の効果】本発明の方法によれば、5−置換−3−
ヒドロキシ−2−メチレン−1−トリアルキルシリル−
4−ペンテン−1−オンから一段反応で容易に、収率良
く5−メチレン−2−置換−2−シクロペンテン−1−
オンを製造することができる。
【0012】
【実施例】以下、本発明を実施例でさらに詳細に説明す
るが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。
【0013】実施例1 5−フェニル−3−ヒドロキシ−2−メチレン−1−ト
リメチルシリル−4−ペンテン−1−オン(85.9m
g,0.33mmol)のジクロルメタン(2ml)溶
液と、過レニウム酸テトラブチルアンモニウム(インオ
ーガニック シンセシス:Inorganic Synthesis 26,391
(1989)に記載の方法により合成した。)(16.6m
g,0.033mmol)とパラトルエンスルホン酸一
水和物(6.6mg,0.033mmol)のジクロル
メタン(1.5ml)溶液を混合し、室温で2時間攪拌
して反応を行った。
【0014】反応液に飽和炭酸水素ナトリウム溶液とジ
エチルエーテルを加えて攪拌した。有機層を塩水で洗
い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。次いで溶媒のジク
ロルメタンを真空に引いて除き、得られた粗生成物を薄
層クロマトグラフ(シリカゲル、展開液はヘキサンと酢
酸エチルが5:1の溶液)で生成物を分離した。生成物
の分析値は以下のとおりであり、5−メチレン−2−フ
ェニル−2−シクロペンテン−1−オンと同定された。 IR(neat) 1689, 1645, 1593, 1491, 1444, 1417 cm-1 1H−NMR(500MHz,CDCl3 ) 3.32(2H,d,J=1.2Hz), 5.53(1H,d,J=0.9Hz) 6.24(1H,d,J=0.9Hz), 7.34〜7.42(3H,m), 7.75〜7.79(3H,m); 13C−NMR(125MHz,CDCl3 ) 31.74, 117.70, 126.97, 128.43, 128.53, 131.89, 142.09, 144.73, 152.30, 193.90 生成量は37.6mg(0.22mmol)で、収率は
67%であった。
【0015】参考例1 3−トリメチルシリル−2−プロペンアール(144.
80mg、1.13mmol)、1−メチルチオ−1−
トリメチルシリル−1,2−プロパジエン(672.9
0mg、4.24mmol)のジクロロメタン6ml溶
液に−45℃で三弗化硼素エーテラート(BF3 ・OE
2 )(310.55mg、2.19mmol)のジク
ロロメタン溶液4mlを一滴ずつ滴下した。−45℃で
160分攪拌後、反応液に炭酸水素ナトリウム水溶液を
加え反応を停止した。水相をジクロロメタンで2回抽出
し、有機相を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
【0016】溶媒を減圧下留去後、粗生成物を薄層クロ
マトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=7:1)にて
分離精製した。生成物の分析値は以下のとおりであり、
5−トリメチルシリル−3−ヒドロキシ−2−メチレン
−1−トリメチルシリル−4−ペンテン−1−オンと同
定された。 IR(neat) 1597, 1250, 989, 842, 757 cm-1 1H−NMR(500MHz,CDCl3 ) 0.04(9H,s), 0.26(s,9H), 2.94(1H,d,J=5.6Hz) 4.89-4.92(1H,m), 5.89(1H,dd,J=18.8,1.4Hz) 6.04(1H,dd,J=18.8, 4.7Hz), 6.06(1H,s) 6.14(1H,d,J=0.8Hz) 13C−NMR(125MHz,CDCl3 ) -1.47, 1.38, 72.90, 128.6, 130.46, 145.19, 152.99, 239.66 生成量は148.10mgで、収率は49%であった。
【0017】実施例2 参考例1で合成した5−トリメチルシリル−3−ヒドロ
キシ−2−メチレン−1−トリメチルシリル−4−ペン
テン−1−オン23.40mg(0.09mmol)の
ジクロロメタン溶液4mlに過レニウム酸テトラブチル
アンモニウム500mg(0.010mmol)、パラ
トルエンスルホン酸一水和物4.60mg(0.024
mmol)を加え、室温で3日間攪拌した。反応液に炭
酸水素ナトリウム水溶液を加え反応を停止させ後、有機
物をジクロロメタンで2回抽出した。有機相を合わせ、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
【0018】減圧下、溶媒を留去後、粗生成物を薄層ク
ロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=10:1)
にて分離精製した。生成物の分析値は以下のとおりであ
り、5−メチレン−2−トリメチルシリル−2−シクロ
ペンテン−1−オンと同定された。 IR(soln,Cell) 1689, 1643 cm-1 1H−NMR(500MHz,CDCl3 ) 0.19(9H,s), 3.23-3.24(2H,m), 5.40(1H,bs) 6.04(1H,bs), 7.70(1H,bs) 13C−NMR(125MHz,CDCl3 ) -1.99, 35.33, 116.40, 142.16, 149.25, 165.62, 199.60 生成量は9.60mgで、収率は63%であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI C07F 7/08 C07F 7/08 H // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (56)参考文献 特開 昭56−86128(JP,A) 特開 昭53−21146(JP,A) 特開 昭59−110644(JP,A) 特開 昭62−298547(JP,A) 特開 昭57−188541(JP,A) 特開 昭48−78144(JP,A) 特開 昭53−149952(JP,A) 特開 平1−233255(JP,A) 特開 平2−237954(JP,A) 特開 昭53−112851(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07C 45/65 C07C 45/45 C07C 45/67 C07C 49/647 C07B 61/00 300

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(1)、 (式中、R1 はフェニル置換アルキル基、フェニル基ま
    たはトリアルキルシリル基を、TRSはトリアルキルシ
    リル基を表す)で示される5−置換−3−ヒドロキシ−
    2−メチレン−1−トリアルキルシリル−4−ペンテン
    −1−オンを過レニウム酸塩およびアリールスルホン酸
    の存在下に環化脱シリル化させることを特徴とする一般
    式(2)、 (式中、R1 は上記と同じ。)で示される5−メチレン
    −2−置換−2−シクロペンテン−1−オンの製造方
    法。
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