JPH07262624A - ディスク用金属原盤の製造方法 - Google Patents
ディスク用金属原盤の製造方法Info
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- JPH07262624A JPH07262624A JP5540294A JP5540294A JPH07262624A JP H07262624 A JPH07262624 A JP H07262624A JP 5540294 A JP5540294 A JP 5540294A JP 5540294 A JP5540294 A JP 5540294A JP H07262624 A JPH07262624 A JP H07262624A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ＣＤ（コンパクトディスク）やＬＤ（レーザ
ーディスク）などのディスク製造のためのマスタリング
におけるディスク用金属原盤の製造方法に関し、メタル
マスター、マザー、スタンパーなどの金属原盤の製造に
際して有害な廃液を生ずることのない、環境保全に優れ
たディスク用金属原盤の製造方法を提供することを目的
とする。 【構成】 金属原盤７の表面に付着したフォトレジスト
の除去、洗浄ならびにフィルミング（不働態化）を酸素
プラズマ処理によって行なうようにした。
ーディスク）などのディスク製造のためのマスタリング
におけるディスク用金属原盤の製造方法に関し、メタル
マスター、マザー、スタンパーなどの金属原盤の製造に
際して有害な廃液を生ずることのない、環境保全に優れ
たディスク用金属原盤の製造方法を提供することを目的
とする。 【構成】 金属原盤７の表面に付着したフォトレジスト
の除去、洗浄ならびにフィルミング（不働態化）を酸素
プラズマ処理によって行なうようにした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＣＤ（コンパクトディ
スク）やＬＤ（レーザーディスク）などのディスク製造
のためのマスタリングにおける金属原盤の製造方法に関
する。
スク）やＬＤ（レーザーディスク）などのディスク製造
のためのマスタリングにおける金属原盤の製造方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】ＣＤやＬＤなどのディスクの生産プロセ
スは、ガラス原盤からメタルマスター、マザー、スタン
パーなどの金属原盤を作製するマスタリングと、マスタ
リングによって得られたスタンパーを用いて目的のディ
スクを大量複製するレプリケーションとに分けられる
が、従来のマスタリングでは、図３に示すような方法に
よってガラス原盤からメタルマスター、マザーさらには
スタンパーを作っていた。
スは、ガラス原盤からメタルマスター、マザー、スタン
パーなどの金属原盤を作製するマスタリングと、マスタ
リングによって得られたスタンパーを用いて目的のディ
スクを大量複製するレプリケーションとに分けられる
が、従来のマスタリングでは、図３に示すような方法に
よってガラス原盤からメタルマスター、マザーさらには
スタンパーを作っていた。
【０００３】以下、図３の従来方法の各処理工程につい
て説明する。 (1) ガラスマスター作製（図３（ａ）） ガラスマスターの詳細な製造方法については省略する
が、マスターテープなどに編集された記録信号によって
レーザー光をＯＮ・ＯＦＦ変調し、この変調されたレー
ザー光を回転するガラス原盤に向けて照射し、ガラス基
板表面に塗布したフォトレジスト（感光剤）を感光さ
せ、これを現像して感光部分をエッチングすることによ
り、記録信号に従ったピットをカッテングされたガラス
マスターが得られる。
て説明する。 (1) ガラスマスター作製（図３（ａ）） ガラスマスターの詳細な製造方法については省略する
が、マスターテープなどに編集された記録信号によって
レーザー光をＯＮ・ＯＦＦ変調し、この変調されたレー
ザー光を回転するガラス原盤に向けて照射し、ガラス基
板表面に塗布したフォトレジスト（感光剤）を感光さ
せ、これを現像して感光部分をエッチングすることによ
り、記録信号に従ったピットをカッテングされたガラス
マスターが得られる。
【０００４】(2) 導電膜付与処理（図３（ｂ）） レーザーカッテングされたガラスマスターの表面は、電
気的に不導体である。このため、そのままでは次のメタ
ルマスター作製のための電鋳（電気めっき）処理を行な
うことができない。そこで、電鋳の前処理として、真空
蒸着やスパッタリングのＰＶＤ法や無電解めっき法など
を用いて、ガラスマスターの表面に銀やニッケルなどの
導電膜を形成する。
気的に不導体である。このため、そのままでは次のメタ
ルマスター作製のための電鋳（電気めっき）処理を行な
うことができない。そこで、電鋳の前処理として、真空
蒸着やスパッタリングのＰＶＤ法や無電解めっき法など
を用いて、ガラスマスターの表面に銀やニッケルなどの
導電膜を形成する。
【０００５】(3) 電鋳（電気めっき）処理および剥離処
理（図３（ｃ)(ｄ）） ガラスマスターの表面に形成された導電膜を陰極として
ニッケルめっきを施し、ガラスマスターの表面に所定の
厚さからなるニッケルのメタルマスターを形成する。そ
して、このメタルマスターをガラスマスターから剥離す
ることにより、ピットの転写されたメタルマスターを得
る。
理（図３（ｃ)(ｄ）） ガラスマスターの表面に形成された導電膜を陰極として
ニッケルめっきを施し、ガラスマスターの表面に所定の
厚さからなるニッケルのメタルマスターを形成する。そ
して、このメタルマスターをガラスマスターから剥離す
ることにより、ピットの転写されたメタルマスターを得
る。
【０００６】(4) フォトレジスト除去処理および洗浄処
理（図３（ｅ）（ｆ）） ガラスマスターからメタルマスターを剥離する際にガラ
スマスター表面のフォトレジストも一緒に剥離され、メ
タルマスターの表面に付着する。そこで、このメタルマ
スターの表面に付着したフォトレジストなどの有機物を
除去した後、その表面を洗浄する。この洗浄は、有機溶
剤あるいは酸やアルカリ洗剤を用いた、いわゆる湿式洗
浄が一般的である。
理（図３（ｅ）（ｆ）） ガラスマスターからメタルマスターを剥離する際にガラ
スマスター表面のフォトレジストも一緒に剥離され、メ
タルマスターの表面に付着する。そこで、このメタルマ
スターの表面に付着したフォトレジストなどの有機物を
除去した後、その表面を洗浄する。この洗浄は、有機溶
剤あるいは酸やアルカリ洗剤を用いた、いわゆる湿式洗
浄が一般的である。
【０００７】 (5) フィルミング（不働態化）処理（図３（ｇ）） 得られたメタルマスターの表面を酸化剤あるいは電解酸
化などで酸化することにより不働態膜を形成し、金属原
盤の表面をフィルミング（不働態化）して安定化する。
化などで酸化することにより不働態膜を形成し、金属原
盤の表面をフィルミング（不働態化）して安定化する。
【０００８】(6) 水洗処理（図３（ｈ）） 前記のようにして得られたメタルマスターを超純水など
で洗浄することにより、マザー作製用のメタルマスター
が完成する。
で洗浄することにより、マザー作製用のメタルマスター
が完成する。
【０００９】(7) マザー作製（図３（ｉ）〜（ｎ）） 上記のようにして得られたメタルマスターに対して、前
述したメタルマスター作製時と同様の、電鋳、剥離、水
洗、洗浄、フィルミング、水洗処理を順次施すことによ
り、スタンパー作製用のマザーが得られる。
述したメタルマスター作製時と同様の、電鋳、剥離、水
洗、洗浄、フィルミング、水洗処理を順次施すことによ
り、スタンパー作製用のマザーが得られる。
【００１０】 (8) スタンパー作製（図３（ｏ）〜（ｔ）） 前記処理によって得られたマザーにニッケルめっきを施
してスタンパーを形成し、これを剥離した後、その表面
にスタンパー保護膜を塗布する。次いで、金型に取り付
けることができるようにするために、スタンパー裏面の
研磨とスタンパー内外の形加工を行なった後、その表面
を洗浄してスタンパーが完成する。
してスタンパーを形成し、これを剥離した後、その表面
にスタンパー保護膜を塗布する。次いで、金型に取り付
けることができるようにするために、スタンパー裏面の
研磨とスタンパー内外の形加工を行なった後、その表面
を洗浄してスタンパーが完成する。
【００１１】 (9) ディスク成形（レプリケーション）（図３（ｕ）） 前記のようにして得られたスタンパーは、ディスク製造
用の射出成形機や圧縮成形機などに取り付けられ、成形
加工によって目的のディスクが大量生産されるものであ
る。
用の射出成形機や圧縮成形機などに取り付けられ、成形
加工によって目的のディスクが大量生産されるものであ
る。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】図３から明らかなよう
に、マスタリングにおけるメタルマスター、マザー、ス
タンパーなどの金属原盤の作製に際しては、表面に付着
したフォトレジストの除去（図３（ｅ））、洗浄（図３
（ｆ)(ｌ)(ｔ））、フィルミング（不働態化）（図３
（ｇ)(ｍ））などの処理が不可欠である。
に、マスタリングにおけるメタルマスター、マザー、ス
タンパーなどの金属原盤の作製に際しては、表面に付着
したフォトレジストの除去（図３（ｅ））、洗浄（図３
（ｆ)(ｌ)(ｔ））、フィルミング（不働態化）（図３
（ｇ)(ｍ））などの処理が不可欠である。
【００１３】ところで、従来においては、前記説明中で
も述べたように、フォトレジストの除去処理と洗浄処理
は有機溶剤や酸・アルカリ洗剤で、また、フィルミング
（不働態化）処理は酸化剤や電解酸化でそれぞれ行なっ
ており、いずれも溶液を用いた湿式処理によるものであ
った。このため、従来の製造方法においては、その処理
過程において有害な廃液を生じ、廃液処理に多大の費用
と設備を要するという問題があった。
も述べたように、フォトレジストの除去処理と洗浄処理
は有機溶剤や酸・アルカリ洗剤で、また、フィルミング
（不働態化）処理は酸化剤や電解酸化でそれぞれ行なっ
ており、いずれも溶液を用いた湿式処理によるものであ
った。このため、従来の製造方法においては、その処理
過程において有害な廃液を生じ、廃液処理に多大の費用
と設備を要するという問題があった。
【００１４】本発明は、前記問題を解決するためになさ
れたもので、メタルマスター、マザー、スタンパーなど
の金属原盤の製造に際して廃液を生ずることのない、環
境保全に優れたディスク用金属原盤の製造方法を提供す
ることを目的としている。
れたもので、メタルマスター、マザー、スタンパーなど
の金属原盤の製造に際して廃液を生ずることのない、環
境保全に優れたディスク用金属原盤の製造方法を提供す
ることを目的としている。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、ＣＤ，ＬＤなどのディスク製造のための
マスタリングにおけるディスク用金属原盤の製造方法に
おいて、金属原盤の表面に付着したフォトレジストの除
去、洗浄ならびにフィルミング（不働態化）を酸素プラ
ズマ処理によって行なうことを特徴としている。
成するために、ＣＤ，ＬＤなどのディスク製造のための
マスタリングにおけるディスク用金属原盤の製造方法に
おいて、金属原盤の表面に付着したフォトレジストの除
去、洗浄ならびにフィルミング（不働態化）を酸素プラ
ズマ処理によって行なうことを特徴としている。
【００１６】
【作用】上述のように、金属原盤の表面に付着したフォ
トレジストの除去、洗浄ならびにフィルミング（不働態
化）を、酸素プラズマ処理によって行なうので、有害な
廃液を生ずることがなくなる。また、Ｏ2 プラズマを用
いた乾式処理であるため、どのような小さな凹凸部分で
も確実に処理され、均一な表面処理が実現される。さら
に、金属表面の有機物の除去、洗浄ならびにフィルミン
グ（不働態化）が同時に実現されるので、従来方法に比
べて処理工程を減らすことができる。
トレジストの除去、洗浄ならびにフィルミング（不働態
化）を、酸素プラズマ処理によって行なうので、有害な
廃液を生ずることがなくなる。また、Ｏ2 プラズマを用
いた乾式処理であるため、どのような小さな凹凸部分で
も確実に処理され、均一な表面処理が実現される。さら
に、金属表面の有機物の除去、洗浄ならびにフィルミン
グ（不働態化）が同時に実現されるので、従来方法に比
べて処理工程を減らすことができる。
【００１７】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。図
１には、本発明の製造方法の１実施例が示されている。
なお、図３の従来方法と同一の処理部分には同一の符号
を付して示した。図示の実施例が、図３の従来方法と異
なる点は、 従来方法におけるメタルマスターのフォトレジスト
処理（図３（ｅ））、洗浄処理（図３（ｆ））およびフ
ィルミング（不働態化）処理（図３（ｇ））という３つ
の処理（点線で囲んで示した）を、図１（Ｉ）の酸素プ
ラズマ処理で置き換えた点 従来方法におけるマザーの洗浄処理（図３（ｌ））
およびフィルミング（不働態化）処理（図３（ｍ））と
いう２つの処理（点線で囲んで示した）を、図１（II）
の酸素プラズマ処理で置き換えた点 従来方法におけるスタンパーの洗浄処理（図３
（ｔ））（点線で囲んで示した）を、図１(III) の酸素
プラズマ処理で置き換えた点である。
１には、本発明の製造方法の１実施例が示されている。
なお、図３の従来方法と同一の処理部分には同一の符号
を付して示した。図示の実施例が、図３の従来方法と異
なる点は、 従来方法におけるメタルマスターのフォトレジスト
処理（図３（ｅ））、洗浄処理（図３（ｆ））およびフ
ィルミング（不働態化）処理（図３（ｇ））という３つ
の処理（点線で囲んで示した）を、図１（Ｉ）の酸素プ
ラズマ処理で置き換えた点 従来方法におけるマザーの洗浄処理（図３（ｌ））
およびフィルミング（不働態化）処理（図３（ｍ））と
いう２つの処理（点線で囲んで示した）を、図１（II）
の酸素プラズマ処理で置き換えた点 従来方法におけるスタンパーの洗浄処理（図３
（ｔ））（点線で囲んで示した）を、図１(III) の酸素
プラズマ処理で置き換えた点である。
【００１８】図２には、本発明方法で用いる酸素プラズ
マ処理装置が示されている。このプラズマ処理装置は、
内部にプラズマ発生器１を備えたプラズマ処理チャンバ
ー２を有しており、該チャンバー２には内部にＯ2 （酸
素）ガスを導入するためのガス供給バルブ３と、内部の
ガスを排気するための排気バルブ４とが備えられてい
る。これらバルブ３，４には、ガスボンベ（図示せず）
と真空ポンプ５が取り付けられるようになっており、そ
れぞれのバルブの開度を制御することにより、チャンバ
ー２内へのガス導入量とチャンバー２内のガス圧力を自
在に制御できるようになっている。
マ処理装置が示されている。このプラズマ処理装置は、
内部にプラズマ発生器１を備えたプラズマ処理チャンバ
ー２を有しており、該チャンバー２には内部にＯ2 （酸
素）ガスを導入するためのガス供給バルブ３と、内部の
ガスを排気するための排気バルブ４とが備えられてい
る。これらバルブ３，４には、ガスボンベ（図示せず）
と真空ポンプ５が取り付けられるようになっており、そ
れぞれのバルブの開度を制御することにより、チャンバ
ー２内へのガス導入量とチャンバー２内のガス圧力を自
在に制御できるようになっている。
【００１９】前記プラズマ発生器１には電源６が接続さ
れており、チャンバー２内にプラズマ処理するメタルマ
スター、マザーあるいはスタンパーなどの金属原盤７を
載置した後、真空ポンプ５でチャンバー２内の空気を抜
くとともに、ガス供給バルブ３を開いてＯ2 ガスを供給
し、所定時間電源６をオンすると、チャンバー２内にＯ
2 プラズマが発生する。金属原盤７の表面に付着したフ
ォトレジストなどの有機物はこのＯ2 プラズマによって
分解されてＣＯ2 やＨ2 Ｏに灰化され、排気バルブ４か
ら外部へ排出される。さらに、このＯ2 プラズマによっ
て金属原盤７の表面が酸化され、フィルミング（不働態
化）が行なわれる。
れており、チャンバー２内にプラズマ処理するメタルマ
スター、マザーあるいはスタンパーなどの金属原盤７を
載置した後、真空ポンプ５でチャンバー２内の空気を抜
くとともに、ガス供給バルブ３を開いてＯ2 ガスを供給
し、所定時間電源６をオンすると、チャンバー２内にＯ
2 プラズマが発生する。金属原盤７の表面に付着したフ
ォトレジストなどの有機物はこのＯ2 プラズマによって
分解されてＣＯ2 やＨ2 Ｏに灰化され、排気バルブ４か
ら外部へ排出される。さらに、このＯ2 プラズマによっ
て金属原盤７の表面が酸化され、フィルミング（不働態
化）が行なわれる。
【００２０】したがって、本発明方法を実現するには、
図１中の（Ｉ）、（II）、(III) の各処理を、それぞれ
図２のプラズマ処理装置を用いて行なえばよい。このよ
うに、Ｏ2 プラズマ処理を行なうと、金属原盤の表面に
付着したフォトレジストなどの有機物の除去、洗浄なら
びに金属表面のフィルミング（不働態化）が同一装置内
で同時に実現される。さらに、溶液を用いない完全な乾
式処理であるため、従来方法のように処理に際して廃液
を生じることがなくなる。
図１中の（Ｉ）、（II）、(III) の各処理を、それぞれ
図２のプラズマ処理装置を用いて行なえばよい。このよ
うに、Ｏ2 プラズマ処理を行なうと、金属原盤の表面に
付着したフォトレジストなどの有機物の除去、洗浄なら
びに金属表面のフィルミング（不働態化）が同一装置内
で同時に実現される。さらに、溶液を用いない完全な乾
式処理であるため、従来方法のように処理に際して廃液
を生じることがなくなる。
【００２１】なお、前記Ｏ2 プラズマ処理を自動化する
には、図２中に示したように、吸気バルブ８を介してチ
ャンバー２に質量分析器（Ｑマス）９を接続し、真空ポ
ンプ１０によってチャンバー２内のガスを吸引して各成
分の量をリアルタイムに分析し、その分析結果に従って
マイクロコンピュータから構成された比較処理回路１１
を用いて電源６の供給電圧、バルブ３，４の開度が最適
となるように制御すればよい。また、チャンバー２内に
供給されるＯ2 ガスには、プラズマ処理の促進と安定化
を図るため、Ｈｅガスを添加することが望ましい。
には、図２中に示したように、吸気バルブ８を介してチ
ャンバー２に質量分析器（Ｑマス）９を接続し、真空ポ
ンプ１０によってチャンバー２内のガスを吸引して各成
分の量をリアルタイムに分析し、その分析結果に従って
マイクロコンピュータから構成された比較処理回路１１
を用いて電源６の供給電圧、バルブ３，４の開度が最適
となるように制御すればよい。また、チャンバー２内に
供給されるＯ2 ガスには、プラズマ処理の促進と安定化
を図るため、Ｈｅガスを添加することが望ましい。
【００２２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
Ｏ2 プラズマ処理を利用して金属原盤の表面に付着した
フォトレジストなどの有機物の除去、洗浄ならびにフィ
ルミング（不働態化）を行なうようにしたので、メタル
マスター、マザー、スタンパーなどの金属原盤の製造に
際して有害な廃液を生ずることがなくなり、環境保全に
資するところ大である。
Ｏ2 プラズマ処理を利用して金属原盤の表面に付着した
フォトレジストなどの有機物の除去、洗浄ならびにフィ
ルミング（不働態化）を行なうようにしたので、メタル
マスター、マザー、スタンパーなどの金属原盤の製造に
際して有害な廃液を生ずることがなくなり、環境保全に
資するところ大である。
【００２３】また、Ｏ2 プラズマを用いた乾式処理であ
るため、どのような小さな凹凸部分でも確実に処理する
ことができ、溶液を用いた湿式処理による従来方法に比
べて、より均一な表面処理を実現することができる。
るため、どのような小さな凹凸部分でも確実に処理する
ことができ、溶液を用いた湿式処理による従来方法に比
べて、より均一な表面処理を実現することができる。
【００２４】さらに、有機物の除去、洗浄ならびにフィ
ルミング（不働態化）を同一装置内で同時に行なうこと
ができるので、従来方法に比べて処理工程数が減り、処
理時間と労力を軽減することができる。
ルミング（不働態化）を同一装置内で同時に行なうこと
ができるので、従来方法に比べて処理工程数が減り、処
理時間と労力を軽減することができる。
【図１】本発明の実施例の処理フローを示す図である。
【図２】本発明に用いるプラズマ処理装置の構成例を示
すブロック図である。
すブロック図である。
【図３】従来方法の処理フローを示す図である。
１ プラズマ発生器 ２ プラズマ処理チャンバー ３ ガス供給ブルブ ４ 排気バルブ ５ 真空ポンプ ６ 電源 ７ 金属原盤 ８ 吸気バルブ ９ 質量分析器（Ｑマス） １０ 真空ポンプ １１ 比較処理回路
Claims (1)
- 【請求項１】 ＣＤ，ＬＤなどのディスク製造のための
マスタリングにおけるディスク用金属原盤の製造方法に
おいて、 金属原盤の表面に付着したフォトレジストの除去、洗浄
ならびにフィルミング（不働態化）を酸素プラズマ処理
によって行なうことを特徴とするディスク用金属原盤の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5540294A JPH07262624A (ja) | 1994-03-25 | 1994-03-25 | ディスク用金属原盤の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5540294A JPH07262624A (ja) | 1994-03-25 | 1994-03-25 | ディスク用金属原盤の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07262624A true JPH07262624A (ja) | 1995-10-13 |
Family
ID=12997551
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5540294A Withdrawn JPH07262624A (ja) | 1994-03-25 | 1994-03-25 | ディスク用金属原盤の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07262624A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006289519A (ja) * | 2005-04-06 | 2006-10-26 | Hitachi Industrial Equipment Systems Co Ltd | ナノプリント金型、その製造方法及びこの金型を用いたナノプリント装置並びにナノプリント方法 |
-
1994
- 1994-03-25 JP JP5540294A patent/JPH07262624A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006289519A (ja) * | 2005-04-06 | 2006-10-26 | Hitachi Industrial Equipment Systems Co Ltd | ナノプリント金型、その製造方法及びこの金型を用いたナノプリント装置並びにナノプリント方法 |
| JP4584754B2 (ja) * | 2005-04-06 | 2010-11-24 | 株式会社日立産機システム | ナノプリント金型、その製造方法及びこの金型を用いたナノプリント装置並びにナノプリント方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20010605 |