JP2925905B2 - Epoxy resin composition - Google Patents

Epoxy resin composition

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JP2925905B2
JP2925905B2 JP32856193A JP32856193A JP2925905B2 JP 2925905 B2 JP2925905 B2 JP 2925905B2 JP 32856193 A JP32856193 A JP 32856193A JP 32856193 A JP32856193 A JP 32856193A JP 2925905 B2 JP2925905 B2 JP 2925905B2
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epoxy
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剛 増田
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体デバイスの表面
実装化における耐半田ストレス性及び、流動性に優れた
半導体封止用エポキシ樹脂組成物に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation which is excellent in soldering stress resistance and fluidity in surface mounting of a semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、ダイオード、トランジスタ、集積
回路等の電子部品を熱硬化性樹脂で封止しているが、特
に集積回路では耐熱性、耐湿性に優れたO−クレゾール
ノボラック型エポキシ樹脂をノボラック型フェノール樹
脂で硬化させるエポキシ樹脂組成物が用いられている。
ところが近年、集積回路の高集積化に伴いチップが段々
大型化し、かつパッケージは従来のDIPタイプから表
面実装化された小型、薄型のフラットパッケージ、SO
P,SOJ,PLCCに変わってきている。とくに半田
付けの工程において急激に200℃以上の高温にさらさ
れることによりパッケージの割れや樹脂とチップの剥離
により耐湿性が劣化してしまうといった問題点がでてき
ている。これらの問題を解決するためにエポキシ樹脂と
して式(1)で示されるエポキシ樹脂の使用(特開昭6
4−65116号公報)が検討されてきた。式(1)で
示されるエポキシ樹脂の使用により樹脂系の低粘度化が
図られ、従って無機充填材を更に多く配合することによ
り組成物の成形後の低熱膨張化及び低吸湿化より、耐半
田ストレス性の向上が図られた。ただし、無機充填材の
充填量の増加と共に、流動性が犠牲になりパッケージ内
に空隙が生じやすくなった。しかし、従来より流動性調
整のために使用されてきたシリコーンオイルでは、パッ
ケージ内ボイドの低減は図れるものの、耐半田性ストレ
スが低下するため、半田性ストレスと流動性の改善は両
立しなかった。
2. Description of the Related Art Conventionally, electronic components such as diodes, transistors, and integrated circuits are sealed with a thermosetting resin. In particular, in the case of integrated circuits, an O-cresol novolac type epoxy resin having excellent heat resistance and moisture resistance is used. An epoxy resin composition cured with a novolak type phenol resin is used.
However, in recent years, with the increase in the degree of integration of integrated circuits, chips have become larger and larger, and packages have become smaller and thinner flat packages, which are surface-mounted from the conventional DIP type.
It is changing to P, SOJ, PLCC. In particular, there has been a problem in that the device is suddenly exposed to a high temperature of 200 ° C. or more in the soldering process, and the moisture resistance is deteriorated due to cracking of the package and separation of the resin and the chip. In order to solve these problems, use of an epoxy resin represented by the formula (1) as an epoxy resin is disclosed in
No. 4-65116) has been studied. By using the epoxy resin represented by the formula (1), the viscosity of the resin system can be reduced. Therefore, by adding more inorganic filler, the composition can be solder-resistant because of its low thermal expansion and low moisture absorption after molding. The stress property was improved. However, with an increase in the amount of the inorganic filler, the fluidity was sacrificed and voids were likely to be formed in the package. However, with silicone oil which has been conventionally used for adjusting the fluidity, although the voids in the package can be reduced, the soldering resistance stress is reduced, so that the soldering stress and the improvement of the fluidity are not compatible.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、半田付け工
程における急激な温度変化により熱ストレスを受けたと
きに耐クラック性に非常に優れ、かつ流動性にも優れた
樹脂組成物を提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a resin composition having excellent crack resistance and excellent fluidity when subjected to thermal stress due to a rapid temperature change in a soldering process. Things.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明は、(A)下記式
(1)で示されるエポキシ樹脂を総エポキシ樹脂中に5
0〜100重量%含むエポキシ樹脂、(B)総樹脂組成
物中に、70〜93重量%含む無機充填材、(C)フェ
ノール性水酸基を1分子中に複数個有する式(2)で示
される可撓性フェノール樹脂硬化剤を総フェノール樹脂
硬化剤中に30〜100重量%含むフェノール樹脂硬化
剤、(D)硬化促進剤、及び(E)式(3)及び/又は
式(4)のエポキシ変性シリコーンオイルを総樹脂組成
物中に0.1〜3重量%含むことを特徴とする半導体封
止用エポキシ樹脂組成物であり、従来のエポキシ樹脂組
成物に比べて、非常に優れた耐半田ストレス性、流動性
を有するものである。
According to the present invention, there is provided (A) an epoxy resin represented by the following formula (1):
Epoxy resin containing 0 to 100% by weight, (B) an inorganic filler containing 70 to 93% by weight in the total resin composition, and (C) a formula (2) having a plurality of phenolic hydroxyl groups in one molecule. A phenolic resin curing agent containing 30 to 100% by weight of a flexible phenolic resin curing agent in the total phenolic resin curing agent, (D) a curing accelerator, and (E) an epoxy of the formula (3) and / or (4) An epoxy resin composition for encapsulating a semiconductor, comprising a modified silicone oil in an amount of 0.1 to 3% by weight in a total resin composition, and having an excellent solder resistance as compared with a conventional epoxy resin composition. It has stress and fluidity.

【化5】 (式中のR1〜R8は、水素,ハロゲン,アルキル基の中
から選択される同一もしくは異なる原子または基)
Embedded image (R 1 to R 8 in the formula are the same or different atoms or groups selected from hydrogen, halogen, and alkyl groups)

【0005】[0005]

【化6】 (式中のRは、パラキシリレン、ジシクロペンタジエン
とフェノールを付加反応したジシクロペンタジエンジフ
ェノール、テルペン類とフェノールを付加反応したテル
ペンジフェノール、シクロペンタジエンとフェノールを
付加反応したシクロペンタジエンジフェノール及びシク
ロヘキサノンとフェノールを付加縮合したシクロヘキサ
ノンジフェノールの各々の2個のフェノール部を除いた
残基を表し、これらの中から選択される1種、nの値は
0〜8)
Embedded image (R in the formula is paraxylylene, dicyclopentadiene diphenol obtained by addition reaction of dicyclopentadiene and phenol, terpene diphenol obtained by addition reaction of terpenes and phenol, cyclopentadiene diphenol obtained by addition reaction of cyclopentadiene and phenol, and cyclohexanone And cyclohexanone diphenol obtained by adding and condensing phenol, each of which represents a residue obtained by removing two phenol moieties, and one selected from these, and the value of n is from 0 to 8)

【0006】[0006]

【化7】 Embedded image

【0007】[0007]

【化8】 (式(3)、式(4)のRは、炭素数1〜4のアルキレ
ン基、10≦l+m+n+2≦400であり、かつAで
示されるエポキシ基のエポキシ当量は140〜500)
Embedded image (R in the formulas (3) and (4) is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, 10 ≦ l + m + n + 2 ≦ 400, and the epoxy equivalent of the epoxy group represented by A is 140 to 500)

【0008】式(1)の構造で示されるビフェニル型エ
ポキシ樹脂は1分子中に2個のエポキシ基を有する2官
能性エポキシ樹脂で、従来の多官能性エポキシ樹脂に比
べ溶融粘度が低くトランスファー成形時の流動性に優れ
る。従って組成物中に無機充填材を多く配合することが
でき、低熱膨張化及び低吸水化が図られ、耐半田ストレ
ス性に優れるエポキシ樹脂組成物を得ることができる。
このビフェニル型エポキシ樹脂の使用量は、これを調節
することにより耐半田ストレス性を最大限に引き出すこ
とができる。耐半田ストレス性の効果を出すためには、
式(1)で示されるビフェニル型エポキシ樹脂を総エポ
キシ樹脂中に50重量%以上、好ましくは70重量%以
上の使用が望ましい。50重量%未満だと、低熱膨張化
及び低吸水性が図れず、耐半田ストレス性が不十分であ
る。更に、式中のR1〜R4はメチル基、R5〜R8は水素
原子が好ましい。式(1)で示されるビフェニル型エポ
キシ樹脂以外に他のエポキシ樹脂を併用する場合、用い
るエポキシ樹脂とは、エポキシ基を有するポリマー全般
をいう。例えばビスフェノール型エポキシ樹脂、クレゾ
ールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック
型エポキシ樹脂及びトリフェノールメタン型エポキシ樹
脂、トリアジン核含有エポキシ樹脂等のことをいう。こ
れらは単独でも混合して用いても差し支えない。
The biphenyl type epoxy resin represented by the structure of the formula (1) is a bifunctional epoxy resin having two epoxy groups in one molecule, and has a lower melt viscosity than a conventional polyfunctional epoxy resin, and transfer molding. Excellent fluidity at the time. Accordingly, a large amount of inorganic filler can be incorporated into the composition, and an epoxy resin composition having low thermal expansion and low water absorption, and having excellent solder stress resistance can be obtained.
By adjusting the amount of the biphenyl type epoxy resin used, the solder stress resistance can be maximized. To achieve the effect of solder stress resistance,
It is desirable to use 50% by weight or more, preferably 70% by weight or more of the biphenyl type epoxy resin represented by the formula (1) in the total epoxy resin. If it is less than 50% by weight, low thermal expansion and low water absorption cannot be achieved, and the solder stress resistance is insufficient. Further, in the formula, R 1 to R 4 are preferably a methyl group, and R 5 to R 8 are preferably a hydrogen atom. When another epoxy resin is used in addition to the biphenyl-type epoxy resin represented by the formula (1), the epoxy resin used generally refers to any polymer having an epoxy group. For example, it refers to a bisphenol type epoxy resin, a cresol novolak type epoxy resin, a phenol novolak type epoxy resin, a triphenolmethane type epoxy resin, a triazine nucleus containing epoxy resin and the like. These may be used alone or as a mixture.

【0009】無機充填材としては、溶融シリカ粉末、結
晶シリカ粉末、アルミナ粉末、水和アルミナ粉末、窒化
珪素粉末、炭酸カルシウム粉末等があげられ、特に溶融
シリカ粉末が望ましい。無機充填材の配合量は、総樹脂
組成物中に70〜93重量%の範囲が好ましい。70重
量%未満だと、吸湿量が多くなり、また熱膨張係数も大
きく実装時の熱ストレスに耐えられない。また、93重
量%を越えると流動特性が劣化し実用的でない。
Examples of the inorganic filler include a fused silica powder, a crystalline silica powder, an alumina powder, a hydrated alumina powder, a silicon nitride powder, a calcium carbonate powder and the like, and a fused silica powder is particularly desirable. The compounding amount of the inorganic filler is preferably in the range of 70 to 93% by weight in the total resin composition. If it is less than 70% by weight, the amount of moisture absorption increases, and the coefficient of thermal expansion is too large to withstand thermal stress during mounting. On the other hand, if the content exceeds 93% by weight, the flow characteristics are deteriorated, which is not practical.

【0010】式(2)の構造で示されるフェノール樹脂
硬化剤は、分子構造中のR部に比較的柔軟な構造を有す
る可撓性フェノール樹脂硬化剤であり、ノボラック型フ
ェノール樹脂硬化剤等に較べ、半田処理温度近辺での弾
性率の低下と、リードフレーム及び半導体チップとの密
着力を向上せしめることができる。従って、半田衝撃時
の発生応力の低下と、それに伴う半導体チップ等との剥
離不良の防止に有効である。このようなフェノール樹脂
硬化剤の使用量は、これを調節することにより、耐半田
ストレス性を最大限に引きだすことができる。耐半田ス
トレス性の効果をだす為には、式(2)で示される可撓
性フェノール樹脂硬化剤を、総フェノール樹脂硬化剤中
に、30重量%以上、好ましくは、50重量%以上の使
用が望ましい。使用量が30重量%未満だと低弾性及
び、リードフレーム、半導体チップ等との密着力が不十
分で、耐半田ストレス性の向上が望めない。
The phenolic resin curing agent represented by the structure of the formula (2) is a flexible phenolic resin curing agent having a relatively flexible structure in the R portion of the molecular structure, and is used as a novolak type phenolic resin curing agent. In comparison, it is possible to reduce the elastic modulus near the soldering temperature and to improve the adhesion to the lead frame and the semiconductor chip. Therefore, it is effective in preventing a reduction in stress generated at the time of a solder impact and a resulting peeling defect from a semiconductor chip or the like. By adjusting the amount of the phenol resin curing agent used, the solder stress resistance can be maximized. In order to obtain the effect of resistance to soldering stress, the flexible phenolic resin curing agent represented by the formula (2) is used in an amount of 30% by weight or more, preferably 50% by weight or more in the total phenolic resin curing agent. Is desirable. If the amount used is less than 30% by weight, low elasticity and insufficient adhesion to a lead frame, a semiconductor chip, etc. cannot be expected to improve solder stress resistance.

【0011】式(2)中のRは、パラキシリレン、ジシ
クロペンタジエンとフェノールを付加反応したジシクロ
ペンタジエンジフェノール、テルペン類とフェノールを
付加反応したテルペンジフェノール、シクロペンタジエ
ンとフェノールを付加反応したシクロペンタジエンジフ
ェノールの各々の2個のフェノール部を除いた残基を表
し、これらの中ではパラキシリレン、テルペン類とフェ
ノールを付加反応したテルペンジフェノール及びジシク
ロペンタジエンとフェノールを付加反応したジシクロペ
ンタジエンジフェノールの2個のフェノール部を除いた
残基が好ましい。nの値は1〜8である。nが8を越え
るとトランスファー成形時での流動性が低下し、成形性
が劣る傾向がある。式(2)で示される可撓性フェノー
ル樹脂硬化剤以外に、他のものを併用する場合、フェノ
ールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ジシ
クロペンタジエン変性フェノール樹脂とフェノールノボ
ラック及び/又はクレゾールノボラック樹脂との共重合
物等を用いることができる。
R in the formula (2) represents paraxylylene, dicyclopentadiene diphenol obtained by addition reaction of dicyclopentadiene and phenol, terpene diphenol obtained by addition reaction of terpenes with phenol, and cycloalkyl obtained by addition reaction of cyclopentadiene and phenol. This represents the residue of pentadiene diphenol excluding the two phenol moieties. Among these, there are p-xylylene, terpene diphenol obtained by addition reaction of terpenes and phenol, and dicyclopentadiene obtained by addition reaction of dicyclopentadiene and phenol. A residue in which two phenol moieties of phenol are removed is preferred. The value of n is 1-8. If n exceeds 8, the fluidity during transfer molding tends to decrease, and moldability tends to be poor. When other than the flexible phenol resin curing agent represented by the formula (2) is used in combination, a phenol novolak resin, a cresol novolak resin, a dicyclopentadiene-modified phenol resin and a phenol novolak and / or a cresol novolak resin are used. Copolymers and the like can be used.

【0012】本発明に用いる硬化促進剤は、エポキシ基
とフェノール性水酸基との反応を促進するものであれば
良く、一般に封止用材料に使用されているものを広く使
用することができ、例えば、ベンジルジメチルアミン等
の第三級アミン類、イミダゾール類、1,8−ジアザビ
シクロウンデセン、トリフェニルホスフィン等の有機燐
化合物等が挙げられ、単独でも混合して用いても差し支
えない。
The curing accelerator used in the present invention may be any one which promotes the reaction between an epoxy group and a phenolic hydroxyl group, and those generally used as a sealing material can be widely used. And tertiary amines such as benzyldimethylamine; imidazoles; and organic phosphorus compounds such as 1,8-diazabicycloundecene and triphenylphosphine. These may be used alone or as a mixture.

【0013】式(3)、式(4)で示される、シリコー
ンオイルは、ジメチルシロキサンのメチル置換基の一部
を、エポキシ基を有する置換基で置換したエポキシ変性
型シリコーンオイルで、エポキシ基を有さないシリコー
ンオイルと比較した場合、樹脂との親和性に優れるため
耐半田ストレス性を低減させることなしに、流動性に良
好なエポキシ樹脂組成物を得ることができる。このエポ
キシ変性シリコーンオイルの使用量は、これを調節する
ことにより耐半田ストレス性、流動性改善効果を最大限
に引き出すことができる。他の利点として、このシリコ
ーンオイルは他のシリコーンオイルに比較して、添加時
に樹脂特性のひとつであるスパイラルフローへの影響が
殆どない。耐半田ストレスと流動性改善を両立させるた
めには、式(3)、及び/又は式(4)で示されるエポ
キシ変性シリコーンオイルを総樹脂組成物中に0.1〜
3重量%の範囲で使用するのが望ましい。0.1重量%
未満だと流動性改善ができず、外部ボイド等が発生しや
すくなり、逆に3重量%を越えると流動性は良好だが、
耐半田ストレス性が急激に悪化する。また、式中Aで示
されるエポキシ基の当量は140〜500の範囲であ
り、エポキシ当量が140未満だと硬化物の耐熱性が低
下し、また500を越えると耐半田ストレス性が低下し
てしまう。また、10≦l+m+n+2≦400であ
り、これが10未満だと硬化物の耐熱性が低下し、ま
た、400を越えると耐半田ストレス性が低下してしま
う。
The silicone oil represented by the formulas (3) and (4) is an epoxy-modified silicone oil in which a part of the methyl substituent of dimethylsiloxane is substituted with a substituent having an epoxy group. Compared with a silicone oil having no silicone oil, an epoxy resin composition having excellent fluidity can be obtained without reducing solder stress resistance because of its excellent affinity with resin. By adjusting the amount of the epoxy-modified silicone oil used, the effect of improving solder stress resistance and fluidity can be maximized. As another advantage, this silicone oil has almost no effect on the spiral flow, one of the resin properties, when added, as compared with other silicone oils. In order to achieve both the anti-soldering stress and the improvement of the fluidity, the epoxy-modified silicone oil represented by the formula (3) and / or the formula (4) is added to the total resin composition in an amount of 0.1 to 0.1%.
It is desirable to use it in the range of 3% by weight. 0.1% by weight
If it is less than 3%, the fluidity cannot be improved, and external voids and the like are likely to be generated.
Solder stress resistance rapidly deteriorates. Further, the equivalent of the epoxy group represented by A in the formula is in the range of 140 to 500, and when the epoxy equivalent is less than 140, the heat resistance of the cured product decreases, and when it exceeds 500, the solder stress resistance decreases. I will. Also, 10 ≦ l + m + n + 2 ≦ 400, and if it is less than 10, the heat resistance of the cured product will decrease, and if it exceeds 400, the solder stress resistance will decrease.

【0014】本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に
よりシランカップリング剤、ブロム化エポキシ樹脂、三
酸化アンチモン、ヘキサブロムベンゼン等の難燃剤、カ
ーボンブラック、ベンガラ等の着色剤、天然ワックス、
合成ワックス等の離型剤、ゴム等の低応力剤等の添加剤
を適宜配合しても差し支えない。本発明の封止用エポキ
シ樹脂組成物を成形材料として製造するには、エポキシ
樹脂、硬化剤、硬化促進剤、シリコーンオイル、無機充
填材、その他の添加剤をミキサー等によって十分均一に
混合した後、更に熱ロール又はニーダー等で溶融混練
し、冷却粉砕して成形材料とすることができる。これら
の成形材料は電子部品あるいは電気部品の封止、被覆、
絶縁等適用することができる。
The epoxy resin composition of the present invention may contain, if necessary, a silane coupling agent, a brominated epoxy resin, a flame retardant such as antimony trioxide, hexabromobenzene, a coloring agent such as carbon black and red iron oxide, a natural wax,
Additives such as a release agent such as a synthetic wax and a low stress agent such as a rubber may be appropriately compounded. In order to produce the encapsulating epoxy resin composition of the present invention as a molding material, an epoxy resin, a curing agent, a curing accelerator, a silicone oil, an inorganic filler, and other additives are sufficiently uniformly mixed by a mixer or the like. Alternatively, the mixture may be melt-kneaded with a hot roll or a kneader or the like, and cooled and pulverized to obtain a molding material. These molding materials are used for sealing, coating,
Insulation or the like can be applied.

【0015】[0015]

【実施例】以下実施例で本発明を詳細に説明する。配合
割合は重量部とする。 実施例1 下記組成物 3,3’,5,5’−テトラメチルビフェノールジグリシジルエーテル (融点107℃、エポキシ当量191g/eq) 8.40重量部 式(5)で示される硬化剤 (軟化点130℃、水酸基当量174g/eq) 2.80重量部
The present invention will be described in detail with reference to the following examples. The mixing ratio is by weight. Example 1 The following composition 3,3 ′, 5,5′-tetramethylbiphenol diglycidyl ether (melting point 107 ° C., epoxy equivalent 191 g / eq) 8.40 parts by weight Curing agent represented by formula (5) (softening point 130 ° C, hydroxyl equivalent 174 g / eq) 2.80 parts by weight

【化9】 Embedded image

【0016】 フェノールノボラック樹脂硬化剤(以下、PNという) (軟化点90℃、水酸基当量103g/eq) 2.80重量部 式(6)で示されるシリコーンオイル (エポキシ当量200g/eq) 1.0重量部Phenol novolak resin curing agent (hereinafter referred to as PN) (softening point 90 ° C., hydroxyl equivalent 103 g / eq) 2.80 parts by weight Silicone oil represented by formula (6) (epoxy equivalent 200 g / eq) 1.0 Parts by weight

【化10】 Embedded image

【0017】 溶融シリカ粉末 84.0重量部 トリフェニルホスフィン 0.2重量部 カーボンブラック 0.3重量部 カルナバワックス 0.5重量部 をミキサーで常温で混合し、80〜90℃でロール混練
し、冷却後粉砕し成形材料を得た。得られた成形材料
を、タブレット化し、低圧トランスファー成形機を用い
て175℃、70kg/cm2、120秒の条件で、半
田クラック試験用として6mm×6mm のチップを5
2pQFPに封止した。封止したテスト用素子について
下記の半田クラック試験及び、ボイド観察を行った。結
果を表1に示す。
84.0 parts by weight of fused silica powder 0.2 parts by weight of triphenylphosphine 0.3 parts by weight of carbon black 0.5 parts by weight of carnauba wax are mixed at room temperature with a mixer, and roll-kneaded at 80 to 90 ° C. After cooling, it was pulverized to obtain a molding material. The obtained molding material was tabletted, and a 6 mm × 6 mm chip was used for a solder crack test at 175 ° C., 70 kg / cm 2 for 120 seconds using a low pressure transfer molding machine.
Sealed in 2pQFP. For the sealed test element, the following solder crack test and void observation were performed. Table 1 shows the results.

【0018】評価方法 スパイラルフロー:EMMI−I−66に準じて、金型
温度175℃、圧力60kg/cm2で硬化したときの
金型内で樹脂が流動した長さ。 半田クラック試験:封止したテスト用素子を85℃、8
5RHの環境下で168hr及び336hr処理し、そ
の後IRリフロー(240℃、10秒)処理した後、顕
微鏡で外部クラックを観察した。 外部ボイド観察:半田クラック試験用として成形したパ
ッケージを、目視により確認した。 内部ボイド観察:半田クラック試験用として成形したパ
ッケージを、断面研磨して観察した。
Evaluation method Spiral flow: The length of resin flowing in the mold when cured at a mold temperature of 175 ° C. and a pressure of 60 kg / cm 2 according to EMMI-I-66. Solder crack test: Sealed test element at 85 ° C, 8
After treating for 168 hr and 336 hr in an environment of 5 RH and then performing IR reflow (240 ° C., 10 seconds), external cracks were observed with a microscope. External void observation: A package molded for a solder crack test was visually confirmed. Internal void observation: A package molded for a solder crack test was polished and observed.

【0019】比較例1〜3 表1に従って配合し、実施例1と同様にして成形材料を
得た。この成形材料で試験用の封止した成形品を得、こ
の成形品を用いて実施例1と同様に半田クラック試験及
びボイド観察を行った。結果を表1に示す。比較例2〜
3に用いる式(7)で示される硬化剤(三井東圧化学
(株)製、商品名ザイロック、軟化点70℃、水酸基当
量174g/eq)は、下記の構造のものである。
Comparative Examples 1-3 Compounded according to Table 1 and obtained in the same manner as in Example 1. A sealed molded product for a test was obtained from this molding material, and a solder crack test and void observation were performed using this molded product in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results. Comparative Example 2
The curing agent represented by the formula (7) (manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc., trade name: Xylok, softening point 70 ° C., hydroxyl equivalent 174 g / eq) used in No. 3 has the following structure.

【化11】 Embedded image

【0020】[0020]

【表1】 [Table 1]

【0021】[0021]

【発明の効果】本発明に従うと、従来技術では得ること
のできなかった、耐半田ストレス性とボイドの発生しな
い流動特性を両立したエポキシ樹脂組成物を得ることが
できるので、半田付け工程時の急激な温度変化による、
熱ストレスを受けた時の耐クラック性が悪化せず、かつ
成形性が非常に良好となる。従って、電子、電気部品の
封止用、被覆用、絶縁用等に用いた場合、特に、表面実
装パッケージに搭載された高集積大型チップICにおい
て、信頼性を非常に必要とする製品について好適であ
る。
According to the present invention, it is possible to obtain an epoxy resin composition having both solder stress resistance and flow characteristics free from voids, which cannot be obtained by the prior art. Due to sudden temperature changes,
Crack resistance when subjected to thermal stress does not deteriorate, and the moldability is very good. Therefore, when used for sealing, covering, insulating, and the like of electronic and electric components, it is suitable for products that require extremely high reliability, particularly in highly integrated large chip ICs mounted on surface mount packages. is there.

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H01L 23/31 (C08L 63/00 83:06) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C08G 59/24 C08G 59/62 C08L 63/00 - 63/10 H01L 23/29 C08L 83/06 Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 identification code FI H01L 23/31 (C08L 63/00 83:06) (58) Investigated field (Int.Cl. 6 , DB name) C08G 59/24 C08G 59 / 62 C08L 63/00-63/10 H01L 23/29 C08L 83/06

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 (A)下記式(1)で示されるエポキシ
樹脂を総エポキシ樹脂中に50〜100重量%含むエポ
キシ樹脂、(B)総樹脂組成物中に、70〜93重量%
含む無機充填材、(C)フェノール性水酸基を1分子中
に複数個有する式(2)で示される可撓性フェノール樹
脂硬化剤を総フェノール樹脂硬化剤中に30〜100重
量%含むフェノール樹脂硬化剤、(D)硬化促進剤、及
び(E)式(3)及び/又は式(4)のエポキシ変性シ
リコーンオイルを総樹脂組成物中に0.1〜3重量%含
むことを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物。 【化1】 (式中のR1〜R8は、水素,ハロゲン,アルキル基の中
から選択される同一もしくは異なる原子または基) 【化2】 (式中のRは、パラキシリレン、ジシクロペンタジエン
とフェノールを付加反応したジシクロペンタジエンジフ
ェノール、テルペン類とフェノールを付加反応したテル
ペンジフェノール、シクロペンタジエンとフェノールを
付加反応したシクロペンタジエンジフェノールの各々の
2個のフェノール部を除いた残基を表し、これらの中か
ら選択される1種、nの値は1〜8) 【化3】 【化4】 (式(3)、式(4)のRは、炭素数1〜4のアルキレ
ン基、10≦l+m+n+2≦400であり、かつAで
示されるエポキシ基のエポキシ当量は140〜500)
1. An epoxy resin containing 50 to 100% by weight of an epoxy resin represented by the following formula (1) in a total epoxy resin, and (B) 70 to 93% by weight in a total resin composition.
Inorganic filler containing (C) a phenolic resin containing 30 to 100% by weight of the total phenolic resin curing agent containing a flexible phenolic resin curing agent represented by the formula (2) having a plurality of phenolic hydroxyl groups in one molecule A semiconductor comprising 0.1 to 3% by weight of a total resin composition containing an agent, (D) a curing accelerator, and (E) an epoxy-modified silicone oil of the formula (3) and / or (4). Epoxy resin composition for sealing. Embedded image (R 1 to R 8 in the formula are the same or different atoms or groups selected from hydrogen, halogen, and alkyl groups). (R in the formula is paraxylylene, dicyclopentadiene diphenol obtained by addition reaction of dicyclopentadiene and phenol, terpene diphenol obtained by addition reaction of terpenes and phenol, and cyclopentadiene diphenol obtained by addition reaction of cyclopentadiene and phenol. Represents a residue excluding the two phenol moieties, and one of them is selected from n values of 1 to 8) Embedded image (R in the formulas (3) and (4) is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, 10 ≦ l + m + n + 2 ≦ 400, and the epoxy equivalent of the epoxy group represented by A is 140 to 500)
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