JPS6198726A - Epoxy resin composition for sealing electronic parts - Google Patents
Epoxy resin composition for sealing electronic partsInfo
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- JPS6198726A JPS6198726A JP21976884A JP21976884A JPS6198726A JP S6198726 A JPS6198726 A JP S6198726A JP 21976884 A JP21976884 A JP 21976884A JP 21976884 A JP21976884 A JP 21976884A JP S6198726 A JPS6198726 A JP S6198726A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、耐湿性が良好で、電子部品の封止用に適する
エポキシ樹脂組成物に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to an epoxy resin composition that has good moisture resistance and is suitable for sealing electronic components.
トランジスタ、集積回路素子などの半導体装置において
は信頼性の改善、向上及び経済性を目的として樹脂封止
法が試みられている。この樹脂封止法は例えばエポキシ
樹脂を用いることにより、簡易に封止しうるという大き
な利点がある半面、湿気に対する安定性(耐湿性)が劣
り半導体装置の信頼性を充分に向上、改善し難いという
不都合さがある。2. Description of the Related Art In semiconductor devices such as transistors and integrated circuit elements, resin encapsulation methods have been attempted for the purpose of improving reliability and economic efficiency. Although this resin sealing method has the great advantage of being able to seal easily by using epoxy resin, for example, it has poor stability against moisture (moisture resistance), making it difficult to sufficiently improve the reliability of semiconductor devices. This is an inconvenience.
上記不都合さの改善策として樹脂封止すべき半導体素子
の表面をシラン系カップリング剤で処理した後、壬ボキ
シ樹脂で封止する方法や封土用樹リング剤の使用により
樹脂封止した半導体装置の耐湿性を改善し得るが、尚満
足しうる程度には至っていないのが実状である。As a method to improve the above-mentioned disadvantages, semiconductor devices that are resin-sealed by treating the surface of the semiconductor element to be resin-sealed with a silane coupling agent and then sealing it with a boxy resin or using a sealing agent. Although it is possible to improve the moisture resistance of
本発明は、このような状況に鑑みてなされたもので、そ
の目的は該組成物が適度の流動性を有しており、且つそ
の硬化物が優れた耐熱性及び耐湿性を有すると共に熱膨
張率も比較的小さい、電子部品封止用エポキシ樹脂組成
物を提供することにある。The present invention was made in view of these circumstances, and its purpose is to provide a composition having appropriate fluidity, and a cured product thereof having excellent heat resistance and moisture resistance, as well as thermal expansion resistance. It is an object of the present invention to provide an epoxy resin composition for encapsulating electronic components, which has a relatively low efficiency.
本発明者等社、上記の目的を達成すべく鋭意検討を重ね
た結果、ビスヒ、ドロキシビフェニル系エポキシ樹脂、
硬化剤及び無機質充填剤からなるエポキシ樹脂組成物が
適度の流動性を有し取扱い易すく、且つその硬化物が耐
湿性も良好で半導本素子等を封止した場合に優れたアル
ミ腐食比を示すことを見い出し、本発明を完成した。The present inventors, as a result of intensive studies to achieve the above object, have found that bishy, droxybiphenyl-based epoxy resin,
The epoxy resin composition consisting of a hardening agent and an inorganic filler has appropriate fluidity and is easy to handle, and the cured product has good moisture resistance and has an excellent aluminum corrosion ratio when encapsulating semiconductor devices etc. The present invention was completed based on the discovery that the following is true.
即ち、本発明は、
1、(a)一般式
(式中、Rは水素原子又はメチル基を示し、また、nは
θ〜6の整数を示す。)
で表わされるエポキシ樹脂、
(b)硬化剤、
(c)無機質充填剤、
からなることを特徴とする電子部品封止用エポキシ樹脂
組成物、
λ前記成分(c)の無機質充填剤を50重量%以上含む
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の電子部品
封止用エポキシ樹脂組成物、
である。That is, the present invention provides: 1. (a) an epoxy resin represented by the general formula (in the formula, R represents a hydrogen atom or a methyl group, and n represents an integer of θ to 6); (b) curing; (c) an inorganic filler, an epoxy resin composition for encapsulating electronic components, characterized in that it contains 50% by weight or more of the inorganic filler as component (c); The epoxy resin composition for encapsulating electronic components according to item 1.
本発明における(a)成分のビスヒドロキシビフェニル
系エポキシ樹脂は一般式
(式中、Rは水素原子又はメチル基を示し、ま九、nは
0〜6の整数を示す。)
で表わされるが、この樹脂は、4.4’−ビスヒドロキ
シフェニル又は4,4′−ビスヒドロキシ−3、3’、
s ’。The bishydroxybiphenyl epoxy resin as component (a) in the present invention is represented by the general formula (wherein R represents a hydrogen atom or a methyl group, and n represents an integer from 0 to 6). This resin is 4,4'-bishydroxyphenyl or 4,4'-bishydroxy-3,3',
s'.
5−テトラメチルビフェニル(以下、両者をビスヒドロ
キシビフェニルで代表する。)等ヲエピハロヒドリン又
はβ−メチルエビハロヒドリン(以下、両者をエビハロ
ヒドリンで代表する。)とを反応させることにより得ら
れる。It can be obtained by reacting 5-tetramethylbiphenyl (hereinafter, both are represented by bishydroxybiphenyl) with epihalohydrin or β-methylepihalohydrin (hereinafter, both are represented by epihalohydrin).
具体的には、
(i)、ビスヒドロキシビフェニルト過剰のエビハロヒ
ドリンとをアルカリ金属水酸化物の共存F’に反応させ
、ビスヒドロキシビフェニルへのエビハロヒドリンの付
加反応と、エポキシ環を形成する閉環反応とを同時に行
ってポリエポキシ化合物を製造する1段法
(ii)、 ビスヒドロキシビフェニルと過剰のエビ
ハロヒドリンとを塩基性触媒の存在下で付加反応させ、
次いでアルカリ金属水酸化物を添加して閉環反応を行な
ってポリエポキシ化合物を製造する2段法
が挙げられる。Specifically, (i), an excess of bishydroxybiphenyl and shrimp halohydrin is reacted with F' coexisting with an alkali metal hydroxide, and an addition reaction of shrimp halohydrin to bishydroxybiphenyl and a ring-closing reaction to form an epoxy ring are carried out. One-step method (ii) for producing a polyepoxy compound by simultaneously carrying out the addition reaction of bishydroxybiphenyl and excess shrimp halohydrin in the presence of a basic catalyst,
Next, a two-step method may be mentioned in which an alkali metal hydroxide is added and a ring-closing reaction is performed to produce a polyepoxy compound.
エビハロヒドリンとしてはエピクロルヒドリン、エビブ
ロモヒドリン、β−メチルエピクロルヒドリン、β−メ
チルエビブロモヒドリン、β−メチルエビヨードヒドリ
ン等が挙げられるが、一般にエピクロルヒドリンが使用
される。Examples of the shrimp halohydrin include epichlorohydrin, shrimp bromohydrin, β-methylepichlorohydrin, β-methylevibromohydrin, β-methyleviodohydrin, and the like, but epichlorohydrin is generally used.
また、アルカリ金属水酸化物としては苛性カリ、苛性ソ
ーダが使用でき、これらは固体のままで、あるいは40
〜50%のアルカリ水溶液として添加される。Further, as the alkali metal hydroxide, caustic potash and caustic soda can be used, and these can be used as solids or
Added as a ~50% alkaline aqueous solution.
塩基性触媒としてはテトラメチルアンモニウムクロリド
、テトラメチルアンモニウムプロミド、トリエチルメチ
ルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムア
イオダイド、セチルトリエチルアンモニウムプロミド等
の四級アンモニウム塩が夏用できる。As the basic catalyst, quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, triethylmethylammonium chloride, tetraethylammonium iodide, and cetyltriethylammonium bromide can be used.
前記1段法においては60〜150℃、好ましくFi8
0〜120℃の範囲の温度で反ろが行われる。アルカリ
金属水酸化物はビフェニル誘導体の水酸苓1当量に対し
て少なくとも等モル、好ましくは1.05〜1.5モル
倍使用する。また、ビスヒドロキシビフェニルに対スる
エビハロヒドリンの配合量は2倍モル〜8倍モルである
。In the one-stage method, the temperature is 60 to 150°C, preferably Fi8
Curling is carried out at a temperature in the range 0-120°C. The alkali metal hydroxide is used in an amount of at least equimole, preferably 1.05 to 1.5 times, per equivalent of hydroxide of the biphenyl derivative. The amount of shrimp halohydrin to be added to bishydroxybiphenyl is 2 times to 8 times by mole.
また、前記2段法においては、前段の反応は90〜15
0℃、好ましくは100〜140℃の温度で行なう。ビ
スヒドロキシビフェニルに対するエピハロヒドリンの使
用量Fi2〜20倍モル量、好ましくは3〜8倍モル量
であり、過剰に使用したエピハロヒドリンは蒸留回収す
ることにより再利用可能である。また、塩基性触媒はビ
スヒドロキシビフェニルのフェノール性水酸基に対シて
0.002〜0.5モル%の量産用される。In addition, in the two-stage method, the first stage reaction is 90 to 15
It is carried out at a temperature of 0°C, preferably 100-140°C. The amount of epihalohydrin used is 2 to 20 times the molar amount Fi, preferably 3 to 8 times the molar amount of bishydroxybiphenyl, and the epihalohydrin used in excess can be reused by recovering it by distillation. Further, the basic catalyst is used in mass production in an amount of 0.002 to 0.5 mol% based on the phenolic hydroxyl group of bishydroxybiphenyl.
後段の反応は60〜150℃、好ましくは80〜120
℃で行ない、アルカリ金属水酸化yJは生成したハロヒ
ドリンに対して等モル量〜1.1倍モル量用いられる。The reaction temperature in the latter stage is 60 to 150°C, preferably 80 to 120°C.
The alkali metal hydroxide yJ is used in an equimolar amount to 1.1 times the molar amount of the produced halohydrin.
これら前段および後段の反応はメチルイソブチルケトン
、メチルエチルケトン、トルエン等の不活性有機溶媒の
存在下で行ってもよい。These first-stage and second-stage reactions may be carried out in the presence of an inert organic solvent such as methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, or toluene.
これら(1)および(if)の反応終了後、反応生成物
は温水で洗浄して例えば食塩の如きアルカリ金属塩を除
去し、次いで水を留去して精製する。あるいは反応生成
物を水に不溶または難溶性の有機溶媒、例えばメチルイ
ソブチルケトン、メチルエチルケトン、トルエン等に溶
解し、この溶液を水又は温水と接触させて食塩等の無機
不純物を水相に溶解し、その後有機溶媒を留去して精製
を行なう。After the reactions (1) and (if) are completed, the reaction product is washed with warm water to remove an alkali metal salt such as common salt, and then purified by distilling off water. Alternatively, the reaction product is dissolved in an organic solvent that is insoluble or poorly soluble in water, such as methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, toluene, etc., and this solution is brought into contact with water or hot water to dissolve inorganic impurities such as common salt in the aqueous phase. Thereafter, the organic solvent is distilled off to perform purification.
このようにして得られた前記一般式で表わされるエポキ
シ樹脂は、エビハロヒドリンを大過剰使用した場合でも
、n=00化合物のみで占められているわけでなく、n
=1〜6のポリエポキシ化合物を20重、t%以下の割
合で含んでいるのが普通である。そして、本発明の一般
式におけるnは0〜6の整数でちるが、nが6より大き
くなると、軟化点が高く、作業性の面から不利であり用
いられない。The epoxy resin represented by the above general formula obtained in this way does not consist only of the n=00 compound, even when a large excess of shrimp halohydrin is used;
It usually contains a polyepoxy compound of 1 to 6 in a proportion of 20% by weight or less. In the general formula of the present invention, n is an integer of 0 to 6, but if n is larger than 6, the softening point will be high, which is disadvantageous in terms of workability, and therefore it cannot be used.
nはθ〜3であることが好ましい。It is preferable that n is θ~3.
この一般式で表わされるエポキシ樹脂の軟化点は、その
重合度と分子量分布によって左右されるが、例えば、R
が全てCH3の場合には、83〜185℃、又、Rが全
てHの場合のそれは液状〜140℃である。The softening point of the epoxy resin represented by this general formula depends on its degree of polymerization and molecular weight distribution, but for example, R
When R is all CH3, it is 83 to 185°C, and when R is all H, it is liquid to 140°C.
本発明において用いられるエポキシ樹脂は前記一般式で
表わされるビスヒドロキシビ7工、ニル系エホキシ樹脂
であるが、必要に応じて他のエポキシ樹脂と併用するこ
とも出来る。必要により配合される汎用のエポキシ樹脂
としては、例えば下記のものが挙げられる。The epoxy resin used in the present invention is a bishydroxyl-vinyl-based epoxy resin represented by the above general formula, but it can be used in combination with other epoxy resins if necessary. Examples of general-purpose epoxy resins that may be blended as necessary include the following.
(i) ビスフェノールAのジグリシジルエーテル;
その商品としては油化シェルエポキシ株式会社のエピコ
ート827、同828、同834、同864、同100
1、同1004、同1007、同1031、チパ社のア
ラルダイトGY250、同6099、ユニオンカーバイ
ド社のER,L2774、ダウケミカル社のDER33
2、同331、同661、(以上いずれも商品名)等。(i) diglycidyl ether of bisphenol A;
The products include Epicoat 827, 828, 834, 864, and 100 from Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.
1, 1004, 1007, 1031, Chipa Araldite GY250, 6099, Union Carbide ER, L2774, Dow Chemical DER33
2, 331, 661, (all of the above are product names), etc.
(ii) エポキシフェノールノボラック:その商品
としては油化シェルエポキシ株式会社のエピコート15
2、同154、ダウケミカル社のDEN438、同44
8、チパ社のアラルダイ)EPN1138、同1139
(以上いずれも商品名)等。(ii) Epoxyphenol novolak: The product is Epicoat 15 from Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.
2, 154, DOW Chemical Company DEN438, 44
8. Chipa's Araldai) EPN1138, EPN1139
(All of the above are product names) etc.
(iii) エポキシクレゾールノボラック;その商
品としてはチバ社のアラルダイトECN1235、同1
273、同1280(以上らずれも商品名)等。(iii) Epoxy cresol novolac; its products include Ciba's Araldite ECN1235 and 1
273, 1280 (all of the above are product names), etc.
その他、フタル酸又はヘキサヒドロフタル酸とエピクロ
ルヒドリンから得られるエポキシ樹脂、バラハイドロオ
キシ安息香酸とエピクロルヒドリンより得られるエポキ
シ樹脂、トルイジンやアニリン等の芳香族アミンとエピ
クロルヒドリンより得られるエポキシ樹脂、ビニルシク
ロヘキセンジオキシド、1.4−ブタンジオールジグリ
シジルエーテル、1,6−ヘキサンシオールジグリシジ
ルエーテル等が、あげられるうなお、これらのエポキシ
樹脂は、耐湿性の低下の原因となり得る遊離のナトリウ
ムイオン、塩素イオン含量が夫々t o ppm以下で
ちることが望ましい。In addition, epoxy resin obtained from phthalic acid or hexahydrophthalic acid and epichlorohydrin, epoxy resin obtained from rosehydroxybenzoic acid and epichlorohydrin, epoxy resin obtained from aromatic amine such as toluidine or aniline and epichlorohydrin, vinyl cyclohexene dioxide , 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanesiol diglycidyl ether, etc. However, these epoxy resins contain free sodium ion and chloride ion content, which can cause a decrease in moisture resistance. It is desirable that each of these amounts to be less than t0 ppm.
本発明の(b)成分として用いられる硬化剤或いは硬化
促進剤としては、酸無水物系、イミダゾール系、フェノ
ール系等があるが、例えば下記のものが挙げられる。The curing agent or curing accelerator used as component (b) of the present invention includes acid anhydride type, imidazole type, phenol type, etc., and examples thereof include the following.
(+) メチルナジック酸無水物、ヘキサヒドロフタ
ル酸無水物、メチルへキサヒドロフタル酸無水物、無水
ピロメリット酸、テトラヒドロフタル酸味水物、無水グ
ルタル酸、無水フタル酸、ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸無水物、
等の酸無水物類。(+) Methylnadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, pyromellitic anhydride, tetrahydrophthalic acid hydrate, glutaric anhydride, phthalic anhydride, benzophenonetetracarboxylic anhydride , cyclopentanetetracarboxylic anhydride,
acid anhydrides such as
(ii) 2−メチルイミダゾール、2−フェニルイ
ミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタ
デシルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾ
ール等のイミダゾール類。(ii) Imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecyl imidazole, and 2-ethyl-4-methylimidazole.
(iii)z−(ジメチルアミンメチル)フェノール、
2.4.6− )リス(ジメチルアミノメチル)フェノ
ール等のフェノール類、又は、ノボラックフェノール類
(例えば、群栄化学社商品名 MP−617,120M
) ;アルキルフェノールノボラック類、例えば、ク
レゾールノボラック、ブチルフェノールノボラック、ノ
ニルフェノ=ルツボラック;ポリアルケニルフェノール
類、例えばポリ−p−ビニルフェノール、ポリ−p−イ
ンプロペニルフェノール。(iii) z-(dimethylaminemethyl)phenol,
2.4.6-) Phenols such as lis(dimethylaminomethyl)phenol, or novolac phenols (e.g., Gunei Kagakusha brand name MP-617, 120M)
); alkylphenol novolaks, such as cresol novolak, butylphenol novolac, nonylphenol-rutuvolak; polyalkenylphenols, such as poly-p-vinylphenol, poly-p-impropenylphenol.
これらの硬化剤の使用割合は、通常、エポキシ樹脂10
0重量部に対して3〜120重量部であり、一般的には
はソ理論当量で配合される。また、硬化促進剤の配合量
としてはエポキシ樹脂組成物中0,02〜1.0重量%
であることが好ましい。The ratio of these curing agents is usually 10 parts of epoxy resin.
The amount is 3 to 120 parts by weight relative to 0 parts by weight, and is generally blended in so-theoretical equivalents. In addition, the amount of the curing accelerator is 0.02 to 1.0% by weight in the epoxy resin composition.
It is preferable that
本発明において使用される(e)成分の無機質充填剤は
、通常、無機質充填剤として使用されているものであれ
ば如何なるものでもよい。このような無機充填剤として
は、溶融シリカ粉、結晶性シリカ粉、石英ガラス粉、タ
ルク、ケイ酸カルシウム粉、ケイ酸ジルコニウム粉、ア
ルミナ粉、炭酸カルシウム粉、クレー粉、硫酸バリウム
扮及びガラス繊維等が挙げられ、これらから成る群より
選ばれた1種若しくは21以上のものが期用されるが、
シリカ粉末が特に好ましい。The inorganic filler as component (e) used in the present invention may be any inorganic filler that is normally used as an inorganic filler. Such inorganic fillers include fused silica powder, crystalline silica powder, quartz glass powder, talc, calcium silicate powder, zirconium silicate powder, alumina powder, calcium carbonate powder, clay powder, barium sulfate powder, and glass fiber. etc., and one or more than 21 selected from the group consisting of these are used,
Particularly preferred is silica powder.
上記無機質充填剤の配合量は、配合される無機質充填剤
の種類により、硬化物に所望の弾性率、線膨張率及びガ
ラス耘移昌度等を付与するに充分な量であれば良いが、
樹脂組成物中に50〜85重険%であることが好ましい
。50爪が%未満であると線膨張率が大きくなり、一方
、85市”71%を超えると樹脂組成物の流動性が低下
する。The amount of the inorganic filler blended may be an amount sufficient to impart the desired elastic modulus, linear expansion coefficient, glass transferability, etc. to the cured product depending on the type of inorganic filler blended.
It is preferable that the resin composition contains 50 to 85% by weight. If it is less than 50%, the coefficient of linear expansion will increase, while if it exceeds 85%, the fluidity of the resin composition will decrease.
本発明においては、必要に応じて四に、離型剤、着色剤
、カップリング剤又は難燃剤等を添加しても良い。離型
剤としては、例えば、天然ワックス、合成ワックス、高
級脂肪酸及びその金属塩並びにパラフィン等が挙げられ
、着色剤としてンより−ボン等が、又、難燃剤としては
、例えば、二酸化アンチモン、五酸化アンチモン、リン
酸及びリン化合物等が擢げられる。In the present invention, a mold release agent, a coloring agent, a coupling agent, a flame retardant, etc. may be added as needed. Examples of mold release agents include natural waxes, synthetic waxes, higher fatty acids and their metal salts, paraffin, etc. Coloring agents include Nyoribon, etc., and flame retardants include, for example, antimony dioxide, Antimony oxide, phosphoric acid, phosphorus compounds, etc. are used.
本発明によれば、その樹脂硬化物が優れた耐熱性及び耐
湿性を有すると共に、熱膨張率も比較的小さい電子部品
封市用エポキシ樹脂組成物を得ることが可能である。従
って、該樹脂組成物を半導体装置等の電子部品の封止な
どに用いた場合に、封止について優れた信頼性乃至安定
性を付与し得る。According to the present invention, it is possible to obtain an epoxy resin composition for sealing electronic components whose cured resin has excellent heat resistance and moisture resistance and also has a relatively small coefficient of thermal expansion. Therefore, when the resin composition is used for sealing electronic components such as semiconductor devices, it can provide excellent sealing reliability and stability.
ビスヒドロキシビフェニル系エポキシ樹脂の製造
製造例1
エポキシ樹脂A
攪拌装置、温度計、冷却器を備えた内容積16の三つロ
フラスコ内に、4.4’−ビス・ヒドロキシ−3,3’
、5.s’−テトラメチル−ビフェニル121.29(
0,5モル)、エピクロルヒドリン3702(4モル)
、テトラメチルアンモニウムクロリド2.429 (ビ
フェニルに対して2重が部)を仕込み、油浴を130℃
に加熱し、還流下2時、間開視度で付加反応を行った。Production of bishydroxybiphenyl-based epoxy resin Production Example 1 Epoxy resin A 4.4'-bis-hydroxy-3,3'
,5. s'-tetramethyl-biphenyl 121.29 (
0.5 mol), epichlorohydrin 3702 (4 mol)
, 2.429 parts of tetramethylammonium chloride (2 parts per biphenyl) was charged, and the oil bath was heated to 130°C.
The addition reaction was carried out under reflux for 2 hours under open conditions.
次いで、内容物を60’Cまで冷却し、水分除去装置を
付けた。水酸化ナトリウム42 f (1,05モル)
を反E、5に加え、反応温度50〜65℃、減圧度10
0〜20011Il取の条件下に生成水を連続的に共沸
除去して閉環反応を行った。生成水か18dに達した時
点を反応終了点とした(1.5時間)。The contents were then cooled to 60'C and fitted with a moisture removal device. Sodium hydroxide 42 f (1,05 mol)
was added to reactor E, 5, the reaction temperature was 50 to 65°C, and the degree of vacuum was 10.
The ring-closing reaction was carried out by continuously azeotropically removing the produced water under the conditions of collecting 0 to 20,011 Il. The reaction end point was defined as the point at which the produced water reached 18 d (1.5 hours).
過剰のエピクロルヒドリンを減圧下で回収した後、トル
エンsoo*z加え、1tの水で3回水洗して生成した
食塩および残存するアルカリ、触媒金除去した。トルエ
ンをロータリーエバポレーターで減圧除去し、淡褐色固
体の4.4′−ビス(2,3−エポキシグロボキシ)
−3,3’、5.5’−テトラメチルビフェニル166
.1 fを得た。生成物の性状は以下の通りであった。After collecting excess epichlorohydrin under reduced pressure, toluene soo*z was added and washed three times with 1 ton of water to remove the generated common salt, remaining alkali, and catalyst gold. Toluene was removed under reduced pressure using a rotary evaporator to obtain 4,4'-bis(2,3-epoxygloboxy) as a light brown solid.
-3,3',5,5'-tetramethylbiphenyl 166
.. 1 f was obtained. The properties of the product were as follows.
軟化温度 二83〜93℃ エポキシ当@:203 一替、+01.。Softening temperature 283~93℃ Epoxy @:203 One change, +01. .
−、パ°−
1、°−17
製造例2
エポキシ樹脂B
攪拌装置、@変針、冷却器を備えた内容積1tの三つロ
フラスコ内に、4.4’−ビス・ヒドロキシ−3+3’
−515’−テトラメチル−ビフェニル121.2f
(0,5モル)、エピクロルヒドリン259?(2,
8モル)、テトラメチルアンモニウムクロリド2.4f
を仕込み、製造例1と同様に反応を行い淡褐色固体の生
成物を150?得た。生成物の性状は以下の通りであっ
た。-, Pa °- 1, °-17 Production example 2 Epoxy resin B 4.4'-bis hydroxy-3+3'
-515'-tetramethyl-biphenyl 121.2f
(0.5 mol), epichlorohydrin 259? (2,
8 mol), tetramethylammonium chloride 2.4f
was charged and the reaction was carried out in the same manner as in Production Example 1 to obtain a light brown solid product at 150? Obtained. The properties of the product were as follows.
軟化@度 :120〜130℃
エポキシ当Jil:580
実施例1〜2、比較例1
製造例1.2で得たエポキシ樹脂A及びB1ビスフェノ
ールA型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社製:E−
828(商品名)、酸無水物硬化剤:カヤハードMCD
(商品名二日本化薬社製)、硬化促進剤:I−ベンジル
−2−メチル−イミダゾール、溶融シリカ、シランカッ
プリング剤、カーボンブラックを第1表に示した割合で
それぞれ配合し、3種の組成物を調製した。次いで、こ
の調製したエポキシ樹脂組成物を用いてICを被覆し、
プレッシャークツカーテスト(133℃、3気圧)によ
り耐湿性の試験を行ない、アルミニウム電極の腐食によ
る通電不良を調べた。試験個数(分母)と不良品(分子
)の比を第2表に示した。Softening@degree: 120-130°C Epoxy Jil: 580 Examples 1-2, Comparative Example 1 Epoxy resin A and B1 obtained in Production Example 1.2 Bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.: E-
828 (trade name), acid anhydride curing agent: Kayahard MCD
(trade name manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), curing accelerator: I-benzyl-2-methyl-imidazole, fused silica, silane coupling agent, and carbon black in the proportions shown in Table 1. A composition was prepared. Next, the prepared epoxy resin composition is used to coat an IC,
A moisture resistance test was conducted using a pressure tester (133° C., 3 atm) to check for current failure due to corrosion of the aluminum electrode. Table 2 shows the ratio of the number of test pieces (denominator) to the number of defective items (numerator).
又、硬化物の吸水率、熱膨張係数も併せて第2表に示し
た。Further, the water absorption coefficient and thermal expansion coefficient of the cured product are also shown in Table 2.
(以下余白) 第 1 表(Margin below) Table 1
Claims (1)
0〜6の整数を示す。) で表わされるエポキシ樹脂、 (b)硬化剤、 (c)無機質充填剤、 からなることを特徴とする電子部品封止用エポキシ樹脂
組成物。 2、前記成分(c)の無機質充填剤を50重量%以上含
むことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の電子部
品封止用エポキシ樹脂組成物。[Claims] 1. (a) Epoxy resin represented by the general formula ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R represents a hydrogen atom or a methyl group, and n represents an integer from 0 to 6.) 1.) A curing agent; (c) An inorganic filler. An epoxy resin composition for encapsulating electronic components. 2. The epoxy resin composition for encapsulating electronic components according to claim 1, which contains 50% by weight or more of the inorganic filler as component (c).
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP21976884A JPS6198726A (en) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | Epoxy resin composition for sealing electronic parts |
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JP21976884A JPS6198726A (en) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | Epoxy resin composition for sealing electronic parts |
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Publication Number | Publication Date |
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JPS6198726A true JPS6198726A (en) | 1986-05-17 |
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ID=16740698
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JP21976884A Pending JPS6198726A (en) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | Epoxy resin composition for sealing electronic parts |
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