JPH117663A - スタンパの製造方法 - Google Patents
スタンパの製造方法Info
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- JPH117663A JPH117663A JP15944797A JP15944797A JPH117663A JP H117663 A JPH117663 A JP H117663A JP 15944797 A JP15944797 A JP 15944797A JP 15944797 A JP15944797 A JP 15944797A JP H117663 A JPH117663 A JP H117663A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 剥離性が良好で、溝形状の変化の少ないスタ
ンパを製造すること。 【構成】 マスタースタンパより電鋳によりマザースタ
ンパを作成する方法において、電鋳前にマスタースタン
パに過酸化水素水処理を施すことを特徴とするマザース
タンパの製造方法と、マザースタンパより電鋳により複
製スタンパを作成する方法において、電鋳前にマザース
タンパに過酸化水素水処理を施すことを特徴とする複製
スタンパの製造方法。
ンパを製造すること。 【構成】 マスタースタンパより電鋳によりマザースタ
ンパを作成する方法において、電鋳前にマスタースタン
パに過酸化水素水処理を施すことを特徴とするマザース
タンパの製造方法と、マザースタンパより電鋳により複
製スタンパを作成する方法において、電鋳前にマザース
タンパに過酸化水素水処理を施すことを特徴とする複製
スタンパの製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光ディスクを製造する際
の金型として用いられる光ディスク用スタンパの製造方
法に関する。
の金型として用いられる光ディスク用スタンパの製造方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光ディスク複製用スタンパを作成する従
来の方法としては、先ずガラス基板上に設けられたフォ
トレジスト層に対しフォトリソグラフィーにより凹凸微
細形状を形成し、次いでこの微細形状の上に導電性のＮ
ｉ皮膜をスパッター、真空蒸着及び無電解めっき等によ
り形成し、ニッケル電鋳を行った後、Ｎｉ電鋳層をＮｉ
マスターとしてガラス基板側から剥離し、そのＮｉマス
ターにクロム酸塩処理または電解酸化法による剥離膜処
理を施してニッケル電鋳することによりＮｉマザーを
得、そのＮｉマザーに同様の処理を行うことによりＮｉ
スタンパを作成する方法がある。
来の方法としては、先ずガラス基板上に設けられたフォ
トレジスト層に対しフォトリソグラフィーにより凹凸微
細形状を形成し、次いでこの微細形状の上に導電性のＮ
ｉ皮膜をスパッター、真空蒸着及び無電解めっき等によ
り形成し、ニッケル電鋳を行った後、Ｎｉ電鋳層をＮｉ
マスターとしてガラス基板側から剥離し、そのＮｉマス
ターにクロム酸塩処理または電解酸化法による剥離膜処
理を施してニッケル電鋳することによりＮｉマザーを
得、そのＮｉマザーに同様の処理を行うことによりＮｉ
スタンパを作成する方法がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の剥離膜
処理には次のような欠点があった。 （１）処理に使用するクロム酸塩は毒性を有するため、
取り扱いに注意を要し、また廃液処理の費用が増える。 （２）電解酸化法はクロム酸塩処理に比べ、安全性の面
では問題ないが、複製の繰り返しによってマスタースタ
ンパまたはマザースタンパの微細形状が変化してしまう
ため、複製回数が増やせない。
処理には次のような欠点があった。 （１）処理に使用するクロム酸塩は毒性を有するため、
取り扱いに注意を要し、また廃液処理の費用が増える。 （２）電解酸化法はクロム酸塩処理に比べ、安全性の面
では問題ないが、複製の繰り返しによってマスタースタ
ンパまたはマザースタンパの微細形状が変化してしまう
ため、複製回数が増やせない。
【０００４】
【課題を解決するための手段】そこで本発明者らは、鋭
意検討の結果、新たなる剥離膜処理として過酸化水素水
による処理が有効であることを見出し本発明に到達し
た。すなわち本発明は、前述の欠点を有する処理方法に
かえて、毒性がなく、廃液処理の必要もなく、かつ複製
の繰り返しによってもマスタースタンパおよびマザース
タンパの凹凸微細形状の変化が少なく、安定した形状の
複製スタンパを製造する方法を提供することを目的とし
ており、かかる目的は、マスタースタンパより電鋳によ
りマザースタンパを作成する方法において、電鋳前にマ
スタースタンパに過酸化水素水処理を施すことを特徴と
するマザースタンパの製造方法、及びマザースタンパよ
り電鋳により複製スタンパを作成する方法において、電
鋳前にマザースタンパに過酸化水素水処理を施すことを
特徴とする複製スタンパの製造方法、により容易に達成
される。
意検討の結果、新たなる剥離膜処理として過酸化水素水
による処理が有効であることを見出し本発明に到達し
た。すなわち本発明は、前述の欠点を有する処理方法に
かえて、毒性がなく、廃液処理の必要もなく、かつ複製
の繰り返しによってもマスタースタンパおよびマザース
タンパの凹凸微細形状の変化が少なく、安定した形状の
複製スタンパを製造する方法を提供することを目的とし
ており、かかる目的は、マスタースタンパより電鋳によ
りマザースタンパを作成する方法において、電鋳前にマ
スタースタンパに過酸化水素水処理を施すことを特徴と
するマザースタンパの製造方法、及びマザースタンパよ
り電鋳により複製スタンパを作成する方法において、電
鋳前にマザースタンパに過酸化水素水処理を施すことを
特徴とする複製スタンパの製造方法、により容易に達成
される。
【０００５】以下本発明をより詳細に説明する。本発明
の複製スタンパの製造方法は、マスタースタンパまたは
マザースタンパの表面を、過酸化水素水に一定時間接触
または浸漬することにより、剥離膜処理を行うことによ
り、複製スタンパの剥離性の向上及び複製の繰り返しに
よるマスタースタンパおよびマザースタンパの凹凸微細
形状の変化が少ないことを特徴としている。
の複製スタンパの製造方法は、マスタースタンパまたは
マザースタンパの表面を、過酸化水素水に一定時間接触
または浸漬することにより、剥離膜処理を行うことによ
り、複製スタンパの剥離性の向上及び複製の繰り返しに
よるマスタースタンパおよびマザースタンパの凹凸微細
形状の変化が少ないことを特徴としている。
【０００６】この時使用する過酸化水素水の濃度は特に
限定されないが、爆発の可能性を考慮して５０ｗｔ％以
下が好ましい。また、あまり薄過ぎれば処理に時間がか
かってしまうので、１０ｗｔ％以上が好ましく、特に好
ましくは２０〜４０ｗｔ％である。処理時間はこれも過
酸化水素水の濃度に応じて決められるが、１分以上３０
分以下にすることが好ましい。
限定されないが、爆発の可能性を考慮して５０ｗｔ％以
下が好ましい。また、あまり薄過ぎれば処理に時間がか
かってしまうので、１０ｗｔ％以上が好ましく、特に好
ましくは２０〜４０ｗｔ％である。処理時間はこれも過
酸化水素水の濃度に応じて決められるが、１分以上３０
分以下にすることが好ましい。
【０００７】この過酸化水素水処理を除けば、スタンパ
の製造方法としては常法に従えばよい。一例としては、
ガラス基板上にフォトレジスト層を設け、フォトリソグ
ラフィー法により凹凸微細形状を形成し、次いでこの微
細形状の上に通常はニッケルから成る導電性皮膜をスパ
ッタ、蒸着、めっき等により形成し、その上にニッケル
電鋳を行いマスタースタンパを作成する。このマスター
スタンパに過酸化水素水処理を行い、その後ニッケル電
鋳を行いマザースタンパを得る。又、このマザースタン
パに過酸化水素水処理を行って、ニッケル電鋳を行うこ
とにより複製スタンパを得ることができる。
の製造方法としては常法に従えばよい。一例としては、
ガラス基板上にフォトレジスト層を設け、フォトリソグ
ラフィー法により凹凸微細形状を形成し、次いでこの微
細形状の上に通常はニッケルから成る導電性皮膜をスパ
ッタ、蒸着、めっき等により形成し、その上にニッケル
電鋳を行いマスタースタンパを作成する。このマスター
スタンパに過酸化水素水処理を行い、その後ニッケル電
鋳を行いマザースタンパを得る。又、このマザースタン
パに過酸化水素水処理を行って、ニッケル電鋳を行うこ
とにより複製スタンパを得ることができる。
【０００８】
【実施例】以下、本発明を実施例を用いてより詳細に説
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。図１は本発明の一実施例に係わるＮｉスタンパの
製造方法の製造工程を示す図である。先ず、研磨、洗浄
したガラス基板１を準備し（工程ａ）、その表面にフォ
トレジスト２を塗布する（工程ｂ）、そしてこのフォト
レジスト２に対して、レーザーを用いて露光を行い、し
かる後に現像し、凹凸微細形状を得る（工程ｃ）。次
に、この凹凸微細形状の表面に導電性を付与するため、
スパッタリング、真空蒸着または無電解めっき等の手段
により、該表面に導電性皮膜３を形成する（工程ｄ）。
次にニッケル電鋳を行いニッケル電鋳層４を形成し（工
程ｅ）、ガラス基板１側とニッケル電鋳層４とを剥離
し、ニッケル電鋳層４側をニッケルマスター５とする
（工程ｆ）。次に、このニッケルマスター５の凹凸微細
形状が形成された面側に過酸化水素水を所定時間接触さ
せることによって剥離皮膜処理を施してニッケル酸化膜
６を形成し（工程ｇ）、その後、ニッケル電鋳を行い
（工程ｈ）、そのニッケル電鋳層を剥離してニッケルマ
ザー７を得る。ニッケル酸化膜６の形成のための処理時
間は使用する過酸化水素水の濃度によって変化させる必
要があるが、本実施例では３０％濃度で５分間の処理を
行った。次に、ニッケルマザー７に上述と同様に剥離皮
膜処理を施してニッケル酸化膜８を形成させた後（工程
ｉ）、ニッケル電鋳を行い（工程ｊ）、形成された電鋳
層を剥離して複製スタンパ９が得られる（工程ｋ）。上
記条件により製造した複製スタンパの剥離性と複製のく
り返しによるマスターの溝形状変化の評価結果を表−１
及び図−２に示す。
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。図１は本発明の一実施例に係わるＮｉスタンパの
製造方法の製造工程を示す図である。先ず、研磨、洗浄
したガラス基板１を準備し（工程ａ）、その表面にフォ
トレジスト２を塗布する（工程ｂ）、そしてこのフォト
レジスト２に対して、レーザーを用いて露光を行い、し
かる後に現像し、凹凸微細形状を得る（工程ｃ）。次
に、この凹凸微細形状の表面に導電性を付与するため、
スパッタリング、真空蒸着または無電解めっき等の手段
により、該表面に導電性皮膜３を形成する（工程ｄ）。
次にニッケル電鋳を行いニッケル電鋳層４を形成し（工
程ｅ）、ガラス基板１側とニッケル電鋳層４とを剥離
し、ニッケル電鋳層４側をニッケルマスター５とする
（工程ｆ）。次に、このニッケルマスター５の凹凸微細
形状が形成された面側に過酸化水素水を所定時間接触さ
せることによって剥離皮膜処理を施してニッケル酸化膜
６を形成し（工程ｇ）、その後、ニッケル電鋳を行い
（工程ｈ）、そのニッケル電鋳層を剥離してニッケルマ
ザー７を得る。ニッケル酸化膜６の形成のための処理時
間は使用する過酸化水素水の濃度によって変化させる必
要があるが、本実施例では３０％濃度で５分間の処理を
行った。次に、ニッケルマザー７に上述と同様に剥離皮
膜処理を施してニッケル酸化膜８を形成させた後（工程
ｉ）、ニッケル電鋳を行い（工程ｊ）、形成された電鋳
層を剥離して複製スタンパ９が得られる（工程ｋ）。上
記条件により製造した複製スタンパの剥離性と複製のく
り返しによるマスターの溝形状変化の評価結果を表−１
及び図−２に示す。
【０００９】
【表１】 ※溝幅測定法：反射法光学溝形状測定装置使用
【００１０】比較例として、マスタースタンパの剥離膜
処理を電解酸化法に変えた以外は、実施例と同様の条件
で複製スタンパを製造した。電解酸化法としては具体的
には金属キレート剤、界面活性剤、苛性ソーダーを含む
アルカリ電解液中に対極板とスタンパを浸漬し先ずスタ
ンパを陰極として１０Ａ／ｄｍ2 の電流密度で３０秒間
清浄化を行い、次いでスタンパを陽極として１Ａ／ｄｍ
2 の電流密度で１０秒間酸化処理を行った。評価結果を
表−２及び図２に示す。
処理を電解酸化法に変えた以外は、実施例と同様の条件
で複製スタンパを製造した。電解酸化法としては具体的
には金属キレート剤、界面活性剤、苛性ソーダーを含む
アルカリ電解液中に対極板とスタンパを浸漬し先ずスタ
ンパを陰極として１０Ａ／ｄｍ2 の電流密度で３０秒間
清浄化を行い、次いでスタンパを陽極として１Ａ／ｄｍ
2 の電流密度で１０秒間酸化処理を行った。評価結果を
表−２及び図２に示す。
【００１１】
【表２】 ※溝幅測定法：反射法光学溝形状測定装置使用
【００１２】実施例の場合、比較例の電解酸化法に比
べ、明らかに変化が小さく、安定した溝形状を有するマ
ザースタンパが得られた。一方、電解酸化法による場合
は、剥離性は遜色ないが、溝形状の変化が大きい。これ
は陽極酸化法の場合はマスタースタンパが不動態化する
ためにアノード分極すると、まず金属のアノード溶解反
応が進行するため、溝形状が変化してしまうことによ
る。尚、本実施例、比較例においては、マスタースタン
パよりマザースタンパを作成する場合についてのデータ
を示したが、マザースタンパより複製スタンパを得る場
合にも、同様の効果が得られることは明らかである。
べ、明らかに変化が小さく、安定した溝形状を有するマ
ザースタンパが得られた。一方、電解酸化法による場合
は、剥離性は遜色ないが、溝形状の変化が大きい。これ
は陽極酸化法の場合はマスタースタンパが不動態化する
ためにアノード分極すると、まず金属のアノード溶解反
応が進行するため、溝形状が変化してしまうことによ
る。尚、本実施例、比較例においては、マスタースタン
パよりマザースタンパを作成する場合についてのデータ
を示したが、マザースタンパより複製スタンパを得る場
合にも、同様の効果が得られることは明らかである。
【００１３】
【発明の効果】本発明の方法によれば、剥離性が良好
で、溝形状変化の少ないスタンパを安定して製造するこ
とが可能である。更に、有毒性もなく、廃液処理等の必
要がないため、工業上極めて有利に使用し得る。
で、溝形状変化の少ないスタンパを安定して製造するこ
とが可能である。更に、有毒性もなく、廃液処理等の必
要がないため、工業上極めて有利に使用し得る。
【図１】図１は本発明の実施例に係るスタンパの製造方
法の工程の説明図。
法の工程の説明図。
【図２】図２は複製回数と溝形状変化の関係を比較例で
ある従来法の電解酸化法との比較を示す図。
ある従来法の電解酸化法との比較を示す図。
１…ガラス基板、２…フォトレジスト、３…導電性皮
膜、４…ニッケル電鋳層、５…ニッケルマスター、６，
８…ニッケル酸化膜、７…ニッケルマザー、９…ニッケ
ルスタンパ。
膜、４…ニッケル電鋳層、５…ニッケルマスター、６，
８…ニッケル酸化膜、７…ニッケルマザー、９…ニッケ
ルスタンパ。
Claims (2)
- 【請求項１】 マスタースタンパより電鋳によりマザー
スタンパを作成する方法において、電鋳前にマスタース
タンパに過酸化水素水処理を施すことを特徴とするマザ
ースタンパの製造方法。 - 【請求項２】 マザースタンパより電鋳により複製スタ
ンパを作成する方法において、電鋳前にマザースタンパ
に過酸化水素水処理を施すことを特徴とする複製スタン
パの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15944797A JPH117663A (ja) | 1997-06-17 | 1997-06-17 | スタンパの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15944797A JPH117663A (ja) | 1997-06-17 | 1997-06-17 | スタンパの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH117663A true JPH117663A (ja) | 1999-01-12 |
Family
ID=15693962
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15944797A Pending JPH117663A (ja) | 1997-06-17 | 1997-06-17 | スタンパの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH117663A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1027978A2 (en) * | 1999-02-09 | 2000-08-16 | Ricoh Company, Ltd. | Optical disk and method of producing the same |
| WO2006027732A2 (en) * | 2004-09-07 | 2006-03-16 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Replication of a high-density relief structure |
| KR100857613B1 (ko) | 2007-05-29 | 2008-09-09 | (주)이모트 | 극미세패턴을 원하는 형상과 크기로 형성할 수 있는전주마스터 및 그의 제조 방법과 이를 이용한 전자파차폐메쉬 및 스트라이프 전극이 부가된 필름 및 그의 제조 방법 |
| JP5073878B1 (ja) * | 2011-11-15 | 2012-11-14 | 株式会社Ｌｅａｐ | 転写金型の製造方法、それによって作製された転写金型、及びその転写金型によって作製された部品 |
| WO2013072955A1 (ja) * | 2011-11-15 | 2013-05-23 | 株式会社Ｌｅａｐ | 多段転写金型の製造方法、その多段転写金型、及びそれによる部品 |
-
1997
- 1997-06-17 JP JP15944797A patent/JPH117663A/ja active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1027978A2 (en) * | 1999-02-09 | 2000-08-16 | Ricoh Company, Ltd. | Optical disk and method of producing the same |
| EP1027978A3 (en) * | 1999-02-09 | 2000-09-27 | Ricoh Company, Ltd. | Optical disk and method of producing the same |
| US6468618B1 (en) | 1999-02-09 | 2002-10-22 | Ricoh Company, Ltd. | Optical disk and method of producing the same |
| US6686018B2 (en) | 1999-02-09 | 2004-02-03 | Ricoh Company, Ltd. | Optical disk and method of producing the same |
| US6998163B2 (en) | 1999-02-09 | 2006-02-14 | Ricoh Company, Ltd. | Optical disk and method of producing the same |
| US7419710B2 (en) | 1999-02-09 | 2008-09-02 | Ricoh Company, Ltd. | Stamper for molding article and method of producing said stamper |
| WO2006027732A3 (en) * | 2004-09-07 | 2006-05-18 | Koninkl Philips Electronics Nv | Replication of a high-density relief structure |
| WO2006027732A2 (en) * | 2004-09-07 | 2006-03-16 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Replication of a high-density relief structure |
| KR100857613B1 (ko) | 2007-05-29 | 2008-09-09 | (주)이모트 | 극미세패턴을 원하는 형상과 크기로 형성할 수 있는전주마스터 및 그의 제조 방법과 이를 이용한 전자파차폐메쉬 및 스트라이프 전극이 부가된 필름 및 그의 제조 방법 |
| JP5073878B1 (ja) * | 2011-11-15 | 2012-11-14 | 株式会社Ｌｅａｐ | 転写金型の製造方法、それによって作製された転写金型、及びその転写金型によって作製された部品 |
| WO2013072955A1 (ja) * | 2011-11-15 | 2013-05-23 | 株式会社Ｌｅａｐ | 多段転写金型の製造方法、その多段転写金型、及びそれによる部品 |
| WO2013072953A1 (ja) * | 2011-11-15 | 2013-05-23 | 株式会社Ｌｅａｐ | 転写金型の製造方法、それによって作製された転写金型、及びその転写金型によって作製された部品 |
| CN104024487A (zh) * | 2011-11-15 | 2014-09-03 | 株式会社Ｌｅａｐ | 转印模具的制造方法、利用该方法制造的转印模具以及利用该转印模具制造的零件 |
| CN104024486A (zh) * | 2011-11-15 | 2014-09-03 | 株式会社Ｌｅａｐ | 多段转印模具的制造方法、多段转印模具以及以该方法、模具而得的零件 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040406 |