JPH0668010B2 - Resin composition for semiconductor encapsulation - Google Patents

Resin composition for semiconductor encapsulation

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JPH0668010B2
JPH0668010B2 JP62245072A JP24507287A JPH0668010B2 JP H0668010 B2 JPH0668010 B2 JP H0668010B2 JP 62245072 A JP62245072 A JP 62245072A JP 24507287 A JP24507287 A JP 24507287A JP H0668010 B2 JPH0668010 B2 JP H0668010B2
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epoxy resin
resin
resin composition
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Description

【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は半導体装置を封止するための樹脂組成物に関す
る。さらに詳しくは、樹脂封止型半導体装置を実装する
際、ハンダ付け工程において封止樹脂にクラックが発生
するのを防止した半導体封止用樹脂組成物に関する。
The present invention relates to a resin composition for encapsulating a semiconductor device. More specifically, the present invention relates to a resin composition for semiconductor encapsulation, which prevents cracks from being generated in the encapsulating resin during a soldering process when mounting a resin-encapsulated semiconductor device.

<従来の技術> 近年、半導体装置の高集積度化が急速に進められてお
り、素子サイズの大型化と配線の微細化が著しく進展し
ている。これら高集積化された半導体装置も含め半導体
装置は現在ほとんどが樹脂封止されているが、これは信
頼性の高い優れた性能を有する封止用樹脂の開発に負う
ところが大きい。
<Prior Art> In recent years, the degree of integration of semiconductor devices has been rapidly advanced, and the size of elements and the miniaturization of wiring have been remarkably advanced. Most of the semiconductor devices including these highly integrated semiconductor devices are currently resin-sealed, but this is largely due to the development of a sealing resin having high reliability and excellent performance.

一方、最近は、プリント基板への部品実装においても高
密度化、自動化が進められており、従来のリードピンを
基板の穴に挿入する“挿入実装方式”に代り、基板表面
に部品をハンダ付けする“表面実装方式”がさかんにな
ってきている。それに伴い、パッケージも従来のDIP
(デュアル・インライン・パッケージ)型から高密度実
装、表面実装に適した薄型のFPP(フラット・プラス
チック・パッケージ)型に移行しつつある。
On the other hand, recently, densification and automation have also been promoted in mounting components on a printed circuit board. Instead of the conventional "insertion mounting method" in which lead pins are inserted into holes in the substrate, components are soldered to the surface of the substrate. “Surface mounting method” is becoming popular. Along with that, the package is also the conventional DIP
The (dual in-line package) type is shifting to a thin FPP (flat plastic package) type suitable for high-density mounting and surface mounting.

表面実装方式への移行に伴い、従来あまり問題とならな
かったハンダ付け工程が大きな問題となってきている。
従来のピン挿入実装方式ではハンダ付け工程はリード部
が部分的に加熱されるだけであったが、表面実装方式で
はパッケージ全体が熱媒に浸され加熱される。表面実装
方式におけるハンダ付け方法としてはハンダ浴浸漬、不
活性ガスの飽和蒸気による加熱(ベーパフェイズ法)や
赤外線リフロー法などが用いられるが、いずれの方法で
もパッケージ全体が210〜270℃の高温に加熱され
ることになる。そのため従来の封止用樹脂で封止したパ
ッケージはハンダ付け時に樹脂部分にクラックが発生
し、製品として使用できないという問題がおきる。
With the shift to the surface mounting method, the soldering process, which has not been a problem so far, has become a big problem.
In the conventional pin insertion mounting method, the soldering process only partially heats the lead portion, but in the surface mounting method, the entire package is immersed in a heating medium and heated. As the soldering method in the surface mounting method, solder bath dipping, heating with saturated vapor of inert gas (vapor phase method), infrared reflow method, etc. are used, but in either method, the entire package is heated to a high temperature of 210 to 270 ° C. It will be heated. Therefore, the conventional package sealed with the sealing resin has a problem that the resin portion is cracked during soldering and cannot be used as a product.

ハンダ付け工程におけるクラックの発生は、後硬化して
から実装工程の間までに吸湿された水分がハンダ付け加
熱時に爆発的に水蒸気化、膨脹することに起因するとい
われており、その対策として後硬化したパッケージを完
全に乾燥し密封した容器に収納して出荷する方法が用い
られている。
The occurrence of cracks in the soldering process is said to be due to the moisture absorbed between the post-curing process and the mounting process explosively turning into steam and expanding during heating by soldering. A method is used in which the package is completely dried and stored in a sealed container before shipping.

封止用樹脂の改良も種々検討されている。例えば、封止
用樹脂にゴム成分を配合し内部応力を低下させる方法
(特開昭58−219218号公報、特開昭59−96
122号公報)、無機充填剤の品種を選択する方法(特
開昭58−19136号公報、特開昭60−20214
5号公報)、無機充填剤の形状を球形化したり、粒子径
をコントロールすることにより応力、ひずみを均一化さ
せる方法(特開昭60−171750号公報、特開昭6
0−17937号公報)、揆水性の添加剤やワックスに
より吸水性を低下させ、ハンダ浴での水分による応力発
生を下げる方法(特開昭60−65023号公報)など
がある。
Various improvements have been made to the sealing resin. For example, a method of blending a sealing resin with a rubber component to reduce the internal stress (JP-A-58-219218 and JP-A-59-96).
122), and a method for selecting the type of inorganic filler (Japanese Patent Laid-Open No. 58-19136, Japanese Patent Laid-Open No. 60-20214).
No. 5), a method of making the stress and strain uniform by making the shape of the inorganic filler spherical or controlling the particle size (JP-A-60-171750 and JP-A-6-176750).
No. 0-17937), a method of reducing water absorption by a water-repellent additive or wax, and reducing stress generation due to water in a solder bath (JP-A-60-65023).

<発明が解決しようとする問題点> しかるに乾燥パッケージを容器に封入する方法は製造工
程および製品の取扱作業が煩雑になるうえ、製品価格が
きわめて高価になる欠点がある。
<Problems to be Solved by the Invention> However, the method of enclosing a dry package in a container has a drawback that the manufacturing process and the handling of the product are complicated, and the product price is extremely expensive.

また種々の方法で改良された樹脂も、それぞれ少しづつ
効果をあげてきているが、実装技術の進歩に伴うより過
酷な要請に答えるには十分でない。具体的にはこれら従
来の方法で得られた樹脂により封止された半導体装置を
加湿処理後、例えば、85℃/85%RH処理72時
間、または121℃/2気圧PCT(プレッシャー・ク
ッカー・テスト)処理72時間後にハンダ浴に浸すと樹
脂部分にはことごとく膨れまたはクラックが発生する。
すなわち、まだハンダ付け加熱時のクラック発生を防止
した十分満足できる封止用樹脂は得られておらず。表面
実装化技術の進展に対応したハンダ耐熱性が優れた封止
用樹脂の開発が望まれているのが現状である。
Further, resins improved by various methods have been gradually effective, but they are not sufficient to meet the more severe demands accompanying the progress of packaging technology. Specifically, after the semiconductor device sealed with the resin obtained by these conventional methods is humidified, for example, 85 ° C./85% RH treatment for 72 hours, or 121 ° C./2 atmospheric pressure PCT (pressure cooker test). ) When 72 hours after the treatment, the resin portion is swollen or cracked when immersed in a solder bath.
That is, a sufficiently satisfactory sealing resin that prevents the occurrence of cracks during soldering heating has not yet been obtained. At present, there is a demand for development of a sealing resin having excellent solder heat resistance, which corresponds to the progress of surface mounting technology.

本発明の目的は、かかるハンダ付け工程で生じるクラッ
クの問題を解消した改良された封止用樹脂を提供するこ
とにあり、表面実装ができる樹脂封止半導体装置を可能
にすることにある。
An object of the present invention is to provide an improved encapsulating resin that solves the problem of cracks that occur during the soldering process, and to enable a resin-encapsulated semiconductor device that can be surface-mounted.

<問題点を解決するための手段> すなわち本発明はエポキシ樹脂(A)、硬化剤(B)お
よび粉末状充填剤(C)を主成分とする半導体封止用樹
脂組成物において前記エポキシ樹脂(A)が下記式
(I) (ただし、R〜Rは水素原子、C〜Cの低級ア
ルキル基またはハロゲン原子を示す。) で表わされる骨格を有するエポキシ樹脂(a)を必須成
分として含有し、かつ前記粉末状充填剤(C)が粒子径
14μ以下の微粉末粒子を50重量%以上含有すること
を特徴とする半導体封止用樹脂組成物である。
<Means for Solving Problems> That is, according to the present invention, the epoxy resin (A), the curing agent (B), and the powdery filler (C) are used as main components in the resin composition for semiconductor encapsulation. A) is the following formula (I) (However, R 1 to R 8 represent a hydrogen atom, a C 1 to C 4 lower alkyl group or a halogen atom.) As an essential component, the epoxy resin (a) having a skeleton represented by A resin composition for semiconductor encapsulation, wherein the filler (C) contains 50% by weight or more of fine powder particles having a particle diameter of 14 μ or less.

以下、本発明の構成を詳述する。The configuration of the present invention will be described in detail below.

本発明の半導体封止用樹脂組成物はエポキシ樹脂
(A)、硬化剤(B)および粉末状充填剤(C)を主成
分として含有する。
The resin composition for semiconductor encapsulation of the present invention contains an epoxy resin (A), a curing agent (B) and a powdery filler (C) as main components.

本発明におけるエポキシ樹脂(A)は下記式(I) (ただし、R〜Rは水素原子、C〜Cの低級ア
ルキル基またはハロゲン原子を示す。) で表わされる骨格を有するエポキシ樹脂(a)を必須成
分として含有することが重要である。エポキシ樹脂
(a)を含有しない場合はハンダ付け工程におけるクラ
ックの発生防止効果は発揮されない。
The epoxy resin (A) in the present invention has the following formula (I) (However, R 1 to R 8 represent a hydrogen atom, a C 1 to C 4 lower alkyl group or a halogen atom.) It is important to contain an epoxy resin (a) having a skeleton represented by . If the epoxy resin (a) is not contained, the effect of preventing the occurrence of cracks in the soldering process is not exerted.

上記式(I)において、R〜Rの好ましい具体例と
しては、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、
i−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t
ert−ブチル基、塩素原子、臭素原子などが挙げられ
る。
In the above formula (I), preferred examples of R 1 to R 8 include a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group,
i-propyl group, n-butyl group, sec-butyl group, t
An ert-butyl group, a chlorine atom, a bromine atom and the like can be mentioned.

本発明におけるエポキシ樹脂(a)の好ましい具体例と
しては、4,4′−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)ビフ
ェニル、4,4′−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)−3,
3′,5,5′−テトラメチルビフェニル、4,4′−ビス
(2,3−エポキシプロポキシ)−3,3′,5,5′−テトラ
メチル−2−クロロビフェニル、4,4′−ビス(2,3−エ
ポキシプロポキシ)−3,3′,5,5′−テトラメチル−2
−ブロモビフェニル、4,4′−ビス(2,3−エポキシプロ
ポキシ)−3,3′,5,5′−テトラエチルビフェニル、4,
4′−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)−3,3′,5,5′
−テトラブチルビフェニルなどが挙げられる。
Preferred specific examples of the epoxy resin (a) in the present invention include 4,4'-bis (2,3-epoxypropoxy) biphenyl, 4,4'-bis (2,3-epoxypropoxy) -3,
3 ', 5,5'-tetramethylbiphenyl, 4,4'-bis (2,3-epoxypropoxy) -3,3', 5,5'-tetramethyl-2-chlorobiphenyl, 4,4'- Bis (2,3-epoxypropoxy) -3,3 ', 5,5'-tetramethyl-2
-Bromobiphenyl, 4,4'-bis (2,3-epoxypropoxy) -3,3 ', 5,5'-tetraethylbiphenyl, 4,
4'-bis (2,3-epoxypropoxy) -3,3 ', 5,5'
-Tetrabutyl biphenyl and the like.

本発明におけるエポキシ樹脂(A)は上記のエポキシ樹
脂(a)とともに該エポキシ樹脂(a)以外の他のエポ
キシ樹脂をも併用して含有することができる。併用でき
る他のエポキシ樹脂としては、例えばクレゾールノボラ
ック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ
樹脂、下記式(II)で表わされるノボラック型エポキシ樹
脂、 (ただし、nは0以上の整数を示す。) ビスフェノールAやレゾルシンなどから合成される各種
ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキ
シ樹脂、線状脂肪族エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹
脂、複素環式エポキシ樹脂などが挙げられる。
The epoxy resin (A) in the present invention may contain an epoxy resin other than the epoxy resin (a) in combination with the above epoxy resin (a). Other epoxy resins that can be used in combination, for example, cresol novolac type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, novolac type epoxy resin represented by the following formula (II), (However, n represents an integer of 0 or more.) Various novolac type epoxy resins synthesized from bisphenol A and resorcin, bisphenol A type epoxy resin, linear aliphatic epoxy resin, alicyclic epoxy resin, heterocyclic type Examples thereof include epoxy resin.

エポキシ樹脂(A)中に含有されるエポキシ樹脂(a)
の割合に関しては特に制限がなく必須成分としてエポキ
シ樹脂(a)が含有されれば本発明の効果は発揮される
が、より十分な効果を発揮させるためには、エポキシ樹
脂(a)がエポキシ樹脂(A)中に通常10重量%以
上、好ましくは20重量%以上含有せしめる必要があ
る。
Epoxy resin (a) contained in epoxy resin (A)
The ratio of is not particularly limited, and the effect of the present invention is exhibited if the epoxy resin (a) is contained as an essential component, but in order to exert a more sufficient effect, the epoxy resin (a) is It is necessary that the content of (A) is usually 10% by weight or more, preferably 20% by weight or more.

本発明の樹脂組成物においてエポキシ樹脂(A)の配合
量は通常3〜30重量%、好ましくは5〜25重量%で
ある。
In the resin composition of the present invention, the compounding amount of the epoxy resin (A) is usually 3 to 30% by weight, preferably 5 to 25% by weight.

本発明における硬化剤(B)はエポキシ樹脂と反応して
硬化させるものであれば特に限定されない。例えば、フ
ェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、
下記式(III)で表わされるノボラック樹脂、 (ただし、nは0以上の整数を示す。) ビスフェノールAやレゾルシンから合成される各種ノボ
ラック樹脂、各種多価フェノール化合物、無水マレイン
酸、無水フタル酸、無水ピロメリット酸などの酸無水
物、メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタ
ン、ジアミノジフェニルスルホンなどの芳香族アミンな
どが挙げられるが、特に限定されるものではない。
The curing agent (B) in the present invention is not particularly limited as long as it reacts with an epoxy resin and is cured. For example, phenol novolac resin, cresol novolac resin,
A novolac resin represented by the following formula (III), (However, n represents an integer of 0 or more.) Various novolac resins synthesized from bisphenol A and resorcin, various polyhydric phenol compounds, acid anhydrides such as maleic anhydride, phthalic anhydride, and pyromellitic anhydride, meta Examples thereof include aromatic amines such as phenylenediamine, diaminodiphenylmethane, and diaminodiphenylsulfone, but are not particularly limited.

本発明の樹脂組成物において硬化剤(B)の配合量は通
常1〜20重量%、好ましくは2〜15重量%である。
The content of the curing agent (B) in the resin composition of the present invention is usually 1 to 20% by weight, preferably 2 to 15% by weight.

本発明で使用するエポキシ樹脂(A)および硬化剤
(B)は耐湿性の点からナトリウムイオン、塩素イオ
ン、遊離の酸、アルカリやそれらを生成する可能性のあ
る不純物はできるだけ除去したものを用いることが好ま
しい。
The epoxy resin (A) and the curing agent (B) used in the present invention are those from which sodium ions, chlorine ions, free acids, alkalis and impurities which may form them are removed as much as possible from the viewpoint of moisture resistance. It is preferable.

エポキシ樹脂(A)と硬化剤(B)の配合比は、機械的
性質や耐熱性などの点からエポキシ樹脂に対する硬化剤
の化学当量比が0.5〜1.5、特に0.7〜1.2の範囲にあるこ
とが好ましい。
The compounding ratio of the epoxy resin (A) and the curing agent (B) may be such that the chemical equivalent ratio of the curing agent to the epoxy resin is 0.5 to 1.5, particularly 0.7 to 1.2 in view of mechanical properties and heat resistance. preferable.

本発明の樹脂組成物における粉末状充填剤(C)は粒子
径が14μ以下、好ましくは12μ以下、特に好ましく
は10μ以下の微粉末粒子を50重量%以上含有するこ
とが必須である。14μ以下の微粉末粒子が50重量%
未満の場合はハンダ工程におけるクラックの発生防止効
果は十分発揮されない。
It is essential that the powdery filler (C) in the resin composition of the present invention contains 50% by weight or more of fine powder particles having a particle diameter of 14 μm or less, preferably 12 μm or less, and particularly preferably 10 μm or less. 50% by weight of fine powder particles of 14 μ or less
If it is less than the above, the effect of preventing the occurrence of cracks in the soldering process is not sufficiently exerted.

粉末状充填剤(C)の材質に関しては特に制限がない
が、通常は溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、窒化ケ
イ素、炭化ケイ素、炭酸マグネシウム、炭化カルシウ
ム、クレー、タルク、ケイ酸カルシウム、酸化チタンな
どが用いられる。これらは二種以上併用することができ
る。なかでも溶融シリカは線膨脹係数を低下させる効果
が大きく、低応力化に有効なため好ましく用いられる。
粉末状充填剤(C)の粒子形状に関しても特に制限はな
く、通常は破砕状のもの、球状のものまたは破砕状と球
状を併用したものを用いることができる。
There is no particular limitation on the material of the powdery filler (C), but usually fused silica, crystalline silica, alumina, silicon nitride, silicon carbide, magnesium carbonate, calcium carbide, clay, talc, calcium silicate, titanium oxide, etc. Is used. These can be used in combination of two or more. Among them, fused silica has a large effect of lowering the coefficient of linear expansion and is effective in reducing stress, and is therefore preferably used.
The particle shape of the powdery filler (C) is not particularly limited, and a crushed shape, a spherical shape, or a combination of crushed and spherical shapes can be used.

粉末状充填剤(C)の粒度分布に関しても、粒子径が上
記の範囲内にあるかぎり特に制限はない。異なる粒度分
布を持った粉末状充填剤を二種以上併用することもでき
る。
The particle size distribution of the powdery filler (C) is not particularly limited as long as the particle size is within the above range. Two or more kinds of powdery fillers having different particle size distributions can be used in combination.

本発明の樹脂組成物において、粉末状充填剤(C)の配
合量は通常、50〜85重量%、好ましくは65〜80
重量%である。50重量%未満では線膨脹係数が大きく
なり、85重量%を越えると成形性が不十分である。
In the resin composition of the present invention, the amount of the powdered filler (C) is usually 50 to 85% by weight, preferably 65 to 80% by weight.
% By weight. If it is less than 50% by weight, the linear expansion coefficient becomes large, and if it exceeds 85% by weight, the moldability is insufficient.

また、本発明において、エポキシ樹脂と硬化剤の硬化反
応を促進するために硬化促進剤を用いてもよい。硬化促
進剤としては硬化反応を促進させるものならば特に制限
されない。例えば、2−メチルイミダゾール、2−フェ
ニルイミダゾールなどのイミダゾール類、ベンジルジメ
チルアミン、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン
−7(DBUと略す)などのアミン類、トリフェニルホ
スフィン、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニル
ボレートなどの有機リン化合物などが好ましく用いられ
る。
Further, in the present invention, a curing accelerator may be used to accelerate the curing reaction between the epoxy resin and the curing agent. The curing accelerator is not particularly limited as long as it accelerates the curing reaction. For example, imidazoles such as 2-methylimidazole and 2-phenylimidazole, benzyldimethylamine, amines such as 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7 (abbreviated as DBU), triphenylphosphine, tetra Organic phosphorus compounds such as phenylphosphonium tetraphenylborate are preferably used.

本発明の樹脂組成物は必要に応じてシリコーンゴム、オ
レフィン系ゴム、ジエン系ゴムなどのゴム状重合体、ワ
ックスなどの離型剤、カーボンブラックなどの着色剤、
カプリング剤、臭素化化合物、酸化アンチモンなどの難
燃剤、シリコーンオイルなどを用いることができる。
The resin composition of the present invention is a rubber-like polymer such as silicone rubber, olefin rubber, diene rubber, a release agent such as wax, a colorant such as carbon black, if necessary,
A coupling agent, a brominated compound, a flame retardant such as antimony oxide, and silicone oil can be used.

本発明の樹脂組成物は溶融混練することが好ましく、溶
融混練は公知の方法を用いることができる。例えばバン
バリーミキサー、ニーダー、ロール、一軸もしくは二軸
の押出機、コニーダーなどを用い、溶融混練することが
できる。
The resin composition of the present invention is preferably melt-kneaded, and a known method can be used for melt-kneading. For example, a Banbury mixer, a kneader, a roll, a uniaxial or biaxial extruder, a cokneader and the like can be used for melt kneading.

<実施例> 以下、実施例により本発明を具体的に説明する。<Examples> Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples.

実施例中、部数、%はそれぞれ重量部と重量%を意味す
る。
In the examples, parts and% mean parts by weight and% by weight, respectively.

実施例1〜15、比較例1〜19 表1と表2に示した原料を表3に示した配合処方の組成
比で配合し、ミキサーによりドライブレンドした。これ
をロール表面温度90℃のミキシングロールを用いて5
分間加熱混練したのち、冷却、粉砕して樹脂組成物を製
造した。
Examples 1 to 15 and Comparative Examples 1 to 19 The raw materials shown in Tables 1 and 2 were blended in the composition ratios shown in Table 3 and dry blended with a mixer. 5 using a mixing roll with a roll surface temperature of 90 ° C
After kneading by heating for 1 minute, the resin composition was manufactured by cooling and pulverizing.

これらの樹脂組成物と模擬素子を搭載した42アロイ製
リードフレームを用い、低圧トランスファー成形機によ
り180℃×2分の条件で44ピンフラットパッケージ
を成形し、次いで180℃で5時間後硬化した。
Using a 42 alloy lead frame equipped with these resin compositions and simulated elements, a 44-pin flat package was molded by a low-pressure transfer molding machine under the conditions of 180 ° C. × 2 minutes, and then post-cured at 180 ° C. for 5 hours.

得られたフラットパッケージ硬化物を85℃、85%R
Hで72時間加湿処理したのち、26℃のハンダ浴に1
0秒間浸漬し、浸漬後のクラック発生状況を調べた。
The resulting flat package cured product is 85 ° C, 85% R
After humidifying with H for 72 hours, in a solder bath at 26 ° C, 1
Immersion was carried out for 0 seconds, and the crack generation state after immersion was examined.

結果を表3に示す。The results are shown in Table 3.

表3においてハンダ耐熱性をパッケージ20個中クラッ
クが発生しなかったパッケージの個数で表示した。
In Table 3, the solder heat resistance is shown by the number of packages in which no crack is generated among the 20 packages.

表3の結果から次のことが明らかである。 The following is clear from the results of Table 3.

実施例1〜15にみられるようにエポキシ樹脂(a)を
含有し、かつ粉末状充填剤が粒子径14μ以下の微粉末
粒子を50重量%以上含有する本発明の樹脂組成物で封
止したパッケージは加湿処理後260℃のハンダ浴に浸
漬してもほとんどクラックが発生せず、ハンダ耐熱性が
優れている。
As seen in Examples 1 to 15, the epoxy resin (a) was contained, and the powdery filler was sealed with the resin composition of the present invention containing 50% by weight or more of fine powder particles having a particle diameter of 14 μ or less. The package has almost no cracks even when immersed in a solder bath at 260 ° C. after humidification, and has excellent solder heat resistance.

一方、比較例1〜5にみられるように粉末状充填剤が1
4μ以下の微粉末粒子を50重量%以上含有したとして
も、エポキシ樹脂(a)を含有しない樹脂組成物はほと
んどのパッケージにクラックが発生する。
On the other hand, as seen in Comparative Examples 1 to 5, the powdery filler is 1
Even if the fine powder particles of 4 μm or less are contained in an amount of 50% by weight or more, the resin composition not containing the epoxy resin (a) has cracks in most of the packages.

比較例6〜8にみられるようにエポキシ樹脂(a)を含
有しても、粉末状充填剤が粒子径14μ以下の微粉末粒
子を50重量%未満しか含有しない樹脂組成物はほとん
どのパッケージにクラックが発生する。
Even if the epoxy resin (a) is contained as in Comparative Examples 6 to 8, the resin composition in which the powdery filler contains less than 50% by weight of fine powder particles having a particle diameter of 14 μ or less is present in most packages. Cracks occur.

比較例9にみられるようにエポキシ樹脂(a)を含有せ
ず、粉末状充填剤が粒子径14μ以下の微粉末粒子を5
0重量%未満しか含有しない樹脂組成物はすべてのパッ
ケージにクラックが発生する。
As seen in Comparative Example 9, the epoxy resin (a) was not contained, and the powdery filler contained fine powder particles having a particle diameter of 14 μm or less.
A resin composition containing less than 0% by weight causes cracks in all packages.

<発明の効果> 本発明の樹脂組成物はハンダ耐熱性がきわめて優れてお
り、本発明の樹脂組成物で封止することにより半導体装
置を実装する際のハンダ付け工程における樹脂クラック
の発生を防止することができる。この特徴をいかして、
表面実装用の半導体装置の封止など種々の用途への応用
が期待される。
<Effects of the Invention> The resin composition of the present invention has extremely excellent solder heat resistance, and by encapsulating with the resin composition of the present invention, generation of resin cracks in the soldering step when mounting a semiconductor device is prevented. can do. Taking advantage of this feature,
It is expected to be applied to various applications such as encapsulation of semiconductor devices for surface mounting.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−98726(JP,A) 特開 昭61−47725(JP,A) 特開 昭60−17937(JP,A) 特開 昭62−261161(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A 61-98726 (JP, A) JP-A 61-47725 (JP, A) JP-A 60-17937 (JP, A) JP-A 62- 261161 (JP, A)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】エポキシ樹脂(A)、硬化剤(B)および
粉末状充填剤(C)を主成分とする半導体封止用樹脂組
成物において前記エポキシ樹脂(A)が下記式(I) (ただし、R〜Rは水素原子、C〜Cの低級ア
ルキル基またはハロゲン原子を示す。) で表わされる骨格を有するエポキシ樹脂(a)を必須成
分として含有し、かつ前記粉末状充填剤(C)が粒子径
14μ以下の微粉末粒子を50重量%以上含有すること
を特徴とする半導体封止用樹脂組成物。
1. In a resin composition for semiconductor encapsulation containing an epoxy resin (A), a curing agent (B) and a powdery filler (C) as main components, the epoxy resin (A) is represented by the following formula (I): (However, R 1 to R 8 represent a hydrogen atom, a C 1 to C 4 lower alkyl group or a halogen atom.) The epoxy resin (a) having a skeleton represented by A resin composition for semiconductor encapsulation, wherein the filler (C) contains 50% by weight or more of fine powder particles having a particle diameter of 14 μ or less.
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