JP2000103839A - Sealing resin composition and semiconductor device sealed therewith - Google Patents
Sealing resin composition and semiconductor device sealed therewithInfo
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Abstract
Description
【発明の属する技術分野】本発明は、ダイオード、トラ
ンジスタ、集積回路(IC、LSI、VLSIなど)の
電気電子部品やこれらを実装した半導体装置などの封止
のために用いられる封止用樹脂組成物、及びこれを用い
た半導体装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a sealing resin composition used for sealing electric and electronic parts of diodes, transistors, integrated circuits (ICs, LSIs, VLSIs, etc.) and semiconductor devices on which these are mounted. And a semiconductor device using the same.
【従来の技術】従来より、電気電子部品や半導体装置を
封止する方法として、例えば、エポキシ樹脂やシリコン
樹脂などを含む樹脂組成物による封止方法や、ガラス、
金属、セラミックなどを用いたハーメチックシール法な
どが採用されているが、近年では、封止信頼性の向上と
共に大量生産が可能であり、しかもコストメリットに優
れる方法として、エポキシ樹脂を含む樹脂組成物を用い
た低圧トランスファー成形が採用され主流を占めてい
る。このような樹脂組成物のエポキシ樹脂としては、o
−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂が、また硬化剤
としてはフェノールノボラック樹脂がそれぞれ一般的に
使用されている。そして最近では、電子部品や半導体装
置の高密度化や高積層化に伴って、封止樹脂(モールド
樹脂)の薄肉化が進められている。2. Description of the Related Art Conventionally, as a method for sealing electric and electronic parts and semiconductor devices, for example, a sealing method using a resin composition containing an epoxy resin or a silicon resin, glass,
The hermetic sealing method using metals, ceramics, etc. has been adopted, but in recent years, a resin composition containing an epoxy resin has been used as a method that can be mass-produced with improved sealing reliability and is more cost-effective. The low pressure transfer molding using is adopted and occupies the mainstream. As an epoxy resin of such a resin composition, o
A cresol novolak type epoxy resin is generally used, and a phenol novolak resin is generally used as a curing agent. Recently, with the increase in density and lamination of electronic components and semiconductor devices, the thickness of sealing resin (mold resin) has been reduced.
【発明が解決しようとする課題】しかし上記の従来の樹
脂組成物では、この薄肉化に満足に対応することができ
なくなっている。例えば、表面実装用デバイスにおいて
は、実装時にデバイス自身が高温下にさらされるため、
パッケージクラックなどの発生が避けられない事態とな
っている。すなわち、封止成形後の保管中に吸湿した水
分が高温にさられて急激に気化膨張し、封止樹脂がこの
膨張に耐え切れずにパッケージ(封止樹脂)にクラック
が生じるようなことが起こっている。このような問題を
解決するために、封止用樹脂組成物の耐熱性や密着性の
向上等の検討がなされており、例えば、耐熱骨格を有す
るエポキシ樹脂を含有する封止用樹脂組成物などが提案
されているが、吸湿後の高温下におけるクラックの発生
防止には至っていない。本発明は上記の点に鑑みてなさ
れたものであり、クラックや剥離が発生しにくい封止樹
脂を形成することができる封止用樹脂組成物を提供する
ことを目的とするものである。また本発明は、この封止
用樹脂組成物を用いて封止された半導体装置であって、
封止樹脂にクラックや剥離が発生しにくい半導体装置を
提供することを目的とするものである。However, the above-mentioned conventional resin composition cannot satisfy this reduction in thickness satisfactorily. For example, in a device for surface mounting, the device itself is exposed to high temperatures during mounting,
The occurrence of package cracks and the like is inevitable. That is, the moisture absorbed during storage after the encapsulation molding is exposed to a high temperature and rapidly evaporates and expands, so that the encapsulation resin cannot withstand the expansion and cracks occur in the package (encapsulation resin). is happening. In order to solve such problems, studies have been made on improving the heat resistance and adhesion of the sealing resin composition, and, for example, a sealing resin composition containing an epoxy resin having a heat-resistant skeleton. However, it has not been able to prevent the occurrence of cracks at a high temperature after moisture absorption. The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a sealing resin composition capable of forming a sealing resin in which cracks and peeling hardly occur. Further, the present invention is a semiconductor device sealed using the sealing resin composition,
It is an object of the present invention to provide a semiconductor device in which cracks and peeling do not easily occur in a sealing resin.
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
封止用樹脂組成物は、エポキシ樹脂、硬化剤、硬化助
剤、充填材を含有する半導体封止用樹脂組成物であっ
て、下記(1)の構造式を有するエポキシ樹脂と、下記
(2)の構造式を有する硬化剤をそれぞれ用いて成るこ
とを特徴とするものである。The encapsulating resin composition according to claim 1 of the present invention is a semiconductor encapsulating resin composition containing an epoxy resin, a curing agent, a curing aid, and a filler. And an epoxy resin having the following structural formula (1) and a curing agent having the following structural formula (2).
【化2】 また本発明の請求項2に係る封止用樹脂組成物は、請求
項1の構成に加えて、充填材を全量に対して80〜95
重量%含有して成ることを特徴とするものである。また
本発明の請求項3に係る封止用樹脂組成物は、請求項1
又は2の構成に加えて、上記(1)のエポキシ樹脂を全
エポキシ樹脂に対して20〜100重量%含有して成る
ことを特徴とするものである。また本発明の請求項4に
係る封止用樹脂組成物は、請求項1乃至3のいずれかの
構成に加えて、上記(2)の硬化剤を全硬化剤に対して
20〜100重量%含有して成ることを特徴とするもの
である。また本発明の請求項5に係る封止用樹脂組成物
は、請求項1乃至4のいずれかの構成に加えて、硬化助
剤として有機リン化合物を用いて成ることを特徴とする
ものである。本発明の請求項6に係る半導体装置は、請
求項1乃至5のいずれかに記載の封止用樹脂組成物で封
止されて成ることを特徴とするものである。Embedded image In addition, the sealing resin composition according to claim 2 of the present invention, in addition to the structure of claim 1, has a filler in an amount of 80 to 95 with respect to the total amount.
% By weight. Further, the sealing resin composition according to claim 3 of the present invention is characterized by claim 1.
Or, in addition to the constitution 2, the epoxy resin of the above (1) is contained in an amount of 20 to 100% by weight based on the total epoxy resin. Further, the sealing resin composition according to claim 4 of the present invention, in addition to any one of claims 1 to 3, further comprises the curing agent of (2) in an amount of 20 to 100% by weight based on the total curing agent. It is characterized by comprising. The sealing resin composition according to a fifth aspect of the present invention is characterized in that, in addition to any one of the first to fourth aspects, an organic phosphorus compound is used as a curing aid. . A semiconductor device according to a sixth aspect of the present invention is characterized by being sealed with the sealing resin composition according to any one of the first to fifth aspects.
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。エポキシ樹脂としては、上記(1)の構造式を有
するもの(式中のGrはグリシジル基)と、この他に1
分子中に2個以上のエポキシ基を有するものを用いるこ
とができる。(1)以外のエポキシ樹脂としては、クレ
ゾールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエ
ン型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹
脂、ブロム含有エポキシ樹脂、ナフタレン環を有するエ
ポキシ樹脂などを例示することができる。また(1)の
エポキシ樹脂は、全エポキシ樹脂の配合量に対して20
〜100重量%(100重量%は全エポキシ樹脂とし
て、(1)のエポキシ樹脂を用いた場合)配合するのが
好ましい。(1)のエポキシ樹脂の配合量が全エポキシ
樹脂に対して20重量%未満であれば、本発明の封止用
樹脂組成物の吸湿率を低下させることができず、リフロ
ー時に封止樹脂(パッケージ)にクラックや剥離が生じ
る恐れがある。尚、(1)のエポキシ樹脂は、n=0の
もの、n=1のもの、n=2のもの、n=3のもの、n
=4のもの、n=5のものを含有して構成されている。
硬化剤としては、上記(2)の構造式を有するフェノー
ルアラルキル樹脂と、この他に1分子中に2個以上のフ
ェノール性水酸基を有するものを用いることができる。
(2)以外の硬化剤としては、フェノールノボラック樹
脂やナフトール樹脂などを用いることができる。また
(2)の硬化剤は、全硬化剤の配合量に対して20〜1
00重量%(100重量%は全硬化剤として、(2)の
フェノールアラルキル樹脂を用いた場合)配合するのが
好ましい。(2)の硬化剤の配合量が全硬化剤に対して
20重量%未満であれば、本発明の封止用樹脂組成物の
吸湿率を低下させることができず、耐リフロー性の低
下、すなわちリフロー時に封止樹脂(パッケージ)にク
ラックや剥離が生じる恐れがある。尚、(2)の硬化剤
は、m=0のもの、m=1のもの、m=2のもの、m=
3のもの、m=4のもの、m=5のものを含有して構成
されている。硬化助剤は、エポキシ樹脂と硬化剤の硬化
反応を促進させるために用いるものであって、例えば、
トリフェニルホスフィンやトリブチルホスフィンなどの
有機リン化合物、1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,
0)ウンデセン−7、トリエチレンジアミン、ベンジル
ジメチルアミンなどの三級アミン類、2−メチルイミダ
ゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フ
ェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダ
ゾールなどのイミダゾール類を用いることができるが、
硬化促進効果の高い有機リン化合物を用いるのが好まし
い。硬化助剤は全樹脂成分(エポキシ樹脂と硬化剤)に
対して0.1〜5.0重量%配合するのが好ましい。硬
化助剤の配合量が全樹脂成分の配合量に対して0.1重
量%未満であれば、硬化促進効果を高めることができ
ず、硬化助剤の配合量が全樹脂成分の配合量に対して
5.0重量%を超えても、硬化促進効果を大幅に大きく
することができず、硬化助剤の配合量が多くなるだけで
あって経済的に不利となる恐れがある。充填材としては
無機充填材を主に用いることができ、溶融シリカ、結晶
シリカ、アルミナ、窒化珪素などを単独で用いたり併用
することができるが、入手のしやすさなどから溶融シリ
カを用いるのが好ましい。充填材は本発明の封止用樹脂
組成物の全体量に対して80〜95重量%、特に、好ま
しくは83〜91重量%配合するのが好ましい。充填材
の配合量が封止用樹脂組成物の全体量に対して80重量
%未満であれば、封止樹脂の吸湿量が増加して耐リフロ
ー性の低下を招く恐れがあり、充填材の配合量が封止樹
脂組成物の全体量に対して95重量%を超えると、封止
用樹脂組成物の粘度が増大し、ボイドやワイヤー流れな
どの成形時のトラブルを引き起こす恐れがある。上記材
料のほかに、充填材の表面処理剤としてγ−グリシドキ
シプロピルトリメキシシランなどのカップリング剤、三
酸化アンチモンなどの難燃剤、カルナバワックスなどの
離型剤、カーボンブラックなどの着色剤(顔料)、シリ
コーンゲルやシリコーンゴムやシリコーンオイルなどの
可撓剤(低応力剤)などを任意に配合することができ
る。本発明の封止用樹脂組成物を調製するにあたって
は、まず上記のエポキシ樹脂、硬化剤、充填材、硬化助
剤及びその他の材料を所定の量配合し、次にミキサーや
ブレンダーなどで均一に混合した後、ニーダーやロール
等で加熱しながら混練するようにする。全エポキシ樹脂
に対する全硬化剤の配合割合は、全エポキシ樹脂/硬化
剤=0.5〜1.5(当量比)、好ましくは0.8〜
1.3に設定する。この配合割合が0.5よりも小さい
と、硬化剤の配合量が多すぎて経済的に不利となる恐れ
があり、また上記の配合割合が1.5を超えると、硬化
剤の配合量が少なすぎて硬化不足になる恐れがある。ま
た混練後に、必要に応じて冷却固化し、粉砕して粉状に
形成してもよい。本発明の半導体装置を製造するにあた
っては、基板等に電気電子部品を実装した後、これを上
記の封止用樹脂組成物で形成される封止樹脂で封止する
ようにする。この封止にはトランスファー成形(トラン
スファーモールド)を採用することができ、金型のキャ
ビティに電気電子部品を実装した基板等を配置した後、
キャビティに上記の封止用樹脂組成物を充填し、これを
加熱して硬化させて封止樹脂を形成するものである。こ
のトランスファー成形を採用した場合の金型の温度は1
70〜180℃、成形時間は30〜120秒に設定する
ことができるが、封止樹脂組成物の材料の種類や半導体
装置の種類によって適宜設定変更するものである。Embodiments of the present invention will be described below. As the epoxy resin, one having the above structural formula (1) (Gr in the formula is a glycidyl group),
Those having two or more epoxy groups in the molecule can be used. Examples of the epoxy resin other than (1) include a cresol novolak epoxy resin, a dicyclopentadiene epoxy resin, a triphenylmethane epoxy resin, a bromo-containing epoxy resin, and an epoxy resin having a naphthalene ring. Further, the epoxy resin of (1) is used in an amount of 20 to the total amount of the epoxy resin.
-100% by weight (100% by weight is the total epoxy resin when the epoxy resin of (1) is used). If the amount of the epoxy resin (1) is less than 20% by weight based on the total epoxy resin, the moisture absorption of the encapsulating resin composition of the present invention cannot be reduced, and the encapsulating resin ( (Package) may be cracked or peeled off. The epoxy resin (1) has n = 0, n = 1, n = 2, n = 3, n
= 4 and n = 5.
As the curing agent, a phenol aralkyl resin having the structural formula (2) and a compound having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule can be used.
As a curing agent other than (2), a phenol novolak resin or a naphthol resin can be used. The curing agent (2) is used in an amount of 20 to 1 based on the total amount of the curing agent.
It is preferable to add 00% by weight (100% by weight is the total curing agent when the phenol aralkyl resin (2) is used). If the amount of the curing agent (2) is less than 20% by weight based on the total amount of the curing agent, the moisture absorption of the encapsulating resin composition of the present invention cannot be reduced, and the reflow resistance decreases. That is, cracks and peeling may occur in the sealing resin (package) during reflow. The curing agent (2) has m = 0, m = 1, m = 2, and m = 2.
3, m = 4, and m = 5. Curing aid is used to accelerate the curing reaction between the epoxy resin and the curing agent, for example,
Organic phosphorus compounds such as triphenylphosphine and tributylphosphine, and 1,8-diaza-bicyclo (5,4,
0) Tertiary amines such as undecene-7, triethylenediamine, benzyldimethylamine and the like, imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole and 2-phenyl-4-methylimidazole Can be used,
It is preferable to use an organic phosphorus compound having a high curing promoting effect. It is preferable that the curing aid is added in an amount of 0.1 to 5.0% by weight based on all resin components (epoxy resin and curing agent). If the amount of the curing aid is less than 0.1% by weight based on the total amount of the resin components, the effect of promoting the curing cannot be enhanced, and the amount of the curing aid is reduced to the amount of all the resin components. On the other hand, if it exceeds 5.0% by weight, the effect of accelerating the curing cannot be greatly increased, and only the amount of the curing aid is increased, which may be economically disadvantageous. As the filler, an inorganic filler can be mainly used, and fused silica, crystalline silica, alumina, silicon nitride and the like can be used alone or in combination, but the fused silica is used because of availability. Is preferred. It is preferable that the filler is blended in an amount of 80 to 95% by weight, particularly preferably 83 to 91% by weight, based on the total amount of the sealing resin composition of the present invention. If the compounding amount of the filler is less than 80% by weight based on the total amount of the sealing resin composition, the amount of moisture absorbed by the sealing resin may increase to cause a decrease in reflow resistance. If the compounding amount exceeds 95% by weight based on the total amount of the sealing resin composition, the viscosity of the sealing resin composition increases, which may cause troubles such as voids and wire flow during molding. In addition to the above materials, a coupling agent such as γ-glycidoxypropyl trimexisilane as a surface treatment agent for the filler, a flame retardant such as antimony trioxide, a release agent such as carnauba wax, and a coloring agent such as carbon black (Pigment), a flexible agent (low stress agent) such as silicone gel, silicone rubber or silicone oil, and the like can be arbitrarily compounded. In preparing the encapsulating resin composition of the present invention, first, the epoxy resin, curing agent, filler, curing aid and other materials are mixed in a predetermined amount, and then uniformly mixed with a mixer or a blender. After mixing, kneading is performed while heating with a kneader or a roll. The mixing ratio of the total curing agent to the total epoxy resin is as follows: total epoxy resin / curing agent = 0.5 to 1.5 (equivalent ratio), preferably 0.8 to 1.5.
Set to 1.3. If the compounding ratio is less than 0.5, the compounding amount of the curing agent may be too large to be economically disadvantageous, and if the compounding ratio exceeds 1.5, the compounding amount of the curing agent may be reduced. If the amount is too small, curing may be insufficient. After kneading, if necessary, the mixture may be cooled and solidified, pulverized to form a powder. In manufacturing the semiconductor device of the present invention, an electric / electronic component is mounted on a substrate or the like, and then sealed with a sealing resin formed from the above sealing resin composition. For this sealing, transfer molding (transfer molding) can be adopted. After disposing a substrate or the like on which electric and electronic components are mounted in the mold cavity,
The cavity is filled with the sealing resin composition described above, and is heated and cured to form a sealing resin. The mold temperature when this transfer molding is adopted is 1
The molding time can be set to 30 to 120 seconds at 70 to 180 ° C., and the setting is appropriately changed depending on the type of the material of the sealing resin composition and the type of the semiconductor device.
【実施例】以下本発明を実施例によって具体的に説明す
る。 (実施例1乃至9、比較例1乃至3)表1に示すように
所定の配合量で、エポキシ樹脂、硬化剤、硬化助剤、離
型剤、難燃剤、顔料、充填剤をミキサーやブレンダーな
どで均一に混合した後、ニーダーやロール等で加熱しな
がら混練して封止用樹脂組成物を調製した。表1に示す
各材料としては次のものを用いた。 エポキシ樹脂A…上記(1)の構造式を有するエポキシ
樹脂で、日本化薬(株)製のNC3000P(エポキシ
当量:274) エポキシ樹脂B…住友化学製のo−クレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂(エポキシ当量:195) エポキシ樹脂C…ブロム化エポキシ樹脂(エポキシ当
量:400) 硬化剤A…上記(2)の構造式を有するフェノールアラ
ルキル樹脂で、住金化工製のHE100(水酸基当量:
169) 硬化剤B…荒川化学製のフェノールノボラック樹脂(水
酸基当量:105) 硬化助剤A…トリフェニルホスフィン 硬化助剤B…DBU(ジアザビシクロウンデセン) 硬化助剤C…2PZ(2−フェニルイミダゾール) 離型剤…カルバナワックス 難燃剤…三酸化アンチモン 顔料…カーボンブラック 充填剤…γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
(カップリング剤)で処理した溶融シリカ (吸湿率の測定)実施例1乃至9、比較例1乃至3の封
止用樹脂組成物をトランスファー成形機にて成形し、直
径50mmで厚み3.0mmのテストピースを作成し
た。そして85℃、85%RH、72時間の条件下で放
置した後のテストピースの重量変化を吸湿率とした。 (耐リフロー性試験)実施例1乃至9、比較例1乃至3
の封止用樹脂組成物を用いて形成された60QFPTE
G(外形サイズ:15×19×厚み2.4mm)のパッ
ケージ(全10個)にて、85℃、85%RH、72時
間の条件下で放置して吸湿させた後、IRリフロー処理
(EIAJ規格)を行ない、この後、実体顕微鏡でパッ
ケージのクラックの有無を観察した。 (耐湿信頼性試験)上記の耐リフロー性試験後のパッケ
ージをPCT:133℃/100%RHの条件下にて5
00時間処理した後のオープン不良発生数を測定した。
これら測定及び試験結果を表1に示す。The present invention will be described below in detail with reference to examples. (Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3) As shown in Table 1, epoxy resins, curing agents, curing assistants, mold release agents, flame retardants, pigments, and fillers were mixed in predetermined amounts in a mixer or blender. After being uniformly mixed by a method such as described above, the mixture was kneaded while heating with a kneader or a roll to prepare a sealing resin composition. The following materials were used as the materials shown in Table 1. Epoxy resin A: An epoxy resin having the structural formula (1) above, NC3000P (epoxy equivalent: 274) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. Epoxy resin B: o-cresol novolac type epoxy resin (epoxy equivalent manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) : 195) Epoxy resin C: Brominated epoxy resin (epoxy equivalent: 400) Curing agent A: A phenol aralkyl resin having the structural formula of the above (2), HE100 manufactured by Sumikin Kako (hydroxyl equivalent:
169) Curing agent B: Phenol novolak resin manufactured by Arakawa Chemical (hydroxyl equivalent: 105) Curing aid A: Triphenylphosphine Curing aid B: DBU (diazabicycloundecene) Curing aid C: 2PZ (2-phenyl) Release agent: carbana wax Flame retardant: antimony trioxide Pigment: carbon black Filler: fused silica treated with γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (coupling agent) Example 1 To 9, and the sealing resin compositions of Comparative Examples 1 to 3 were molded by a transfer molding machine to prepare test pieces having a diameter of 50 mm and a thickness of 3.0 mm. The change in weight of the test piece after being left under the conditions of 85 ° C., 85% RH and 72 hours was defined as the moisture absorption rate. (Reflow resistance test) Examples 1 to 9, Comparative Examples 1 to 3
60FPTE formed by using the sealing resin composition of the present invention
G (outer size: 15 × 19 × 2.4 mm thick) in a package (10 pieces in total), left under conditions of 85 ° C., 85% RH and 72 hours to absorb moisture, and then subjected to IR reflow treatment (EIAJ) Standard), and thereafter, the presence or absence of cracks in the package was observed with a stereoscopic microscope. (Humidity Reliability Test) The package after the reflow resistance test was subjected to PCT: 133 ° C./100% RH for 5 hours.
The number of open failures after the treatment for 00 hours was measured.
Table 1 shows the results of these measurements and tests.
【表1】 表1から明らかなように、実施例1乃至9ではほぼ同じ
樹脂成分量であっても吸湿率が低く、耐リフロー性や耐
湿信頼性が向上した。[Table 1] As is clear from Table 1, in Examples 1 to 9, the moisture absorption rate was low and the reflow resistance and the humidity resistance were improved even with the same amount of the resin component.
【発明の効果】上記のように本発明の請求項1に係る封
止用樹脂組成物は、エポキシ樹脂、硬化剤、硬化助剤、
充填材を含有する半導体封止用樹脂組成物であって、上
記(1)の構造式を有するエポキシ樹脂と、上記(2)
の構造式を有する硬化剤をそれぞれ用いたので、封止樹
脂の吸湿率を低く抑えることができ、クラックや剥離が
発生しにくい封止樹脂を形成することができるものであ
る。また本発明の請求項2に係る封止用樹脂組成物は、
充填材を全量に対して80〜95重量%含有したので、
封止樹脂の吸湿量が増加しないようにすることができる
と共に粘度が増大しないようにすることができ、耐リフ
ロー性の低下や成形時のトラブルを少なくすることがで
きるものである。また本発明の請求項3に係る封止用樹
脂組成物は、上記(1)のエポキシ樹脂を全エポキシ樹
脂に対して20〜100重量%含有するので、封止樹脂
の吸湿率を確実に低く抑えることができ、クラックや剥
離が発生しにくい封止樹脂を確実に形成することができ
るものである。また本発明の請求項4に係る封止用樹脂
組成物は、上記(2)の硬化剤を全硬化剤に対して20
〜100重量%含有したので、封止樹脂の吸湿率を確実
に低く抑えることができ、クラックや剥離が発生しにく
い封止樹脂を確実に形成することができるものである。
また本発明の請求項5に係る封止用樹脂組成物は、硬化
助剤として有機リン化合物を用いたので、硬化助剤によ
る硬化促進効果を高くすることができ、硬化を促進させ
ることができるものである。本発明の請求項6に係る半
導体装置は、請求項1乃至5のいずれかに記載の封止用
樹脂組成物で封止されたので、封止樹脂の吸湿率を低く
抑えることができ、封止樹脂にクラックや剥離が発生し
にくくなるものである。As described above, the sealing resin composition according to claim 1 of the present invention comprises an epoxy resin, a curing agent, a curing assistant,
What is claimed is: 1. A resin composition for semiconductor encapsulation containing a filler, comprising: an epoxy resin having the structural formula (1);
Since the curing agents having the structural formulas (1) and (2) are used, the moisture absorption of the sealing resin can be suppressed low, and the sealing resin in which cracks and peeling are less likely to occur can be formed. Further, the sealing resin composition according to claim 2 of the present invention,
Since the filler contained 80 to 95% by weight based on the total amount,
It is possible to prevent the amount of moisture absorption of the sealing resin from increasing and to prevent the viscosity from increasing, thereby reducing reflow resistance and trouble during molding. In addition, since the sealing resin composition according to claim 3 of the present invention contains the epoxy resin of the above (1) in an amount of 20 to 100% by weight based on the total epoxy resin, the moisture absorption of the sealing resin is reliably reduced. It is possible to reliably form a sealing resin that can suppress cracks and peeling. Further, the sealing resin composition according to claim 4 of the present invention is characterized in that the curing agent of the above (2) is used in an amount of 20 to the total curing agent.
Since it is contained in an amount of about 100% by weight, the moisture absorption of the sealing resin can be reliably suppressed to a low level, and the sealing resin in which cracks and peeling do not easily occur can be reliably formed.
Moreover, since the sealing resin composition according to claim 5 of the present invention uses an organic phosphorus compound as a curing aid, it is possible to enhance the curing promotion effect of the curing aid and promote curing. Things. Since the semiconductor device according to claim 6 of the present invention is sealed with the sealing resin composition according to any one of claims 1 to 5, the moisture absorption of the sealing resin can be suppressed low, Cracks and peeling are less likely to occur in the resin.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 23/31 (72)発明者 教学 正之 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内 Fターム(参考) 4J002 CD061 EJ026 EN068 EU118 EU208 EW008 EW138 FD017 FD146 FD158 GQ05 4J036 AF06 DB05 DC10 DC40 DD07 FA01 JA07 4M109 AA01 BA01 BA03 CA21 EA03 EB02 EB04 EC01 EC03 EC05 EC09 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01L 23/31 (72) Inventor Masayuki Kigaku 1048 Odakadoma, Kadoma City, Osaka Matsushita Electric Works F-term (Reference) 4J002 CD061 EJ026 EN068 EU118 EU208 EW008 EW138 FD017 FD146 FD158 GQ05 4J036 AF06 DB05 DC10 DC40 DD07 FA01 JA07 4M109 AA01 BA01 BA03 CA21 EA03 EB02 EB04 EC01 EC03 EC05 EC09
Claims (6)
材を含有する半導体封止用樹脂組成物であって、下記
(1)の構造式を有するエポキシ樹脂と、下記(2)の
構造式を有する硬化剤をそれぞれ用いて成ることを特徴
とする封止用樹脂組成物。 【化1】 1. A semiconductor encapsulating resin composition containing an epoxy resin, a curing agent, a curing assistant, and a filler, wherein the epoxy resin has the following structural formula (1) and the following structure (2): What is claimed is: 1. A sealing resin composition comprising a curing agent having the formula: Embedded image
含有して成ることを特徴とする請求項1に記載の封止用
樹脂組成物。2. 80 to 95% by weight of the filler relative to the total amount
The encapsulating resin composition according to claim 1, further comprising:
樹脂に対して20〜100重量%含有して成ることを特
徴とする請求項1又は2に記載の封止用樹脂組成物。3. The sealing resin composition according to claim 1, wherein the epoxy resin of (1) is contained in an amount of 20 to 100% by weight based on the total epoxy resin.
20〜100重量%含有して成ることを特徴とする請求
項1乃至3のいずれかに記載の封止用樹脂組成物。4. The encapsulating resin composition according to claim 1, comprising 20 to 100% by weight of the curing agent (2) based on the total curing agent. .
成ることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載
の封止用樹脂組成物。5. The encapsulating resin composition according to claim 1, wherein an organic phosphorus compound is used as a curing assistant.
用樹脂組成物で封止されて成ることを特徴とする半導体
装置。6. A semiconductor device which is encapsulated with the encapsulating resin composition according to claim 1. Description:
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- 1998-09-25 JP JP27186998A patent/JP2000103839A/en active Pending
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