JPH0339994B2

JPH0339994B2 -

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Publication number: JPH0339994B2
Application number: JP61085999A
Authority: JP
Priority date: 1986-04-16
Filing date: 1986-04-16
Publication date: 1991-06-17
Also published as: JPS62246882A

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）この発明は、表面を釉薬によつて化粧されたセ
ラミツク発泡体の製造方法と製造装置に関する。

（従来の技術）周知のように、セラミツク発泡体は、火山灰や
ガラス等の粉末に発泡剤を混ぜ合わせ、これを加
熱発泡させて製造される。

上記セラミツク発泡体は、軽量で耐久性に富
み、外壁材等の建築材料として採用されている。

セラミツク発泡体を建築材料として使用する場
合には、一般に、セラミツク発泡体の表面に釉薬
で化粧を施し、見栄えを向上させるとともに、耐
水性、耐候性を更に向上させている。

従来のセラミツク発泡体表面への釉薬化粧処理
方法としては、加熱発泡して製造されたセラミツ
ク発泡体を一旦冷却し、その後、表面に釉薬を塗
つて再び加熱し、釉薬をセラミツク発泡体に焼き
付ける方法が一般的であつた。

（発明が解決しようとする問題点）しかしながら、上記従来の方法においては、発
泡させるための加熱と、釉薬を焼き付けるための
加熱とを二段に別けて行つているので、燃料の損
失が大きく不経済であるばかりでなく、製造工程
が複雑でもあつた。

（問題点を解決するための手段）この発明は上記問題点を解消するためになされ
たもので、その要旨は、セラミツク発泡体の原料
をコンベアに載せ、その原料を発泡させる加熱炉
を通過させてセラミツク発泡体を製造する方法に
おいて、冷却された粉状の釉薬を加熱炉内で発泡
体表面に散布し、加熱炉内の熱により加熱炉内に
おいて上記釉薬を焼き付けることを特徴とするセ
ラミツク発泡体の製造方法にある。

もう１つの発明の要旨は、セラミツク発泡体の
原料をコンベアに載せ、その原料を発泡させる加
熱炉を通過させてセラミツク発泡体を製造する装
置において、上記加熱炉の出口近傍に粉状釉薬を
上記発泡体の表面に散布する散布装置が設けられ
ており、散布装置は加熱炉内に挿入されて上記コ
ンベアの搬送方向に直交してほぼ水平に配置され
た釉薬供給管を有し、この供給管は冷却用流体通
路を有し、供給管の加熱炉外に位置する基部には
ホツパが設けられ、供給管の内部にはスクリユウ
が回転自在に設けられ、供給管の側部には上記基
部側から先部側に下り勾配のスリツトが形成され
ていることを特徴とするセラミツク発泡体の製造
装置にある。

更にもう一つの発明の要旨は、セラミツク発泡
体の原料をコンベアに載せ、その原料を発泡させ
る加熱炉を通過させてセラミツク発泡体を製造す
る装置において、上記加熱炉の出口近傍に粉状釉
薬を上記発泡体の表面に散布する散布装置が設け
られており、散布装置は、加熱炉の上壁部におい
て上記コンベアの搬送方向に直交してほぼ水平に
配置された長いホツパを有し、このホツパは冷却
用流体通路を有し、ホツパの下部に形成された散
布口が上記加熱炉内に開口され、ホツパの内部に
は外周面に多数の毛を有するローラが上記散布口
に沿つて回転自在に設けられていることを特徴と
するセラミツク発泡体の製造装置にある。

（作用）本発明の方法では、原料は加熱炉内で加熱発泡
され、セラミツク発泡体にされ、更に、この加熱
炉内において、冷却された粉状の釉薬が上記セラ
ミツク発泡体の表面に散布される。釉薬は加熱炉
内の熱によつてセラミツク発泡体に焼き付けられ
る。したがつて、加熱炉の熱によつて原料の発泡
と釉薬の焼き付けとを同一の加熱炉内において連
続して行うことができ、経済的であり、製造工程
も簡略化される。又、釉薬は冷却によつて紛状を
維持され安定して散布される。

又、本発明の装置では、釉薬はスクリユウによ
り供給管内を移送され、スリツトからセラミツク
発泡体の表面に均一に散布される。又、釉薬は散
布装置内で冷却されて紛状が維持される。

もう一つの本発明の装置では、釉薬はローラの
毛によつて一定量ずつ均一にセラミツク発泡体の
表面に散布される。又、釉薬は散布装置内で冷却
されて紛状が維持される。

（実施例）以下、この発明の一実施例を第１図から第３図
までの図面に基づいて説明する。

第１図において、符号１はセラミツク発泡体製
造装置であり、セラミツク発泡体製造装置１はコ
ンベア２を有している。

コンベア２はステンレス等の耐熱性金属製の目
の細かい網体からなるコンベアベルト２ａを有し
ており、コンベアベルト２ａは下側を走行する際
に、塗布装置３により表面に離型剤４が塗布され
るようになつている。

上記離型剤としては、酸化アルミニウム粉末や
珪砂粉末等が使用される。

コンベア２の上方には、コンベアベルト２ａの
始端側に原料ホツパ５が配置されており、セラミ
ツク発泡体の原料６はこの原料ホツパ５から上記
コンベアベルト２ａ上に均一な厚さに連続的に供
給される。

上記セラミツク発泡体の原料６としては、特公
昭51−28290号公報に開示されているような火山
岩や火山灰を主成分とし、これに発泡剤をを混ぜ
たもの、あるいは、特開昭50−119818号公報、特
開昭54−125226号公報、特公昭56−41583号公報
に開示されているようなガラスを主成分とし、こ
れに発泡剤を混ぜたもの等が使用される。

コンベアベルト２ａは上側を走行する際に、順
次、加熱炉７、徐冷炉８を通過するようになつて
いる。

上記加熱炉７の出口近傍には、粉状の釉薬９用
の散布装置１０が設けられている。

散布装置１０は、第２図に示すように、釉薬供
給管１１を有し、釉薬供給管１１は加熱炉７の両
側壁を貫通して加熱炉７内に挿入され、コンベア
２の搬送方向と直交してほぼ水平に配置されてい
る。

釉薬供給管１１は内管１１ａと外管１１ｂとを
有して二重管構造をなし、これら内管１１ａと外
管１１ｂとの間には、冷却用空気（冷却用流体）
が流れる通路１２が形成されている。

釉薬供給管１１の基部及び先部は加熱炉７から
突出しており、端板１１ｃ，１１ｄにより閉塞さ
れている。

釉薬供給管１１の基部にはホツパ１３が設けら
れている。このホツパ１３は内管１１ａに連通し
ている。

釉薬供給管の内管１１ａの内部にはスクリユウ
１５が回転自在に挿入されている。スクリユウ１
５のシヤフト１５ａは上記供給管１１の端板１１
ｃを貫通して外部に突出し、プーリ１６を介して
図示しない駆動装置に連結されている。

上記外管１１ｂは基部側に空気入口１８を有
し、先部側に空気出口１９を有しており、冷却用
空気は空気入口１８から通路１２を通つて空気出
口１９から排気されるようになつている。

又、釉薬供給管１１の側部には、スリツト２０
が形成されており、スリツト２０は釉薬供給管１
１の基部側から先部側に向けて下り勾配をなして
いる。

上述構成において、コンベアベルト２ａに載せ
られた原料６は加熱炉７内に搬送され、ここで加
熱されて発泡し、セラミツク発泡体３０にされ
る。

上記セラミツク発泡体３０の表面には、加熱炉
７内において散布装置１０から釉薬９が散布され
る。

即ち、釉薬９はホツパ１３から釉薬供給管１１
へ供給され、回転するスクリユウ１５によつて釉
薬供給管１１の先部へ送られる。

上記釉薬供給管１１内において、釉薬９が先部
側に移送されるに従つて、釉薬９の高さが低くな
つていくが、スリツト２０も同様に基部側から先
部側に向けて下り勾配になつているので、スリツ
ト２０のどの位置からもほぼ同量の釉薬９が散布
されるようになる。

したがつて、セラミツク発泡体３０の表面に
は、その幅方向について釉薬９がほぼ均一に散布
される。

しかも、セラミツク発泡体３０はコンベア２に
よつて一定速度で送られてくるので、釉薬９が全
面に亙つてほぼ均一に散布される。

又、釉薬供給管１１が二重管の断熱構造になつ
ており、通路１２には常に冷却用空気が流れてい
て、釉薬９を冷却しているので、釉薬９はセラミ
ツク発泡体３０の表面に落下するまでは溶融する
ことはない。

ここで仮に、釉薬９を冷却していないと、釉薬
９は散布される以前に釉薬供給管１１内で、ある
いはスリツト２０から散布される際に溶融するこ
とがあり、そのような場合には、溶融した釉薬が
スリツト２０の一部を閉塞したり、あるいは大き
な液滴となつて落下する。このため、散布が不均
一になるという不都合が生じる。また、散布され
るまでの間に溶融しない場合であつても、セラミ
ツク発泡体３０の表面に落下するまでの間に溶融
することがあり、そのような場合には、加熱炉内
の雰囲気の対流によつて溶融した釉薬どうしがぶ
つかり合つて大きな液滴となり、セラミツク発泡
体の表面に落下する。この結果、散布が不均一に
なるのみならず、釉薬の層の厚さが不均一になる
という不都合がある。なお、釉薬９として溶融温
度の高いものを用いれば、そのような不都合を生
じさせないことも可能であるが、そのようにする
場合には当然のことながら溶融温度の低い釉薬を
用いることができなくなり、使用し得る釉薬の種
類が少なくなつてしまう。

この点、この製造装置においては、釉薬９を冷
却しているので、上記のような不都合をいずれも
解消することができる。

そして、釉薬９はセラミツク発泡体３０の表面
に落下した後、加熱炉７内の熱によつて溶融さ
れ、セラミツク発泡体３０に焼き付けられる。

このようにして表面に釉薬９を焼き付けられた
セラミツク発泡体３０は、徐冷炉８へ送られて所
定温度迄除冷され製品となる。

第４，５図は他のセラミツク発泡体製造装置
１′を示すものであり、第１図と同一態様部分に
ついては同一符号を付して説明を省略する。

符号１０′は散布装置であり、散布装置１０′は
断面逆ハの字形の細長いホツパ２１を有し、ホツ
パ２１は内壁２１ａと外壁２１ｂとを有して二重
壁構造をなしており、これら内壁２１ａと外壁２
１ｂとの間に冷却用空気の通路１２′が形成され
ている。

又、ホツパ２１はその両側に空気入口１８と空
気出口１９を有し、ホツパ２１の下部は散布口２
２とされている。

ホツパ２１の内部には、上記散布口２２の真上
に沿つてローラ２３が配置されている。

ローラ２３の外周面には多数の毛２４が植毛さ
れており、このローラ２３は図示しない駆動装置
に連結されて回転自在にされている。

上記散布装置１０′は加熱炉７の出口近傍に設
置され、ホツパ２１をコンベアベルト２ａの搬送
方向に直交させ、散布口２２を加熱炉７内に開口
させている。

上記散布装置１０′においても、釉薬９は冷却
用空気により冷却され、粉状が維持される。そし
て、釉薬９は多数の毛２４によつて落下を規制さ
れつつローラ２３の回転に伴つて毛２４により一
定量ずつ送り出され、散布口２２からセラミツク
発泡体３０の表面に均一に散布される。

釉薬９は原料６の発泡温度より50〜100℃程度
低い温度、好ましくは70℃程度低い温度で焼き付
けられる材料を選択する。

実際に、第１図〜第３図に示す製造装置１にお
いて、発泡温度950℃の原料６と、880℃で焼き付
けられる釉薬９を用いたところ、良好な表面を有
するセラミツク発泡体３０が得られた。又、同様
に第４図、第５図に示す製造装置１′において、
発泡温度800℃の原料６と、730℃で焼き付けられ
る釉薬９を用いたところ、良好な表面を有するセ
ラミツク発泡体３０が得られた。

尚、明細書中、加熱炉の出口近傍とは加熱炉内
において原料の発泡がほぼ終了する位置から出口
までの部位を意味する。

この発明は上記実施例に制約されず種々の態様
が可能である。例えば、冷却用流体は空気以外で
あつてもよい。

（発明の効果）以上説明したように、この発明の方法によれ
ば、原料の加熱発泡と、釉薬の焼き付けとを同一
の加熱炉内において連続的に行うことができ、セ
ラミツク発泡体の製造工程が簡略化される。

しかも、釉薬の焼き付けは加熱炉内の熱によつ
て行うことができるので、極めて経済的に製造さ
れ、製造コストが低減される。

又、釉薬は冷却されることによりセラミツク発
泡体の表面に落下するまで粉状を維持するので、
散布が不均一になつたり、あるいは焼き付けられ
た釉薬の層の厚さが不均一になつたりするのを防
止することができる。更に、釉薬が冷却されてい
るので、溶融温度の低い釉薬を用いることがで
き、使用することができる釉薬の範囲を広げるこ
とができる。

さらに、本発明の装置によれば、上記の効果に
加え、釉薬が散布装置の内部で溶融して散布口を
閉塞したり、あるいは大きな液滴となつて落下す
るのを防止することができる。したがつて、釉薬
がセラミツク発泡体の表面に均一に散布され、常
に一定した品質の製品を製造することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図から第３図までの図面はこの発明による
セラミツク発泡体製造装置の一実施例を示すもの
であり、第１図は概略全体側面図、第２図は散布
装置の部分断面図、第３図は同縦断面図である。
第４図、第５図はこの発明によるセラミツク発泡
体製造装置の他の実施例を示すものであり、第４
図は第１図相当側面図、第５図は散布装置の斜視
図である。１，１′……セラミツク発泡体製造装置、２…
…コンベア、６……原料、７……加熱炉、９……
釉薬、１０，１０′……散布装置、１１……釉薬
供給管、１２，１２′……冷却用流体通路、１５
……スクリユウ、２０……スリツト、２１……ホ
ツパ、２２……散布口、２３……ローラ、２４…
…毛、３０……セラミツク発泡体。

Claims

【特許請求の範囲】１セラミツク発泡体の原料をコンベアに載せ、
その原料を発泡させる加熱炉を通過させてセラミ
ツク発泡体を製造する方法において、冷却された
粉状の釉薬を加熱炉内で発泡体表面に散布し、加
熱炉内の熱により加熱炉内において上記釉薬を焼
き付けることを特徴とするセラミツク発泡体の製
造方法。２セラミツク発泡体の原料をコンベアに載せ、
その原料を発泡させる加熱炉を通過させてセラミ
ツク発泡体を製造する装置において、上記加熱炉
の出口近傍に粉状釉薬を上記発泡体表面に散布す
る散布装置が設けられており、散布装置は加熱炉
内に挿入されて上記コンベアの搬送方向に直交し
てほぼ水平に配置された釉薬供給管を有し、この
供給管は冷却用流体通路を有し、供給管の加熱炉
外に位置する基部にホツパが設けられ、供給管の
内部にはスクリユウが回転自在に設けられ、供給
管の側部には上記基部側から先部側に下り勾配の
スリツトが形成されていることを特徴とするセラ
ミツク発泡体の製造装置。３上記供給管が内管と外管とで二重管構造をな
し、これら内管と外管との間に冷却用流体通路が
形成されている特許請求の範囲第２項記載のセラ
ミツク発泡体の製造装置。４セラミツク発泡体の原料をコンベアに載せ、
その原料を発泡させる加熱炉を通過させてセラミ
ツク発泡体を製造する装置において、上記加熱炉
の出口近傍に粉状釉薬を上記発泡体の表面に散布
する散布装置が設けられており、散布装置は、加
熱炉の上壁部において上記コンベアの搬送方向に
直交してほぼ水平に配置された長いホツパを有
し、このホツパは冷却用流体通路を有し、ホツパ
の下部に形成された散布口が上記加熱炉内に開口
され、ホツパの内部には外周面に多数の毛を有す
るローラが上記散布口に沿つて回転自在に設けら
れていることを特徴とするセラミツク発泡体の製
造装置。５上記ホツパが内壁と外壁とで二重壁構造をな
し、これら内壁と外壁との間に冷却用流体通路が
形成されている特許請求の範囲第４項記載のセラ
ミツク発泡体の製造装置。