JPH0347827A - Epoxy resin composition - Google Patents

Epoxy resin composition

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JPH0347827A
JPH0347827A JP19162189A JP19162189A JPH0347827A JP H0347827 A JPH0347827 A JP H0347827A JP 19162189 A JP19162189 A JP 19162189A JP 19162189 A JP19162189 A JP 19162189A JP H0347827 A JPH0347827 A JP H0347827A
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鳥井 宗朝
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淳 長岡
Hirohiko Kagawa
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Abstract

PURPOSE:To obtain the subject composition suitable for a semiconductor sealing resin having excellent resistance to cracking by moisture absorption in solder and moldability by compounding a specific novolak.bisphenol epoxy resin, a curing agent for an epoxy resin and a inorganic filler. CONSTITUTION:A novolak.bisphenol epoxy resin having skeleton expressed by the formula (R1 and R2 are H, 1-4C alkyl) is mixed with a curing agent for an epoxy resin (preferably phenol novolak resin) and an inorganic filler (preferably 0.1-10wt.% spherical silica having <=3.0mum particle diameter) to afford the aimed composition.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、エポキシ樹脂組成物に関するものである。[Detailed description of the invention] (Industrial application field) TECHNICAL FIELD This invention relates to an epoxy resin composition.

さらに詳しくは、この発明は、電気・電子部品、特に半
導体の封止用樹脂として耐吸湿ハンダクラック性および
成形性の良好なエポキシ樹脂組放物に関するものである
More specifically, the present invention relates to an epoxy resin assembly having good moisture absorption solder crack resistance and moldability as a sealing resin for electrical/electronic parts, particularly semiconductors.

(従来の技術) 従来より、ダイオード、トランジスター、集積回路等の
電気・電子部品の封止方法として、エポキシ樹脂やシリ
コン樹脂などによる樹脂封止法や、ガラス、金属、セラ
ミックなどによるハーメチック法が採用されてきている
。これらの方法のうち、最近では、信頼性の向上ととも
に大量生産やコストの面でメリットのあるエポキシ樹脂
を用いた低圧トランスファー成形による樹脂封止法が主
流となってきている。
(Conventional technology) Conventionally, resin encapsulation methods using epoxy resins, silicone resins, etc., and hermetic methods using glass, metals, ceramics, etc. have been used as encapsulation methods for electrical and electronic components such as diodes, transistors, and integrated circuits. It has been done. Of these methods, resin encapsulation by low-pressure transfer molding using epoxy resin has recently become mainstream, as it has advantages in terms of improved reliability, mass production, and cost.

このエポキシ樹脂を用いた封止法では、0−クレゾール
ノボラック型エポキシ樹脂やビスフェノール型エポキシ
樹脂に、硬化剤成分としてのフェノールノボラック樹脂
や無機質充填材を配合した組成物からなるものがその成
形材料として比較的多用されている。
In this sealing method using an epoxy resin, the molding material is a composition that is a combination of an 0-cresol novolac type epoxy resin or a bisphenol type epoxy resin, a phenol novolac resin as a hardening agent component, and an inorganic filler. Relatively used.

(発明が解決しようとする課題) しかしながら、近年、IC,LSI、VLSIなとの電
子部分の集積度が高まり、高密度化される傾向にあるこ
とからモールド樹脂の薄肉化が要請されているが、これ
までのエポキシ樹脂成形材料では′、この薄肉化ととも
に所定の封止特性を満足することができないのが実情で
あった。
(Problem to be solved by the invention) However, in recent years, the degree of integration of electronic parts such as ICs, LSIs, and VLSIs has increased, and there is a trend toward higher density, so there is a demand for thinner mold resins. However, the reality is that conventional epoxy resin molding materials cannot meet the required sealing characteristics in addition to this thinning.

たとえば、表面実装用デバイスにおいては、実装時にデ
バイス自身をハンダに直接浸漬するなど、急激に高温環
境下さらすことが少くない。このため、パッケージクラ
ックが発生するという問題が避けられなかった。これは
、成形後の保管中に吸湿した水分が高温にさらされると
急激に気化膨張し、封止樹脂がこれに耐えられずにクラ
ックを生じることによる。
For example, surface-mount devices are often exposed to sudden high-temperature environments, such as by directly immersing the device in solder during mounting. For this reason, the problem of package cracking was unavoidable. This is because moisture absorbed during storage after molding rapidly evaporates and expands when exposed to high temperatures, and the sealing resin cannot withstand this and cracks occur.

このようなりラック発生の抑制は、エポキシ樹脂として
ビスフェノール型樹脂を使用することによっである程度
可能であるものの、吸湿後ハンダクラックの抑止効果と
してはいまだ不充分であり、また、一方で成形時のパリ
の発生が避けられないという問題もあった。
Although it is possible to suppress the occurrence of rack to some extent by using bisphenol type resin as the epoxy resin, it is still insufficient to suppress solder cracks after moisture absorption, and on the other hand, There was also the problem that the outbreak of Paris was inevitable.

この発明は、以上の通りの事情に鑑みてなされたもので
あり、これまでの樹脂封止成形材料の欠点を解消し、吸
湿後のハンダ浸漬によるパッケージクラックの発生を抑
止する耐吸湿ハンダクラック性に優れ、しかも成形時の
パリの発生もない成形性良好なエポキシ樹脂組成物を提
供することを目的としている。
This invention was made in view of the above-mentioned circumstances, and it eliminates the drawbacks of conventional resin encapsulation molding materials and provides moisture absorption solder crack resistance that suppresses the occurrence of package cracks due to solder immersion after moisture absorption. It is an object of the present invention to provide an epoxy resin composition which has excellent moldability and does not generate flakes during molding.

(課題を解決するための手段) この発明は、上記の課題を解決するものとして、骨格が
次の式 (1 また、この発明は、上記エポキシ樹脂として、フェノー
ルまたはアルキルフェノールノボラック樹脂をビスフェ
ノールグリシジルエーテルと反応させて得られるものを
用いることも含んでいる。
(Means for Solving the Problems) The present invention solves the above problems, and the present invention provides that, as the epoxy resin, phenol or alkylphenol novolac resin is replaced with bisphenol glycidyl ether. It also includes the use of products obtained by reaction.

この場合、ビスフェノールグリシジルエーテルは、たと
えば次式 (R,およびR2は、水素原子またはC3〜C4アルキ
ル基のいずれかを示す) で表わされるノボラック・ビスフェノールエポキシ樹脂
と、エポキシ樹脂硬化剤および無機質充填材を配合して
なることを特徴とするエポキシ樹脂組成物を提供する。
In this case, bisphenol glycidyl ether is, for example, a novolac bisphenol epoxy resin represented by the following formula (R and R2 represent either a hydrogen atom or a C3-C4 alkyl group), an epoxy resin curing agent, and an inorganic filler. Provided is an epoxy resin composition comprising:

Hz で示されるモノマーとして残存することも可能である。Hz It is also possible to remain as a monomer represented by

このビスフェノールグリシジルエーテルはポリマー樹脂
として配合されてもよい。
This bisphenol glycidyl ether may be formulated as a polymer resin.

アルキルフェノールノボラック樹脂としては、たとえば
ブレゾールノボラック樹脂が例示される。
Examples of the alkylphenol novolak resin include bresol novolak resin.

上記の反応は、必要により触媒を使用し、加熱すること
によって行うことができる。
The above reaction can be carried out by using a catalyst and heating if necessary.

エポキシ樹脂硬化剤としては、フェノールノボラック樹
脂、クレゾールノボラック樹脂、テトラヒドロ無水フタ
ル酸などが用いられるが、フェノールノボラック樹脂が
好ましいものとして例示される。この硬化剤の配合は、
上記エポキシ樹脂のエポキシ基1モルに対して0.3〜
3.0当量、より好ましくは0.6〜1,5当量とする
。この量が0.3当量未満あるいは3.0当量を超える
場合には、耐吸湿ハンダクラヅク性、耐湿性、成形性お
よび硬化物の電気特性が低下し、好ましくない。
As the epoxy resin curing agent, phenol novolak resin, cresol novolak resin, tetrahydrophthalic anhydride, etc. are used, and phenol novolak resin is exemplified as a preferable one. The composition of this curing agent is
0.3 to 1 mole of epoxy group in the above epoxy resin
The amount is 3.0 equivalents, more preferably 0.6 to 1.5 equivalents. If this amount is less than 0.3 equivalents or more than 3.0 equivalents, moisture absorption resistance to solder cracking, moisture resistance, moldability, and electrical properties of the cured product will deteriorate, which is undesirable.

これらの硬化剤に加えて、従来公知の3級アミン、リン
化合物などの硬化剤を加えることもできる。
In addition to these curing agents, conventionally known curing agents such as tertiary amines and phosphorus compounds can also be added.

これらの硬化剤とともに配合する無機質充填材としては
、シリカ、タルク、アルミナ、窒化硅素、水酸化アルミ
ニウムなどを使用することができる。
Silica, talc, alumina, silicon nitride, aluminum hydroxide, etc. can be used as the inorganic filler to be mixed with these hardening agents.

このうち、シリカが好ましいものとして例示される。こ
れらの無機質充填材は、樹脂組成物に対して50〜90
重量%の割合で配合するのが好ましい。50重量%未満
では耐吸湿ハンダクラック性、耐湿性および機械的特性
が悪く、90重量%を超えると成形性が悪くなって実用
には適さない。
Among these, silica is exemplified as preferred. These inorganic fillers have a content of 50 to 90% relative to the resin composition.
It is preferable to mix it in a proportion of % by weight. If it is less than 50% by weight, moisture absorption and solder crack resistance, moisture resistance, and mechanical properties will be poor, and if it exceeds 90% by weight, moldability will be poor and it is not suitable for practical use.

なお、成形時のパリの発生を抑えるためには、この無機
質充填材として球状シリカが有効であり、特に、粒径が
3.0μm以下の球状シリカを0.1〜10重量%、よ
り好ましくは0.5〜7重量%含む無機質充填材を配合
するのが好ましい。
In order to suppress the generation of flakes during molding, spherical silica is effective as this inorganic filler, and in particular, 0.1 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 10% by weight of spherical silica with a particle size of 3.0 μm or less. It is preferable to blend an inorganic filler containing 0.5 to 7% by weight.

粒径が3.0μm以上の粒状シリカや、3.0μm以下
の粒径の球状シリカでも0.1重量%以下の場合にはパ
リ発生の抑制効果が比較的小さく、また10重量%以上
の配合だと樹脂流れが低下する傾向にある。
Even for granular silica with a particle size of 3.0 μm or more or spherical silica with a particle size of 3.0 μm or less, the effect of suppressing the generation of paris is relatively small when the amount is 0.1% by weight or less, and when the content is 10% by weight or more If so, resin flow tends to decrease.

もちろん、これら以外にも必要に応じて離型剤、離燃剤
、顔料、カップリング材などを適宜に添加配合してもよ
い。また、組成物の成形は、これまで公知のトランスフ
ァー成形、射出成形、あるいは圧縮成形等の方法が採用
できる。
Of course, in addition to these, a release agent, a flame release agent, a pigment, a coupling material, etc. may be added and blended as necessary. Further, for molding the composition, conventionally known methods such as transfer molding, injection molding, or compression molding can be employed.

以下、実施例を示してさらに詳しくこの発明の組成物に
ついて説明する。
Hereinafter, the composition of the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.

実施例1〜2 フェノールノボラック樹脂(軟化点80°C)10部、
次式のグリシジルエーテル 90部およびトリフェニルポスフィン0.1部の割合で
、150℃の温度において2時間加熱混合した。
Examples 1-2 10 parts of phenol novolac resin (softening point 80°C),
A mixture of 90 parts of glycidyl ether of the following formula and 0.1 part of triphenylphosphine was heated and mixed at a temperature of 150° C. for 2 hours.

NMRにより、ノボラック・ビスフェノールエポキシ樹
脂の生成を確認した。また、GPCによりビスフェノー
ルグリシジルエーテル631量%がモノマーとして残存
していることを確認した。
Formation of novolak bisphenol epoxy resin was confirmed by NMR. Furthermore, it was confirmed by GPC that 631% by weight of bisphenol glycidyl ether remained as a monomer.

エポキシ当量は255であった。The epoxy equivalent weight was 255.

この樹脂を、表1に示した配合で用いて混合および混練
し、樹脂組成物とした。ミキサー、ブレンダー等による
混合と、ニーダ−、ロール等による混練が行われる。ま
た必要に応じて冷却固化し、粉砕して粒状とすることも
できる。
This resin was mixed and kneaded using the formulation shown in Table 1 to obtain a resin composition. Mixing using a mixer, blender, etc., and kneading using a kneader, rolls, etc. are performed. Moreover, if necessary, it can be solidified by cooling and pulverized into granules.

得られた組成物について成形材料としての特性を評価し
た。表1はその結果を示したものである。
The properties of the obtained composition as a molding material were evaluated. Table 1 shows the results.

なお、評価の方法は次の通りとした。The evaluation method was as follows.

(1) パリ生成 60pQFP  TEG成形時のリード間パリにて判定
(1) Paris generation: Determined by the Paris between the leads during 60pQFP TEG molding.

材料粘度 150℃、モノホール法 密着度 60pQFP  TEGのダイハツト裏面密着を超音波
画像処理により判定。剥離を有するものを不良品とし、
これに対する良品の割合で示した。
Material viscosity 150℃, monohole method adhesion 60p QFP TEG adhesion to the back side of Daihatsu was determined by ultrasonic image processing. Items with peeling are considered defective.
It is expressed as a percentage of non-defective products.

クラック発生秒数 60pQFP  TEGを85℃×85%RHX72H
で加湿させた後に、260℃のハンダに浸漬し、クラッ
クの発生する秒数を測定した。またこの場合、密着度テ
ストで良品と判定されたものについて評価した。
Crack generation time: 60 pQFP TEG at 85°C x 85% RH x 72H
After humidifying the sample at 260° C., the sample was immersed in solder at 260° C., and the number of seconds it took for cracks to occur was measured. Moreover, in this case, the evaluation was made on those determined to be good in the adhesion test.

(注)  60pQFP(ダイパッドサイズ8.2 n
un X 8.2 mm )表1の結果および後述の比
較例との対比から明(4) (2) (3)  0 らかなように、この実施例1〜2においては、耐吸湿ハ
ンダクラック性および成形性とともに良好であった。
(Note) 60pQFP (Die pad size 8.2n
(4) (2) (3) 0 As is clear from the results in Table 1 and the comparison with the comparative examples described below, in Examples 1 and 2, moisture absorption solder crack resistance It was also good in terms of moldability and moldability.

実施例3〜4 実施例1〜2におけるフェノールノボラック樹脂とグリ
シジルエーテルとの割合を30部/70部と変更した以
外は実施例1〜2と同様に反応させて、エボキシ当量の
3400ノボラ・yク・ビスフェノールエボキシ樹脂を
得た。このものには、グリシジルエーテルモノマーが3
8重量%残存していた。
Examples 3-4 The reaction was carried out in the same manner as in Examples 1-2 except that the ratio of phenol novolac resin and glycidyl ether in Examples 1-2 was changed to 30 parts/70 parts, and the epoxy equivalent was 3400 novola.y. A bisphenol epoxy resin was obtained. This one contains 3 glycidyl ether monomers.
8% by weight remained.

表1に示した配合比で成形材料を製造し、実施例1〜2
と同様にして特性を評価した。耐吸湿ハンダクラック性
、成形性ともに優れていた。
Molding materials were manufactured with the compounding ratio shown in Table 1, and Examples 1 to 2
The characteristics were evaluated in the same manner. Both moisture absorption solder crack resistance and moldability were excellent.

比較例1〜2 この発明のノボラック・ビスフェノールエポキシ樹脂を
配合することなく、オルトクレゾールノボラック樹脂(
比較例1)、実施例1〜4で使用したグリシジルエーテ
ル(比較例2)を各々配合し樹脂組成物を製造し、実施
例と同様にしてその特性を評価した。
Comparative Examples 1 to 2 Ortho-cresol novolac resin (
Comparative Example 1) and the glycidyl ether used in Examples 1 to 4 (Comparative Example 2) were blended to produce a resin composition, and the properties thereof were evaluated in the same manner as in the Examples.

表1にその結果を示した通り、比較例1のノボラヅク樹
脂配合の場合には、成形性は良いものの、耐吸湿ハンダ
クラック性に劣り、また比較例2のグリシジルエーテル
配合の場合には逆にパリの発生が避けられなかった。ク
ラック発生の抑制も充分なものではなかった。
As shown in Table 1, in the case of Comparative Example 1, which contains Noborazuk resin, the moldability is good, but the moisture absorption and solder crack resistance is poor, and in the case of Comparative Example 2, which contains glycidyl ether, the moldability is good. The outbreak of Paris was inevitable. The suppression of crack generation was also not sufficient.

11 1 2 ロ) O ■) 0 O 0) \r (0 ヘ × 0 : 彎 屈 N N ト 一 N 0 ■) 〜 ー 一 ト へ 審 一 ロ) 0 ■) 0 0 0) \デ a) (’4 ○ 0 ? 四 一 一 一 (N O O \ − IN ト 一 ト C八 〜 j一 ○ む) む) O ○ 0) ! 0) Cリ O O 〜 春わ 豐 σ) q) 一 へ O U) ( 佃品 一 ト (八 ? ぼー 入 圏 O j一 Ifi ト ω I) O ○ n 豐 a) CN ◎ 0 ♀ ※齢 ・3 の 一 へ O 0 \ @8 ,λ ゛豐 守 一 ト 一 = 啄一 者 濶 一一 j一 H I) 0 I) ○ 0 n ! 0) ヘ Q O 〜 侵ぬ Cq lハ 一 C9 0 0 ( @真 一一 \r 駕 一 ト U) ? 摩一 ζ ρ シー ロ ψ 0’1 ■) Q 0 n 豐 () N ○ ○ 〜 侵翻 ト 一 一 (N O O K 佃g ベ a) U) 一 ト ! 一 啄一 Ill 1N 女錫 へー ,λ 硼 硼 タ ペ 尿゛ 一 ρ1 嘔 一 鰯 龜 ■ f ト イ 瑯 瑯 ト ベ 七 .f 課 卜 ′X瑯 町瑯 茹 へ 錫 H モ H ト ,入 :き +7 一 州 ベ r′″23 姥・3 1ト 石 會 ト ヘ 全 州 諏 =^ と I − \ 笠 ,λ ヘ ) タ 四 ド 御 へ 卜 ρ ペ噛・ ″′−イ H 奄 H 卜 属 ト 〕3 ■ 翠 0 l 騒 =1 鐸 さ タ ム 全 Iト妖 5 ・λ \ l ト 菱 娃 +ls 芒 ペ :き H 蕪 .O へ \H セH゛ ペ へ 綜 の 蛇 タ タ ド ト 一 莫 礎 へ 一 砺 〈n ( 軛 一 輪 ) 跪 填 実施例5〜7 実施例1〜2と同様のノボラック・ビスフェノールエボ
キシ樹脂を用い、表2に示した配合のエボキシ樹脂組成
物を製造した。
11 1 2 B) O ■) 0 O 0) \r (0 H ('4 ○ 0 ? 4111 (N OO \ - IN TOIT C8~ j1○ MU) MU) O ○ 0)! 0) CriO O ~ Spring wa 豐σ) q) 一へ OU) ( 佃品一ト(八? BO 入区Oj一Ifi トωI) O ○ n 豐a) CN ◎ 0 ♀ * 0 \ @ 8 , λ 0) He Q O ~ Invading Cq l Ha 1 C9 0 0 (@Shinichi \r Kaichito U)? Moichi ζ ρ Shiro ψ 0'1 ■) Q 0 n 豐() N ○ ○ ~ Invasion to 11 (N O O K Tsukuda g Bear) U) One to! 1 taku 1 Ill 1N female tin heh, λ boron tape urine 1 ρ1 vo 1 sardine ■ f toy enameled tobe 7. f Section 卜' 4 do gohe ρ pekami・ ″′-iH 奄H 卜Gento〕3 ■ Midori 0 l noise = 1 Takusatam Zen Itoyou5 ・λ \ l Toshiba+ls 芒Pe:kiH turnip .. O to \H \ロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロロ;ロロロ;ロロロロロロロロ; An epoxy resin composition having the formulation shown in was manufactured.

この場合、無機質充填材としての3.0μm以下の粒径
の球状シリカの含有量を変えて製造した。
In this case, the content of spherical silica having a particle size of 3.0 μm or less as an inorganic filler was varied.

得らな組成物について実施例1〜2と同様にしてその特
性を評価した。
The properties of the obtained composition were evaluated in the same manner as in Examples 1 and 2.

なお、パリ生成についてのみ次の方法によって実施例1
〜2とは別様に評価した。
In addition, only the Paris generation was performed in Example 1 by the following method.
~2 was evaluated differently.

くバリ生成の評価〉 60pQFP金型に10μmのスリットを設け、これに
よりパリ生成を判定した。
Evaluation of burr formation> A 10 μm slit was provided in a 60p QFP mold, and burr formation was determined based on this.

この結果を表2に示しな。The results are shown in Table 2.

耐吸湿ハンダクラック性の向上ともにパリ生成の抑止効
果に優れていた。
It was excellent in both improving moisture absorption and solder cracking resistance and inhibiting the formation of paris.

比較例3〜4 無機質充填材として結晶シリカを用いた場合と、15重
量%の粒状シリカを配合した場合についても実施例5〜
7と同様にして性能評価した。
Comparative Examples 3 to 4 Examples 5 to 4 also apply to cases where crystalline silica is used as the inorganic filler and cases where 15% by weight of granular silica is blended.
Performance was evaluated in the same manner as in 7.

1 4 結晶シリカではパリ生成の抑制効果は充分でなく、また
15%もの高率での添加は、樹脂の粘性が大きくなりす
ぎる。
14 Crystalline silica does not have a sufficient effect of suppressing Paris formation, and addition at a rate as high as 15% increases the viscosity of the resin too much.

5 (発明の効果) この発明により、以上詳しく説明した通り、耐吸湿ハン
ダクラック性および成形性がともに優れたエポキシ樹脂
組成物が得られる。成形時のパリ生成も効果的に抑止さ
れる。
5 (Effects of the Invention) As explained in detail above, the present invention provides an epoxy resin composition that is excellent in both moisture absorption solder crack resistance and moldability. Paris formation during molding is also effectively suppressed.

封止用樹脂成形材料として良好な組成物が実現される。A composition that is good as a resin molding material for sealing is realized.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)骨格が次の式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (R_1およびR_2は、水素原子またはC_1〜C_
4アルキル基のいずれかを示す) で表わされるノボラック・ビスフェノールエポキシ樹脂
と、エポキシ樹脂硬化剤および無機質充填材を配合して
なることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
(1) The skeleton has the following formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (R_1 and R_2 are hydrogen atoms or C_1 to C_
An epoxy resin composition characterized by blending a novolak bisphenol epoxy resin represented by the following formula (representing any one of 4 alkyl groups) with an epoxy resin curing agent and an inorganic filler.
(2)フェノールノボラックまたはアルキルフェノール
ノボラック樹脂をビスフェノールグリシジルエーテルと
反応させて得るノボラック・ビスフェノールエポキシ樹
脂と、エポキシ樹脂硬化剤および無機質充填材を配合し
てなることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
(2) An epoxy resin composition comprising a novolak/bisphenol epoxy resin obtained by reacting a phenol novolac or alkylphenol novolac resin with bisphenol glycidyl ether, an epoxy resin curing agent, and an inorganic filler.
(3)ビスフェノールグリシジルエーテルモノマーを含
むノボラック・ビスフェノールエポキシ樹脂を配合する
請求項(1)または(2)記載のエポキシ樹脂組成物。
(3) The epoxy resin composition according to claim (1) or (2), which contains a novolak bisphenol epoxy resin containing a bisphenol glycidyl ether monomer.
(4)無機質充填材として球状シリカを配合する請求項
(1)、(2)または(3)項記載のエポキシ樹脂組成
物。
(4) The epoxy resin composition according to claim (1), (2) or (3), wherein spherical silica is blended as the inorganic filler.
(5)粒径3.0μm以下の球状シリカを0.1〜10
重量%含む無機質充填材を配合する請求項(4)記載の
エポキシ樹脂組成物。
(5) 0.1 to 10 spherical silica particles with a particle size of 3.0 μm or less
The epoxy resin composition according to claim 4, further comprising an inorganic filler containing % by weight of an inorganic filler.
JP1191621A 1989-04-22 1989-07-25 Epoxy resin composition for encapsulation Expired - Lifetime JPH0637542B2 (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6027812A (en) * 1997-01-24 2000-02-22 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Encapsulant of crystalline epoxy resin and phenolic resin-crystalline epoxy resin reaction product

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57155226A (en) * 1981-03-19 1982-09-25 Matsushita Electric Works Ltd Preparation of modified epoxy resin
JPS64116A (en) * 1987-02-16 1989-01-05 Asahi Chem Ind Co Ltd Curable epoxy resin composition
JPS6443521A (en) * 1987-08-10 1989-02-15 Toray Industries Epoxy resin
JPS6462337A (en) * 1987-09-01 1989-03-08 Denki Kagaku Kogyo Kk Burr-proof agent for semiconductor resin sealing and filler for semiconductor resin sealing containing same
JPS6465116A (en) * 1987-09-04 1989-03-10 Toray Industries Resin composition for semiconductor sealing
JPS6487616A (en) * 1987-09-28 1989-03-31 Toray Industries Resin composition for sealing semiconductor

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57155226A (en) * 1981-03-19 1982-09-25 Matsushita Electric Works Ltd Preparation of modified epoxy resin
JPS64116A (en) * 1987-02-16 1989-01-05 Asahi Chem Ind Co Ltd Curable epoxy resin composition
JPS6443521A (en) * 1987-08-10 1989-02-15 Toray Industries Epoxy resin
JPS6462337A (en) * 1987-09-01 1989-03-08 Denki Kagaku Kogyo Kk Burr-proof agent for semiconductor resin sealing and filler for semiconductor resin sealing containing same
JPS6465116A (en) * 1987-09-04 1989-03-10 Toray Industries Resin composition for semiconductor sealing
JPS6487616A (en) * 1987-09-28 1989-03-31 Toray Industries Resin composition for sealing semiconductor

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6027812A (en) * 1997-01-24 2000-02-22 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Encapsulant of crystalline epoxy resin and phenolic resin-crystalline epoxy resin reaction product

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