JPS595021B2 - 粉末材料の均一散布装置 - Google Patents
粉末材料の均一散布装置Info
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- JPS595021B2 JPS595021B2 JP54056328A JP5632879A JPS595021B2 JP S595021 B2 JPS595021 B2 JP S595021B2 JP 54056328 A JP54056328 A JP 54056328A JP 5632879 A JP5632879 A JP 5632879A JP S595021 B2 JPS595021 B2 JP S595021B2
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- glass
- slits
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- dispersion
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B13/00—Machines or plants for applying liquids or other fluent materials to surfaces of objects or other work by spraying, not covered by groups B05B1/00 - B05B11/00
- B05B13/02—Means for supporting work; Arrangement or mounting of spray heads; Adaptation or arrangement of means for feeding work
- B05B13/0207—Means for supporting work; Arrangement or mounting of spray heads; Adaptation or arrangement of means for feeding work the work being an elongated body, e.g. wire or pipe
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B7/00—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas
- B05B7/02—Spray pistols; Apparatus for discharge
- B05B7/025—Nozzles having elongated outlets, e.g. slots, for the material to be sprayed
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B7/00—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas
- B05B7/14—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas designed for spraying particulate materials
- B05B7/1481—Spray pistols or apparatus for discharging particulate material
- B05B7/1486—Spray pistols or apparatus for discharging particulate material for spraying particulate material in dry state
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/17—Deposition methods from a solid phase
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は粉末材料を縦長排出スリットを通じ散布する装
置に関する。
置に関する。
本発明はまたこの装置の応用に関する。従来から或る技
術分野において、基体上に微小35径の粉末材料の実質
的に均一な厚さの層を形成させるため、連続的もしくは
断続的に該粉末材料を規則正しく散布する必要のあるこ
とか知られていク1−る。
術分野において、基体上に微小35径の粉末材料の実質
的に均一な厚さの層を形成させるため、連続的もしくは
断続的に該粉末材料を規則正しく散布する必要のあるこ
とか知られていク1−る。
かくして粉末塗料の散布装置が市販されている。
しかしこれら装置によれば塗布層の厚さが実質的に種々
変動し、但しそれによつて塗布面の外観に影響を及ぼす
ことがなくて済む。しかしながら、散布によつて形成さ
れる粉末被覆層の厚さが、非常に小さい粉末径、例えば
25ミクロン以下のような場合でも、完全に均一でなけ
ればならない技術分野が存在する。
変動し、但しそれによつて塗布面の外観に影響を及ぼす
ことがなくて済む。しかしながら、散布によつて形成さ
れる粉末被覆層の厚さが、非常に小さい粉末径、例えば
25ミクロン以下のような場合でも、完全に均一でなけ
ればならない技術分野が存在する。
そのような例は、特に、ガラス表面に金属化合物を薄い
層で被覆しこれを熱分解することによつて半反射ガラス
を製造する場合である。
層で被覆しこれを熱分解することによつて半反射ガラス
を製造する場合である。
このようなガラスは、可視光線もしくは赤外線の少くと
も一部を反射せしめるためのものであつて、完全に規則
正しい反射性生成物層を有していなければならない。少
しでも厚さが変動すると透過または反射の欠陥をもたら
し、或いはガラス上に縞目模様その他の異常を生ずる。
上記の難点をなくすため本発明者は先きに、粉末材料貯
槽から公知手段によつて粉末材料を定量速度で中間室に
送り、粉末が気体流束中に懸濁されている該中間室から
空気流式排出手段によつて粉末を扱い出し散布する方法
を案出した。
も一部を反射せしめるためのものであつて、完全に規則
正しい反射性生成物層を有していなければならない。少
しでも厚さが変動すると透過または反射の欠陥をもたら
し、或いはガラス上に縞目模様その他の異常を生ずる。
上記の難点をなくすため本発明者は先きに、粉末材料貯
槽から公知手段によつて粉末材料を定量速度で中間室に
送り、粉末が気体流束中に懸濁されている該中間室から
空気流式排出手段によつて粉末を扱い出し散布する方法
を案出した。
しかしながら、かかる処理方法は常用の送風ノズル即ち
環状オリフイスを用いるため、基体上に一定の厚さの散
布層を形成させることが極めて困難である。
環状オリフイスを用いるため、基体上に一定の厚さの散
布層を形成させることが極めて困難である。
なぜならば、ノズルから噴射される粉末各粒はノズルの
軸に関し変動する傾斜角度を有し且つ異なる速度を有す
るからである。その結果基体上に散布された層はノズル
軸への距離に従つて厚さを異にする。その他に、必要と
する広い表面を処理するためには複数個のノズルを用い
ることが必要であるが、これには異なるいくつかのノズ
ルから噴射された被覆層の重複被覆の問題を伴ない、或
いは基体に関して、往一復移動式に作動されるノズルに
もまた同様に部分的重複被覆の問題を生じ、それと同時
に機械的構造の諸問題を伴なう。かような難点を避けよ
うとして、一つの噴出スリツトを有する装置を使用する
ことが既に提案されてはいるが、スリツトの全長に亘つ
て均一な流量を得ることは極めて困難である。
軸に関し変動する傾斜角度を有し且つ異なる速度を有す
るからである。その結果基体上に散布された層はノズル
軸への距離に従つて厚さを異にする。その他に、必要と
する広い表面を処理するためには複数個のノズルを用い
ることが必要であるが、これには異なるいくつかのノズ
ルから噴射された被覆層の重複被覆の問題を伴ない、或
いは基体に関して、往一復移動式に作動されるノズルに
もまた同様に部分的重複被覆の問題を生じ、それと同時
に機械的構造の諸問題を伴なう。かような難点を避けよ
うとして、一つの噴出スリツトを有する装置を使用する
ことが既に提案されてはいるが、スリツトの全長に亘つ
て均一な流量を得ることは極めて困難である。
事実、散布器の中心線部分は一般に円筒状導管の助けに
よつて気体中に懸濁された粉末の主量が供給され、そし
て排出スリツトの両端部では中央部分よりも少量の粉末
しか受けないことが明らかである。
よつて気体中に懸濁された粉末の主量が供給され、そし
て排出スリツトの両端部では中央部分よりも少量の粉末
しか受けないことが明らかである。
その上、粉末と担持気体とが同じ導管で供給されるため
、それらの流出は規則正しく行なわれない。なぜなら帯
域中に粉末が滞積を起こし重大な負荷損失を来たすおそ
れがあるからである。本発明は上記の不都合を解消する
ことを目的とし、排出スリツトの全長のすべての個所に
おいて粉末の流量が実質的に同一であるような排出スリ
ツトを備えた型の粉末材料散布装置を提供するものであ
る。この目的達成のため本発明は、供給導管を介して供
給される気体流束中に懸濁された粉末材料を縦長排出ス
リツトを通じて分散させる型の粉末材料散布装置におい
て、該供給導管は同じ長さの複数個の素子導管に細分さ
れ該スリツトの長さに沿い規則正しく間隔をおいた複数
個の点で開口していることを特徴とする、粉末材料を均
一に散布するための装置に関するものである。
、それらの流出は規則正しく行なわれない。なぜなら帯
域中に粉末が滞積を起こし重大な負荷損失を来たすおそ
れがあるからである。本発明は上記の不都合を解消する
ことを目的とし、排出スリツトの全長のすべての個所に
おいて粉末の流量が実質的に同一であるような排出スリ
ツトを備えた型の粉末材料散布装置を提供するものであ
る。この目的達成のため本発明は、供給導管を介して供
給される気体流束中に懸濁された粉末材料を縦長排出ス
リツトを通じて分散させる型の粉末材料散布装置におい
て、該供給導管は同じ長さの複数個の素子導管に細分さ
れ該スリツトの長さに沿い規則正しく間隔をおいた複数
個の点で開口していることを特徴とする、粉末材料を均
一に散布するための装置に関するものである。
この装置の各素子導管は全部同一の長さを有するため、
それら各々の内部における負荷損失は同一であり従つて
流量はすべて同一になる。
それら各々の内部における負荷損失は同一であり従つて
流量はすべて同一になる。
排出スリツトの全長に沿つて各オリフイスは規則正しい
距離にあるから、各素子導管の出口で、粉末材料を担持
した気体の同一の流量が得られる。有利には、スリツト
の全長に沿い各管毎の分散の均一性を一層良くするよう
に、スリツトの横断面はベンチユリ形を有する。
距離にあるから、各素子導管の出口で、粉末材料を担持
した気体の同一の流量が得られる。有利には、スリツト
の全長に沿い各管毎の分散の均一性を一層良くするよう
に、スリツトの横断面はベンチユリ形を有する。
本発明の好ましい一実施形態において、上記スリツトは
、本来の散布スリツトではなく、均質化室に材料を供給
する1個の第一スリツトならびにこの第一スリツトに平
行して配置され均質化室へ加圧気体を供給するための2
個のスリツトを備え、該均質化室それ自体は1個の散布
スリツトによつて外部に開口している。
、本来の散布スリツトではなく、均質化室に材料を供給
する1個の第一スリツトならびにこの第一スリツトに平
行して配置され均質化室へ加圧気体を供給するための2
個のスリツトを備え、該均質化室それ自体は1個の散布
スリツトによつて外部に開口している。
上記2個のスリツトの双方から送入される二つの気体流
束を第一スリツトからの均質気体流束よりも過剰量で送
入すると、これが粉末材料を担持する第一次気体流を希
釈して、粉末材料の完全な均質化が可能になる。
束を第一スリツトからの均質気体流束よりも過剰量で送
入すると、これが粉末材料を担持する第一次気体流を希
釈して、粉末材料の完全な均質化が可能になる。
また、上記二つの気体流束の送入は、均質化室側壁上へ
の粉末材料の析出を防止することを可能ならしめる。散
布スリツトによる排出は、好ましくはベンチユリの介在
によつて逐次的に気体膨張が行なわれるようにする。有
利には、均質化室へ気体を供給する2個のスリツトは、
邪魔板付き導管の介在により、それぞれ別のオリフイス
と連通しており、スリツトそれ自体は加圧気体の供給手
段と連通している。このようにして多段階の負荷損失(
オリフイス、じやま板、スリツト)の組合せが形成され
、これはスリツト出口におけるこれら二つの気体流束の
均質化、従つて均質化室内における均質化に有利に作用
する。本発明の散布装置の変形において、散布スリツト
の上流に補助的流体の導入手段を備えることができる。
の粉末材料の析出を防止することを可能ならしめる。散
布スリツトによる排出は、好ましくはベンチユリの介在
によつて逐次的に気体膨張が行なわれるようにする。有
利には、均質化室へ気体を供給する2個のスリツトは、
邪魔板付き導管の介在により、それぞれ別のオリフイス
と連通しており、スリツトそれ自体は加圧気体の供給手
段と連通している。このようにして多段階の負荷損失(
オリフイス、じやま板、スリツト)の組合せが形成され
、これはスリツト出口におけるこれら二つの気体流束の
均質化、従つて均質化室内における均質化に有利に作用
する。本発明の散布装置の変形において、散布スリツト
の上流に補助的流体の導入手段を備えることができる。
添付図面は本発明による装置の一実施形態を例示するも
のである。
のである。
第1図は装置の側面図、第2図は第1図の−線に従う装
置の断面図である。図示の装置は、気体中に懸濁された
粉末材料の供給導管1を有する。導管1は同じ長さを有
する複数個の素子導管2に細分され、これら素子導管は
空洞4の全長に亘り規則正しい間隔をもつて、3のとこ
ろで開口している。空洞4は横断面がベンチユリ5の形
をしており、これは縦長排出スリツト6により均質化室
7中へ開口している。上述の如く、各素子導管2は同じ
長さを有するため、それぞれの導管中における負荷損失
は同一であり、かくして空洞4にはその全長に亘つて同
一の流量が供給される。室7には、スリツト6の両側か
ら、2個の導管8によつて加圧気体が供給される。
置の断面図である。図示の装置は、気体中に懸濁された
粉末材料の供給導管1を有する。導管1は同じ長さを有
する複数個の素子導管2に細分され、これら素子導管は
空洞4の全長に亘り規則正しい間隔をもつて、3のとこ
ろで開口している。空洞4は横断面がベンチユリ5の形
をしており、これは縦長排出スリツト6により均質化室
7中へ開口している。上述の如く、各素子導管2は同じ
長さを有するため、それぞれの導管中における負荷損失
は同一であり、かくして空洞4にはその全長に亘つて同
一の流量が供給される。室7には、スリツト6の両側か
ら、2個の導管8によつて加圧気体が供給される。
導管8はそれぞれ、オリフイス9及び邪魔板を有する溝
10の介在によつて、排出スリツト6に平行するスリツ
ト11と連通している。このようなスリツト11から加
圧気体の供給により、その出口11で均質な気体流を得
ることができる。この均質な気体流は、排出スリツト6
からくる粉末一気体の混合物を室7中で希釈することに
よつて均質化する。スリツト6の両側に、気体を室7中
に導入するスリツト11を配設しているため、室7の壁
上への粉末の析出蓄積が防止される。室7は、裾ひろが
り次いで裾つぼまりの部分12を経て縦長散布スリツト
13に通じ、このスリツトによつて室の長手方向全長に
亘り同一流量で粉末材料が排出される。
10の介在によつて、排出スリツト6に平行するスリツ
ト11と連通している。このようなスリツト11から加
圧気体の供給により、その出口11で均質な気体流を得
ることができる。この均質な気体流は、排出スリツト6
からくる粉末一気体の混合物を室7中で希釈することに
よつて均質化する。スリツト6の両側に、気体を室7中
に導入するスリツト11を配設しているため、室7の壁
上への粉末の析出蓄積が防止される。室7は、裾ひろが
り次いで裾つぼまりの部分12を経て縦長散布スリツト
13に通じ、このスリツトによつて室の長手方向全長に
亘り同一流量で粉末材料が排出される。
スリツト6と散布スリツト18との間に導管14を設け
、装置の使用目的に応じ一種またはそれ以上の補助的気
体を導管14から混合物中へ均質化させるように導入す
ることができる。前述した如くガラス表面上へ金属化合
物の薄い層を散布しこの金属化合物を熱分解することに
よつて半反射ガラスを製造するに当り、本発明者は本発
明の装置を用いて金属化合物を散布することに成功した
。
、装置の使用目的に応じ一種またはそれ以上の補助的気
体を導管14から混合物中へ均質化させるように導入す
ることができる。前述した如くガラス表面上へ金属化合
物の薄い層を散布しこの金属化合物を熱分解することに
よつて半反射ガラスを製造するに当り、本発明者は本発
明の装置を用いて金属化合物を散布することに成功した
。
使用した装置はスリツトの長さが250〜650mmの
ものである。本発明者は、この型の装置を並置し、装置
の散布スリツトを横切つて約6m/分の速度で進む大き
さが数メートルにも及ぶガラスの板または細長帯を、何
ら問題なく処理することができた。気体の流量は粉末材
料の種類及び噴射スリツトの寸法によつて変動する。
ものである。本発明者は、この型の装置を並置し、装置
の散布スリツトを横切つて約6m/分の速度で進む大き
さが数メートルにも及ぶガラスの板または細長帯を、何
ら問題なく処理することができた。気体の流量は粉末材
料の種類及び噴射スリツトの寸法によつて変動する。
本発明者が実施して成功した一応用例を挙げれば、スリ
ツトの長さ流当り粉末懸濁空気の流量は1Nm3/h、
均質化室中へ噴射された空気はスリツトの長さ1礪当り
4Nイ/hであり、この条件下で装置の出口における粉
末担持気体流の速度は約7m/秒であつた。本発明装置
の他の応用例として、本発明者は並列された二台の同様
の装置を用い、これら装置のスリツトに対し直角にそし
てそれを横ぎつて進むガラスの板もしくは細長帯の同一
の表面上に、同一または二種の粉末材料の二層を散布し
た。半反射ガラスを製造するために、これら材料の一方
は可視光線を有効に反射しうるものであり、他方は赤外
線を有効に反射しうるものであつた。もちろん、ガラス
板の同一表面上に二層を散布する代りに、本発明装置の
複数個を用いて一枚のガラス板の複数個の表面上にそれ
ぞれ同一または二種以上の材料の一層を施すことができ
る。
ツトの長さ流当り粉末懸濁空気の流量は1Nm3/h、
均質化室中へ噴射された空気はスリツトの長さ1礪当り
4Nイ/hであり、この条件下で装置の出口における粉
末担持気体流の速度は約7m/秒であつた。本発明装置
の他の応用例として、本発明者は並列された二台の同様
の装置を用い、これら装置のスリツトに対し直角にそし
てそれを横ぎつて進むガラスの板もしくは細長帯の同一
の表面上に、同一または二種の粉末材料の二層を散布し
た。半反射ガラスを製造するために、これら材料の一方
は可視光線を有効に反射しうるものであり、他方は赤外
線を有効に反射しうるものであつた。もちろん、ガラス
板の同一表面上に二層を散布する代りに、本発明装置の
複数個を用いて一枚のガラス板の複数個の表面上にそれ
ぞれ同一または二種以上の材料の一層を施すことができ
る。
このようにして得られる粉末被覆の均一性は極めて優秀
である。上述の応用における粉末材料は厚さの変動に対
して非常に鋭敏であり、例えば熱分解後に形成される酸
化錫は層の厚さが変動すると反射の際光の干渉を生ずる
が、本発明者は縦方向(ガラス板が装置のもとで進行す
る方向)のみならず横方向にも干渉色を示さず完全に単
光色のガラスを得た。既に述べた如く、本発明の装置は
また調整変形された形態で使用しうる利点を有し、それ
によれば処理すべく基体の大きさに適合するように複数
個の装置を並夕1ルて用いることができる。
である。上述の応用における粉末材料は厚さの変動に対
して非常に鋭敏であり、例えば熱分解後に形成される酸
化錫は層の厚さが変動すると反射の際光の干渉を生ずる
が、本発明者は縦方向(ガラス板が装置のもとで進行す
る方向)のみならず横方向にも干渉色を示さず完全に単
光色のガラスを得た。既に述べた如く、本発明の装置は
また調整変形された形態で使用しうる利点を有し、それ
によれば処理すべく基体の大きさに適合するように複数
個の装置を並夕1ルて用いることができる。
なお、この装置は定置され且つ可動部材を含んでいない
ので高い信頼性を有する。もちろん本発明の装置は、上
述した応用例に限らず、例えば塗料、エナメルその他の
如き粉末材料を均一な形態で基体上に塗布する技術に関
連する用途に使用することができる。
ので高い信頼性を有する。もちろん本発明の装置は、上
述した応用例に限らず、例えば塗料、エナメルその他の
如き粉末材料を均一な形態で基体上に塗布する技術に関
連する用途に使用することができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 供給導管を介して供給される気体流束中に懸濁され
た粉末材料を縦長排出スリットを通じて分散させる型の
粉末材料散布装置において、該供給導管は同じ長さの複
数個の素子導管に細分され該スリットの長さに沿い規則
正しく間隔をおいた複数個の点で開口していることを特
徴とする、粉末材料を均一に散布するための装置。 2 スリットはベンチユリ形の横断面を有していること
を特徴とする、特許請求の範囲第1項記載の装置。 3 スリットは均質化室へ材料を供給する第一スリット
ならびにこの第一スリットに平行して配置され均質化室
へ加圧気体を供給するための2個のスリットを備え、加
圧気体は該平行する2個のスリットの全長に亘つて均一
化され、均質化室それ自体は1個の散布スリットによつ
て外方へ開口していることを特徴とする、特許請求の範
囲第1項または第2項記載の装置。 4 散布スリットはその上方に、一旦先きひろがりとな
り、次いで先きつぼまりになる部分を有することを特徴
とする、特許請求の範囲第3項記載の装置。 5 均質化室へ気体を供給する2個のスリットは邪魔板
を有する導管を介してそれぞれ別のオリフィスに連通し
、これらは加圧気体供給手段に連通していることを特徴
とする、特許請求の範囲第3項または第4項記載の装置
。 6 均質化室は、散布スリットの上流に少くとも1種の
補助気体を導入する手段を備えていることを特徴とする
、特許請求の範囲第3〜5項のいずれかに記載の装置。 7 粉末材料が、ガラスの少くとも一表面上に金層化合
物を散布し次いでこの金属化合物を熱分解して半反射ガ
ラスを製造するに際してガラス表面上に散布される金属
化合物粉末である、特許請求の範囲第1〜6項のいずれ
かに記載の装置。 8 散布スリットが互いに直線上に並ぶように並置され
た複数個の装置より成る、特許請求の範囲第7項記載の
装置。 9 散布スリットに対しガラスが直角方向に進行するよ
うに装置が定置されている、特許請求の範囲第6項また
は第7項記載の装置。 10 少くとも2個の装置がガラスに対して同じ側に平
行に配置され、ガラスの同じ表面に2種の金属化合物粉
末を散布するようになつている、特許請求の範囲第7〜
9項のいずれかに記載の装置。 11 ガラス表面上にそれぞれ異なる金属化合物粉末を
散布するように少くとも2個の装置をガラスと共に記載
して成る、特許請求の範囲第7〜9項のいずれかに記載
の装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR000007816272 | 1978-05-31 | ||
FR7816272A FR2427141B1 (ja) | 1978-05-31 | 1978-05-31 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS54157317A JPS54157317A (en) | 1979-12-12 |
JPS595021B2 true JPS595021B2 (ja) | 1984-02-02 |
Family
ID=9208904
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP54056328A Expired JPS595021B2 (ja) | 1978-05-31 | 1979-05-10 | 粉末材料の均一散布装置 |
Country Status (13)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4230271A (ja) |
EP (1) | EP0006064B1 (ja) |
JP (1) | JPS595021B2 (ja) |
AT (1) | AT382858B (ja) |
AU (1) | AU523759B2 (ja) |
BR (1) | BR7903394A (ja) |
CA (1) | CA1139932A (ja) |
DE (1) | DE2962883D1 (ja) |
DK (1) | DK146996C (ja) |
ES (1) | ES481067A1 (ja) |
FR (1) | FR2427141B1 (ja) |
NO (1) | NO149094C (ja) |
PH (1) | PH16083A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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