JPS62246882A - セラミツク発泡体の製造方法と製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、表面を釉薬によって化粧されたセラミック
発泡体の製造方法と製造装置に関する。

（従来の技術） 周知のように、セラミック発泡体は、火山灰やガラス等
の粉末に発泡剤を混ぜ合わせ、これを加熱発泡させて製
造される。

上記セラミック発泡体は、軽量で耐久性に富み、外壁材
等の建築材料として採用されている。

セラミック発泡体を建築材料として使用する場合には、
一般に、セラミック発泡体の表面に釉薬で化粧を施し、
見栄えを向上させるとともに、耐水性、耐候性を更に向
上させている。

従来のセラミック発泡体表面への釉薬化粧処理方法とし
では、加熱発泡して製造されたセラミック発泡体を一旦
冷却し、その後、表面に釉薬を塗って再び加熱し、釉薬
をセラミック発泡体に焼き付ける方法が一般的であった
。

（発明が解決しようとする問題点） しかしながら、上記従来の方法においては、発泡させる
だめの加熱と、釉薬を焼き付けるための加熱とを二段に
別けて行っているので、燃料の損失が大きく不経済であ
るばかりでなく、製造工程か゛複雑でもあった。

（問題点を解決するための手段） この発明は上記問題点を解消するためになされたもので
、その要旨は、原料をコンベアに載せ、加熱炉を通過さ
せてセラミック発泡体を製造する方法において、冷却さ
れた粉状の釉薬を加熱炉内で発泡体表面に散布し、加熱
炉内の熱によって上記釉薬を焼き付けることを特徴とす
るセラミック発泡体の製造方法にある。

もう一つの発明の要旨は、原料をコンベアに載せ、加熱
炉を通過させてセラミック発泡体を製造する装置におい
て、上記加熱炉の出口近傍に粉状釉薬の散布装置が設け
られており、散布装置は加熱炉内に挿入されて上記コン
ベアの搬送方向に直交してほぼ水平に配置された釉薬供
給管を有し、この供給管は冷却用流体通路を有し、供給
管の加熱炉外に位置する基部にはホッパが設けられ、供
給管の内部にはスクリュウが回転自在に設けられ、供給
管の側部には上記基部側から先部側に下り勾配のスリッ
トが形成されていることを特徴とするセラミック発泡体
の製造装置にある。

更にもう一つの発明の要旨は、原料をコンベアに載せ、
加熱炉を通過させてセラミック発泡体を製造する装置に
おいて、上記加熱炉の出口近傍に粉状釉薬の散布装置が
設けられており、散布装置は、加熱炉の上壁部において
上記コンベアの搬送方向に直交してほぼ水平に配置され
た長いホッパを有し、このホッパは冷却用流体通路を有
し、ホッパの下部に形成された散布口が上記加熱炉内に
開口され、ホッパの内部には外周面に多数の毛を有する
ローラが上記散布口に沿って回転自在に設けられている
ことを特徴とするセラミック発泡体の製造装置にある。

（作用） 本発明の方法では、原料は加熱炉内で加熱発泡され、セ
ラミック発泡体にされ、更に、この加熱炉内において、
冷却された粉状の釉薬が上記セラミック発泡体の表面に
散布される。釉薬は加熱炉内の熱によってセラミック発
泡体に焼き付けられる。したがって、加熱炉の熱によっ
て原料の発泡と釉薬の焼き付けとを連続して行うことが
でき、経済的であり、製造工程も簡略化される。又、釉
薬は冷却によって粉状を維持され安定して散布される。

又、本発明の装置では、釉薬はスクリュウにより供給管
内を移送され、スリットからセラミック発泡体の表面に
均一に散布される。又、釉薬は散布装置内で冷却されて
粉状が維持される。

もう一つの本発明の装置では、釉薬はローラの毛によっ
て一定量ずつ均一にセラミック発泡体の表面に散布され
る。又、釉薬は散布装置内で冷却されて粉状が維持され
る。

（実施例） 以下、この発明の一実施例を第１図から第３図までの図
面に基づいて説明する。

第１図において、符号１はセラミンク発泡体製遺装置で
あり、セラミック発泡体製造装置１はコンベア２を有し
ている。

コンベア２はステンレス等の耐熱性金属製の目の細かい
網体からなるコンベアベル）２ａを有しており、コンベ
アベル）２ａは下側を走行する際に、塗布装置３により
表面に離型剤４が塗布されるようになっている。

上記離型剤としては、酸化アルミニウム粉末や珪砂粉末
等が使用される。

コンベア２の上方には、コンベアベル）２ａの始端側に
原料ホッパ５が配置されており、セラミック発泡体の原
料６はこの原料ホッパ５から上記コンベアベル）２ａ上
に均一な厚さに連続的に供給される。

上記セラミック発泡体の原料６としては、特公昭５１−
２８２９０号公報に開示されているような火山岩や火山
灰を主成分とし、これに発泡剤をを混ぜたもの、あるい
は、特開昭５０−１１９８１８号公報、特開昭５４−１
２５２２６号公報、特公昭５６−４１５８３号公報に開
示されているようなガラスを主成分とし、これに発泡剤
を混ぜたもの等が使用される。

コンベアベル）２ａは上側を走行する際に、順次、加熱
炉７、徐冷炉８を通過するようになっている。

上記加熱炉７の出口近傍には、粉状の釉薬９用の散布装
置１０が設けられている。

散布装置１０は、第２図に示すように、釉薬供給管１１
を有し、釉薬供給管１１は加熱炉７の両側壁を貫通して
加熱炉７内に挿入され、コンベア２の搬送方向と直交し
てほぼ水平に配置されている。

釉薬供給管１１は内管１１ａと外管１１ｂとを有して二
重管構造をなし、これら内管１１ａと外管１１ｂとの間
には、冷却用空気（冷却用流体）が流れる通路１２が形
成されている。

釉薬供給管１１の基部及び先部は加熱炉７から突出して
おり、端板ｌｉｅ、１１ｄにより閉塞されている。

釉薬供給管１１の基部にはホッパ１３が設けられている
。このホッパ１３は内管１１ａに連通している。

釉薬供給管の内管１１ａの内部にはスクリュウ１５が回
転自在に挿入されている。スクリュウ１５のシャ７）１
５ａは上記供給管１１の端板１１Ｃを貫通して外部に突
出し、プーリ１６を介して図示しない駆動装置に連結さ
れている。

上記外管１１ｂは基部側に空気入口１８を有し、先部側
に空気出口１９を有しており、冷却用空気は空気入口１
８から通路１２を通って空気出口１９から排気されるよ
うになっている。

又、釉薬供給管１１の側部には、スリ７）２０が形成さ
れており、スリット２０は釉薬供給管１１の基部側から
先部側に向けて下り勾配をなしている。

上述構成において、コンベアベル）２ａに載せられた原
料６は加熱炉７内に搬送され、ここで加熱されて発泡し
、セラミック発泡体３０にされる。

上記セラミック発泡体３０の表面には、加熱炉７内にお
いて散布装置１０から釉薬９が散布される。

即ち、釉薬９はホッパ１３から釉薬供給管１１へ供給さ
れ、回転するスクリュウ１５によって釉薬供給管１１の
先部へ送られる。

上記釉薬供給管１１内において、釉薬９が先部側に移送
されるに従って、釉薬９の高さが低くなっていくが、ス
リ７）２０も同様に基部側から先部側に向けて下り勾配
になっているので、スリット２０のどの位置からもほぼ
同量の釉薬９が散布されるようになる。

したがって、セラミック発泡体３０の表面には、その幅
方向について釉薬９がほぼ均一に散布される。

しかも、セラミック発泡体３０はコンベア２によって一
定速度で送られてくるので、釉薬９が全面に互ってほぼ
均一に散布される。

又、釉薬供給管１１が二重管の断熱構造になっており、
通路１２には常に冷却用空気が流れていて、釉薬９を冷
却しているので、釉薬９はセラミック発泡体３０の表面
に落下するまでは溶融することはない。

したがって、釉薬９が釉薬供給管１１内で溶融して散布
が不均一になったり、閉塞して散布不能になる不都合を
防止できる。

そして、釉薬９はセラミック発泡体３０の表面に落下し
た後、加熱炉７内の熱によって溶融され、セラミック発
泡水３０に焼き付けられる。

このようにして表面に釉薬９を焼き付けられたセラミッ
ク発泡体３０は、徐冷炉８へ送られて所定温度迄除冷さ
れ製品となる。

第４．５図は池のセラミック発泡体製造装置１′を示す
ものであり、第１図と同一態様部分については同一符号
を付して説明を省略する。

符号１０′は散布装置であり、散布装置１０′は断面逆
ハの字形の細長いホッパ２１を有し、ホッパ２１は内壁
２１ａと外壁２１ｂとを有して二重壁ｎ造をなしており
、これら内壁２１ａと外壁２１ｂとの間に冷却用空気の
通路１２′が形成されている。

又、ホッパ２１はその両側に空気人口１８と空気出口１
９を有し、ホッパ２１の下部は散布口２２とされている
。

ホッパ２１の内部には、上記散布口２２の真上に沿って
ローラ２３が配置されている。

ローラ２３の外周面には多数の毛２４か植毛されており
、このローラ２３は図示しない駆動装置に連結されて回
転自在にされている。

上記散布装置１０′は加熱炉７の出口近傍に設置され、
ホッパ２１をコンベアベル）２ａの搬送方向に直交させ
、散布口２２を加熱炉７内に開口させている。

上記散布装置１０′においても、釉薬９は冷却用空気に
より冷却され、粉状が維持される。そして、釉薬９は多
数の毛２４によって落下を規制されっつローラ２３の回
転に伴って毛２４により一定量ずつ送り出され、散布口
２２からセラミック発泡体３０の表面に均一に散布され
る。

釉薬９は原料６の発泡温度よす５０〜１００″Ｃ程度低
い温度、好ましくは７０°Ｃ程度低い温度で焼き付けら
れる材料を選択する。

実際に、第１図〜第３図に示す製造装置１において、発
泡温度９５０°Ｃの原料６と、８８０″Ｃで焼き付けら
れる釉薬９を用いたところ、良好な表面を有するセラミ
ック発泡体３０が得られた。又、同様に第４図、第５図
に示す製造装置１′において、発泡温度８００″Ｃの原
料６と、７３０”　Ｃで焼き付けられる釉薬９を用いた
ところ、良好な表面を有するセラミック発泡体３０が得
られた・尚、明細書中、加熱炉の出口近傍とは加熱炉内
において原料の発泡がほぼ終了する位置から出口までの
部位を意味する。

この発明は上記実施例に制約されず種々の態様が可能で
ある。例えば、冷却用流体は空気以外であってもよい。

（発明の効果） 以上説明したように、この発明の方法によれば、原料の
加熱発泡と、釉薬の焼き付けとを同一の加熱炉内におい
て連続的に行うことができ、セラミック発泡体の製造工
程が簡略化される。

しかも、釉薬の焼き付けは加熱炉内の熱によって行うこ
とができるので、極め・て経済的に製造され、製造コス
トが低減される。

又、釉薬は冷却されて粉状を維持されるので、釉薬が溶
融して散布が不安定になったり、装置内での閉塞が防止
される。

更に、本発明の装置によれば、釉薬がセラミック発泡体
の表面に均一に散布されるので、常に一定した品質の製
品を製造することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図から第３図までの図面はこの発明によるセラミッ
ク発泡体製造装置の一実施例を示すものであり、第１図
は概略全体側面図、第２図は散布装置の部分断面図、第
３図は同縦断面図である。 第４図、第５図はこの発明によるセラミック発泡体製造
装置の他の実施例を示すものであり、第４図は第１図相
当側面図、第５図は散布装置の斜視図である。 １．１′・・・セラミック発泡体製造装置、２・・・コ
ンベア、　　６・・・原料、　　７・・・加熱炉、９・
・・釉薬、　　１０．１０′・・・散布装置、１１・・
・釉薬供給管、 １２．１２′・・・冷却用流体通路、 １５・・・スクリュウ、　　２０・・・スリット、２１
・・・ホッパ、　　２２・・・散布口、２３・・・ロー
ラ、　　２４・・・毛、３０・・・セラミック発泡体。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）原料をコンベアに載せ、加熱炉を通過させてセラ
   ミック発泡体を製造する方法において、冷却された粉状
   の釉薬を加熱炉内で発泡体表面に散布し、加熱炉内の熱
   によって上記釉薬を焼き付けることを特徴とするセラミ
   ック発泡体の製造方法。
2. （２）原料をコンベアに載せ、加熱炉を通過させてセラ
   ミック発泡体を製造する装置において、上記加熱炉の出
   口近傍に粉状釉薬の散布装置が設けられており、散布装
   置は加熱炉内に挿入されて上記コンベアの搬送方向に直
   交してほぼ水平に配置された釉薬供給管を有し、この供
   給管は冷却用流体通路を有し、供給管の加熱炉外に位置
   する基部にはホッパが設けられ、供給管の内部にはスク
   リュウが回転自在に設けられ、供給管の側部には上記基
   部側から先部側に下り勾配のスリットが形成されている
   ことを特徴とするセラミック発泡体の製造装置。
3. （３）上記供給管が内管と外管とで二重管構造をなし、
   これら内管と外管との間に冷却用流体通路が形成されて
   いる特許請求の範囲第２項記載のセラミック発泡体の製
   造装置。
4. （４）原料をコンベアに載せ、加熱炉を通過させてセラ
   ミック発泡体を製造する装置において、上記加熱炉の出
   口近傍に粉状釉薬の散布装置が設けられており、散布装
   置は、加熱炉の上壁部において上記コンベアの搬送方向
   に直交してほぼ水平に配置された長いホッパを有し、こ
   のホッパは冷却用流体通路を有し、ホッパの下部に形成
   された散布口が上記加熱炉内に開口され、ホッパの内部
   には外周面に多数の毛を有するローラが上記散布口に沿
   って回転自在に設けられていることを特徴とするセラミ
   ック発泡体の製造装置。
5. （５）上記ホッパが内壁と外壁とで二重壁構造をなし、
   これら内壁と外壁との間に冷却用流体通路が形成されて
   いる特許請求の範囲第４項記載のセラミック発泡体製造
   装置。