JPH0637542B2 - Epoxy resin composition for encapsulation - Google Patents

Epoxy resin composition for encapsulation

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JPH0637542B2
JPH0637542B2 JP1191621A JP19162189A JPH0637542B2 JP H0637542 B2 JPH0637542 B2 JP H0637542B2 JP 1191621 A JP1191621 A JP 1191621A JP 19162189 A JP19162189 A JP 19162189A JP H0637542 B2 JPH0637542 B2 JP H0637542B2
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、封止用エポキシ樹脂組成物に関するもので
ある。さらに詳しくは、この発明は、電気・電子部品、
特に半導体の封止用樹脂として耐吸湿ハンダクラック性
および成形性の良好なエポキシ樹脂組成物に関するもの
である。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a sealing epoxy resin composition. More specifically, the present invention relates to an electric / electronic component,
In particular, the present invention relates to an epoxy resin composition having good moisture absorption solder crack resistance and moldability as a semiconductor sealing resin.

(従来の技術) 従来より、ダイオード、トランジスター、集積回路等の
電気・電子部品の封止方法として、エポキシ樹脂やシリ
コン樹脂などによる樹脂封止法や、ガラス、金属、セラ
ミックなどによるハーメチック法が採用されてきてい
る。これらの方法のうち、最近では、信頼性の向上とと
もに大量生産やコストの面でメリットのあるエポキシ樹
脂を用いた低圧トランスファー成形による樹脂封止法が
主流となってきている。
(Prior art) Conventionally, as a sealing method for electric / electronic parts such as diodes, transistors, and integrated circuits, a resin sealing method using epoxy resin or silicon resin, or a hermetic method using glass, metal, ceramic, etc. has been adopted. Has been done. Among these methods, recently, a resin encapsulation method by low-pressure transfer molding using an epoxy resin, which has advantages in terms of mass production and cost as well as reliability improvement, has become mainstream.

このエポキシ樹脂を用いた封止法では、o−クレゾール
ノボラック型エポキシ樹脂やビスフェノール型エポキシ
樹脂に、硬化剤成分としてのフェノールノボラック樹脂
や無機質充填材を配合した組成物からなるものがその成
形材料として比較的多用されている。
In the encapsulation method using this epoxy resin, a molding compound composed of a composition in which an o-cresol novolac type epoxy resin or a bisphenol type epoxy resin is mixed with a phenol novolac resin as a curing agent component or an inorganic filler is used. It is used a lot.

(発明が解決しようとする課題) しかしながら、近年、IC、LSI、VLSIなどの電
子部分の集積度が高まり、高密度化される傾向にあるこ
とからモールド樹脂の薄肉化が要請されているが、これ
までのエポキシ樹脂成形材料では、この薄肉化とともに
所定の封止特性を満足することができないのが実情であ
った。
(Problems to be Solved by the Invention) However, in recent years, the degree of integration of electronic parts such as ICs, LSIs, VLSIs, etc. has been increasing, and there is a tendency for higher densification. With the conventional epoxy resin molding materials, it is the actual situation that the predetermined sealing characteristics cannot be satisfied with the reduction in thickness.

たとえば、表面実装用デバイスにおいては、実装時にデ
バイス自身をハンダに直接浸漬するなど、急激に高温環
境下さらすことが少くない。このため、パッケージクラ
ックが発生するという問題が避けられなかった。これ
は、成形後の保管中に吸湿した水分が高温にさらされる
と急激に気化膨張し、封止樹脂がこれに耐えられずにク
ラックを生じることによる。
For example, in a surface mounting device, it is rare that the device itself is rapidly exposed to a high temperature environment by directly immersing the device itself in solder. Therefore, the problem of package cracking is unavoidable. This is because moisture absorbed during storage after molding is rapidly vaporized and expanded when exposed to high temperatures, and the sealing resin cannot withstand this and cracks occur.

このようなクラック発生の抑制は、エポキシ樹脂として
ビスフェノール型樹脂を使用することによってある程度
可能であるものの、吸湿後ハンダクラックの抑止効果と
してはいまだ不充分であり、また、一方で成形時のバリ
の発生が避けられないという問題もあった。
Although the occurrence of such cracks can be suppressed to some extent by using a bisphenol type resin as the epoxy resin, it is still insufficient as an effect of suppressing solder cracks after moisture absorption. There was also a problem that the occurrence was unavoidable.

この発明は、以上の通りの事情に鑑みてなされたもので
あり、これまでの樹脂封止成形材料の欠点を解消し、吸
湿後のハンダ浸漬によるパッケージクラックの発生を抑
止する耐吸湿ハンダクラック性に優れ、しかも成形時の
バリの発生もない成形性良好なエポキシ樹脂組成物を提
供することを目的としている。
This invention has been made in view of the circumstances as described above, eliminates the drawbacks of the resin encapsulating molding material so far, and suppresses moisture absorption solder cracking resistance to suppress the occurrence of package cracks due to solder immersion after moisture absorption. It is an object of the present invention to provide an epoxy resin composition which is excellent in moldability and has good moldability without generation of burrs during molding.

(課題を解決するための手段) この発明は、上記の課題を解決するものとして、骨格が
次式(I) (RおよびRは、水素原子またはC〜Cアルキ
ル基のいずれかを示す) で表わされるノボラック・ビスフェノールエポキシ樹脂
に、エポキシ基1モルに対して0.3〜3.0当量の割合のエ
ポキシ樹脂硬化剤とともに、粒径3.0μm以下の球状シ
リカを0.1〜10重量%含有するシリカが全体量の50
〜90重量%の割合で配合されていることを特徴とする
封止用エポキシ樹脂組成物を提供する。
(Means for Solving the Problems) In order to solve the above problems, the present invention has a skeleton represented by the following formula (I): (R 1 and R 2 represent either a hydrogen atom or a C 1 -C 4 alkyl group) in the novolac bisphenol epoxy resin in an amount of 0.3 to 3.0 equivalents relative to 1 mol of the epoxy group. The total amount of silica containing 0.1 to 10% by weight of spherical silica having a particle size of 3.0 μm or less together with the curing agent is 50%.
Provided is an epoxy resin composition for encapsulation, which is blended in a proportion of from 90 to 90% by weight.

また、この発明は、上記式(I)エポキシ樹脂として、
フェノールノボラック樹脂またはアルキルフェノールノ
ボラック樹脂をビスフェノールグリシジルエーテルと反
応させて得られたものを用いることを態様としてもい
る。この場合、ビスフェノールグリシジルエーテルは、
たとえば次式(II) で示すことができる。そして、この発明の組成物には、
上記式(II)のビスフェノールグリシジルエーテルが反
応後のモノマーとして残存等により存在することも可能
である。
The present invention also provides, as the above-mentioned formula (I) epoxy resin,
It is also an embodiment to use a resin obtained by reacting a phenol novolac resin or an alkylphenol novolac resin with bisphenol glycidyl ether. In this case, bisphenol glycidyl ether is
For example, the following formula (II) Can be shown as And, in the composition of the present invention,
It is possible that the bisphenol glycidyl ether of the above formula (II) is present as a monomer after the reaction by remaining or the like.

アルキルフェノールノボラック樹脂としては、たとえば
クレゾールノボラック樹脂が例示される。
Examples of the alkylphenol novolac resin include cresol novolac resin.

上記のフェノールノボラック樹脂またはアルキルフェノ
ールノボラック樹脂とビスフェノールグリシジルエーテ
ルとの反応には、必要によりホスフィン類等の触媒を使
用し、加熱して反応を実施することができる。
In the reaction of the above-mentioned phenol novolac resin or alkylphenol novolac resin with bisphenol glycidyl ether, a catalyst such as phosphine may be used if necessary, and the reaction may be carried out by heating.

エポキシ樹脂硬化剤としては、フェノールノボラック樹
脂、クレゾールノボラック樹脂、テトラヒドロ無水フタ
ル酸などが用いられるが、フェノールノボラック樹脂が
好ましいものとして例示される。この硬化剤の配合は、
上記エポキシ樹脂のエポキシ基1モルに対して0.3〜3.0
当量、より好ましくは0.6〜1.5当量とする。この量が0.
3当量未満あるいは3.0当量を超える場合には、耐吸湿ハ
ンダクラック性、耐湿性、成形性および硬化物の電気特
性が低下し、好ましくない。
As the epoxy resin curing agent, phenol novolac resin, cresol novolac resin, tetrahydrophthalic anhydride and the like are used, and phenol novolac resin is exemplified as a preferable one. The composition of this curing agent is
0.3 to 3.0 per 1 mol of the epoxy group of the above epoxy resin
The amount is equivalent, more preferably 0.6 to 1.5 equivalent. This amount is 0.
If it is less than 3 equivalents or more than 3.0 equivalents, moisture absorption solder crack resistance, moisture resistance, moldability and electrical properties of the cured product deteriorate, which is not preferable.

これらの硬化剤とともに、この発明の組成物では、その
全体量に対して50〜90重量%の割合でシリカを配合
する。50重量%未満では耐吸湿ハンダクラック性、耐
湿性および機械的特性が悪く、90重量%を超えると成
形性が悪くなって実用には適さない。
In the composition of the present invention, silica is added together with these curing agents in a proportion of 50 to 90% by weight based on the total amount of the curing agent. If it is less than 50% by weight, moisture absorption solder crack resistance, moisture resistance and mechanical properties are poor, and if it exceeds 90% by weight, moldability is poor and it is not suitable for practical use.

また、成形時のバリの発生を抑えるために、このシリカ
としては球状シリカが有効であり、特に、粒径が3.0μ
m以下の球状シリカを0.1〜10重量%、より好ましく
は0.5〜7重量%含むこととする。
In addition, spherical silica is effective as this silica in order to suppress the occurrence of burrs during molding, and in particular, the particle diameter is 3.0 μm.
0.1 to 10% by weight, and more preferably 0.5 to 7% by weight, of spherical silica of m or less is contained.

粒径が3.0μm以下の粒径の球状シリカが0.1重量%以下
の場合にはバリ発生の抑制硬化が比較的小さく、また1
0重量%以上の配合だと樹脂流れが低下するため好まし
くない。
When the spherical silica particles having a particle diameter of 3.0 μm or less are 0.1% by weight or less, the burr-inhibiting hardening is relatively small, and 1
A blending amount of 0% by weight or more is not preferable because the resin flow decreases.

もちろん、この発明の組成物には、目的の実現を阻害し
ない限り、他種のエポキシ樹脂を併用してもよいし、公
知の硬化助剤や、タルク、アルミナ、窒化硅素、水酸化
アルミニウム等の無機質充填材、そして、離型剤、難燃
剤、顔料、カップリング材などを適宜に添加配合しても
よい。また、組成物の成形は、これまで公知のトランス
ファー成形、射出成形、あるいは圧縮成形等の方法が採
用できる。
Of course, the composition of the present invention may be used in combination with other types of epoxy resins as long as it does not hinder the achievement of the object, and known curing aids, talc, alumina, silicon nitride, aluminum hydroxide and the like. An inorganic filler, a mold release agent, a flame retardant, a pigment, a coupling material and the like may be appropriately added and blended. The composition may be molded by a conventionally known method such as transfer molding, injection molding, or compression molding.

以下、実施例を示してさらに詳しくこの発明の組成物に
ついて説明する。
Hereinafter, the composition of the present invention will be described in more detail with reference to Examples.

実施例1〜2 フェノールノボラック樹脂(軟化点80℃)10部、次
式のグリシジルエーテル 90部およびトリフェニルホスフィン0.1部の割合で、
150℃の温度において2時間加熱混合した。
Examples 1-2 Phenolic novolac resin (softening point 80 ° C.) 10 parts, glycidyl ether of the following formula 90 parts and 0.1 parts triphenylphosphine,
The mixture was heated and mixed at a temperature of 150 ° C. for 2 hours.

NMRにより、ノボラック・ビスフェノールエポキシ樹
脂の生成を確認した。また、GPCによりビスフェノー
ルグリシジルエーテル63重量%がモノマーとして残存
していることを確認した。エポキシ当量は255であっ
た。
Generation of novolac bisphenol epoxy resin was confirmed by NMR. Further, it was confirmed by GPC that 63% by weight of bisphenol glycidyl ether remained as a monomer. The epoxy equivalent was 255.

この樹脂を、表1に示した配合で、3.0μm径の球状シ
リカの含有割合が7重量%の溶融シリカとともに用いて
混合および混練し、樹脂組成物とした。キミサー、ブレ
ンダー等による混合と、ニーダー、ロール等による混練
が行われる。また必要に応じて冷却固化し、粉砕して粒
状とすることもできる。
This resin was blended and kneaded with the composition shown in Table 1 together with fused silica having a spherical silica 3.0 μm diameter content of 7% by weight to prepare a resin composition. Mixing with a Kimisa, blender, etc. and kneading with a kneader, roll, etc. are performed. Further, if necessary, it may be solidified by cooling and crushed into particles.

得られた組成物について成形材料としての特性を評価し
た。表1はその結果を示したものである。
The characteristics of the obtained composition as a molding material were evaluated. Table 1 shows the results.

なお、評価の方法は次の通りとした。The evaluation method was as follows.

(1)バリ生成 60pQFP TEG成形時のリード間バリにて判定。(1) Burr generation Judgment is based on burrs between leads during 60pQFP TEG molding.

(2)材料粘度 150℃、モノホール法 (3)密着度 60pQFP TEGのダイハット裏面密着を超音波画
像処理により判定。剥離を有するものを不良品とし、こ
れに対する良品の割合で示した。
(2) Material viscosity 150 ° C., mono-hole method (3) Adhesion degree Adhesion on the backside of the die phat of 60 pQFP TEG was judged by ultrasonic image processing. The product having peeling was regarded as a defective product, and the ratio of good product to the defective product was shown.

(4)クラック発生秒数 60pQFP TEGを85℃×85%RH×72Hで
加湿させた後に、260℃のハンダに浸漬し、クラック
の発生する秒数を測定した。またこの場合、密着度テス
トで良品と判定されたものについて評価した。
(4) Number of seconds for crack generation After 60 pQFP TEG was humidified at 85 ° C. × 85% RH × 72H, it was immersed in solder at 260 ° C., and the number of seconds for crack generation was measured. Also, in this case, the products judged to be non-defective by the adhesion test were evaluated.

(注)60pQFP(ダンパットサイズ8.2mm×8.2mm) 表1の結果および後述の比較例との対比から明らかなよ
うに、この実施例1〜2においては、耐吸湿ハンダクラ
ック性および成形性とともに良好であった。
(Note) 60 pQFP (Dumpat size 8.2 mm × 8.2 mm) As is clear from the results of Table 1 and comparison with Comparative Examples described later, in Examples 1 and 2, moisture absorption solder crack resistance and moldability It was good.

実施例3〜4 実施例1〜2におけるフェノールノボラック樹脂とグリ
シジルエーテルとの割合を30部/70部と変更した以
外は実施例1〜2と同様に反応させて、エポキシ当量の
340のノボラック・ビスフェノールエポキシ樹脂を得
た。このものには、グリシジルエーテルモノマーが38
重量%残存していた。
Examples 3 to 4 The reaction was performed in the same manner as in Examples 1 to 2 except that the ratio of the phenol novolac resin to the glycidyl ether in Examples 1 to 2 was changed to 30 parts / 70 parts, and 340 novolaks having an epoxy equivalent of 340 were used. A bisphenol epoxy resin was obtained. This product contains 38 glycidyl ether monomers.
% By weight remained.

表1に示した配合比で成形材料を製造し、実施例1〜2
と同様にして特性を評価した。耐吸湿ハンダクラック
性、成形性ともに優れていた。
A molding material was produced with the compounding ratio shown in Table 1, and Examples 1-2
The characteristics were evaluated in the same manner as in. Excellent resistance to moisture absorption solder cracks and moldability.

比較例1〜2 この発明のノボラック・ビスフェノールエポキシ樹脂を
配合することなく、オルトクレゾールノボラック樹脂
(比較例1)、実施例1〜4で使用したグリシジルエー
テル(比較例2)を各々配合し樹脂組成物を製造し、実
施例と同様にしてその特性を評価した。
Comparative Examples 1 to 2 Orthocresol novolac resin (Comparative Example 1) and the glycidyl ether (Comparative Example 2) used in Examples 1 to 4 were each compounded without compounding the novolac bisphenol epoxy resin of the present invention. The product was manufactured and its characteristics were evaluated in the same manner as in the example.

表1にその結果を示した通り、比較例1のノボラック樹
脂配合の場合には、成形性は良いものの、耐吸湿ハンダ
クラック性に劣り、また比較例2のグリシジルエーテル
配合の場合には逆にバリの発生が避けられなかった。ク
ラック発生の抑制も充分なものではなかった。
As shown in the results in Table 1, in the case of the novolac resin blend of Comparative Example 1, the moldability was good, but the moisture absorption solder crack resistance was inferior, and in the case of the glycidyl ether blend of Comparative Example 2, conversely. Burrs were unavoidable. The crack generation was not sufficiently suppressed.

実施例5〜7 実施例1〜2と同様のノボラック・ビスフェノールエポ
キシ樹脂を用い、表2に示した配合のエポキシ樹脂組成
物を製造した。
Examples 5 to 7 Using the same novolak bisphenol epoxy resin as in Examples 1 to 2, epoxy resin compositions having the formulations shown in Table 2 were produced.

この場合、3.0μm以下の粒径の球状シリカの含有量を
変えて製造した。得られた組成物について実施例1〜2
と同様にしてその特性を評価した。
In this case, it was manufactured by changing the content of spherical silica having a particle size of 3.0 μm or less. About the obtained composition, Examples 1-2
The characteristics were evaluated in the same manner as in.

なお、バリ生成についてのみ次の方法によって実施例1
〜2とは別様に評価した。
Note that only the burr generation is performed by the following method according to the first embodiment.
Evaluation was made differently from ~ 2.

〈バリ生成の評価〉 60pQFP金型に10μmのスリットを設け、これに
よりバリ生成を判定した。
<Evaluation of Burr Generation> A 60 pQFP mold was provided with a slit of 10 μm, and the burr generation was judged by this.

この結果を表2に示した。The results are shown in Table 2.

耐吸湿ハンダクラック性の向上ともにバリ生成の抑止効
果に優れていた。
The moisture absorption resistance to solder cracking was improved and the effect of suppressing burr formation was excellent.

比較例3〜4 無機質充填材として球状シリカを含有しない結晶シリカ
を用いた場合と、15重量%の3.0μm以下の径の球状
シリカを配合した溶融シリカの場合についても実施例5
〜7と同様にして性能評価した。
Comparative Examples 3 to 4 Example 5 was also applied to the case of using crystalline silica containing no spherical silica as the inorganic filler and the case of using fused silica containing 15% by weight of spherical silica having a diameter of 3.0 μm or less.
The performance was evaluated in the same manner as in .about.7.

結晶シリカではバリ生成の抑制効果は充分でなく、また
15%もの高率での添加は、樹脂の粘性が大きくなりす
ぎる。
With crystalline silica, the effect of suppressing the formation of burrs is not sufficient, and when added at a high rate of 15%, the viscosity of the resin becomes too large.

(発明の効果) この発明により、以上詳しく説明した通り、耐吸湿ハン
ダクラック性および成形性がともに優れたエポキシ樹脂
組成物が得られる。成形時のバリ生成も効果的に抑止さ
れる。
(Effect of the Invention) According to the present invention, as described in detail above, an epoxy resin composition excellent in both moisture absorption solder crack resistance and moldability can be obtained. Burr formation during molding is also effectively suppressed.

封止用樹脂成形材料として良好な組成物が実現される。A good composition is realized as a resin molding material for sealing.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 香川 裕彦 大阪府門真市大字門真1048番地 松下電工 株式会社内 (56)参考文献 特開 昭64−65116(JP,A) 特開 昭64−116(JP,A) 特開 昭57−155226(JP,A) 特開 昭59−19330(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Hirohiko Kagawa 1048, Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Works, Ltd. (56) References JP-A 64-65116 (JP, A) JP-A 64-116 ( JP, A) JP 57-155226 (JP, A) JP 59-19330 (JP, A)

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】骨格が次式(I) (RおよびRは、水素原子またはC〜Cアルキ
ル基のいずれかを示す) で表わされるノボラック・ビスフェノールエポキシ樹脂
に、エポキシ基1モルに対して0.3〜3.0当量の割合のエ
ポキシ樹脂硬化剤とともに、粒径3.0μm以下の球状シ
リカを0.1〜10重量%含有するシリカが全体量の50
〜90重量%の割合で配合されていることを特徴とする
封止用エポキシ樹脂組成物。
1. A skeleton having the following formula (I) (R 1 and R 2 represent either a hydrogen atom or a C 1 -C 4 alkyl group) in the novolac bisphenol epoxy resin in an amount of 0.3 to 3.0 equivalents relative to 1 mol of the epoxy group. The total amount of silica containing 0.1 to 10% by weight of spherical silica having a particle size of 3.0 μm or less together with the curing agent is 50%.
The epoxy resin composition for encapsulation is characterized by being blended in a proportion of from 90 to 90% by weight.
【請求項2】式(I)のノボラック・ビスフェノールエ
ポキシ樹脂は、フェノールノボラック樹脂またはアルキ
ルフェノールノボラック樹脂をビスフェノールグリシジ
ルエーテルと反応させて得られたものである請求項1の
封止用エポキシ樹脂組成物。
2. The epoxy resin composition for sealing according to claim 1, wherein the novolak-bisphenol epoxy resin of the formula (I) is obtained by reacting a phenol novolac resin or an alkylphenol novolac resin with bisphenol glycidyl ether.
【請求項3】ビスフェノールグリシジルエーテルモノマ
ーを含有する請求項2の封止用エポキシ樹脂組成物。
3. The epoxy resin composition for sealing according to claim 2, which contains a bisphenol glycidyl ether monomer.
JP1191621A 1989-04-22 1989-07-25 Epoxy resin composition for encapsulation Expired - Lifetime JPH0637542B2 (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57155226A (en) * 1981-03-19 1982-09-25 Matsushita Electric Works Ltd Preparation of modified epoxy resin
JPS6443521A (en) * 1987-08-10 1989-02-15 Toray Industries Epoxy resin
JP2505485B2 (en) * 1987-09-01 1996-06-12 電気化学工業株式会社 Additive for semiconductor resin encapsulation
JPH0753791B2 (en) * 1987-09-04 1995-06-07 東レ株式会社 Resin composition for semiconductor encapsulation
JPH0668010B2 (en) * 1987-09-28 1994-08-31 東レ株式会社 Resin composition for semiconductor encapsulation

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