JPH0341895B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は塗布法により磁気記録層を非磁性帯状
支持体上に設ける磁気記録媒体の製造法に関し、
さらに詳しくは上記磁気記録層中の強磁性微粒子
の配向を無秩序化するデイスク状あるいはシート
状の磁気記録媒体の製造法に関するものである。 一般に、フレキシブル磁気デイスクや磁気シー
トは、帯状の非磁性支持体（例えば、ポリエチレ
ンテフタレート、トリアセチルセルロース、ジア
セチルセルロース、塩化ビニリデン、ポリプロピ
レン等）をこの支持体の長手方向に連続移送しつ
つ溶剤により溶解された結合剤（例えば塩化ビニ
ル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニルアクリロニト
リル共重合体、アクリル酸エステルアクリロニト
リル共重合体、アクリル酸エステル塩化ビニリデ
ン共重合体、その他のアクリル酸との共重合体、
ウレタンエラストマー、ナイロン−シリコーン系
樹脂、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩化
ビニリデンアクリロニトリル共重合体、ポリアミ
ド樹脂、ポリビニルブラチラール、セルロース誘
導体、スチレンブタジエン共重合体、フエノール
樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、尿素樹脂、
メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、クロロビニル
エーテルアクリル酸エステル共重合体、メタクリ
ル酸塩共重合体とジイソシアネートブレンドポリ
マー、アミノ樹脂、各種合成ゴム等）中に分散さ
れた強磁性微粒子（例えば、γ−Fe₂O₃、Fe₃O₄、
Coをドープしたγ−Fe₂O₃及びFe₃O₄、CrO₂等）
をトツプリバースコート、ボトムリバースコー
ト、ドクターコート、グラビアコート、等の既知
塗布方法により塗着し、乾燥固化して製造されて
いるが、製造中に強磁性微粒子が特定方向に配列
されて磁気記録媒体に異方性が生ずると種々の方
向に対する磁気特性および電磁気特性にも異方性
が生ずる。 磁気粒子の配列が塗布方向に沿い、かつ磁気記
録媒体が磁気デイスクの場合、塗布方向の再生出
力信号が他方向のそれに比して高くなり、その結
果磁気デイスクから読み取られる再生出力信号レ
ベルは磁気デイスクの回転に従つて変化する。 （一般にモジユレーシヨンと称されるものであ
る。） 従つて、例えば、回転させて使用するフレキシ
ブル磁気デイスクを製造する場合、強磁性微粒子
が直線的に方向性を有さないように一般的磁気テ
ープの製造プロセスにおいて、磁性粒子の配向を
物理的に除去することによりあるいは磁界を遮蔽
することにより製造されているが、このような手
段を用いても塗布時の流動配向により依然として
塗布方向に直線的方向性が発生しその結果再生出
力レベルの変動が発生する問題が残されていた。 かゝる塗布直後の流動配向を消去するため、特
開昭53−104206号公報あるいは特開昭54−149607
号公報に開示されている様な、第１の配向磁場で
一方向に配向処理を行つた後、前記第１の配向磁
場よりも弱く、かつ配向方向が逆の第２の配向磁
場により処理する方法、あるいは装置が夫々提案
されている。 しかしながら、前述した従来方法あるいは装置
は、各配向磁場から生ずる夫々独立した磁力線を
用い、しかも第１及び第２の配向磁場のみにより
配向処理するので、無配向化作用が断続化し、か
つ比較的短時間で終了してしまい、無配向化が充
分達成されないことがあつた。 本発明者等は、前述した無配向化作用の断続化
防止及び適当な磁場強度パターンについて、鋭意
研究を重ねた結果、本発明方法の実用化を達成す
るに至つたものである。 本発明の目的は、前述した従来技術の欠点を解
消し、比較的シンプルな無配向化処理方法を提供
するものである。 本発明のかゝる目的は、 連続的に移送される非磁性帯状支持体の一方の
表面に塗着せしめた磁性塗布層を： 未硬化中に： 上下両端に磁極を有する少なくとも５個以上の
磁石を、前記支持体の塗布層面側又は反塗布層面
側で該支持体の移送方向に所定の間隔をもつて連
設するとゝもに、前記支持体に対向する前記各磁
石の磁極を交互に異なつた磁性として配置し、前
記各磁石の磁場強度を前記支持体の移送方向に漸
減するように設定して、隣接する前記磁石間に前
記塗布層面に略平行しかつ互に逆方向の磁力線を
実効上連続して発生可能な無配向化手段： により、前記塗布層中に含まれる強磁性体微粒子
を一方向配向から無配向化することを特徴とする
磁気記録媒体の製法により達成される。 以下、本発明方法の一実施態様について、添付
した図面に基づき説明する。 第１図は本発明方法を実施するための無配向化
手段全体を示す略図であり、一方々向に連続して
移送される非磁性帯状支持体２０は、その一方の
表面に前述した既知の塗布手段（図示せず）によ
り磁性塗液を均一な厚さに塗着されて磁性塗布層
２１を形成しながら、無配向化手段１０を通過し
て、乾燥手段（図示せず）に入る。 前記無配向化手段１０は、例えば希土類コバル
ト系、アルニコ系、Ba−フエライト系磁石、等
から成り、その上下両端に磁極を有する各磁石
１，２，３，４，５，…ｎを、前記支持体２０の
塗布面側で該支持体２０の移送方向Ａに所定の間
隔をもつて連設して成つている。 前記無配向手段１０の各磁石１〜ｎの更に詳し
い構成を記せば次の通りである。 先ず、前記各磁石１〜ｎは、前記塗布層面に対
向せしめた磁極を、交互に異なつた極性即ち…
Ｎ、Ｓ、Ｎ、Ｓ…として配置される。 次に、前記客磁石１〜ｎ間の間隔は、隣接する
前記各磁石間に、前記塗布層面に略平行しかつ互
に逆方向の磁力線ａ，ｂ，ｃ，ｄ…ｍが実効上連
続して発生可能な距離に設定される。 前述した実効上連続する磁力線とは、第２図に
示したように、従来の各磁石３０，３１から生ず
るような独立した磁力線３２〜３５による無磁場
３６の存在が、無配向作用上、実効的に零に等し
いかあるいは零に近い状態を言う。 前記間隔は、各磁石１〜ｎの磁場強度、等の条
件により適宜設定されるが、通常、５cm〜25cmの
範囲内に設定する。 又、前記各磁石１〜ｎの磁場強度は、前記支持
体２０の移送方向Ａに沿つて漸減するように設定
される。 前記磁場強度の漸減設定値は、強磁性微粒子の
種類、抗磁力、等によつて多少変わるが、通常、
前記第１の磁石１の磁場強度を400〜80ガウス、
前記第２の磁石以降２〜ｎの磁場強度を夫々10〜
70ガウスずつ減じて設定される。 なお、前記無配向化手段１０における磁石の個
数は、少なくとも５個以上設けることが望まし
い。 以上、記述したように構成される前記無配向化
手段１０を通過し始めた前記支持体２０は、先ず
前記第１の磁石１の独立した磁力線a′により最も
強くその塗布層２１が前記支持体２０の長手方向
に磁場配向される。 なお、前記独立した磁力線a′が作用する領域が
比較的小さく、かつ前記塗布層２１の流動性が可
成り高いので、前記磁力線a′による初期磁場配向
の配向戻りは、従来方法のものと同じ程度に生じ
るが、しかしながら、前記独立した磁力線a′から
若干の間隙をおき、それ以後、実効上連続して発
生し、かつそれら磁場強度が前記支持体２０の移
送方向Ａに漸減する前記磁力線群ａ〜ｍの交互に
逆方向の配向作用を間断なく受けた前記塗布層２
１内の強磁性微粒子は、前記初期配向後の配向戻
りを起すことなく、逆向きの各磁力線によりそれ
ら配向方向の反転をくり返すことになるが、前述
した磁場強度の漸減パターンに対応して、前記配
向方向の反転が鈍り、前記支持体２０の長手方向
に対しある角度をもつてその配向が停止する微粒
子が次第に増加して来る。 前述した配向の停止は、前記塗布層２１の硬化
の進行も当然に寄与しているものと推察される。 やがて、前記第５の磁石５を通過した前記塗布
層２１は、当初の支持体２０の長手方向に沿つた
配向が、ランダム化即ち無配向化される。 なお、前記塗布層２１の塗布速度、塗布厚味、
塗液粘度、等の条件によつて若干無配向化に不足
が認められる場合、前記第５の磁石５以後に適宜
磁石の個数を前述した間隔及び磁場強度漸減パタ
ーンに従つて増加させ最後の磁石ｎを設定すれば
良い。 前記最後の磁石ｎを独立した磁力線m′は、前
記磁石ｎ自体の磁場強度が前従した漸減パターン
に従つて可成り弱く設定されていることゝ、前記
塗布層２１の硬化が進行していること、更にその
磁力m′自体の作用領域が小さいこと、等によつ
て既に無配向化が完了した前記塗布層２１を、前
記支持体２０の長手方向に配向し直すような影響
力を示さない。なお、塗布層面側に磁石を設けた
例をあげたが、反塗布面側に設けても十分達成出
来る。 以上、記述した本発明方法は、次に掲げるよう
な新規な効果を奏する。 即ち、本発明方法は、連続的に移送される非磁
性帯状支持体の一方の表面に塗着せしめた磁性塗
布層を、未効硬化中に、上下両端に磁極を有する
少なくとも５個以上の磁石を、前記支持体の塗布
層面側又は反塗布層面側で該支持体の移送方向に
所定の間隔をもつて連設するとゝもに、前記塗布
層面又は反塗布層面に対向する前記各磁石の磁極
を交互に異なつた極性として配置し、前記各磁石
の磁場強度を前記支持体の移送方向に漸減するよ
う設定して、隣接する前記磁石間に前記塗布層面
に略平行しかつ互に逆標方向の磁力線を実効上連
続して発生可能な無配向化手段により、前記塗布
層中に含まれる強磁性微粒子を一方向配向から無
配向化するので、前記微粒子の配向戻りを起すこ
となく効率良く無配向化することが可能となり、
磁場配向処理全体を比較的コンパクトにまとめる
ことが出来、従つて前述した従来磁気デイスクの
ようなモジユレーシヨンの発生を防止し、かつ無
配向化処理工程の煩雑化を抑制できる。 次に、本発明の新規な効果を実施例によつて一
層明確にする。 実施例 先ず、厚さが75μｍのポリエチレンテレフタレ
ートから成る支持体の片面に、下記液組成の磁性
塗液の、ドクタブレード法により40ｍ／minの速
度で、厚さ3μｍ（乾燥後の厚さ）に塗着しなが
ら、希土類コバルト磁石を夫々13cmの間隔で、前
記塗布面側に連設して成る無配向手段（磁石の取
付個数及び各磁石の磁場強度は表−１を参照され
たい。）を通過させ、前記塗液中に含まれる強磁
性微粒子の無配向化を図つた。その後、得られた
各試料について、塗布方向即ち支持体の長手方向
の角型比１１（残留磁束密度／最大磁束密度）
と、塗布直角方向即ち支持体の幅方向の角形比⊥
を夫々測定し、配向度比（⊥／11）を求めた。 ＜液組成＞ 磁性体 γ−Fe₂O₃ 400部（重量） 結合剤 ポリウレタン（ニツポラン3022）
60部 〃 塩化ビニル酢酸ビニル共重合体（VMCH）
40部（重量部） 分散剤 レシチン ６部 〃 潤滑剤 ステアリン酸 ５部 〃 カーボン 30部 〃 溶 剤 メチルエチルケトン 500部 〃 メチルイソブチルケトン 200部 〃 シクロヘキサノン 200部〃 の組成からなり、粘度は30psであつた。 その結果は、表−１の通りであつた。 なお、電磁気特性上、配向度比は0.95以上が好
ましいものとされている。 表−１の配向度比から、本発明方法即ち磁石を
５個以上狭い間隔で連設したもの（試料No.１、
２、７、12、13、）は磁石を最高４個まで連設し
たもの（試料No.３、４、５、８、９、10、11、
14、15、16、17、）よりも配向度比が優れている
即ち無配向化が進められていることが確認でき
た。 なお、前記表−１の試料３、４、５、８、９、
10、11、14、15、16、17、の磁石条件の内、各磁
石の間隔を更に広く例えば25〜30cmに設定する
と、前記配向度比が更に低下する即ち、無配向化
が不充分となることは、理解されるであろう。

【表】

【表】 【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明方法を実施するための無配向
化手段の略図、第２図は従来の無配向化手段の要
部略図である。 １，２，３，４，５…ｎは磁石、１０は無配向
化手段、２０は支持体、２１は塗布層、ａ，ｂ，
ｃ，ｄ…ｍは磁力線、３６は無磁場である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 連続的に移送される非磁性帯状支持体の一方
   の表面に塗着せしめた磁性塗布層を： 未硬化中に： 上下両端に磁極を有する少なくとも５個以上の
   磁石を、前記支持体の塗布層面側又は反塗布層面
   側で該支持体の移送方向に所定の間隔をもつて連
   設するとゝもに、前記支持体に対向する前記各磁
   石の磁極を交互に異なつた極性として配置し、前
   記各磁石の磁場強度を前記支持体の移送方向に漸
   減するように設定して、隣接する前記磁石間に前
   記塗布層面に略平行しかつ互に逆方向の磁力線を
   実効上連続して発生可能な無配向化手段： により、前記塗布層中に含まれる強磁性体微粒子
   を一方向配向から無配向化することを特徴とする
   磁気記録媒体の製法。