JPH0339237A - 光ディスク複製用スタンパ製造方法 - Google Patents
光ディスク複製用スタンパ製造方法Info
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- JPH0339237A JPH0339237A JP17424489A JP17424489A JPH0339237A JP H0339237 A JPH0339237 A JP H0339237A JP 17424489 A JP17424489 A JP 17424489A JP 17424489 A JP17424489 A JP 17424489A JP H0339237 A JPH0339237 A JP H0339237A
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は光ディスクを複製するために用いられるスタン
パの製造方法に関するものである。
パの製造方法に関するものである。
次に本発明を実施例により更に祥しく説明する。
（実施例１）
ガラス基板上にフォトリソグラフィーを用いて形成した
プリグルーブパターン上にスパッタ、真空蒸着、ｆｉｌ
ｌｉ解めっき等の方法でＮｉｌ膜からなる導電化膜を形
成した後、該導電化膜を陰極としてＮｉめっきを行い、
ガラス基板を剥離後、２分間溶剤としてイソプロピルア
ルコールを用いて洗浄した。その後、５分間ＵＶ１０．
照射によるアッシング（平均放射照度４０ｍＷ／ｃｄ）
を行い、１分間純水洗浄した０次に、同様のＵＶ１０．
照射によるアッシング及び純水洗浄を再度繰り返してス
タンパを得た０本例における溶剤洗浄、ＵＶ１０．照射
によるアッシング及び純水洗浄よるフォトレジスト残膜
の膜厚変化の様子を第２図に示し、上記スタンパ及びガ
ラス原盤を用いて複製した光ディスクのプリグルーブパ
ターンの溝深さを第５図に口で示す。 （実施例２） 実施例Ｉと同様の方法でガラス基板をｊｌ（Ｉ離後、３
分間溶剤洗浄し、４分間ｕｖ７ｏ、照射によるアッシン
グを行い、１分間純水洗浄した。再び、３分間ＵＶ１０
、照射によるアッシングを行い、１分間純水洗浄し、こ
れをもう−度繰り返してスタンパを得た。 本発明における溶剤洗浄、ＵＶ１０．照射によるアッシ
ング及び純水洗浄によるフォトレジスト残膜の膜厚変化
の様子を第３図に示し、上記スタンパ及びガラス原盤を
用いて複製した光ディスクのプリグルーブパターンの溝
深さを第５図に◇で示す。 （比較例） 実施例１と同様の方法でガラス基板を剥離後、３分間溶
剤洗浄し、ＵＶ１０．照射によるアッシングを３０分間
行った後、フォトレジスト膜厚を測定した。 再びＵＶ１０．照射によるアッシングを５分間行った後
、レジスト膜厚を測定し、これをもう１度繰り返して、
計４０分間ＵＶ１０．照射によるアッシングを行い、ス
タンパを得た０本例における溶剤洗浄、ＵＶ１０゜照射
によるアッシング後のフォトレジスト残膜の膜厚変化の
様子を第４図に示し、上記スタンパ及びガラス原盤を用
いて複製した光ディスクのプリグルーブパターンの溝深
さを第５図に△で示す。 〔発明の効果） 以上詐細に説明したように、本発明によれば、光ディス
ク複製用スタンパの残留フォトレジスト除去工程におい
て、溶剤洗浄後、ＵＶ１０．照射によるアッシングと純
水洗浄を組み合わせて行うようにしたので残留フォトレ
ジストが完全に除去されプリグルーブパターンの形状が
忠実に光ディスクに複製転写できるスタンパの提供が可
能となった。
プリグルーブパターン上にスパッタ、真空蒸着、ｆｉｌ
ｌｉ解めっき等の方法でＮｉｌ膜からなる導電化膜を形
成した後、該導電化膜を陰極としてＮｉめっきを行い、
ガラス基板を剥離後、２分間溶剤としてイソプロピルア
ルコールを用いて洗浄した。その後、５分間ＵＶ１０．
照射によるアッシング（平均放射照度４０ｍＷ／ｃｄ）
を行い、１分間純水洗浄した０次に、同様のＵＶ１０．
照射によるアッシング及び純水洗浄を再度繰り返してス
タンパを得た０本例における溶剤洗浄、ＵＶ１０．照射
によるアッシング及び純水洗浄よるフォトレジスト残膜
の膜厚変化の様子を第２図に示し、上記スタンパ及びガ
ラス原盤を用いて複製した光ディスクのプリグルーブパ
ターンの溝深さを第５図に口で示す。 （実施例２） 実施例Ｉと同様の方法でガラス基板をｊｌ（Ｉ離後、３
分間溶剤洗浄し、４分間ｕｖ７ｏ、照射によるアッシン
グを行い、１分間純水洗浄した。再び、３分間ＵＶ１０
、照射によるアッシングを行い、１分間純水洗浄し、こ
れをもう−度繰り返してスタンパを得た。 本発明における溶剤洗浄、ＵＶ１０．照射によるアッシ
ング及び純水洗浄によるフォトレジスト残膜の膜厚変化
の様子を第３図に示し、上記スタンパ及びガラス原盤を
用いて複製した光ディスクのプリグルーブパターンの溝
深さを第５図に◇で示す。 （比較例） 実施例１と同様の方法でガラス基板を剥離後、３分間溶
剤洗浄し、ＵＶ１０．照射によるアッシングを３０分間
行った後、フォトレジスト膜厚を測定した。 再びＵＶ１０．照射によるアッシングを５分間行った後
、レジスト膜厚を測定し、これをもう１度繰り返して、
計４０分間ＵＶ１０．照射によるアッシングを行い、ス
タンパを得た０本例における溶剤洗浄、ＵＶ１０゜照射
によるアッシング後のフォトレジスト残膜の膜厚変化の
様子を第４図に示し、上記スタンパ及びガラス原盤を用
いて複製した光ディスクのプリグルーブパターンの溝深
さを第５図に△で示す。 〔発明の効果） 以上詐細に説明したように、本発明によれば、光ディス
ク複製用スタンパの残留フォトレジスト除去工程におい
て、溶剤洗浄後、ＵＶ１０．照射によるアッシングと純
水洗浄を組み合わせて行うようにしたので残留フォトレ
ジストが完全に除去されプリグルーブパターンの形状が
忠実に光ディスクに複製転写できるスタンパの提供が可
能となった。
第１図は従来法による残留フォトレジスト除去工程の説
明図、第２図〜第４図はそれぞれ実施例１、実施例２及
び比較例におけるフォトレジスト残膜の膜厚変化の様子
を示すグラフ、第５図は実施例１、実施例２及び比較例
のスタンパ及びガラス原盤を用いて複製した光ディスク
のプリグルーブパターンの溝の深さを示すグラフである
。
明図、第２図〜第４図はそれぞれ実施例１、実施例２及
び比較例におけるフォトレジスト残膜の膜厚変化の様子
を示すグラフ、第５図は実施例１、実施例２及び比較例
のスタンパ及びガラス原盤を用いて複製した光ディスク
のプリグルーブパターンの溝の深さを示すグラフである
。
Claims (1)
- （１）ガラス基板に形成したプリグルーブパターン上に
導電化膜を形成した後、該導電化膜を陰極としてＮｉめ
っきを行い、ガラス基板を剥離後、残留フォトレジスト
を除去することによってスタンパを得る光ディスク複製
用スタンパ製造方法において、前記残留フォトレジスト
の除去を、溶剤洗浄と、酸素雰囲気下での紫外線照射に
よるアッシングと、純水洗浄とを組み合わせて行うこと
を特徴とする光ディスク複製用スタンパ製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17424489A JP2847196B2 (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 光ディスク複製用スタンパ製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17424489A JP2847196B2 (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 光ディスク複製用スタンパ製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0339237A true JPH0339237A (ja) | 1991-02-20 |
| JP2847196B2 JP2847196B2 (ja) | 1999-01-13 |
Family
ID=15975238
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17424489A Expired - Fee Related JP2847196B2 (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 光ディスク複製用スタンパ製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2847196B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010003748A (ja) * | 2008-06-18 | 2010-01-07 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 支持板剥離装置 |
-
1989
- 1989-07-07 JP JP17424489A patent/JP2847196B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010003748A (ja) * | 2008-06-18 | 2010-01-07 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 支持板剥離装置 |
| KR101488030B1 (ko) * | 2008-06-18 | 2015-01-29 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 지지판 박리 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2847196B2 (ja) | 1999-01-13 |
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Legal Events
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Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071106 Year of fee payment: 9 |
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Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081106 Year of fee payment: 10 |
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