JPH0342655B2 - - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規な、光により遊離基を生成する
化合物を含有する感光性組成物に関するものであ
る。更に詳しくは、新規な2−ハロメチル−5−
置換−1,3−4−オキサジアゾール化合物を含
有する感光性組成物に関するものである。
化合物を含有する感光性組成物に関するものであ
る。更に詳しくは、新規な2−ハロメチル−5−
置換−1,3−4−オキサジアゾール化合物を含
有する感光性組成物に関するものである。
光に曝すことにより分解して遊離基を生成する
化合物(遊離基生成剤)はグラフイツクアーツの
分野でよく知られている。それらは光重合性組成
物中の光重合開始剤、遊離基写真組成物中の光活
性剤および光で生じる酸により触媒される反応の
光開始剤として広く用いられている。そのような
遊離基生成剤を用いて印刷、複製、複写およびそ
の他の画像形成系で有用な種々の感光性材料が作
られる。
化合物(遊離基生成剤)はグラフイツクアーツの
分野でよく知られている。それらは光重合性組成
物中の光重合開始剤、遊離基写真組成物中の光活
性剤および光で生じる酸により触媒される反応の
光開始剤として広く用いられている。そのような
遊離基生成剤を用いて印刷、複製、複写およびそ
の他の画像形成系で有用な種々の感光性材料が作
られる。
有機ハロゲン化合物は光分解して、塩素遊離
基、臭素遊離基のようなハロゲン遊離基を与え
る。これらのハロゲン遊離基は良好な水素引抜き
剤であり、水素供与体が存在すると酸を生じる。
それらの光重合過程および遊離基写真過程への応
用についてはJ.Kosar著「Light Sensitive
Systems」J.Wiley&Sons(New York1965)PP
−180〜181およびPP361〜370に記載されている。
基、臭素遊離基のようなハロゲン遊離基を与え
る。これらのハロゲン遊離基は良好な水素引抜き
剤であり、水素供与体が存在すると酸を生じる。
それらの光重合過程および遊離基写真過程への応
用についてはJ.Kosar著「Light Sensitive
Systems」J.Wiley&Sons(New York1965)PP
−180〜181およびPP361〜370に記載されている。
この種の光の作用によりハロゲン遊離基を生じ
る化合物としては、これまで四臭化炭素、ヨード
ホルム、トリブロモアセトフエノンなどが代表的
なものであり、広く用いられてきた。しかしなが
らこれらの遊離基生成剤はかなり限られた波長領
域の光でしか分解しないという欠点を有してい
た。つまりそれは通常用いられる光源の主波長よ
り短波の紫外領域に感度があつた。それゆえこれ
らの化合物は光源の発する近紫外から可視域の光
を有効に利用する能力がないため、遊離基生成能
が劣つていた。
る化合物としては、これまで四臭化炭素、ヨード
ホルム、トリブロモアセトフエノンなどが代表的
なものであり、広く用いられてきた。しかしなが
らこれらの遊離基生成剤はかなり限られた波長領
域の光でしか分解しないという欠点を有してい
た。つまりそれは通常用いられる光源の主波長よ
り短波の紫外領域に感度があつた。それゆえこれ
らの化合物は光源の発する近紫外から可視域の光
を有効に利用する能力がないため、遊離基生成能
が劣つていた。
この欠点を改良するため、ある種の増感剤を混
合することにより感光波長域を広げることが提案
された。例えば米国特許第3106466および同第
3121633に記載のメロシアニン色素、スチリル塩
基およびシアニン塩基のような増感剤である。確
かにこれらの増感剤の添加により四臭化炭素やヨ
ードホルムの感光波長域が可視光まで広がつた
が、未だ満足できるものではなかつた。というの
は増感剤としては、遊離基生成剤又は感光性組成
物中の他の要素と相溶性の良いものを選ぶ必要が
あるにも拘らず、相溶性が良好で、しかも高感度
を示すものの選択が困難であつたからである。
合することにより感光波長域を広げることが提案
された。例えば米国特許第3106466および同第
3121633に記載のメロシアニン色素、スチリル塩
基およびシアニン塩基のような増感剤である。確
かにこれらの増感剤の添加により四臭化炭素やヨ
ードホルムの感光波長域が可視光まで広がつた
が、未だ満足できるものではなかつた。というの
は増感剤としては、遊離基生成剤又は感光性組成
物中の他の要素と相溶性の良いものを選ぶ必要が
あるにも拘らず、相溶性が良好で、しかも高感度
を示すものの選択が困難であつたからである。
この欠点を改良するために、感光波長域が近紫
外から可視光領域にあるハロゲン遊離基生成剤が
提案された。例えば米国特許第3954475号、同第
3987037号および同第4189323号に記載のハロメチ
ル−s−トリアジン化合物群がある。これらの化
合物群は近紫外から可視光領域に感光波長域があ
るものの、照射された光が有効に用いられず光分
解の感度は比較的低い。
外から可視光領域にあるハロゲン遊離基生成剤が
提案された。例えば米国特許第3954475号、同第
3987037号および同第4189323号に記載のハロメチ
ル−s−トリアジン化合物群がある。これらの化
合物群は近紫外から可視光領域に感光波長域があ
るものの、照射された光が有効に用いられず光分
解の感度は比較的低い。
したがつて、本発明の目的は、感光波長域が近
紫外から可視光領域にあり、光分解の感度の高い
遊離基生成剤を含む感光性組成物を提供すること
である。本発明の他の目的は、組成物中に含まれ
る他の各成分と相溶性の良好な遊離基生成剤を提
供することである。更に他の目的は本発明につい
て次の説明から明らかになるであろう。
紫外から可視光領域にあり、光分解の感度の高い
遊離基生成剤を含む感光性組成物を提供すること
である。本発明の他の目的は、組成物中に含まれ
る他の各成分と相溶性の良好な遊離基生成剤を提
供することである。更に他の目的は本発明につい
て次の説明から明らかになるであろう。
本発明者らは種々研究の結果、上記目的を達成
するために有用な新規な下記一般式()で示さ
れる2−ハロメチル−5−置換−1,3,4−オ
キサジアゾール化合物を見出した。
するために有用な新規な下記一般式()で示さ
れる2−ハロメチル−5−置換−1,3,4−オ
キサジアゾール化合物を見出した。
■■■ 亀の甲 [0004] ■■■
ここで、Aは置換されたまたは無置換の芳香族
残基を、Xは水素原子、シアノ基、アルキル基ま
たはアリール基を、Yは塩素原子または臭素原子
を、nは1〜3の整数を表わす。
残基を、Xは水素原子、シアノ基、アルキル基ま
たはアリール基を、Yは塩素原子または臭素原子
を、nは1〜3の整数を表わす。
一般式()において、Aの芳香族残基として
はアリール基および複素芳香族残基を含み、好ま
しくは単環あるいは2環のものであり、例えばフ
エニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、2
−フリル基、2−チエニル基、2−オキサゾール
基、2−チアゾール基、2−イミダゾール基、2
−ピリジル基、2−ベンゾフリル基、2−ベンゾ
チエニル基、2−ベンゾオキサゾール基、2−ベ
ンゾチアゾール基、2−ベンゾイミダゾール基、
ベンゾトリアゾール基、2−インドリル基、2−
キノリル基などが挙げられる。
はアリール基および複素芳香族残基を含み、好ま
しくは単環あるいは2環のものであり、例えばフ
エニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、2
−フリル基、2−チエニル基、2−オキサゾール
基、2−チアゾール基、2−イミダゾール基、2
−ピリジル基、2−ベンゾフリル基、2−ベンゾ
チエニル基、2−ベンゾオキサゾール基、2−ベ
ンゾチアゾール基、2−ベンゾイミダゾール基、
ベンゾトリアゾール基、2−インドリル基、2−
キノリル基などが挙げられる。
Aの置換芳香族残基としては上記のような芳香
族残基に、例えばメチル基、エチル基などの炭素
原子数1〜2個のアルキル基、例えばメトキシ
基、エトキシ基などの炭素原子数1〜2個のアル
コキシ基、例えば塩素原子などのハロゲン原子、
ニトロ基、フエニル基、カルボキシ基、シアノ基
などが置換したものが含まれ、具体的には4−ク
ロロフエニル基、2−クロロフエニル基、4−ブ
ロモフエニル基、4−ニトロフエニル基、3−ニ
トロフエニル基、4−フエニルフエニル基、4−
メチルフエニル基、2−メチルフエニル基、4−
エチルフエニル基、4−メトキシフエニル基、2
−メトキシフエニル基、4−エトキシフエニル
基、2−カルボキシフエニル基、4−シアノフエ
ニル基、3,4−メチレンジオキシフエニル基、
4−フエノキシフエニル基、4−アセトキシフエ
ニル基、4−メチル−1−ナフチル基、4−クロ
ロ−1−ナフチル基、5−ニトロ−1−ナフチル
基、6−クロロ−2−ナフチル基、4−ブロモ−
2−ナフチル基、5−ニトロ−2−ナフチル基、
6−メチル−2−ベンゾフリル基、6−メチル−
2−ベンゾオキサゾール基、6−メチル−2−ベ
ンゾチアゾール基、6−クロロ−2−ベンゾチア
ゾール基などが挙げられる。Xは水素原子、アル
キル基またはアリール基を表わすが、アルキル基
としては炭素数1〜3が好ましく、例えばメチル
基、エチル基、n−プロピル基などが挙げられ
る。Xのアリール基としては単環あるいは2環が
好ましく、例えばフエニル基、1−ナフチル基、
2−ナフチル基などが挙げられる。
族残基に、例えばメチル基、エチル基などの炭素
原子数1〜2個のアルキル基、例えばメトキシ
基、エトキシ基などの炭素原子数1〜2個のアル
コキシ基、例えば塩素原子などのハロゲン原子、
ニトロ基、フエニル基、カルボキシ基、シアノ基
などが置換したものが含まれ、具体的には4−ク
ロロフエニル基、2−クロロフエニル基、4−ブ
ロモフエニル基、4−ニトロフエニル基、3−ニ
トロフエニル基、4−フエニルフエニル基、4−
メチルフエニル基、2−メチルフエニル基、4−
エチルフエニル基、4−メトキシフエニル基、2
−メトキシフエニル基、4−エトキシフエニル
基、2−カルボキシフエニル基、4−シアノフエ
ニル基、3,4−メチレンジオキシフエニル基、
4−フエノキシフエニル基、4−アセトキシフエ
ニル基、4−メチル−1−ナフチル基、4−クロ
ロ−1−ナフチル基、5−ニトロ−1−ナフチル
基、6−クロロ−2−ナフチル基、4−ブロモ−
2−ナフチル基、5−ニトロ−2−ナフチル基、
6−メチル−2−ベンゾフリル基、6−メチル−
2−ベンゾオキサゾール基、6−メチル−2−ベ
ンゾチアゾール基、6−クロロ−2−ベンゾチア
ゾール基などが挙げられる。Xは水素原子、アル
キル基またはアリール基を表わすが、アルキル基
としては炭素数1〜3が好ましく、例えばメチル
基、エチル基、n−プロピル基などが挙げられ
る。Xのアリール基としては単環あるいは2環が
好ましく、例えばフエニル基、1−ナフチル基、
2−ナフチル基などが挙げられる。
本発明で用いられる前記の一般式()で表わ
される2−ハロメチル−5−置換−1,3,4−
オキサジアゾール化合物は、下記の手順により合
成できる。すなわち、G.Drefahlら著、Journal
fu¨r Praktische Chemie、第4巻、124〜129頁
(1956)に記載の方法、B.R.Bakerら著、Journal
of Medical Chemistry、第14巻、315〜322頁
(1971)に記載の方法、あるいはJ.Castellsら著、
Journal of the Chemical Society,Perkin
Transactions I、1〜6頁(1979)に記載の方
法などに従い、一般式()で示される化合物が
合成される。
される2−ハロメチル−5−置換−1,3,4−
オキサジアゾール化合物は、下記の手順により合
成できる。すなわち、G.Drefahlら著、Journal
fu¨r Praktische Chemie、第4巻、124〜129頁
(1956)に記載の方法、B.R.Bakerら著、Journal
of Medical Chemistry、第14巻、315〜322頁
(1971)に記載の方法、あるいはJ.Castellsら著、
Journal of the Chemical Society,Perkin
Transactions I、1〜6頁(1979)に記載の方
法などに従い、一般式()で示される化合物が
合成される。
■■■ 亀の甲 [0005] ■■■
(ここで、Aは一般式()の場合と同義)さ
らに、これを原料として、既知の方法にしたがい
一般式()で表わされるアクリル酸誘導体を合
成することができる。
らに、これを原料として、既知の方法にしたがい
一般式()で表わされるアクリル酸誘導体を合
成することができる。
■■■ 亀の甲 [0006] ■■■
(ここで、AおよびXは一般式()の場合と
同義) 一般式()で示されるアクリル酸誘導体は
W.O.Godtfredsenら著、Acta Chimica
Scandinavica、第9巻、1498頁(1955)に記載
の方法、あるいはH.Kondoら著、Bulletin of
the Chemical Society of Japan、第41巻、2521
頁(1968)に記載の方法等に準じてアクリル酸ヒ
ドラジド誘導体とすることができる(アクリル酸
ヒドラジド誘導体は一般式()にて示される。
同義) 一般式()で示されるアクリル酸誘導体は
W.O.Godtfredsenら著、Acta Chimica
Scandinavica、第9巻、1498頁(1955)に記載
の方法、あるいはH.Kondoら著、Bulletin of
the Chemical Society of Japan、第41巻、2521
頁(1968)に記載の方法等に準じてアクリル酸ヒ
ドラジド誘導体とすることができる(アクリル酸
ヒドラジド誘導体は一般式()にて示される。
■■■ 亀の甲 [0007] ■■■
(ここで、AおよびXは一般式()と同義)
一般式()にて示されるアクリル酸ヒドラジ
ド誘導体は米国特許第4232106号明細書記載の方
法あるいは西独国公開特許公報第2851471号記載
の方法に準じて反応を進めることにより前記の一
般式()で示される2−ハロメチル−5−置換
−1,3,4−オキサジアゾール化合物に導くこ
とができる。
ド誘導体は米国特許第4232106号明細書記載の方
法あるいは西独国公開特許公報第2851471号記載
の方法に準じて反応を進めることにより前記の一
般式()で示される2−ハロメチル−5−置換
−1,3,4−オキサジアゾール化合物に導くこ
とができる。
次に示す構造を有する化合物が本発明に用いら
れる遊離生成剤として特に有利である。
れる遊離生成剤として特に有利である。
■■■ 亀の甲 [0008] ■■■
■■■ 亀の甲 [0009] ■■■
■■■ 亀の甲 [0010] ■■■
■■■ 亀の甲 [0011] ■■■
■■■ 亀の甲 [0012] ■■■
■■■ 亀の甲 [0013] ■■■
■■■ 亀の甲 [0014] ■■■
■■■ 亀の甲 [0015] ■■■
■■■ 亀の甲 [0016] ■■■
■■■ 亀の甲 [0017] ■■■
■■■ 亀の甲 [0018] ■■■
■■■ 亀の甲 [0019] ■■■
■■■ 亀の甲 [0020] ■■■
■■■ 亀の甲 [0021] ■■■
■■■ 亀の甲 [0022] ■■■
■■■ 亀の甲 [0023] ■■■
■■■ 亀の甲 [0024] ■■■
■■■ 亀の甲 [0025] ■■■
■■■ 亀の甲 [0026] ■■■
本発明の遊離基生成剤は光重合性組成物中の光
重合開始剤として用いる場合に有用である。光重
合性組成物は、エチレン性不飽和結合を有する重
合可能な化合物と光重合開始剤と、必要とするな
らば結合剤と、さらに必要とするならば増感剤と
から構成され、特に感光性印刷版の感光層、フオ
トレジスト等に有用である。
重合開始剤として用いる場合に有用である。光重
合性組成物は、エチレン性不飽和結合を有する重
合可能な化合物と光重合開始剤と、必要とするな
らば結合剤と、さらに必要とするならば増感剤と
から構成され、特に感光性印刷版の感光層、フオ
トレジスト等に有用である。
本発明の光重合性組成物におけるエチレン性不
飽和結合を有する重合可能な化合物とは、その化
学構造中に少なくとも1個のエチレン性不飽和結
合を有する化合物であつて、モノマー、プレポリ
マー、すなわち2量体、3量体および他のオリゴ
マーそれらの混合物ならびにそれらの共重合体な
どの化学的形態をもつものである。それらの例と
しては不飽和カルボン酸およびその塩、脂肪族多
価アルコール化合物のエステル、脂肪族多価アミ
ン化合物とのアミド等があげられる。
飽和結合を有する重合可能な化合物とは、その化
学構造中に少なくとも1個のエチレン性不飽和結
合を有する化合物であつて、モノマー、プレポリ
マー、すなわち2量体、3量体および他のオリゴ
マーそれらの混合物ならびにそれらの共重合体な
どの化学的形態をもつものである。それらの例と
しては不飽和カルボン酸およびその塩、脂肪族多
価アルコール化合物のエステル、脂肪族多価アミ
ン化合物とのアミド等があげられる。
不飽和カルボン酸の具体例としては、アクリル
酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イ
ソクロトン酸、マレイン酸などがある。
酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イ
ソクロトン酸、マレイン酸などがある。
不飽和カルボン酸の塩としては、前述の酸のナ
トリウム塩およびカリウム塩などがある。
トリウム塩およびカリウム塩などがある。
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン
酸とのエステルの具体例としてはアクリル酸エス
テルとして、エチレングリコールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート、
1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラ
メチレングリコールジアクリレート、プロピレン
グリコールジアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、トリメチロールエタント
リアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオー
ルジアクリレート、テトラエチレングリコールジ
アクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエ
リスリトールトリアクリレート、ジペンタエリス
リトールテトラアクリレート、ソルビトールトリ
アクリレート、ソルビトールテトラアクリレー
ト、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビト
ールヘキサアクリレート、ポリエステルアクリレ
ートオリゴマー等がある。メタクリル酸エステル
としては、テトラメチレングリコールジメタクリ
レート、トリエチレングリコールジメタクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレー
ト、トリメチロールエタントリメタクリレート、
エチレングリコールジメタクリレート、1,3−
ブタンジオールジメタクリレート、ペンタエリス
リトールジメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリメタクレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ソルビトールトリメタクリレー
ト、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス−
〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプ
ロポキシ)フエニル〕ジメチルメタン、ビス−
〔p−(アクリルオキシエトキシ)フエニル基〕ジ
メチルメタン等がある。イタコン酸エステルとし
ては、エチレングリコールジイタコネート、プロ
ピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタ
ンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオ
ールジイタコネート、テトラメチレングリコール
ジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコ
ネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。クロトン酸エステルとしては、エチレングリ
コールジクロトネート、テトラメチレングリコー
ルジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロ
トネート、ソルビトールテトラクロトネート等が
ある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレ
ングリコールジイソクロトネート、ペンタエリス
リトールジイソクロトネート、ソルビトールテト
ライソクロトネート等がある。マレイン酸エステ
ルとしては、エチレングリコールジマレート、ト
リエチレングリコールジマレート、ペンタエリス
リトールジマレート、ソルビトールテトラマレー
ト等がある。さらに、前述のエステルの混合物も
あげることができる。
酸とのエステルの具体例としてはアクリル酸エス
テルとして、エチレングリコールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート、
1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラ
メチレングリコールジアクリレート、プロピレン
グリコールジアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、トリメチロールエタント
リアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオー
ルジアクリレート、テトラエチレングリコールジ
アクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエ
リスリトールトリアクリレート、ジペンタエリス
リトールテトラアクリレート、ソルビトールトリ
アクリレート、ソルビトールテトラアクリレー
ト、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビト
ールヘキサアクリレート、ポリエステルアクリレ
ートオリゴマー等がある。メタクリル酸エステル
としては、テトラメチレングリコールジメタクリ
レート、トリエチレングリコールジメタクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレー
ト、トリメチロールエタントリメタクリレート、
エチレングリコールジメタクリレート、1,3−
ブタンジオールジメタクリレート、ペンタエリス
リトールジメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリメタクレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ソルビトールトリメタクリレー
ト、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス−
〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプ
ロポキシ)フエニル〕ジメチルメタン、ビス−
〔p−(アクリルオキシエトキシ)フエニル基〕ジ
メチルメタン等がある。イタコン酸エステルとし
ては、エチレングリコールジイタコネート、プロ
ピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタ
ンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオ
ールジイタコネート、テトラメチレングリコール
ジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコ
ネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。クロトン酸エステルとしては、エチレングリ
コールジクロトネート、テトラメチレングリコー
ルジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロ
トネート、ソルビトールテトラクロトネート等が
ある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレ
ングリコールジイソクロトネート、ペンタエリス
リトールジイソクロトネート、ソルビトールテト
ライソクロトネート等がある。マレイン酸エステ
ルとしては、エチレングリコールジマレート、ト
リエチレングリコールジマレート、ペンタエリス
リトールジマレート、ソルビトールテトラマレー
ト等がある。さらに、前述のエステルの混合物も
あげることができる。
脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸と
のアミドの具体例としては、メチレンビス−アク
リルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、
1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、
1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミ
ド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミ
ド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレン
ビスメタクリルアミド等がある。
のアミドの具体例としては、メチレンビス−アク
リルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、
1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、
1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミ
ド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミ
ド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレン
ビスメタクリルアミド等がある。
その他の例としては、特公昭48−41708号公報
中に記載されている1分子に2個以上のイソシア
ネート基を有するポリイソシアネート化合物に、
下記の一般式()で示される水酸基を含有する
ビニルモノマーを付加せしめた1分子中に2個以
上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化
合物等があげられる。
中に記載されている1分子に2個以上のイソシア
ネート基を有するポリイソシアネート化合物に、
下記の一般式()で示される水酸基を含有する
ビニルモノマーを付加せしめた1分子中に2個以
上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化
合物等があげられる。
CH2=C(R)COOCH2CH(R′)OH ()
(ただし、RおよびR′はHあるいはCH3を示
す。) 本発明の遊離基生成剤を光重合性組成物中の光
重合開始剤として用いる場合、該光重合性組成物
には必要に応じて結合剤を含有させることができ
る。
す。) 本発明の遊離基生成剤を光重合性組成物中の光
重合開始剤として用いる場合、該光重合性組成物
には必要に応じて結合剤を含有させることができ
る。
本発明の光重合性組成物における結合剤として
は、重合可能なエチレン性不飽和化合物および光
重合開始剤に対する相溶性が相成物の塗布液の調
製、塗布および乾燥に至る感光材料の製造工程の
全てにおいて脱混合を起さない程度に良好である
こと、感光層あるいはレジスト層として例えば溶
液現像にせよ剥離現像にせよ像露光後の現像処理
が可能であること、感光層あるいはレジスト層と
して強靭な皮膜を形成し得ることなどの特性を有
することが要求されるが、通常線状有機高分子重
合体より適宜、選択される。結合剤の具体的な例
としては、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロ
ピレン、ポリアクリル酸アルキルエステル(アル
キル基としては、メチル基、エチル基、n−ブチ
ル基、iso−ブチル基、n−ヘキシル基、2−エ
チルヘキシル基など)、アクリル酸アルキルエス
テル(アルキル基は同上)とアクリロニトリル、
塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレン、ブタジ
エンなどのモノマーの少なくとも一種との共重合
体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルとアクリロニト
リルとの共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビ
ニリデンとアクリロニトリルとの共重合体、ポリ
酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリアクリ
ロニトリル、アクリロニトリルとスチレンとの共
重合体、アクリロニトリルとブタジエンおよびス
チレンとの共重合体、ポリメタアクリル酸アルキ
ルエステル(アルキル基としては、メチル基、エ
チル基、n−プロピル基、n−ブチル基、iso−
ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、
2−エチルヘキシル基など)、メタアクリル酸ア
ルキルエステル(アルキル基は同上)とアクリロ
ニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレ
ン、ブタジエンなどのモノマーの少なくとも一種
との共重合体、ポリスチレン、ポリ−α−メチル
スチレン、ポリアミド(6−ナイロン、6,6−
ナイロンなど)、メチルセルロース、エチルセル
ロース、アセチルセルロース、ポリビニルフオル
マール、ポリビニルブチラールなどが挙げられ
る。さらに、水あるいはアルカリ水可溶性有機高
分子重合体を用いると水あるいはアルカリ水現像
が可能となる。このような高分子重合体としては
側鎖にカルボン酸を有する付加重合体、たとえば
メタクリル酸共重合体(たとえば、メタクリル酸
メチルとメタクリル酸との共重合体、メタクリル
酸エチルとメタクリル酸との共重合体、メタクリ
ル酸ブチルとメタクリル酸との共重合体、アクリ
ル酸エチルとメタクリル酸との共重合体、メタク
リル酸とスチレンおよびメタクリル酸との共重合
体など)、アクリル酸共重合体(アクリル酸エチ
ルとアクリル酸との共重合体、アクリル酸ブチル
とアクリル酸との共重合体、アクリル酸エチルと
スチレンおよびアクリル酸との共重合体など)、
さらにはイタコン酸共重合体、クロトン酸共重合
体、部分エステル化マレイン酸共重合体などがあ
り、また同様に側鎖にカルボン酸を有する酸性セ
ルロース誘導体がある。
は、重合可能なエチレン性不飽和化合物および光
重合開始剤に対する相溶性が相成物の塗布液の調
製、塗布および乾燥に至る感光材料の製造工程の
全てにおいて脱混合を起さない程度に良好である
こと、感光層あるいはレジスト層として例えば溶
液現像にせよ剥離現像にせよ像露光後の現像処理
が可能であること、感光層あるいはレジスト層と
して強靭な皮膜を形成し得ることなどの特性を有
することが要求されるが、通常線状有機高分子重
合体より適宜、選択される。結合剤の具体的な例
としては、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロ
ピレン、ポリアクリル酸アルキルエステル(アル
キル基としては、メチル基、エチル基、n−ブチ
ル基、iso−ブチル基、n−ヘキシル基、2−エ
チルヘキシル基など)、アクリル酸アルキルエス
テル(アルキル基は同上)とアクリロニトリル、
塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレン、ブタジ
エンなどのモノマーの少なくとも一種との共重合
体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルとアクリロニト
リルとの共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビ
ニリデンとアクリロニトリルとの共重合体、ポリ
酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリアクリ
ロニトリル、アクリロニトリルとスチレンとの共
重合体、アクリロニトリルとブタジエンおよびス
チレンとの共重合体、ポリメタアクリル酸アルキ
ルエステル(アルキル基としては、メチル基、エ
チル基、n−プロピル基、n−ブチル基、iso−
ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、
2−エチルヘキシル基など)、メタアクリル酸ア
ルキルエステル(アルキル基は同上)とアクリロ
ニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレ
ン、ブタジエンなどのモノマーの少なくとも一種
との共重合体、ポリスチレン、ポリ−α−メチル
スチレン、ポリアミド(6−ナイロン、6,6−
ナイロンなど)、メチルセルロース、エチルセル
ロース、アセチルセルロース、ポリビニルフオル
マール、ポリビニルブチラールなどが挙げられ
る。さらに、水あるいはアルカリ水可溶性有機高
分子重合体を用いると水あるいはアルカリ水現像
が可能となる。このような高分子重合体としては
側鎖にカルボン酸を有する付加重合体、たとえば
メタクリル酸共重合体(たとえば、メタクリル酸
メチルとメタクリル酸との共重合体、メタクリル
酸エチルとメタクリル酸との共重合体、メタクリ
ル酸ブチルとメタクリル酸との共重合体、アクリ
ル酸エチルとメタクリル酸との共重合体、メタク
リル酸とスチレンおよびメタクリル酸との共重合
体など)、アクリル酸共重合体(アクリル酸エチ
ルとアクリル酸との共重合体、アクリル酸ブチル
とアクリル酸との共重合体、アクリル酸エチルと
スチレンおよびアクリル酸との共重合体など)、
さらにはイタコン酸共重合体、クロトン酸共重合
体、部分エステル化マレイン酸共重合体などがあ
り、また同様に側鎖にカルボン酸を有する酸性セ
ルロース誘導体がある。
これらの高分子重合体は、単独で結合剤として
用いてもよいが、二種以上の互いに相溶性が、塗
布液の調製から塗布、乾燥に至る製造工程中に脱
混合を起さない程度に良い高分子重合体を適合な
比で混合して結合剤として用いることができる。
用いてもよいが、二種以上の互いに相溶性が、塗
布液の調製から塗布、乾燥に至る製造工程中に脱
混合を起さない程度に良い高分子重合体を適合な
比で混合して結合剤として用いることができる。
結合剤として用いられる高分子重合体の分子量
は、重合体の種類により広範な値をとりうるが、
一般には5千〜200万、より好ましくは1万〜100
万の範囲のものが好適である。
は、重合体の種類により広範な値をとりうるが、
一般には5千〜200万、より好ましくは1万〜100
万の範囲のものが好適である。
本発明の光重合性組成物に、増感剤を更に含有
させる場合には、一般式()で表わされる光重
合開始剤との併用により光重合速度を増大させる
増感剤が選択される。このような増感剤の具体例
としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、9−フルオレノ
ン、2−クロロ−9−フルオレノン、2−メチル
−9−フルオレノン、9−アントロン、2−ブロ
モ−9−アントロン、2−エチル−9−アントロ
ン、9,10−アントラキノン、2−エチル−9,
10−アントラキノン、2−t−ブチル−9,10−
アントラキノン、2,6−ジクロロ−9,10−ア
ントラキノン、キサントン、2−メチルキサント
ン、2−メトキシキサントン、チオキサントン、
ベンジル、ジベンザルアセトン、p−(ジメチル
アミノ)フエニルスチリルケトン、p−(ジメチ
ルアミノ)フエニルp−メチルスチリルケトン、
ベンゾフエノン、p−(ジメチルアミノ)ベンゾ
フエノン(またはミヒラ−ケトン)、p−(ジエチ
ルアミノ)ベンゾフエノン、ベンズアントロンな
どをあげることができる。これらの化合物のう
ち、ミヒラ−ケトンを用いた場合が特に好まし
い。
させる場合には、一般式()で表わされる光重
合開始剤との併用により光重合速度を増大させる
増感剤が選択される。このような増感剤の具体例
としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、9−フルオレノ
ン、2−クロロ−9−フルオレノン、2−メチル
−9−フルオレノン、9−アントロン、2−ブロ
モ−9−アントロン、2−エチル−9−アントロ
ン、9,10−アントラキノン、2−エチル−9,
10−アントラキノン、2−t−ブチル−9,10−
アントラキノン、2,6−ジクロロ−9,10−ア
ントラキノン、キサントン、2−メチルキサント
ン、2−メトキシキサントン、チオキサントン、
ベンジル、ジベンザルアセトン、p−(ジメチル
アミノ)フエニルスチリルケトン、p−(ジメチ
ルアミノ)フエニルp−メチルスチリルケトン、
ベンゾフエノン、p−(ジメチルアミノ)ベンゾ
フエノン(またはミヒラ−ケトン)、p−(ジエチ
ルアミノ)ベンゾフエノン、ベンズアントロンな
どをあげることができる。これらの化合物のう
ち、ミヒラ−ケトンを用いた場合が特に好まし
い。
さらに、本発明の組成物の製造中あるいは保存
中においてエチレン性不飽和結合を有する重合可
能な化合物の不要な熱重合を阻止するために熱重
合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱重
合防止剤としてはヒドロキノン、p−メトキシフ
エノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピ
ロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、塩化第一銅、フエノチアジン、クロラニー
ル、ナフチルアミン、β−ナフトール、ニトロベ
ンゼン、ジニトロベンゼンなどがある。
中においてエチレン性不飽和結合を有する重合可
能な化合物の不要な熱重合を阻止するために熱重
合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱重
合防止剤としてはヒドロキノン、p−メトキシフ
エノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピ
ロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、塩化第一銅、フエノチアジン、クロラニー
ル、ナフチルアミン、β−ナフトール、ニトロベ
ンゼン、ジニトロベンゼンなどがある。
また場合によつては着色を目的として染料もし
くは顔料、例えばメチレンブルー、クリスタルバ
イオレツト、ローダミンB、フクシン、オーラミ
ン、アゾ系染料、アントラキノン系染料、酸化チ
タン、カーボンブラツク、酸化鉄、フタロシアニ
ン系顔料、アゾ系顔料などを加えてもよい。
くは顔料、例えばメチレンブルー、クリスタルバ
イオレツト、ローダミンB、フクシン、オーラミ
ン、アゾ系染料、アントラキノン系染料、酸化チ
タン、カーボンブラツク、酸化鉄、フタロシアニ
ン系顔料、アゾ系顔料などを加えてもよい。
さらに、本発明の光重合性組成物には必要に応
じて可塑剤を添加することができる。可塑剤の例
としては、ジメチルフタレート、ジエチルフタレ
ート、ジブチルフタレート、ジヘキシルフタレー
ト、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシル
フタレートなどのフタル酸エステル類、ジメチル
グリコールフタレート、エチルフタリルエチルグ
リコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート
などのグリコールエステル類、トリクレジルホス
フエート、トリフエニルホスフエートなどのリン
酸エステル類、ジイソブチルアジペート、ジオク
チルアジペート、ジブチルセバケート、ジブチル
マレートなどの脂肪族二塩基酸エステル類などが
ある。
じて可塑剤を添加することができる。可塑剤の例
としては、ジメチルフタレート、ジエチルフタレ
ート、ジブチルフタレート、ジヘキシルフタレー
ト、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシル
フタレートなどのフタル酸エステル類、ジメチル
グリコールフタレート、エチルフタリルエチルグ
リコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート
などのグリコールエステル類、トリクレジルホス
フエート、トリフエニルホスフエートなどのリン
酸エステル類、ジイソブチルアジペート、ジオク
チルアジペート、ジブチルセバケート、ジブチル
マレートなどの脂肪族二塩基酸エステル類などが
ある。
本発明の光重合性組成物は前述の各種構成成分
を溶媒中に溶解せしめ、適当な支持体上に公知の
方法により塗布して用いられる。次に、この場合
の各種構成成分の好ましい比率をエチレン性不飽
和結合を有する重合可能な化合物100重量部に対
する重量部で表わす。
を溶媒中に溶解せしめ、適当な支持体上に公知の
方法により塗布して用いられる。次に、この場合
の各種構成成分の好ましい比率をエチレン性不飽
和結合を有する重合可能な化合物100重量部に対
する重量部で表わす。
■■■ 亀の甲 [0003] ■■■
本発明の遊離基生成剤は、平版印刷版、IC回
路、フオトマスク製造のための感光性レジスト形
成性組成物に、露光により現像することなく可視
像を与える性能を与える場合に特に有用である。
このような感光性レジスト組成物は露光作業にお
ける黄色安全灯下で、露光のみによつて可視画像
が得られるため、例えば、同時に多くの印刷版を
露光する過程で、例えば仕事が中断された時など
製版者に与えられた版が露光されているかどうか
を知ることが可能となる。
路、フオトマスク製造のための感光性レジスト形
成性組成物に、露光により現像することなく可視
像を与える性能を与える場合に特に有用である。
このような感光性レジスト組成物は露光作業にお
ける黄色安全灯下で、露光のみによつて可視画像
が得られるため、例えば、同時に多くの印刷版を
露光する過程で、例えば仕事が中断された時など
製版者に与えられた版が露光されているかどうか
を知ることが可能となる。
同様に例えば、平版印刷版を作るときのいわゆ
る殖版焼付け法のように一枚の大きさ版に対して
何度も露光を与える場合、作業者はどの部分が露
光済であるかを直ちに確かめることができる。
る殖版焼付け法のように一枚の大きさ版に対して
何度も露光を与える場合、作業者はどの部分が露
光済であるかを直ちに確かめることができる。
本発明の遊離基生成剤が有利に使用できる、露
光により直ちに可視画像を与える感光性レジスト
形成性組成物は必須成分として感光性レジスト形
成性化合物、遊離基生成剤、変色剤および任意に
一つ又は複数の可塑剤、結合剤、変色剤でない染
料、顔料、かぶり防止剤、感光性レジスト形成性
化合物用増感剤等から通常構成される。
光により直ちに可視画像を与える感光性レジスト
形成性組成物は必須成分として感光性レジスト形
成性化合物、遊離基生成剤、変色剤および任意に
一つ又は複数の可塑剤、結合剤、変色剤でない染
料、顔料、かぶり防止剤、感光性レジスト形成性
化合物用増感剤等から通常構成される。
感光性レジスト形成性化合物は露光により、溶
解性、粘着性、基板との接着性、等の物理的性質
の変化する化合物であつて、例えば感光性ジアゾ
化合物、感光性アジド化合物、エチレン性不飽和
結合を有する化合物、光で生じる酸により触媒さ
れる反応をする化合物を含む。
解性、粘着性、基板との接着性、等の物理的性質
の変化する化合物であつて、例えば感光性ジアゾ
化合物、感光性アジド化合物、エチレン性不飽和
結合を有する化合物、光で生じる酸により触媒さ
れる反応をする化合物を含む。
適当な感光性ジアゾ化合物としてはp−ジアゾ
ジフエニルアミンの塩、例えばフエノール塩、フ
ルオロカプリン酸塩、及びトリイソプロピルナフ
タレンスルホン酸、4,4′−ビスフエニルジスル
ホン酸、5−ニトロオルト−トルエンスルホン
酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベ
ンゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン
酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモ
ベンゼンスルホン酸、2−クロロ−5−ニトロベ
ンゼンスルホン酸、2−フルオロカプリルナフタ
レンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン
酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾ
イルベンゼンスルホン酸及びパラトルエンスルホ
ン酸などのスルホン酸の塩などとホルムアルデヒ
ドとの縮合物のように一分子中に二個以上のジア
ゾ基を有する化合物が好ましい。その他好ましい
ジアゾ化合物としては上記の塩を含む2,5−ジ
メトキシ−4−p−トリルメルカプトベンゼンジ
アゾニウムとホルムアルデヒドの縮合物、2,5
−ジメトキシ−4−モルホリノベンゼンジアゾニ
ウムとホルムアルデヒド又はアセトアルデヒドと
の縮合物、などがある。
ジフエニルアミンの塩、例えばフエノール塩、フ
ルオロカプリン酸塩、及びトリイソプロピルナフ
タレンスルホン酸、4,4′−ビスフエニルジスル
ホン酸、5−ニトロオルト−トルエンスルホン
酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベ
ンゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン
酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモ
ベンゼンスルホン酸、2−クロロ−5−ニトロベ
ンゼンスルホン酸、2−フルオロカプリルナフタ
レンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン
酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾ
イルベンゼンスルホン酸及びパラトルエンスルホ
ン酸などのスルホン酸の塩などとホルムアルデヒ
ドとの縮合物のように一分子中に二個以上のジア
ゾ基を有する化合物が好ましい。その他好ましい
ジアゾ化合物としては上記の塩を含む2,5−ジ
メトキシ−4−p−トリルメルカプトベンゼンジ
アゾニウムとホルムアルデヒドの縮合物、2,5
−ジメトキシ−4−モルホリノベンゼンジアゾニ
ウムとホルムアルデヒド又はアセトアルデヒドと
の縮合物、などがある。
さらに、他の有用なジアゾ化合物は、米国特許
第2649373号明細書に記載されているような化合
物を含む。
第2649373号明細書に記載されているような化合
物を含む。
これらは活性光照射によりジアゾ基が分解して
不溶性となるものである。
不溶性となるものである。
一方、活性光照射によりアルカリ可溶性となる
感光性ジアゾ化合物も使用できる。それは一分子
中に少くとも一つのo−キノンジアジド基を有す
る化合物であり、特にo−キノンジアジドのスル
ホン酸エステル又はスルホン酸アミドが好まし
い。このような化合物は、既に数多く知られてい
る。例えば米国特許第3046110号、同第3046111
号、同第3046115号、同第3046119号、同第
3046120号、同第3046121号、同第3046122号、同
第3130047号、同第310048号、同第3188210号、同
第3184310号、同第3130048号、同第3102809号、
同第3148983号、同第3454400号、同第3859099号
などの各明細書中に記載されているものを挙げる
ことができる。
感光性ジアゾ化合物も使用できる。それは一分子
中に少くとも一つのo−キノンジアジド基を有す
る化合物であり、特にo−キノンジアジドのスル
ホン酸エステル又はスルホン酸アミドが好まし
い。このような化合物は、既に数多く知られてい
る。例えば米国特許第3046110号、同第3046111
号、同第3046115号、同第3046119号、同第
3046120号、同第3046121号、同第3046122号、同
第3130047号、同第310048号、同第3188210号、同
第3184310号、同第3130048号、同第3102809号、
同第3148983号、同第3454400号、同第3859099号
などの各明細書中に記載されているものを挙げる
ことができる。
また適当な感光性アジド化合物としてはアジド
基が直接又はカルボニル基又はスルホニル基を介
して芳香環に結合している芳香族アジド化合物で
ある。これらは光によりアジド基が分解して、ナ
イトレンを生じ、ナイトレンの種々の反応により
不溶化するものである。好ましい芳香族アジド化
合物としては、アジドフエニル、アジドスチリ
ル、アジドベンザル、アジドベンゾイル及びアジ
ドシンナモイルの如き基を1個又はそれ以上含む
化合物で、たとえば4,4′−ジアジドカルコン、
4−アジド−4′−(4−アジドベンゾイルエトキ
シ)カルコン、N,N−ビス−p−アジド、ベン
ザル−p−フエニレンジアミン、1,2,6−ト
リ(4′−アジドベンゾキシ)ヘキサン、2−アジ
ド−3−クロロ−ベンゾキノン、2,4−ジアジ
ド−4′−エトキシアゾベンゼン、2,6−ジ
(4′−アジドベンザル)−4−メチルシクロヘキサ
ノン、4,4′−ジアジドベンゾフエノン、2,5
−ジアジド−3,6−ジクロロベンゾキノン、
2,5−ビス(4−アジドスチリル)−1,3,
4−オキサジアゾール、2−(4−アジドシンナ
モイル)チオフエン、2,5−ジ(4′−アジドベ
ンザル)シクロヘキサノン、4,4′−ジアジドフ
エニルメタン、1−(4−アジドフエニル)−5−
フリル−2−ペンタ−2,4−ジエン−1−オ
ン、1−(4−アジドフエニル)−5−(4−メト
キシフエニル)−ペンタ−1,4−ジエン−3−
オン、1−(4−アジドフエニル)−3−(1−ナ
フチル)プロペン−1−オン、1−(4−アジド
フエニル)−3−(4−ジメチルアミノフエニル)
−プロパン−1−オン、1−(4−アジドフエニ
ル−5−フエニル−1,4−ペンタジエン−3−
オン、1−(4−アジドフエニル)−3−(4−ニ
トロフエニル)−2−プロペン−1−オン、1−
(4−アジドフエニル)−3−(2−フリル)−2−
プロペン−1−オン、1,2,6−トリ(4′−ア
ジドベンゾキシ)ヘキサン、2,6−ビス(4−
アジドベンジリジン−p−t−ブチル)シクロヘ
キサノン、4,4′−ジアジドジベンザルアセト
ン、4,4′−ジアジドスチルベン−2,2′−ジス
ルホン酸、4′−アジドベンザルアセトフエノン−
2−スルホン酸、4,4′−ジアジドスチルベン−
α−カルボン酸、ジ−(4−アジド−2′−ヒドロ
キシベンザル)アセトン−2−スルホン酸、4−
アジドベンザルアセトフエノン−2−スルホン
酸、2−アジド−1,4−ジベンゼンスルホニル
アミノナフタレン、4,4′−ジアジド−スチルベ
ン−2,2′−ジスルホン酸アニリド等をあげるこ
とが出来る。
基が直接又はカルボニル基又はスルホニル基を介
して芳香環に結合している芳香族アジド化合物で
ある。これらは光によりアジド基が分解して、ナ
イトレンを生じ、ナイトレンの種々の反応により
不溶化するものである。好ましい芳香族アジド化
合物としては、アジドフエニル、アジドスチリ
ル、アジドベンザル、アジドベンゾイル及びアジ
ドシンナモイルの如き基を1個又はそれ以上含む
化合物で、たとえば4,4′−ジアジドカルコン、
4−アジド−4′−(4−アジドベンゾイルエトキ
シ)カルコン、N,N−ビス−p−アジド、ベン
ザル−p−フエニレンジアミン、1,2,6−ト
リ(4′−アジドベンゾキシ)ヘキサン、2−アジ
ド−3−クロロ−ベンゾキノン、2,4−ジアジ
ド−4′−エトキシアゾベンゼン、2,6−ジ
(4′−アジドベンザル)−4−メチルシクロヘキサ
ノン、4,4′−ジアジドベンゾフエノン、2,5
−ジアジド−3,6−ジクロロベンゾキノン、
2,5−ビス(4−アジドスチリル)−1,3,
4−オキサジアゾール、2−(4−アジドシンナ
モイル)チオフエン、2,5−ジ(4′−アジドベ
ンザル)シクロヘキサノン、4,4′−ジアジドフ
エニルメタン、1−(4−アジドフエニル)−5−
フリル−2−ペンタ−2,4−ジエン−1−オ
ン、1−(4−アジドフエニル)−5−(4−メト
キシフエニル)−ペンタ−1,4−ジエン−3−
オン、1−(4−アジドフエニル)−3−(1−ナ
フチル)プロペン−1−オン、1−(4−アジド
フエニル)−3−(4−ジメチルアミノフエニル)
−プロパン−1−オン、1−(4−アジドフエニ
ル−5−フエニル−1,4−ペンタジエン−3−
オン、1−(4−アジドフエニル)−3−(4−ニ
トロフエニル)−2−プロペン−1−オン、1−
(4−アジドフエニル)−3−(2−フリル)−2−
プロペン−1−オン、1,2,6−トリ(4′−ア
ジドベンゾキシ)ヘキサン、2,6−ビス(4−
アジドベンジリジン−p−t−ブチル)シクロヘ
キサノン、4,4′−ジアジドジベンザルアセト
ン、4,4′−ジアジドスチルベン−2,2′−ジス
ルホン酸、4′−アジドベンザルアセトフエノン−
2−スルホン酸、4,4′−ジアジドスチルベン−
α−カルボン酸、ジ−(4−アジド−2′−ヒドロ
キシベンザル)アセトン−2−スルホン酸、4−
アジドベンザルアセトフエノン−2−スルホン
酸、2−アジド−1,4−ジベンゼンスルホニル
アミノナフタレン、4,4′−ジアジド−スチルベ
ン−2,2′−ジスルホン酸アニリド等をあげるこ
とが出来る。
またこれらの低分子量芳香族アジド化合物以外
にも特公昭44−9047、同44−31837、同45−9613、
同45−24915、同45−25713、公報に記載のアジド
基含有ポリマーも適当である。
にも特公昭44−9047、同44−31837、同45−9613、
同45−24915、同45−25713、公報に記載のアジド
基含有ポリマーも適当である。
適当なエチレン不飽和結合を有する化合物とし
ては、エチレン結合の光二量化反応で架橋しうる
ポリマーおよび、光重合開始剤の存在下、光重合
して不活性ポリマーを与える重合可能な化合物が
含まれる。
ては、エチレン結合の光二量化反応で架橋しうる
ポリマーおよび、光重合開始剤の存在下、光重合
して不活性ポリマーを与える重合可能な化合物が
含まれる。
エチレン不飽和結合を有し光二量化により不溶
化するポリマーとしては、 ■■■ 亀の甲 [0027] ■■■ 基を含むポリエステル類、ポリアミド類、ポリカ
ーボネート類がある。このようなポリマーとして
は例えば米国特許第3030208号及び同第3707373号
の各明細書に記載されているようなポリマー主鎖
に感光基を含む感光性ポリマー、例えばp−フエ
ニシンジアクリル酸とジオールから成る感光性ポ
リエステル、米国特許第2956878号及び同第
3173787号の各明細書に記載されているような感
光性ポリマー、例えばシンナミリデンマロン酸等
の2−プロペリデンマロン酸化合物と2官能性グ
リコール類とから誘導される感光性ポリエステ
ル、米国特許第2690966号、同第2752372号、同第
2732301号の各明細書に記載されているような感
光性ポリマー、例えばポリビニルアルコール、澱
粉、セルロース及びその類似物のような水酸基含
有ポリマーのケイ皮酸エステル類等である。
化するポリマーとしては、 ■■■ 亀の甲 [0027] ■■■ 基を含むポリエステル類、ポリアミド類、ポリカ
ーボネート類がある。このようなポリマーとして
は例えば米国特許第3030208号及び同第3707373号
の各明細書に記載されているようなポリマー主鎖
に感光基を含む感光性ポリマー、例えばp−フエ
ニシンジアクリル酸とジオールから成る感光性ポ
リエステル、米国特許第2956878号及び同第
3173787号の各明細書に記載されているような感
光性ポリマー、例えばシンナミリデンマロン酸等
の2−プロペリデンマロン酸化合物と2官能性グ
リコール類とから誘導される感光性ポリエステ
ル、米国特許第2690966号、同第2752372号、同第
2732301号の各明細書に記載されているような感
光性ポリマー、例えばポリビニルアルコール、澱
粉、セルロース及びその類似物のような水酸基含
有ポリマーのケイ皮酸エステル類等である。
また、重合可能な化合物としては先に示した例
があげられる。
があげられる。
露光のみにより可視像を得ることのできる感光
性レジスト形成性組成物を製造するのに使用され
る変色剤としては、遊離基生成剤の光分解生成物
の作用により、本来無色であるものから有色の状
態に変るものと、本来固有の色をもつものが変色
し又は脱色するものとの2種類がある。
性レジスト形成性組成物を製造するのに使用され
る変色剤としては、遊離基生成剤の光分解生成物
の作用により、本来無色であるものから有色の状
態に変るものと、本来固有の色をもつものが変色
し又は脱色するものとの2種類がある。
前者の形式に属する変色剤の代表的なものとし
てはアリールアミン類を挙げることができる。こ
の目的に適するアリールアミンとしては、第一
級、第二級芳香族アミンのような単なるアリール
アミンのほかにいわゆるロイコ色素が含まれ、こ
れらの例としては次のようなものである。
てはアリールアミン類を挙げることができる。こ
の目的に適するアリールアミンとしては、第一
級、第二級芳香族アミンのような単なるアリール
アミンのほかにいわゆるロイコ色素が含まれ、こ
れらの例としては次のようなものである。
ジフエニルアミン、ジベンジルアニリン、トリ
フエニルアミン、ジエチルアニリン、ジフエニル
−p−フエニレンジアミン、p−トルイジン、
4,4′−ビフエニルジアミン、o−クロロアニリ
ン、o−ブロモアニリン、4−クロロ−o−フエ
ニレンジアミン、o−ブロモ−N,N−ジメチル
アニリン、1,2,3−トリフエニルグアニジ
ン、ナフチルアミン、ジアミノジフエニルメタ
ン、アニリン、2,5−ジクロロアニリン、N−
メチルジフエニルアミン、o−トルイジン、p,
p′−テトラメチルジアミノジフエニルメタン、
N,N−ジメチル−p−フエニレンジアミン、
1,2−ジアニリノエチレン、p,p′,p″−ヘキ
サメチルトリアミノトリフエニルメタン、p,
p′−テトラメチルジアミノトリフエニルメタン、
p,p′−テトラメチルジアミノジフエニルメチル
イミン、p,p′,p″−トリアミノ−o−メチルト
リフエニルメタン、p,p′,p″−トリアミノトリ
フエニルカルビノール、p,p′−テトラメチルア
ミノジフエニル−4−アニリノナフチルメタン、
p,p′,p″−トリアミノトリフエニルメタン、
p,p′,p″−ヘキサプロピルトリアミノトリフエ
ニルメタン。
フエニルアミン、ジエチルアニリン、ジフエニル
−p−フエニレンジアミン、p−トルイジン、
4,4′−ビフエニルジアミン、o−クロロアニリ
ン、o−ブロモアニリン、4−クロロ−o−フエ
ニレンジアミン、o−ブロモ−N,N−ジメチル
アニリン、1,2,3−トリフエニルグアニジ
ン、ナフチルアミン、ジアミノジフエニルメタ
ン、アニリン、2,5−ジクロロアニリン、N−
メチルジフエニルアミン、o−トルイジン、p,
p′−テトラメチルジアミノジフエニルメタン、
N,N−ジメチル−p−フエニレンジアミン、
1,2−ジアニリノエチレン、p,p′,p″−ヘキ
サメチルトリアミノトリフエニルメタン、p,
p′−テトラメチルジアミノトリフエニルメタン、
p,p′−テトラメチルジアミノジフエニルメチル
イミン、p,p′,p″−トリアミノ−o−メチルト
リフエニルメタン、p,p′,p″−トリアミノトリ
フエニルカルビノール、p,p′−テトラメチルア
ミノジフエニル−4−アニリノナフチルメタン、
p,p′,p″−トリアミノトリフエニルメタン、
p,p′,p″−ヘキサプロピルトリアミノトリフエ
ニルメタン。
また本来固有の色を有し、遊離基生成剤の光分
解生成物によりこの色が変色し、又は脱色するよ
うな変色剤としては、ジフエニルメタン、トリフ
エニルメタン系チアジン、オキサジン系、キサン
テン系、アンスラキノン系、イミノナフトキノン
系、アゾメチン系等の各種色素が有効に用いられ
る。
解生成物によりこの色が変色し、又は脱色するよ
うな変色剤としては、ジフエニルメタン、トリフ
エニルメタン系チアジン、オキサジン系、キサン
テン系、アンスラキノン系、イミノナフトキノン
系、アゾメチン系等の各種色素が有効に用いられ
る。
これらの例としては次のようなものである。ブ
リリアントグリーン、エオシン、エチルバイオレ
ツト、エリスロシンB、メチルグリーン、クリス
タルバイオレツト、ベイシツクフクシン、フエノ
ールフタレイン、1,3−ジフエニルトリアジ
ン、アリザリンレツドS、チモールフタレイン、
メチルバイオレツト2B、キナルジンレツド、ロ
ーズベンガル、メタニルイエロー、チモールスル
ホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレ
ンジ、オレンジ、ジフエニルチオカルバゾン、
2,7−ジクロロフルオレセイン、パラメチルレ
ツド、コンゴーレツド、ベンゾプルプリン4B、
α−ナフチルレツド、ナイルブルー2B、ナイル
ブルーA、フエナセタリン、メチルバイオレツ
ト、マラカイトグリーン、パラフクシン、オイル
ブルー#603〔オリエント化学工業(株)製〕、オイル
ピンク#312〔オリエント化学工業(株)製、オイルレ
ツド5B〔オリエント化学工業(株)製〕、オイルスカ
ーレツト#308〔オリエント化学工業(株)製〕、オイ
ルレツドOG〔オリエント化学工業(株)製〕、オイル
レツドRR〔オリエント化学工業(株)製〕、オイルグ
リーン#502〔オリエント化学工業(株)製〕、スピロ
ンレツドBEHスペシヤル〔保土谷化学工業(株)
製〕、m−クレゾールパープル、クレゾールレツ
ド、ローダミンB、ローダミン6G、フアースト
アシツドバイオレツトR、スルホローダミンB、
オーラミン、4−p−ジエチルアミノフエニルイ
ミノナフトキノン、2−カルボキシアニリノ−4
−p−ジエチルアミノフエニルイミノナフトキノ
ン、2−カルボステアリルアミノ−4−p−ジヒ
ドロオキシエチル−アミノ−フエニルイミノナフ
トキノン、p−メトキシベンゾイル−p′−ジエチ
ルアミノ−o′−メチルフエニルイミノアセトアニ
リド、シアノ−p−ジエチルアミノフエニルイミ
ノアセトアニリド、1−フエニル−メチル−4−
p−ジエチルアミノフエニルイミノ−5−ピラゾ
ロン、1−β−ナフチル−4−p−ジエチルアミ
ノフエニルイミノ−5−ピラゾロン。
リリアントグリーン、エオシン、エチルバイオレ
ツト、エリスロシンB、メチルグリーン、クリス
タルバイオレツト、ベイシツクフクシン、フエノ
ールフタレイン、1,3−ジフエニルトリアジ
ン、アリザリンレツドS、チモールフタレイン、
メチルバイオレツト2B、キナルジンレツド、ロ
ーズベンガル、メタニルイエロー、チモールスル
ホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレ
ンジ、オレンジ、ジフエニルチオカルバゾン、
2,7−ジクロロフルオレセイン、パラメチルレ
ツド、コンゴーレツド、ベンゾプルプリン4B、
α−ナフチルレツド、ナイルブルー2B、ナイル
ブルーA、フエナセタリン、メチルバイオレツ
ト、マラカイトグリーン、パラフクシン、オイル
ブルー#603〔オリエント化学工業(株)製〕、オイル
ピンク#312〔オリエント化学工業(株)製、オイルレ
ツド5B〔オリエント化学工業(株)製〕、オイルスカ
ーレツト#308〔オリエント化学工業(株)製〕、オイ
ルレツドOG〔オリエント化学工業(株)製〕、オイル
レツドRR〔オリエント化学工業(株)製〕、オイルグ
リーン#502〔オリエント化学工業(株)製〕、スピロ
ンレツドBEHスペシヤル〔保土谷化学工業(株)
製〕、m−クレゾールパープル、クレゾールレツ
ド、ローダミンB、ローダミン6G、フアースト
アシツドバイオレツトR、スルホローダミンB、
オーラミン、4−p−ジエチルアミノフエニルイ
ミノナフトキノン、2−カルボキシアニリノ−4
−p−ジエチルアミノフエニルイミノナフトキノ
ン、2−カルボステアリルアミノ−4−p−ジヒ
ドロオキシエチル−アミノ−フエニルイミノナフ
トキノン、p−メトキシベンゾイル−p′−ジエチ
ルアミノ−o′−メチルフエニルイミノアセトアニ
リド、シアノ−p−ジエチルアミノフエニルイミ
ノアセトアニリド、1−フエニル−メチル−4−
p−ジエチルアミノフエニルイミノ−5−ピラゾ
ロン、1−β−ナフチル−4−p−ジエチルアミ
ノフエニルイミノ−5−ピラゾロン。
本発明の感光性組成物中で、光活性剤は経時的
に安定であるが、変色剤として用いられるものの
うちロイコトリフエニルメタン色素は一般に酸化
されやすい。そこでこれらの色素を用いるときは
ある種の安定剤を含ませることが有効である。こ
の目的の安定剤としては米国特許3042575号明細
書に記載のアミン類、酸化亜鉛、フエノール類、
同3042516号明細書に記載のイオウ化合物、同
3042518号明細書に記載のアルカリ金属ヨウ化物、
有機酸、同3082086号明細書に記載の有機酸無水
物、同3377167号明細書に記載のアンチモン、ヒ
素、ビスマス、リンのトリアリール化合物が有効
である。
に安定であるが、変色剤として用いられるものの
うちロイコトリフエニルメタン色素は一般に酸化
されやすい。そこでこれらの色素を用いるときは
ある種の安定剤を含ませることが有効である。こ
の目的の安定剤としては米国特許3042575号明細
書に記載のアミン類、酸化亜鉛、フエノール類、
同3042516号明細書に記載のイオウ化合物、同
3042518号明細書に記載のアルカリ金属ヨウ化物、
有機酸、同3082086号明細書に記載の有機酸無水
物、同3377167号明細書に記載のアンチモン、ヒ
素、ビスマス、リンのトリアリール化合物が有効
である。
本発明の感光性組成物は前述の各種構成成分を
溶媒中に溶解せしめ、適当な支持体上に公知の方
法により塗布して用いられる。次に、この場合の
各種構成成分の好ましい比率および特に好ましい
比率を感光性レジスト形成性化合物各100重量部
に対する重量部で表わす。
溶媒中に溶解せしめ、適当な支持体上に公知の方
法により塗布して用いられる。次に、この場合の
各種構成成分の好ましい比率および特に好ましい
比率を感光性レジスト形成性化合物各100重量部
に対する重量部で表わす。
■■■ 亀の甲 [0004] ■■■
本発明の感光性組成物を塗布するときに用いら
れる溶媒としては、エチレンジクロリド、シクロ
ヘキサノン、メチルエチルケトン、酢酸メチルセ
ロソルブ、モノクロルベンゼン、トルエン、酢酸
エチルなどである。
れる溶媒としては、エチレンジクロリド、シクロ
ヘキサノン、メチルエチルケトン、酢酸メチルセ
ロソルブ、モノクロルベンゼン、トルエン、酢酸
エチルなどである。
これらの溶媒は単独又は混合して使用される。
感光性平印刷版を製造する場合、塗布量は、一般
的に固形分として0.1〜10.0g/m2が適当であり、
特に好ましくは0.5〜5.0g/m2である。
感光性平印刷版を製造する場合、塗布量は、一般
的に固形分として0.1〜10.0g/m2が適当であり、
特に好ましくは0.5〜5.0g/m2である。
本発明の感光性組成物は感光性平版印刷版の感
光層として好適である。感光性平版印刷版に適し
た支持体としては、親水化処理したアルミニウム
板、たとえばシリケート処理アルミニウム板、陽
極酸化アルミニウム板、砂目立てしたアルミニウ
ム板、シリケート電着したアルミニウム板があ
り、その他亜鉛板、ステンレス板、クローム処理
銅板、親水化処理したプラスチツクフイルムや紙
を挙げることができる。
光層として好適である。感光性平版印刷版に適し
た支持体としては、親水化処理したアルミニウム
板、たとえばシリケート処理アルミニウム板、陽
極酸化アルミニウム板、砂目立てしたアルミニウ
ム板、シリケート電着したアルミニウム板があ
り、その他亜鉛板、ステンレス板、クローム処理
銅板、親水化処理したプラスチツクフイルムや紙
を挙げることができる。
また印刷用校正版、オーバーヘツドプロジエク
ター用フイルム、第2原図用フイルムの製造に本
発明の感光性組成物を用いる場合、これらに適す
る支持体としてはポリエチレンテレフタレートフ
イルム、三酢酸セルローズフイルム等の透明フイ
ルムや、これらのプラスチツクフイルムの表面を
化学的又は物理的にマツト化したものを挙げるこ
とができる。
ター用フイルム、第2原図用フイルムの製造に本
発明の感光性組成物を用いる場合、これらに適す
る支持体としてはポリエチレンテレフタレートフ
イルム、三酢酸セルローズフイルム等の透明フイ
ルムや、これらのプラスチツクフイルムの表面を
化学的又は物理的にマツト化したものを挙げるこ
とができる。
本発明の感光性組成物をフオトマスク用フイル
ムの製造に使用する場合、好適な支持体としては
アルミニウム、アルミニウム合金やクロムを蒸着
させたポリエチレンテレフタレートフイルムや着
色層を設けたポリエチレンテレフタレートフイル
ムを挙げることができる。
ムの製造に使用する場合、好適な支持体としては
アルミニウム、アルミニウム合金やクロムを蒸着
させたポリエチレンテレフタレートフイルムや着
色層を設けたポリエチレンテレフタレートフイル
ムを挙げることができる。
また本発明の組成物をフオトレジストとして使
用する場合には銅板又は銅メツキ板、ステンレス
板、ガラス板等の種々のものを支持体として用い
ることができる。
用する場合には銅板又は銅メツキ板、ステンレス
板、ガラス板等の種々のものを支持体として用い
ることができる。
本発明による遊離基生成剤が種々の感光性レジ
スト形成性化合物を含む感光性レジスト形成性組
成物中で、光の作用を受けたときに分解して共存
する変色剤を効率よく即座に変色させることは驚
くべきである。結果として鮮明な境界が露光部分
と未露光部分に得られ、コントラストに富んだ可
視像として認識できる。
スト形成性化合物を含む感光性レジスト形成性組
成物中で、光の作用を受けたときに分解して共存
する変色剤を効率よく即座に変色させることは驚
くべきである。結果として鮮明な境界が露光部分
と未露光部分に得られ、コントラストに富んだ可
視像として認識できる。
また、本発明による遊離基生成剤は感光性レジ
スト形成性化合物の光分解をあまり阻害しないの
で感光性レジスト形成性組成物の感光度(レジス
トの感光度)をあまり低下させない。また本発明
による遊離基生成剤は少量の添加量で有効のた
め、感光性レジスト形成性組成物を画像露光、現
像後得られるレジスト画像の物理的諸特性を劣化
しない。たとえば本発明の感光性レジスト形成性
組成物を感光性平版印刷版の感光性層として用い
たときに得られる印刷版の現像性、感脂性、印刷
汚れ、耐刷性などの諸特性は遊離基生成剤未添加
時と同等である。
スト形成性化合物の光分解をあまり阻害しないの
で感光性レジスト形成性組成物の感光度(レジス
トの感光度)をあまり低下させない。また本発明
による遊離基生成剤は少量の添加量で有効のた
め、感光性レジスト形成性組成物を画像露光、現
像後得られるレジスト画像の物理的諸特性を劣化
しない。たとえば本発明の感光性レジスト形成性
組成物を感光性平版印刷版の感光性層として用い
たときに得られる印刷版の現像性、感脂性、印刷
汚れ、耐刷性などの諸特性は遊離基生成剤未添加
時と同等である。
また、本発明の遊離基生成剤は、良好な水素引
抜き剤であり、水素供与体が存在すると酸を生じ
る。したがつて、酸により分解する化合物を共存
させることにより光分解性感光性組成物となる。
酸により分解する化合物の例としては、米国特許
第4101323号、同4247611号、同4248957号、同
4250247号あるいは同4311782号の各明細書に記載
されている。
抜き剤であり、水素供与体が存在すると酸を生じ
る。したがつて、酸により分解する化合物を共存
させることにより光分解性感光性組成物となる。
酸により分解する化合物の例としては、米国特許
第4101323号、同4247611号、同4248957号、同
4250247号あるいは同4311782号の各明細書に記載
されている。
以下、本発明に使用される遊離基生成剤の合成
例と本発明の実施例を記すが本発明はこれに限定
されるものではない。
例と本発明の実施例を記すが本発明はこれに限定
されるものではない。
合成例
2−トリクロロメチル−5−(p−スチルスチ
リル)−1,3,4−オキサジアゾール(例示
化合物No.1)の合成 テレフタルアルデヒド31.8gをメタノール200
mlに溶解し、これにナトリウムメトキシド4.3g
をメタノール60mlに溶解させた溶液を室温にて加
えた。この反応液に、塩化ベンジルトリフエニル
ホスホニウム30.7gをメタノール150mlに溶解さ
せた溶液を室温にて滴下し、さらに室温にて2時
間反応を続けた。多量の水に反応液を投入し、生
成する沈殿を集した。エタノール、水混合溶媒
より再結晶し、スチルベン−4−アルデヒド9.4
gを得た。
リル)−1,3,4−オキサジアゾール(例示
化合物No.1)の合成 テレフタルアルデヒド31.8gをメタノール200
mlに溶解し、これにナトリウムメトキシド4.3g
をメタノール60mlに溶解させた溶液を室温にて加
えた。この反応液に、塩化ベンジルトリフエニル
ホスホニウム30.7gをメタノール150mlに溶解さ
せた溶液を室温にて滴下し、さらに室温にて2時
間反応を続けた。多量の水に反応液を投入し、生
成する沈殿を集した。エタノール、水混合溶媒
より再結晶し、スチルベン−4−アルデヒド9.4
gを得た。
スチルベン−4−アルデヒド9.4g、マロン酸
10.6g、ピリジン30mlおよびピペリジン3mlを
100℃の蒸気浴にて4時間反応させた。反応後、
多量の水に投入し、沈殿物を得た。酢酸にて再結
晶し、p−スチリル桂皮酸11.0gを得た。
10.6g、ピリジン30mlおよびピペリジン3mlを
100℃の蒸気浴にて4時間反応させた。反応後、
多量の水に投入し、沈殿物を得た。酢酸にて再結
晶し、p−スチリル桂皮酸11.0gを得た。
11.0gのp−スチリル桂皮酸と6.6gのp−ニ
トロフエノールを50mlの塩化チオニルと50mlのベ
ンゼン中で1時間加熱還流した。過剰の塩化チオ
ニルとベンゼンを蒸留後得られる固体を水洗した
後乾燥した。実質的に理論量のp−スチリル桂皮
酸p′−ニトロフエニルエステルを得た。
トロフエノールを50mlの塩化チオニルと50mlのベ
ンゼン中で1時間加熱還流した。過剰の塩化チオ
ニルとベンゼンを蒸留後得られる固体を水洗した
後乾燥した。実質的に理論量のp−スチリル桂皮
酸p′−ニトロフエニルエステルを得た。
p−スチリル桂皮酸p′−ニトロフエニルエステ
ル14.8gを80%抱水ヒドラジン7.6gとメタノー
ル75mlの溶液に添加し30分間加熱還流した。反応
液を放冷後水酸化ナトリウム2gを溶解させた水
200mlに注加した。p−スチリル桂皮酸ヒドラジ
ド10.3gが析出した。
ル14.8gを80%抱水ヒドラジン7.6gとメタノー
ル75mlの溶液に添加し30分間加熱還流した。反応
液を放冷後水酸化ナトリウム2gを溶解させた水
200mlに注加した。p−スチリル桂皮酸ヒドラジ
ド10.3gが析出した。
p−スチリル桂皮酸ヒドラジド15.6gをヘキサ
クロロアセトン17.5gとアセトニトリル80mlの溶
液に加え、30分間加熱還流した。反応液を冷却
し、沈殿物を集し、N−p−スチリルシンナモ
イル−N′−トリクロロアセチルヒドラジド22.7g
を得た。
クロロアセトン17.5gとアセトニトリル80mlの溶
液に加え、30分間加熱還流した。反応液を冷却
し、沈殿物を集し、N−p−スチリルシンナモ
イル−N′−トリクロロアセチルヒドラジド22.7g
を得た。
N−p−スチリルシンナモイル−N′−トリク
ロロアセチルヒドラジド22.7gとオキシ塩化リン
150mlを2時間加熱還流後氷水1000gに割り得ら
れる沈殿を酢酸エチル、エタノール混合溶媒より
再結晶して、2−トリクロロメチル−5−(p−
スチリルスチリル)−1,3,4−オキサジアゾ
ール15.2g(融点176.5〜178.5℃)を得た。
ロロアセチルヒドラジド22.7gとオキシ塩化リン
150mlを2時間加熱還流後氷水1000gに割り得ら
れる沈殿を酢酸エチル、エタノール混合溶媒より
再結晶して、2−トリクロロメチル−5−(p−
スチリルスチリル)−1,3,4−オキサジアゾ
ール15.2g(融点176.5〜178.5℃)を得た。
実施例 1
ナイロンブラシで砂目立て後シリケート処理し
たアルミニウム板に回転塗布機を用いて下記感光
液を塗布し、100℃、3分間乾燥し、感光層を形
成させ感光板を作製した。
たアルミニウム板に回転塗布機を用いて下記感光
液を塗布し、100℃、3分間乾燥し、感光層を形
成させ感光板を作製した。
メタクリル酸メチル−メタクリル酸(モル比
85/15)共重合体(MEK中、30℃における極
限粘度0.166) 62g トリメチロールプロパントリアクリレート 38g 一般式()の化合物 2g トリフエニルフオスフエート 10g エチルセロソルブ 650ml 塩化メチレン 350ml 露光は真空焼枠装置を用いて、感光板上にステ
ツプ・ウエツジ(濃度段差0.15。濃度段数0〜15
段)を置き、メタルハライドランプ(0.5kW)を
照射し、露光後下記処方の現像液を用いて現像し
た。
85/15)共重合体(MEK中、30℃における極
限粘度0.166) 62g トリメチロールプロパントリアクリレート 38g 一般式()の化合物 2g トリフエニルフオスフエート 10g エチルセロソルブ 650ml 塩化メチレン 350ml 露光は真空焼枠装置を用いて、感光板上にステ
ツプ・ウエツジ(濃度段差0.15。濃度段数0〜15
段)を置き、メタルハライドランプ(0.5kW)を
照射し、露光後下記処方の現像液を用いて現像し
た。
現像液
リン酸三ナトリウム 25g
リン酸一ナトリウム 5g
ブチルセロソルブ 70g
活性剤 2ml
水 1
現出した画像の対応するステツプ・ウエツジの
最高段数を試料の感度として第1表に示した。段
数が高いほど感度も高いことを意味する。また、
一般式()の遊離基生成剤の無添加時の感度を
比較例(1)として第1表に示した。
最高段数を試料の感度として第1表に示した。段
数が高いほど感度も高いことを意味する。また、
一般式()の遊離基生成剤の無添加時の感度を
比較例(1)として第1表に示した。
■■■ 亀の甲 [0005] ■■■
第1表に示したように、一般式()の遊離基
生成剤を光重合開始剤として用いた場合、極めて
高い感度を示し本発明の所期の効果が十分に認め
られた。
生成剤を光重合開始剤として用いた場合、極めて
高い感度を示し本発明の所期の効果が十分に認め
られた。
実施例 2
実施例1で得たアルミニウム板に次の感光液を
塗布し、感光性印刷版を得た。
塗布し、感光性印刷版を得た。
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 40g
一般式()の化合物(例示化合物No.9) 2g
メタクリル酸ベンジル−メタクリル酸(モル比
73/27)共重合体 60g メチルエチルケトン 400ml メチルセロソルブアセテート 300ml この感光性印刷版をジエツト・プリンター
(2kW超高圧水銀灯、ORC製作所製)にて像露光
した後、下記組成の現像液にて現像すると未露光
部が除去され鮮明が画像が得られた。
73/27)共重合体 60g メチルエチルケトン 400ml メチルセロソルブアセテート 300ml この感光性印刷版をジエツト・プリンター
(2kW超高圧水銀灯、ORC製作所製)にて像露光
した後、下記組成の現像液にて現像すると未露光
部が除去され鮮明が画像が得られた。
無水炭酸ナトリウム 10g
ブチルセロソルブ 5g
水 1
また、未露光の印刷版を強制経時試験(45℃75
%R.H.5日間)した後に露光、現像しても塗布直
後の印刷版と全く同様に鮮明な画像が得られた。
%R.H.5日間)した後に露光、現像しても塗布直
後の印刷版と全く同様に鮮明な画像が得られた。
実施例 3
実施例1で得たアルミニウム板に次の感光液を
塗布し、感光性印刷版を得た。
塗布し、感光性印刷版を得た。
トリメチロールプロパントリメタクリレート
0.30g トリエチレングリコールジアクリレート 0.08g メタクリル酸メチル−アクリル酸エチル−メタ
クリル酸(モル比80/10/10)共重合体 0.62g 一般式()の化合物(例示化合物No.11)
0.02g ロイコクリスタルバイオレツト 0.008g メチルエチルケトン 10g この感光性平版印刷版を画像露光したところ、
コントラストに富んだ焼出し画像が得られた。
0.30g トリエチレングリコールジアクリレート 0.08g メタクリル酸メチル−アクリル酸エチル−メタ
クリル酸(モル比80/10/10)共重合体 0.62g 一般式()の化合物(例示化合物No.11)
0.02g ロイコクリスタルバイオレツト 0.008g メチルエチルケトン 10g この感光性平版印刷版を画像露光したところ、
コントラストに富んだ焼出し画像が得られた。
その後苛性ソーダ1.2g、イソプロピルアルコ
ール300ml、水900mlよりなる現像液により未露光
部を除去することにより平版印刷版を得た。
ール300ml、水900mlよりなる現像液により未露光
部を除去することにより平版印刷版を得た。
実施例 4
表面を砂目立てした厚さ0.15mmのアルミニウム
板に次の感光液をホエラーで塗布し100℃におい
て2分間乾燥をを行ない感光性平版印刷版を作成
した。
板に次の感光液をホエラーで塗布し100℃におい
て2分間乾燥をを行ない感光性平版印刷版を作成
した。
ナフトキノン−(1,2)−ジアジド(2)−5−ス
ルホニルクロリドとピロガロールアセトン樹脂
とのエステル化物 0.75g クレゾールノボラツク樹脂 2.1g テトラヒドロ無水フタル酸 0.15g クリスタルバイオレツト 0.02g 遊離基生成剤(第2表に記載のもの) 0.03g エチレンジクロリド 18g メチルセロソルブ 12g 乾燥後の塗布量は2.2g/m2であつた。
ルホニルクロリドとピロガロールアセトン樹脂
とのエステル化物 0.75g クレゾールノボラツク樹脂 2.1g テトラヒドロ無水フタル酸 0.15g クリスタルバイオレツト 0.02g 遊離基生成剤(第2表に記載のもの) 0.03g エチレンジクロリド 18g メチルセロソルブ 12g 乾燥後の塗布量は2.2g/m2であつた。
これらの感光性平版印刷版をそれぞれ30アンペ
アのカーボンアーク灯で70cmの距離から露光した
後DP−1(商品名:富士写真フイルム株式会社
製、ポジ型PS版用現像液)の6倍希釈液で25℃
において60秒間現像し感度を測定した。この時の
適性露光時間としては光学濃度差0.15のグレース
ケールで5段が完全にクリアーとなる点とした。
アのカーボンアーク灯で70cmの距離から露光した
後DP−1(商品名:富士写真フイルム株式会社
製、ポジ型PS版用現像液)の6倍希釈液で25℃
において60秒間現像し感度を測定した。この時の
適性露光時間としては光学濃度差0.15のグレース
ケールで5段が完全にクリアーとなる点とした。
また経時における露光部と未露光部の感光層の
光学濃度をマクベス反射濃度計を用いて測定し
た。
光学濃度をマクベス反射濃度計を用いて測定し
た。
さらにこれらの感光性平版印刷版を強制経時さ
せた後、上記測定を繰返した。強制経時の条件は
45℃、湿度75%、7日間であつた。
せた後、上記測定を繰返した。強制経時の条件は
45℃、湿度75%、7日間であつた。
露光により得られた画像は露光部の濃度と未露
光部のそれとの間の差(△D)が大きい程、鮮明
にみえる。
光部のそれとの間の差(△D)が大きい程、鮮明
にみえる。
■■■ 亀の甲 [0006] ■■■
第2表より本発明の遊離基生成剤No.1は従来の
ものである、ナフトキノン−1,2−ジアジド−
2−4−スルホニルクロリドに比べて経時性が優
れている。また、2,4−ビス(トリクロロメチ
ル)−6−p−メトキシスチリル−S−トリアジ
ンは経時性の点では本発明の遊離基生成剤No.1と
同様に良好であるが、焼出し性能において若干劣
りレレジスト感度を低下する点においても劣る。
ものである、ナフトキノン−1,2−ジアジド−
2−4−スルホニルクロリドに比べて経時性が優
れている。また、2,4−ビス(トリクロロメチ
ル)−6−p−メトキシスチリル−S−トリアジ
ンは経時性の点では本発明の遊離基生成剤No.1と
同様に良好であるが、焼出し性能において若干劣
りレレジスト感度を低下する点においても劣る。
実施例 5
実施例4で得たアルミニウム板に次の感光液を
塗布し感光性印刷版を得た。
塗布し感光性印刷版を得た。
ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−(2)−5−
スルホニルクロリドとクレゾールノボラツク樹
脂のエステル化反応成物 0.75g クレゾールノボラツク樹脂 2.10g テトラヒドロ無水フタル酸 0.15g 一般式()で示される遊離基生成剤No.17
0.02g クリスタルバイオレツト 0.01g オイルブルー#603(オリエント化学工業株式会
社製) 0.01g エチレンジクロリド 18g メチルセロソルブアセテート 12g 乾燥後の塗布重量は2.2g/m2であつた。この
感光性平版印刷版は画像露光することによつて現
像することなく鮮明な焼出し画像を得ることがで
きた。露光された部分が退色し、露光されなかつ
た部分が元の濃度に保たれたため、安全灯下でも
画像の細部まで認識することができた。
スルホニルクロリドとクレゾールノボラツク樹
脂のエステル化反応成物 0.75g クレゾールノボラツク樹脂 2.10g テトラヒドロ無水フタル酸 0.15g 一般式()で示される遊離基生成剤No.17
0.02g クリスタルバイオレツト 0.01g オイルブルー#603(オリエント化学工業株式会
社製) 0.01g エチレンジクロリド 18g メチルセロソルブアセテート 12g 乾燥後の塗布重量は2.2g/m2であつた。この
感光性平版印刷版は画像露光することによつて現
像することなく鮮明な焼出し画像を得ることがで
きた。露光された部分が退色し、露光されなかつ
た部分が元の濃度に保たれたため、安全灯下でも
画像の細部まで認識することができた。
実施例 6
実施例1で得たアルミニウム板に次の感光液を
塗布し感光性印刷版を得た。
塗布し感光性印刷版を得た。
p−ジアゾジフエニルアミンとパラホルムアル
デヒドの縮合物のp−トルエンスルホン酸塩
0.2g ポリビニルホルマール 0.75g 遊離基生成剤No.1 0.02g N,N−ジメチルアニリン 0.02g メチルセロソルブ 20g メタノール 5g 乾燥塗布量は1.0g/m2であつた。この感光性
平版印刷版を画像露光したところ、露光された部
分が紫色に発色し、露露光されなかつた部分は元
の黄色に保たれたため、安全灯下でも細部まで認
識できる焼出し画像が得られた。
デヒドの縮合物のp−トルエンスルホン酸塩
0.2g ポリビニルホルマール 0.75g 遊離基生成剤No.1 0.02g N,N−ジメチルアニリン 0.02g メチルセロソルブ 20g メタノール 5g 乾燥塗布量は1.0g/m2であつた。この感光性
平版印刷版を画像露光したところ、露光された部
分が紫色に発色し、露露光されなかつた部分は元
の黄色に保たれたため、安全灯下でも細部まで認
識できる焼出し画像が得られた。
実施例 7
実施例1で得たアルミニウム板に次の感光液を
塗布し感光性印刷版を得た。
塗布し感光性印刷版を得た。
p−フエニレンジアクリル酸エチルと等モルの
1,4−ビス(β−ヒドロキシエトキシ)シク
ロヘキサンとの縮合で合成されたポリエステル
0.5g 2−ベンゾイルメチレン−3−メチル−β−ナ
フトチアゾリン 0.03g 遊離基生成剤No.1 0.008g ロイコクリスタルバイオレツト 0.008g モノクロルベンゼン 9g エチレンジクロリド 6g 乾燥後の塗布重量は1.2g/m2であつた。
1,4−ビス(β−ヒドロキシエトキシ)シク
ロヘキサンとの縮合で合成されたポリエステル
0.5g 2−ベンゾイルメチレン−3−メチル−β−ナ
フトチアゾリン 0.03g 遊離基生成剤No.1 0.008g ロイコクリスタルバイオレツト 0.008g モノクロルベンゼン 9g エチレンジクロリド 6g 乾燥後の塗布重量は1.2g/m2であつた。
この感光性平版印刷版を画像露光したところ、
露光された部分が紫色に発色し、露光されなかつ
た部分は、元の黄色に保たれたため安全灯下でも
細部まで認識できる焼出し画像が得られた。
露光された部分が紫色に発色し、露光されなかつ
た部分は、元の黄色に保たれたため安全灯下でも
細部まで認識できる焼出し画像が得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 下記一般式()で示される2−ハロメチル
−5−置換−1,3,4−オキサジアゾール化合
物を含有する感光性組成物。 ■■■ 亀の甲 [0003] ■■■ ここで、Aは置換されたまたは無置換の芳香族
残基を、Xは水素原子、シアノ基、アルキル基ま
たはアリール基を、Yは塩素原子または臭素原子
を、nは1〜3の整数を表わす。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59034080A JPS60177340A (ja) | 1984-02-24 | 1984-02-24 | 感光性組成物 |
DE19853506274 DE3506274A1 (de) | 1984-02-24 | 1985-02-22 | Lichtempfindliche zusammensetzung |
US06/705,265 US4701399A (en) | 1984-02-24 | 1985-02-25 | Photosensitive composition with 2-halomethyl-5-substituted-1,3,4-oxadiazole |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59034080A JPS60177340A (ja) | 1984-02-24 | 1984-02-24 | 感光性組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60177340A JPS60177340A (ja) | 1985-09-11 |
JPH0342655B2 true JPH0342655B2 (ja) | 1991-06-27 |
Family
ID=12404280
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59034080A Granted JPS60177340A (ja) | 1984-02-24 | 1984-02-24 | 感光性組成物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4701399A (ja) |
JP (1) | JPS60177340A (ja) |
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-
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- 1984-02-24 JP JP59034080A patent/JPS60177340A/ja active Granted
-
1985
- 1985-02-22 DE DE19853506274 patent/DE3506274A1/de active Granted
- 1985-02-25 US US06/705,265 patent/US4701399A/en not_active Expired - Lifetime
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