JPH0338561A - グリセリン誘導体 - Google Patents
グリセリン誘導体Info
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- Pyridine Compounds (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、医薬として優れた作用を有する新規なグリセ
リン誘導体及びその薬理学的に許容できる塩に関する。
リン誘導体及びその薬理学的に許容できる塩に関する。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕血小板
活性化因子CP A F ・・・Platelet A
ctiva−ting Factor ) (以下単
にPAFと略称する)は、近年著しく注目されており、
最近では種々の疾病との関連性が明らかになりつつある
。即ち、炎症をはじめとしてDIC,エンドトキシンシ
ョック、喘息、消化管潰瘍、腎炎、肝炎及び臓器移植時
の拒絶反応などに関与していることが推定されている。
活性化因子CP A F ・・・Platelet A
ctiva−ting Factor ) (以下単
にPAFと略称する)は、近年著しく注目されており、
最近では種々の疾病との関連性が明らかになりつつある
。即ち、炎症をはじめとしてDIC,エンドトキシンシ
ョック、喘息、消化管潰瘍、腎炎、肝炎及び臓器移植時
の拒絶反応などに関与していることが推定されている。
このような状況において、PAF抑制作用を有する化合
物の探索が行われており、その中でも、例えば特開昭6
0−158172号、特開昭61−293954号、特
開昭60−243047号などで示される如くグリセリ
ン誘導体がある。しかしながら、現在のところ、抗PA
F剤としては満足すべきものは出現していない。
物の探索が行われており、その中でも、例えば特開昭6
0−158172号、特開昭61−293954号、特
開昭60−243047号などで示される如くグリセリ
ン誘導体がある。しかしながら、現在のところ、抗PA
F剤としては満足すべきものは出現していない。
このような状況に鑑みて、本発明者等は優れたPAF抑
制作用を有するのみならず、作用の持続性、化合物の安
定性においても優れているグリセリン誘導体について長
年にわたって探索研y′を続けてきた。
制作用を有するのみならず、作用の持続性、化合物の安
定性においても優れているグリセリン誘導体について長
年にわたって探索研y′を続けてきた。
本発明者等は、前記に示した目的で長年鋭意検討を重ね
てきた結果、次に示すグリセリン誘導体又はその薬理学
的に許容できる塩が目的を達成できることを見出し、本
発明を完成した。
てきた結果、次に示すグリセリン誘導体又はその薬理学
的に許容できる塩が目的を達成できることを見出し、本
発明を完成した。
即ち、本発明化合物は、次の一般式(1)で示されるグ
リセリン誘導体又はその薬理学的に許容できる塩である
。
リセリン誘導体又はその薬理学的に許容できる塩である
。
−数式
CH,−0−A
CH−0−B
CH2−D
(1)
〔式中、
Aは
17+
(式中、nは0又はI〜6の整数を意味し、R1,R2
,R3は同−又は相異なる水素原子又はアルコキシ基を
意味する〉で示される基、(式中、mは0又は1〜6の
整数を意味する〉で示される基、又は (式中、pは0又は1〜6の整数を意味する)で示され
る基を意味する。
,R3は同−又は相異なる水素原子又はアルコキシ基を
意味する〉で示される基、(式中、mは0又は1〜6の
整数を意味する〉で示される基、又は (式中、pは0又は1〜6の整数を意味する)で示され
る基を意味する。
Bは低級アルキル基又はアリールアルキル基を意味する
。
。
Dは、
式
%式%)
異なる水素原子又は低級アルキル基を意味する)で示さ
れ基を意味する)で示される基、式−ト(CL)r−N
−(式中、rは1〜3の整数を意味1 し、R7はアシル基を意味する)で示され基、式される
基を意味する。
れ基を意味する)で示される基、式−ト(CL)r−N
−(式中、rは1〜3の整数を意味1 し、R7はアシル基を意味する)で示され基、式される
基を意味する。
qは0又は1〜3の整数を意味する。
(式中 R”、 R9は同−又は相異なる低級アルキル
基を意味する〉で示される基を意味する〕で示される基
を意味する。) 即ち、上記の一般式(1)で表されるグリセリン誘導体
は、優れたPAF抑制作用を有し、更に作用の持続性を
有し、しかも化合物自体が安定性が高いという特徴を有
している。
基を意味する〉で示される基を意味する〕で示される基
を意味する。) 即ち、上記の一般式(1)で表されるグリセリン誘導体
は、優れたPAF抑制作用を有し、更に作用の持続性を
有し、しかも化合物自体が安定性が高いという特徴を有
している。
従って本発明の目的は、優れた抗PAF作用を有する新
規なグリセリン誘導体又はその薬理学的に許容できる塩
を提供することであり、更に本発明の目的は、それらの
製造方法を提供することであり、更に本発明の目的はそ
れを含有する医薬を提供するにある。
規なグリセリン誘導体又はその薬理学的に許容できる塩
を提供することであり、更に本発明の目的は、それらの
製造方法を提供することであり、更に本発明の目的はそ
れを含有する医薬を提供するにある。
B、 R’、 R’、 R’、 R1′の定義にみられ
る低級アルキル基とは、炭素数1〜6の直鎮もしくは分
枝状のアルキル基、例えばメチル、エチル、n−プロピ
ル、n−ブチル、イソプロピル、イソブチル、n−ヘプ
チル、1−エチルプロピル、イソアミル、n−ヘキシル
などをあげることができる。
る低級アルキル基とは、炭素数1〜6の直鎮もしくは分
枝状のアルキル基、例えばメチル、エチル、n−プロピ
ル、n−ブチル、イソプロピル、イソブチル、n−ヘプ
チル、1−エチルプロピル、イソアミル、n−ヘキシル
などをあげることができる。
R’、 R’、 R’の定義にみられる「アルコキシ基
」とは、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ基
などの上記低級アルキル基から誘導された炭素数1〜6
の低級アルコキシ基のほか、炭素数1〜30の直鎖状若
しくは分枝状のアルキル基から誘導されたアルコキシ基
を意味する。好ましいアルコキシ基としては、メトキシ
、エトキシ、プロポキシ基などのほか、炭素数14〜2
2程度のアルコキシ基をあげることができる。この場合
最も好ましい基はRIJs3がいずれもメトキシ基であ
る場合である。
」とは、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ基
などの上記低級アルキル基から誘導された炭素数1〜6
の低級アルコキシ基のほか、炭素数1〜30の直鎖状若
しくは分枝状のアルキル基から誘導されたアルコキシ基
を意味する。好ましいアルコキシ基としては、メトキシ
、エトキシ、プロポキシ基などのほか、炭素数14〜2
2程度のアルコキシ基をあげることができる。この場合
最も好ましい基はRIJs3がいずれもメトキシ基であ
る場合である。
^の定義においては■の場合が最も好ましい。
−
は前記の意味を有する〉で表される基の場合である。こ
れらのうち、最も好ましい基をあげれキシ基を意味する
)で表される基であり、特にR2”が炭素数1〜30の
場合、特に14〜22の場合が最も好ましい。
れらのうち、最も好ましい基をあげれキシ基を意味する
)で表される基であり、特にR2”が炭素数1〜30の
場合、特に14〜22の場合が最も好ましい。
またBの定義においてはメチル基の場合が最も好ましい
。
。
R4及びR7の定義におけるアシル基とは、脂肪族飽和
カルボン酸、脂肪族不飽和カルボン酸、炭素環式カルボ
ン酸又は複素環式カルボン酸のような有機酸の残基があ
げられるが、具体的には、例えばホルミル、アセチル、
プロピオニル、ブチリル、インブチリル、バレリル、イ
ンバレリル、ピバロイルなどの低級アルカノイル基、置
換もしくは無置換のベンゾイル、トルオイル、ナフトイ
ルなどのアロイル基、フロイル、ニコチノイル、イソニ
コチノイルなどのヘテロアロイル基、シクロヘキシルカ
ルボニル基などをあげることができる。これらのうち好
ましいものをあげれば、アセチル、プロピオニルなどの
低級アルカノイル基、置換もしくは無置換のベンゾイル
基であり、最も好ましいものとしては、例えばアセチル
基、olm、 p−メトキシベンゾイル基などをあげ
ることができる。
カルボン酸、脂肪族不飽和カルボン酸、炭素環式カルボ
ン酸又は複素環式カルボン酸のような有機酸の残基があ
げられるが、具体的には、例えばホルミル、アセチル、
プロピオニル、ブチリル、インブチリル、バレリル、イ
ンバレリル、ピバロイルなどの低級アルカノイル基、置
換もしくは無置換のベンゾイル、トルオイル、ナフトイ
ルなどのアロイル基、フロイル、ニコチノイル、イソニ
コチノイルなどのヘテロアロイル基、シクロヘキシルカ
ルボニル基などをあげることができる。これらのうち好
ましいものをあげれば、アセチル、プロピオニルなどの
低級アルカノイル基、置換もしくは無置換のベンゾイル
基であり、最も好ましいものとしては、例えばアセチル
基、olm、 p−メトキシベンゾイル基などをあげ
ることができる。
本発明化合物は式(1)で表されるグリセリン誘導体又
はその薬理学的に許容できる塩である。
はその薬理学的に許容できる塩である。
これらの塩としてはいかなる塩でもよいが、例えば上記
グリセリン誘導体(I)の塩酸塩、臭化水素塩、ヨウ化
水素塩、硫酸塩、リン酸塩などの酸付加塩などのほか、
本発明においては6級アルキル基を意味する)で示され
る基の窒素原子が四級化された四級塩が最も好ましい。
グリセリン誘導体(I)の塩酸塩、臭化水素塩、ヨウ化
水素塩、硫酸塩、リン酸塩などの酸付加塩などのほか、
本発明においては6級アルキル基を意味する)で示され
る基の窒素原子が四級化された四級塩が最も好ましい。
四級塩であればいかなる塩でもよいが、これら四10
(式中、RIGは水素原子又は低級アルキル基を意味し
、Xは薬理学的に許容できるアニオンで(式中、R11
,R9J11は同−又は相異なる低級アルキル基を意味
し、Xは薬理学的に許容できるアニオンを意味する)で
示される基である場合RIG 原子又は低級アルキル基を意味し、Xは薬理学的に許容
できるアニオンである〉で示される基である場合が最も
好ましい。
、Xは薬理学的に許容できるアニオンで(式中、R11
,R9J11は同−又は相異なる低級アルキル基を意味
し、Xは薬理学的に許容できるアニオンを意味する)で
示される基である場合RIG 原子又は低級アルキル基を意味し、Xは薬理学的に許容
できるアニオンである〉で示される基である場合が最も
好ましい。
上記111104711の定義にみられる低級アルキル
基とは、炭素数1〜6の直鎮もしくは分枝状のアルキル
基、例えばメチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル
、イソプロピル、イソブチル、n−へブチル、1−エチ
ルプロピル、イソアミ/、n−ヘキシルなどをあげるこ
とができ、炭素数1〜3程度が好ましく、更にはエチル
基の場合が最も好ましい。
基とは、炭素数1〜6の直鎮もしくは分枝状のアルキル
基、例えばメチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル
、イソプロピル、イソブチル、n−へブチル、1−エチ
ルプロピル、イソアミ/、n−ヘキシルなどをあげるこ
とができ、炭素数1〜3程度が好ましく、更にはエチル
基の場合が最も好ましい。
Xはいかなるアニオンでもよいが、代表的なものをあげ
れば、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、硫酸イ
オン、硝酸イオン、リン酸イオン、酢酸イオンなどの酸
のアニオン、水酸イオンなどをあげることができる。最
も好ましいアニオンは塩素イオンなどのハロゲンイオン
である。
れば、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、硫酸イ
オン、硝酸イオン、リン酸イオン、酢酸イオンなどの酸
のアニオン、水酸イオンなどをあげることができる。最
も好ましいアニオンは塩素イオンなどのハロゲンイオン
である。
本発明の化合物は、分子内に不斉炭素を有し、種々の立
体異性体が存在するが、本発明においては、その各々あ
るいはその混合物のいずれもが本発明に包含されること
は言うまでもない。
体異性体が存在するが、本発明においては、その各々あ
るいはその混合物のいずれもが本発明に包含されること
は言うまでもない。
次に本発明化合物の代表的な製造方法を示す。
製造方法1
式(1)において、0が式−Y−(CH2)q−G (
式中Y、q及びGは前記の意味を有する)である場合は
、例えば次のような方法で製造することができる。
式中Y、q及びGは前記の意味を有する)である場合は
、例えば次のような方法で製造することができる。
口
1
CI+2−0−A
CH2−U LニーN−([:1L2) q−GCH2
−0−A 1 4 (式中、 A、 B、 q、 G及びR4は前記の意味を有する)
7 場合 Ci(、−0−A (’)I−0 (m CH2−0−(CH2) −−N (CH2)q−G CH,−〇−^ l−0−B C)1.−0−(CH2)、−N−(CH,)、−G(
式中、^、 B、 r、 q、 G及びR7は前記の意
味を有する)CH,−0−^ 鵞 CH−0−B (H) CH。
−0−A 1 4 (式中、 A、 B、 q、 G及びR4は前記の意味を有する)
7 場合 Ci(、−0−A (’)I−0 (m CH2−0−(CH2) −−N (CH2)q−G CH,−〇−^ l−0−B C)1.−0−(CH2)、−N−(CH,)、−G(
式中、^、 B、 r、 q、 G及びR7は前記の意
味を有する)CH,−0−^ 鵞 CH−0−B (H) CH。
11−([”H,)q−6
及びGは前記の意味を有する)
(工程l及び工程2〉
本工程は、−数式(II)又は(IV)で表される化合
物を常法によりアシル化してそれぞれ対応する一般式(
III)又は(V)で表される化合物を得る工程である
。
物を常法によりアシル化してそれぞれ対応する一般式(
III)又は(V)で表される化合物を得る工程である
。
アシル化は、例えばR”−OH(式中R4はアシル基を
意味する)又はR’−OH(式中R1はアシル基を意味
する)で表されるカルボン酸の反応性誘導体、例えば酸
無水物、酸ハロゲン化物R’−Hat又はR’−Hal
などを一般式(1■)又は(IV)で表される化合物と
反応させて、目的物質の一つである一般式(III)又
は(V)で表される化合物とする。
意味する)又はR’−OH(式中R1はアシル基を意味
する)で表されるカルボン酸の反応性誘導体、例えば酸
無水物、酸ハロゲン化物R’−Hat又はR’−Hal
などを一般式(1■)又は(IV)で表される化合物と
反応させて、目的物質の一つである一般式(III)又
は(V)で表される化合物とする。
アセチル基を導入する場合、即ちR4又はR7がアセチ
ル基である場合は、無水酢酸を用いることか好ましい結
果を与える。
ル基である場合は、無水酢酸を用いることか好ましい結
果を与える。
記の意味を有する)で表される基である場合うなカルバ
ミルクロリドの使用が好ましい結果を与える。
ミルクロリドの使用が好ましい結果を与える。
本反応は塩基の存在下に反応を行うことが好ましい。
塩基としては、例えば水素化カリウム、水素化ナトリウ
ムのような水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムのよ
うなアルカリ金属、ナトリウムメトキシドのようなナト
リウムアルコラート、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムのような水酸化アルカリ、ピリジン、トリエチルアミ
ンなどの有機塩基、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなど
の炭酸アルカリなどがあげられる。
ムのような水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムのよ
うなアルカリ金属、ナトリウムメトキシドのようなナト
リウムアルコラート、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムのような水酸化アルカリ、ピリジン、トリエチルアミ
ンなどの有機塩基、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなど
の炭酸アルカリなどがあげられる。
本反応は、無溶媒、又は例えばテトラヒドロフラン、ジ
エチルエーテルなどのエーテル類、アセトン、メチルエ
チルケトンのようなケトン類、ベンゼン、トルエンなど
のベンゼン系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリ
アミドなどから選択された溶媒中で行われる。
エチルエーテルなどのエーテル類、アセトン、メチルエ
チルケトンのようなケトン類、ベンゼン、トルエンなど
のベンゼン系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリ
アミドなどから選択された溶媒中で行われる。
反応温度は約−78℃乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
〈工程3〉
本工程は、一般式(Vl)で示される化合物を用い常法
に従い置換反応を行い、一般式(IX)で表される化合
物を得る工程である。
に従い置換反応を行い、一般式(IX)で表される化合
物を得る工程である。
置換反応は、例えばヒダントイン誘導体(Vll)或い
はジケトピペラジン誘導体(Vll+)を塩基処理して
得られるアニオン体を一般式(mで表される化合物と反
応させることにより、目的物質である一般式(IX)で
表される化合物とする。
はジケトピペラジン誘導体(Vll+)を塩基処理して
得られるアニオン体を一般式(mで表される化合物と反
応させることにより、目的物質である一般式(IX)で
表される化合物とする。
塩基としては、例えば水素化カリウム、水素化す) I
Jウムのような水素化アルカリ金属類、金属ナトリウム
のようなアルカリ金属、ナトリウムメトキシドのような
ナトリウムアルコラードなどがあげられる。
Jウムのような水素化アルカリ金属類、金属ナトリウム
のようなアルカリ金属、ナトリウムメトキシドのような
ナトリウムアルコラードなどがあげられる。
本反応は、例えばテトラヒドロフラン、・ジエチルエー
テルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどか
ら選択された溶媒中で行われる。
テルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどか
ら選択された溶媒中で行われる。
四級塩を製造する場合は、前記方法によって製造された
化合物(Ill)、 (V)又は(IX)を例えば次の
製造方法によって四級塩とする。なお、化合物(III
)、 (V)又は(IX)がすでに四級塩となっている
場合はもちろん必要ない。
化合物(Ill)、 (V)又は(IX)を例えば次の
製造方法によって四級塩とする。なお、化合物(III
)、 (V)又は(IX)がすでに四級塩となっている
場合はもちろん必要ない。
(i)
ピリジニウム塩を製造する場合は以下のとおりである。
(1)
Yが式
で示される基である場合
4
CH2−0−A
CH,−0−^
(一連の式中、A、 B、 R’、 q、 R”及びX
li前記の意味を有する) (2) Yが式 %式% で示される基であ R′ る場合 (一連の式中、A、 B、 R’、 r、 q、 R1
0及びXは前 記の意味を有する) (3) Yが式−ト で示される基である場合 CII2−0−A C11,−0−A (式中、 A、 B、 U、 q、 R”及び Xは前記の意味 を有する) 場合は以下のとおりである。
li前記の意味を有する) (2) Yが式 %式% で示される基であ R′ る場合 (一連の式中、A、 B、 R’、 r、 q、 R1
0及びXは前 記の意味を有する) (3) Yが式−ト で示される基である場合 CII2−0−A C11,−0−A (式中、 A、 B、 U、 q、 R”及び Xは前記の意味 を有する) 場合は以下のとおりである。
4
CH。
−A
CH2
−A
〈式中、
A、 B、 R’、 q、 R’、 R’、 R”及び
Xは前 記の意味を有する) (2) Yが式−0 (CH,)。
Xは前 記の意味を有する) (2) Yが式−0 (CH,)。
で示される基であ
7
る場合
C)12−0−A
C11,−0−A
(式中、
A、 B、 R’、 r、 q、 R8,R’、 R”
及びXは 前記の意味を有する) (3) Yが式−〇− で示される基である場合 CH2−0−A CH2−0−^ (式中、 A、 B、 U、 q、 R”、 R’、 R目及びX
は前記 の意味を有する〉 (四級塩化〉 本反応は、前記工程で得られた一般式〈X)。
及びXは 前記の意味を有する) (3) Yが式−〇− で示される基である場合 CH2−0−A CH2−0−^ (式中、 A、 B、 U、 q、 R”、 R’、 R目及びX
は前記 の意味を有する〉 (四級塩化〉 本反応は、前記工程で得られた一般式〈X)。
(Xll)、 (XIV)、 (XVI)、 (XVI
II)又ハ(x×)テ表される化合物を常法により四級
塩化し、それぞれ本発明化合物(XI)、 (Xllr
)、 (XV)、 (XVII)。
II)又ハ(x×)テ表される化合物を常法により四級
塩化し、それぞれ本発明化合物(XI)、 (Xllr
)、 (XV)、 (XVII)。
(X[X)、 (XXI)を得る工程である。即ち、−
数式(X)、 (X[I)、 (XIV)、 (Xm、
(XVIII)又ハ(XX)で表される化合物を一般
式R”−X (式中RIGXは前記の意味を有する)で
表される化合物、又は R11−X (式中R”、X
は前記の意味を有する)で表される化合物と反応させる
ことにより、容易に目的物質である本発明化合物(XI
)、 (Xlll)、 (XV)、 (XVII)、
(XIX) 又ハ(XXI)を得る。ハロゲン化水素
塩とする際はR10−Hal又はR”−Halと反応さ
せる。
数式(X)、 (X[I)、 (XIV)、 (Xm、
(XVIII)又ハ(XX)で表される化合物を一般
式R”−X (式中RIGXは前記の意味を有する)で
表される化合物、又は R11−X (式中R”、X
は前記の意味を有する)で表される化合物と反応させる
ことにより、容易に目的物質である本発明化合物(XI
)、 (Xlll)、 (XV)、 (XVII)、
(XIX) 又ハ(XXI)を得る。ハロゲン化水素
塩とする際はR10−Hal又はR”−Halと反応さ
せる。
本反応は好ましくは窒素中遮光して行われ、無溶媒、又
は例えばジクロロメタン、クロロホルムなどの塩化炭素
系溶媒、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒など
から選択された溶媒中で行われる。
は例えばジクロロメタン、クロロホルムなどの塩化炭素
系溶媒、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒など
から選択された溶媒中で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
なお、本製造方法において、出発物質として用いられる
一般式(II)で表される化合物は、例えば次のいくつ
かの方法により製造できる。
一般式(II)で表される化合物は、例えば次のいくつ
かの方法により製造できる。
製造方法1において、出発物質として用いられる一般式
(11)で表される化合物は、例えば次のような具体的
な製造方法により得ることができる。
(11)で表される化合物は、例えば次のような具体的
な製造方法により得ることができる。
1
である場合
CH2−OH
CO−0−B (XXII)CH2−
DH CH2−011 [:H2−[]−3Oz−[:H3 CH2−0−A 審 (XXXI) CI+□−〇−A CH−0−111 C11,−0)1 (XXVI) CH,−0−A なお、−数式(XXVI)で表される化合物は、次の方
法によっても製造することができる。
DH CH2−011 [:H2−[]−3Oz−[:H3 CH2−0−A 審 (XXXI) CI+□−〇−A CH−0−111 C11,−0)1 (XXVI) CH,−0−A なお、−数式(XXVI)で表される化合物は、次の方
法によっても製造することができる。
C11z−Off
l−0−B
CH,−0N
(XXII)
CH2−0−A
CC11−0−E
l(XX
CL−014
製造例1で用いられる出発物質(IV)は、ば次のよう
な製造方法で製造される。
な製造方法で製造される。
例え
C1,−0−^
CH−0−8
CL−0)1
(XXVI)
CH2−0−(CL) 、−DH
(XXXVI)
製造方法1において、出発物質として用いられる一般式
(Vl)で表される化合物は、例えば次の方法によって
製造できる。
(Vl)で表される化合物は、例えば次の方法によって
製造できる。
CH2−0−A
l−0−8
CH,−0)1
(XXVI)
(”H,−0−A
CH−0−B (Vl)CH2−
0−3o2−V (式中、A、 B、 Vは前記の意味を有する)上述し
た出発物質を製造する際の各工程について簡単に説明す
れば以下のとおりである。
0−3o2−V (式中、A、 B、 Vは前記の意味を有する)上述し
た出発物質を製造する際の各工程について簡単に説明す
れば以下のとおりである。
(工程A〉
一般式(XXII)で表される化合物とジヒドロピラン
を酸存在下反応させることにより、−般式(XXIII
)で表される化合物を得ることができる。
を酸存在下反応させることにより、−般式(XXIII
)で表される化合物を得ることができる。
酸としては、例えばp−)ルエンスルホン酸、ピリジニ
ウムp−)ルエンスルホネートなどをあげることができ
る。
ウムp−)ルエンスルホネートなどをあげることができ
る。
本反応は通常、例えばジクロロメタン、クロロホルムな
どの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどのベ
ンゼン系溶媒、ヘキサンなどの溶媒中で行われる。
どの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどのベ
ンゼン系溶媒、ヘキサンなどの溶媒中で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒の沸点まで適宜選ばれる。
(工程B〉
一般式(XXIll)で表される化合物とメタンスルホ
ニルクロリドを塩基存在下反応させることにより、一般
式(XXIV)で表される化合物を得ることができる。
ニルクロリドを塩基存在下反応させることにより、一般
式(XXIV)で表される化合物を得ることができる。
塩基としては、例えばピリジン、トリエチルアミンなど
をあげることができる。
をあげることができる。
本反応は通常、例えばジクロロメタン、クロロホルムな
どの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどのベ
ンゼン系溶媒、ヘキサンなどの溶媒中で行われる。
どの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどのベ
ンゼン系溶媒、ヘキサンなどの溶媒中で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒の沸点まで適宜選ばれる。
〈工程C〉
−数式(XXIV)で表される化合物と、アルコール体
或いはフェノール体ADHを塩基処理することにまり生
成するアルコキシド或いはフェノキシトNa0Aを反応
させることにより、数式(XXV)で表される化合物を
得ることができる。
或いはフェノール体ADHを塩基処理することにまり生
成するアルコキシド或いはフェノキシトNa0Aを反応
させることにより、数式(XXV)で表される化合物を
得ることができる。
塩基としては、例えば水素化カリウム、水素化ナトリウ
ムのような水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムのよ
うなアルカリ金属、ナトリウムメトキシドのようなナト
リウムアルコラード、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムな
どがあげられる。
ムのような水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムのよ
うなアルカリ金属、ナトリウムメトキシドのようなナト
リウムアルコラード、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムな
どがあげられる。
本反応は、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどから
選択された溶媒中で行われる。
ルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどから
選択された溶媒中で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒の沸点まで適宜選ばれる。
(工程D〉
一般式(XXV)で表される化合物を酸処理することに
より、−数式(XXVI)で表される化合物を得ること
ができる。
より、−数式(XXVI)で表される化合物を得ること
ができる。
酸としては、例えばp−)ルエンスルホン酸、塩酸、硫
酸、トリフルオロ酢酸、塩酸などをあげることができる
。
酸、トリフルオロ酢酸、塩酸などをあげることができる
。
本反応は通常、例えばメタノール、エタノールなどのア
ルコール系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどの
塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ルなどのエーテル類、或いは上記の溶媒と水との混合溶
媒中で行われる。
ルコール系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなどの
塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ルなどのエーテル類、或いは上記の溶媒と水との混合溶
媒中で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒の沸点まで適宜選ばれる。
(工程E)
一般式(XXVI)で表される化合物をハロゲノギ酸フ
ェニルと塩基の存在下反応させることにより、−数式(
XXVII)で表される化合物を得ることができる。
ェニルと塩基の存在下反応させることにより、−数式(
XXVII)で表される化合物を得ることができる。
使用できる塩基としては、例えばピリジン:トリエチル
アミンなどがあげられる。
アミンなどがあげられる。
本反応は無溶媒、又は例えばクロロホルム、ジクロロメ
タンなどの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエ
チルエーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンな
どのベンゼン系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸ト
リアミドなどから選択された溶媒中で行われる。
タンなどの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエ
チルエーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンな
どのベンゼン系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸ト
リアミドなどから選択された溶媒中で行われる。
反応温度は一78℃乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
(工程F)
一般式(XXVII)で表される化合物を一般式(XX
VIII)で表されるアミン体と反応させることにより
、−数式(XXIX)で表される化合物を得ることがで
きる。
VIII)で表されるアミン体と反応させることにより
、−数式(XXIX)で表される化合物を得ることがで
きる。
本反応は無溶媒、又は例えばクロロホルム、ジクロロメ
タンなどの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエ
チルエーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンな
どのベンゼン系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸ト
リアミドなどから選択された溶媒中で行われる。
タンなどの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエ
チルエーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンな
どのベンゼン系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸ト
リアミドなどから選択された溶媒中で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
(工程G〉
一般式(XXVII)で表される化合物を一般式(XX
X)で表されるアミン体と反応させることにより、−数
式(XXX[)で表される化合物を得ることができる。
X)で表されるアミン体と反応させることにより、−数
式(XXX[)で表される化合物を得ることができる。
本反応は無溶媒、又は例えばクロロホルム、ジクロロメ
タンなどの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエ
チルエーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンな
どのベンゼン系溶媒、ジメチルスルホキシド、ジメチル
ホルムアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどから
選択された溶媒中で行われる。
タンなどの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエ
チルエーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンな
どのベンゼン系溶媒、ジメチルスルホキシド、ジメチル
ホルムアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどから
選択された溶媒中で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒沸点まで適宜選ばれ5゜
(工程H)
一般式(XXII)で表される化合物を酸触媒下アルコ
ール体HD−Aと反応させることにより、一般式(XX
VI)で表される化合物を得ることができる。
ール体HD−Aと反応させることにより、一般式(XX
VI)で表される化合物を得ることができる。
酸としては、p−トルエンスルホン酸、ピリジニウムp
−トルエンスルホン酸ナトヲ使用することができる。
−トルエンスルホン酸ナトヲ使用することができる。
本反応は、クロロホルム、ジクロロメタンなどの塩化炭
素系溶媒、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒な
どを用いることができる。
素系溶媒、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒な
どを用いることができる。
反応温度は室温乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
(工程I)
一般式(XXVI)で表される化合物を塩基存在下ハロ
ゲン化エステルと反応させることにより、一般式(XX
X11)で表される化合物を得ることができる。
ゲン化エステルと反応させることにより、一般式(XX
X11)で表される化合物を得ることができる。
塩基としては、例えば水素化カリウム、水素化ナトリウ
ムのような水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムのよ
うなアルカリ金属類、ナトリウムメトキシドのようなナ
トリウムアルコラードなどがあげられる。
ムのような水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムのよ
うなアルカリ金属類、ナトリウムメトキシドのようなナ
トリウムアルコラードなどがあげられる。
本反応は、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどから
選択された溶媒中で行われる。
ルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどから
選択された溶媒中で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒の沸点まで適宜選ばれる。
(工程J)
一般式(XXXIII)で表される化合物とメタンスル
ホニルクロリドを塩基存在下反応させることにより、一
般式(XXXIV)で表される化合物を得ることができ
る。
ホニルクロリドを塩基存在下反応させることにより、一
般式(XXXIV)で表される化合物を得ることができ
る。
塩基としては、例えばピリジン、トリエチルアミン、炭
酸カリウム、炭酸ナトリウムなどをあげることができる
。
酸カリウム、炭酸ナトリウムなどをあげることができる
。
本反応は通常、例えばジクロロメタン、クロロホルムな
どの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどのベ
ンゼン系溶媒、ヘキサンなどの溶媒中で行われる。
どの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどのベ
ンゼン系溶媒、ヘキサンなどの溶媒中で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒の沸点まで適宜選ばれる。
(工程K)
一般式(XXXIV)で表される化合物に、一般式(X
XVIll)で表されるアミン体を塩基処理することに
より生成させたアニオン体を反応させることにより、一
般式(XXXV)で表される化合物を得ることができる
。
XVIll)で表されるアミン体を塩基処理することに
より生成させたアニオン体を反応させることにより、一
般式(XXXV)で表される化合物を得ることができる
。
塩基としては、例えば水素化カリウム、水素化ナトリウ
ムのような水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムのよ
うなアルカリ金属、ナトリウムメトキシドのようなナト
リウムアルコラード、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムな
どがあげられる。
ムのような水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムのよ
うなアルカリ金属、ナトリウムメトキシドのようなナト
リウムアルコラード、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムな
どがあげられる。
本反応は、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどから
選択された溶媒中で行われる。
ルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどから
選択された溶媒中で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒の沸点まで適宜選ばれる。
(工程L)
一般式(XXXIV)で表される化合物を、一般式(X
XX)で表されるアミン体を塩基処理することにより生
成させたアニオン体を反応させることにより、−般式(
XXXVI)で表される化合物を得ることができる。
XX)で表されるアミン体を塩基処理することにより生
成させたアニオン体を反応させることにより、−般式(
XXXVI)で表される化合物を得ることができる。
塩基としては、例えば水素化カリウム、水素化ナトリウ
ムのような水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムのよ
うなアルカリ金属、ナトリウムメトキシドのようなナト
リウムアルコラードなどがあげられる。
ムのような水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムのよ
うなアルカリ金属、ナトリウムメトキシドのようなナト
リウムアルコラードなどがあげられる。
本反応は、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどから
選択された溶媒中で行われる。
ルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどから
選択された溶媒中で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒の沸点まで適宜選ばれる。
〈工程M〉
一般式(XXVI)で表される化合物を塩基存在下メタ
ンスルホニルクロリド、p−トルエンスルホニルクロリ
ドと反応させることにより、一般式(Vl)で表される
化合物を得ることができる。
ンスルホニルクロリド、p−トルエンスルホニルクロリ
ドと反応させることにより、一般式(Vl)で表される
化合物を得ることができる。
塩基としては、ピリジン、トリエチルアミンなどをあげ
ることができる。
ることができる。
本反応は通常、例えばジクロロメタン、クロロホルムな
どの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどのベ
ンゼン系溶媒などの溶媒中で行われる。
どの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどのベ
ンゼン系溶媒などの溶媒中で行われる。
反応温度は、水冷下乃至溶媒の沸点まで適宜選ばれる。
次に本発明の効果を詳述するために、実験例を以下に示
す。
す。
実
験例1
〈方 法〉
2週間以上薬物を服用していない健常成人男子の前腕静
脈から採血し、これに3.8%クエン酸ナトリウム溶液
を179容添加した。遠心法により多血小板血漿(PR
P)を調製した。血小板能の測定はボーン(Born)
らの光学的方法に準じて血小板凝集メーターへマドレー
サー■■(二光バイオサイエンス社〉を用いて測定した
。PAFはTyrode溶液(Ca” (+) )に溶
解し、最大凝集を起こす最低の濃度を用いた。被験化合
物は生理食塩水に溶解した。
脈から採血し、これに3.8%クエン酸ナトリウム溶液
を179容添加した。遠心法により多血小板血漿(PR
P)を調製した。血小板能の測定はボーン(Born)
らの光学的方法に準じて血小板凝集メーターへマドレー
サー■■(二光バイオサイエンス社〉を用いて測定した
。PAFはTyrode溶液(Ca” (+) )に溶
解し、最大凝集を起こす最低の濃度を用いた。被験化合
物は生理食塩水に溶解した。
被験化合物の凝集抑制活性は、対照PRPにおけるPA
Fによる最大の光透過度(最大凝集率〉に対する抑制率
から求めた。その抑制曲線よりICs。を求めた。結果
を表1に示す。
Fによる最大の光透過度(最大凝集率〉に対する抑制率
から求めた。その抑制曲線よりICs。を求めた。結果
を表1に示す。
被験化合物の欄の番号は下記に示す実施例番号の化合物
である。
である。
〈結
果〉
表
〈方 法〉
男子健常人より常法に従って血小板を得、パインディン
グバッフ7−(Binding Buffer)(10
mM phosphate−bufferes 5al
ine(p)I 7.0)。
グバッフ7−(Binding Buffer)(10
mM phosphate−bufferes 5al
ine(p)I 7.0)。
0.1%(W/V) BSA、 0.9mM CaC1
2を含む)に108ケ/460μlとなるように懸濁す
る。ポリプロピレンチューブに被験化合物のパインディ
ングバッファー溶液20μlを加え、血小板液460μ
lをさらに加えて、Vortex後37℃で6分間イン
キ一べ−) (incubate)する。次いで3l−
PAFのパインディングバッファー溶液20μ1(fi
nal ’H−PAFI度0.6〜1nM)を加え、6
分間インキュベートし、氷冷した洗浄溶液(0,1%(
W/V)のBSAを含む5aline) 3 mj!
を加え反応を停止し、ガラスフィルター(Whatma
nGP/C)上で吸引濾過する。ガラスフィルターを乾
燥後、液体シンチレーションカウンターにて放射能を測
定する。
2を含む)に108ケ/460μlとなるように懸濁す
る。ポリプロピレンチューブに被験化合物のパインディ
ングバッファー溶液20μlを加え、血小板液460μ
lをさらに加えて、Vortex後37℃で6分間イン
キ一べ−) (incubate)する。次いで3l−
PAFのパインディングバッファー溶液20μ1(fi
nal ’H−PAFI度0.6〜1nM)を加え、6
分間インキュベートし、氷冷した洗浄溶液(0,1%(
W/V)のBSAを含む5aline) 3 mj!
を加え反応を停止し、ガラスフィルター(Whatma
nGP/C)上で吸引濾過する。ガラスフィルターを乾
燥後、液体シンチレーションカウンターにて放射能を測
定する。
Inhibition%は下記の式に従って計算し、I
C5oは図より内挿して求めた。
C5oは図より内挿して求めた。
Inhibition%=
(total binding)−(non−spec
ific binding)totat bindin
g;薬物あるいはPAF濃度00時のdpm。
ific binding)totat bindin
g;薬物あるいはPAF濃度00時のdpm。
non−specific binding;cold
PAF 10−’M加えた時のd pm。
PAF 10−’M加えた時のd pm。
結果を表2に示す。
く結 果〉
表
く方 法〉
Pento麻酔下(5(Jmg/kg、 i、p、)の
F34. ratの頚動脈及び頚静脈にカニュレーショ
ンし、動脈から血圧を測定し、静脈からPAFあるいは
被験化合物を0.5#L1!/kgで投与した。PAF
o、5μg/kgを投与3分後に被験化合物を投与し、
その拮抗作用を評価した。結果を表3に示す。
F34. ratの頚動脈及び頚静脈にカニュレーショ
ンし、動脈から血圧を測定し、静脈からPAFあるいは
被験化合物を0.5#L1!/kgで投与した。PAF
o、5μg/kgを投与3分後に被験化合物を投与し、
その拮抗作用を評価した。結果を表3に示す。
表3における回復率とは、降圧に対する被験化合物によ
る昇圧の割合である。
る昇圧の割合である。
く結 果〉
表 3
一連の化合物は水溶液中において中性〜アルカリ性で不
安定であり、これは主にN−アセチル又はN−ベンゾイ
ルの加水分解反応によるものである。いくつかの化合物
においてpH−分解速度プロファイルを調べたところ、
いずれも同様なパターンを示したため、比較的分解しや
すいpH7,4,37℃における分解速度定数を求め、
化合物間の安定性の相対比較を行った。
安定であり、これは主にN−アセチル又はN−ベンゾイ
ルの加水分解反応によるものである。いくつかの化合物
においてpH−分解速度プロファイルを調べたところ、
いずれも同様なパターンを示したため、比較的分解しや
すいpH7,4,37℃における分解速度定数を求め、
化合物間の安定性の相対比較を行った。
く実験方法〉
検体水溶液(1mg/−) 1容に対し、緩衝液(0
,5M リン酸ナトリウム、p)17.4)9容を加
え、37℃に保存した。経時的にサンプリングを行い、
逆相高速液体クロマトグラフィーにより、米麦化体残存
率を測定した。殆どの化合物は一次分解速度式により近
似されるので、最小二乗法により分解速度定数を求めた
。結果を表4に示す。
,5M リン酸ナトリウム、p)17.4)9容を加
え、37℃に保存した。経時的にサンプリングを行い、
逆相高速液体クロマトグラフィーにより、米麦化体残存
率を測定した。殆どの化合物は一次分解速度式により近
似されるので、最小二乗法により分解速度定数を求めた
。結果を表4に示す。
く結 果〉
表 4
上記の実験例により本発明化合物は、優れたPAF抑制
作用を有することが明らかである。
作用を有することが明らかである。
更に、本発明化合物は、抗PAF作用の持続性に優れ、
かつ安定性においても優れていることが判明しており、
本発明の価値は高い。
かつ安定性においても優れていることが判明しており、
本発明の価値は高い。
従って、本発明化合物は、PAFに起因するあらゆる疾
患の治療・予防に有効である。
患の治療・予防に有効である。
代表的な疾患をあげれば、血栓症、脳卒中(脳出血、脳
血栓〉、心筋梗塞、狭心症、ヒトの血管向凝固症候群(
DIC)、血栓性静脈炎、糸球体腎炎、アナフィラキシ
−ショック、出血性ショック、アレルギー疾患などの治
療・予防剤として有用である。
血栓〉、心筋梗塞、狭心症、ヒトの血管向凝固症候群(
DIC)、血栓性静脈炎、糸球体腎炎、アナフィラキシ
−ショック、出血性ショック、アレルギー疾患などの治
療・予防剤として有用である。
本発明化合物を抗PAF剤として投与する場合、散剤、
顆粒剤、カプセル剤、シロップ剤などとして経口的に投
与してもよいし、また坐剤、注射剤、外用剤、点滴剤と
して非経口的に投与してもよいが、本発明の場合は、通
常は注射剤又は点滴剤として投与することが好ましい。
顆粒剤、カプセル剤、シロップ剤などとして経口的に投
与してもよいし、また坐剤、注射剤、外用剤、点滴剤と
して非経口的に投与してもよいが、本発明の場合は、通
常は注射剤又は点滴剤として投与することが好ましい。
投与量は、疾患の種類、症状の程度、年令などにより著
しく異なるが、点滴注射剤として投与する場合は、約0
.01〜10mg/kg/hr 、好ましくは0.03
〜5 mg/kg/hrを投与する。
しく異なるが、点滴注射剤として投与する場合は、約0
.01〜10mg/kg/hr 、好ましくは0.03
〜5 mg/kg/hrを投与する。
また、静脈注射剤として投与する場合は、通常成人1日
あたり約0.001〜50mg/kg 、好ましくは約
0.001〜30mg/kg 、更に好ましくは約0.
001〜5mg/kg 、更に好ましくは0.003〜
3mg/kgを1日1〜数回にわけて投与する。
あたり約0.001〜50mg/kg 、好ましくは約
0.001〜30mg/kg 、更に好ましくは約0.
001〜5mg/kg 、更に好ましくは0.003〜
3mg/kgを1日1〜数回にわけて投与する。
注射剤、点滴剤などを調製する場合は、生薬に必要によ
りpH調整剤、緩衝剤、安定化剤、可溶化剤などを添加
し、必要ならば凍結乾燥などを行って、常法により皮下
・筋肉内・静脈内用注射剤、点滴注射剤とする。
りpH調整剤、緩衝剤、安定化剤、可溶化剤などを添加
し、必要ならば凍結乾燥などを行って、常法により皮下
・筋肉内・静脈内用注射剤、点滴注射剤とする。
次に本発明の代表的な実施例を掲げるが、本発明がそれ
らにのみ限定されることがないことは言うまでもない。
らにのみ限定されることがないことは言うまでもない。
なお、実施例における化学構造式において、Meはメチ
ル基を意味し、Btはエチル基を意味し、phはフェニ
ル基を意味し、ACはアセチル基を意味する。
ル基を意味し、Btはエチル基を意味し、phはフェニ
ル基を意味し、ACはアセチル基を意味する。
実
施
例
トリルの合成
3.4.5−)リメ
トキシベンジルクロリ
ド7.0
g及びシアン化ナトリウム
6.3gをN、N
−ジ
メチルホルムアミド50mj!に溶解し、80℃で45
分間撹拌した。反応液を室温にし、水200rrLlを
加え1Ohtl!の酢酸エチルで3回抽出した。
分間撹拌した。反応液を室温にし、水200rrLlを
加え1Ohtl!の酢酸エチルで3回抽出した。
抽出液を飽和食塩水で洗浄後、溶媒を減圧留去し、標題
化合物を5.5g得た。
化合物を5.5g得た。
3、4.5−トリメトキシフェニルアセトニトリル5.
5gをメタノール−水(9:1)50mlに溶解し、水
酸化ナトリウム1.5gを加え5.5時間撹拌還流した
。反応液を室温にし、2規定塩酸により中和し、メタノ
ールを減圧留去した。クロロホルム100rnlにより
3回抽出し、溶媒を減圧留去後、標題化合物を5゜8g
得た。
5gをメタノール−水(9:1)50mlに溶解し、水
酸化ナトリウム1.5gを加え5.5時間撹拌還流した
。反応液を室温にし、2規定塩酸により中和し、メタノ
ールを減圧留去した。クロロホルム100rnlにより
3回抽出し、溶媒を減圧留去後、標題化合物を5゜8g
得た。
(3) 2−(3,4,5−トリメトキシ)フェニル
エタノールの合成 水素化リチウムアルミニウム1.0 gをテトラヒドロ
フラン5o−に懸濁させ、10m1のテトラヒドロフラ
ンに溶解させた(3.4.5−トリメトキシ〉フェニル
酢酸5.8gを水冷下漬下する。反応液を室温にし30
分間撹拌した。反応液を氷冷し水を滴下し、さらに濃塩
酸を滴下し酸性にし、50rIIlの酢酸エチルにより
3回抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し溶媒を減圧
留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(
溶出溶媒;酢酸エチル:ヘキサン=l:l)により精製
し、標題化合物を4.5g得た。
エタノールの合成 水素化リチウムアルミニウム1.0 gをテトラヒドロ
フラン5o−に懸濁させ、10m1のテトラヒドロフラ
ンに溶解させた(3.4.5−トリメトキシ〉フェニル
酢酸5.8gを水冷下漬下する。反応液を室温にし30
分間撹拌した。反応液を氷冷し水を滴下し、さらに濃塩
酸を滴下し酸性にし、50rIIlの酢酸エチルにより
3回抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し溶媒を減圧
留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(
溶出溶媒;酢酸エチル:ヘキサン=l:l)により精製
し、標題化合物を4.5g得た。
・’ H−NMR(90MHz、 CDCl、) δ
;2、02(br、 s、 E)、 2.86(t、
J=6Hz、 2H)。
;2、02(br、 s、 E)、 2.86(t、
J=6Hz、 2H)。
3.80〜4.00(m、2H)、 3.87(s、3
H)、 3.90(s、6H)、 6.47(s、2H
)(4) 2−0−メチル−1−〇− 〔2− (3,4,5 リンの合成 2− (3,4,5−)リメトキシ)フェニルエタノー
ル2.7gをN、N−ジメチルホルムアミド50−に溶
解し、水素化ナトリウム(60%〉0.9gを加え、室
温で30分間撹拌した。1−〇−メタンスルホニルー2
−0−メチル−3−〇−テトラヒドロピランー2−イル
グリセリン3.8gを加え、80℃で1時間撹拌した。
H)、 3.90(s、6H)、 6.47(s、2H
)(4) 2−0−メチル−1−〇− 〔2− (3,4,5 リンの合成 2− (3,4,5−)リメトキシ)フェニルエタノー
ル2.7gをN、N−ジメチルホルムアミド50−に溶
解し、水素化ナトリウム(60%〉0.9gを加え、室
温で30分間撹拌した。1−〇−メタンスルホニルー2
−0−メチル−3−〇−テトラヒドロピランー2−イル
グリセリン3.8gを加え、80℃で1時間撹拌した。
反応液を室温にし、水を加え、酢酸エチル50−により
3回抽出する。抽出液を飽和食塩水により洗浄し、溶媒
を減圧留去し、残渣をメタノール−水(9:1)50−
に溶解し、パラトルエンスルホン酸100mgを加え室
温で1時間撹拌した。メタノールを減圧留去し水を加え
、酢酸エチル50rnlにより3回抽出した。有機層を
飽和炭酸水素す) IJウム水溶液、飽和食塩水で洗浄
し、溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(溶出溶媒;酢酸エチル:ヘキサン=2:
3)により精製し、標題化合物を2.1g得た。
3回抽出する。抽出液を飽和食塩水により洗浄し、溶媒
を減圧留去し、残渣をメタノール−水(9:1)50−
に溶解し、パラトルエンスルホン酸100mgを加え室
温で1時間撹拌した。メタノールを減圧留去し水を加え
、酢酸エチル50rnlにより3回抽出した。有機層を
飽和炭酸水素す) IJウム水溶液、飽和食塩水で洗浄
し、溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(溶出溶媒;酢酸エチル:ヘキサン=2:
3)により精製し、標題化合物を2.1g得た。
・’H−NMR(90M)lz、 CDC1a) δ
;2、42(br、 s、 1N)、 2.83(t、
J・’lHz、 2N)。
;2、42(br、 s、 1N)、 2.83(t、
J・’lHz、 2N)。
3.44(s、3H)、 3.28〜3.88(m、7
H)、 3.82(s、3H)、 3.85(s、6H
)、 6.43(s、2H)(4)で得た化合物2.1
gをピリジン20m1!に溶解し、室温下撹拌しながら
クロロギ酸フェニル1.2 gを滴下した。室温で15
分間撹拌後、ピリジンを減圧留去し、残渣を200rd
の酢酸エチルに溶解した。飽和食塩水により洗浄し、溶
媒を減圧留去後、浅漬をクロロホルム10〇−に溶解し
た。2−アミノメチルピリジン2.3gを加え5時間加
熱還流し、クロロホルムを減圧留去後、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー〈溶出溶媒:酢酸エチル:
ヘキサン=2 : 1)により精製し、標題化合物を1
.7g得た。
H)、 3.82(s、3H)、 3.85(s、6H
)、 6.43(s、2H)(4)で得た化合物2.1
gをピリジン20m1!に溶解し、室温下撹拌しながら
クロロギ酸フェニル1.2 gを滴下した。室温で15
分間撹拌後、ピリジンを減圧留去し、残渣を200rd
の酢酸エチルに溶解した。飽和食塩水により洗浄し、溶
媒を減圧留去後、浅漬をクロロホルム10〇−に溶解し
た。2−アミノメチルピリジン2.3gを加え5時間加
熱還流し、クロロホルムを減圧留去後、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー〈溶出溶媒:酢酸エチル:
ヘキサン=2 : 1)により精製し、標題化合物を1
.7g得た。
・’ t(−NMR(90MHz、 CDCl5)
δ;2、82(t、 J=8Hz、 28)、 3.4
0〜3.80(m、 5H)。
δ;2、82(t、 J=8Hz、 28)、 3.4
0〜3.80(m、 5H)。
3.80(s、3H)、 3.83(s、6H)、 4
.16〜4.32(m、2)1)、 4.50(d、J
=6Hz、2H)、 5.68〜5.96(+n、IH
)、 6.42(s、2H)、 7.04〜7.30(
m、2H)。
.16〜4.32(m、2)1)、 4.50(d、J
=6Hz、2H)、 5.68〜5.96(+n、IH
)、 6.42(s、2H)、 7.04〜7.30(
m、2H)。
7、65 (dt、 J=8Hz、 2)fz、 1)
f) 、 8.90 (d、 J=8)+2゜LH) (6) 3−0−1:N−アセチル−N−(2−ピリ
ジル) メチルカルバモイル〕 2−0 メ 台底 c (5)で得た化合物1.7gをピリジン1htf’に溶
解し、無水酢酸10−を加え100℃で2日間撹拌した
。ピリジン、無水酢酸を減圧留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶出溶媒;酢酸エチル:ヘ
キサン−2=1)により精製し、標題化合物を1.1g
得た。
f) 、 8.90 (d、 J=8)+2゜LH) (6) 3−0−1:N−アセチル−N−(2−ピリ
ジル) メチルカルバモイル〕 2−0 メ 台底 c (5)で得た化合物1.7gをピリジン1htf’に溶
解し、無水酢酸10−を加え100℃で2日間撹拌した
。ピリジン、無水酢酸を減圧留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶出溶媒;酢酸エチル:ヘ
キサン−2=1)により精製し、標題化合物を1.1g
得た。
O’)I−NMR(90M)Iz、 CDC13)
δ;2.64(s、3H)、 2.76(t、J=8H
z、3H)、 3.29(s、3H)、 3.30〜3
.44(m、4N)、 3.55(t、J=8Hz、2
H)、 3.83(s、3)1)、 3.84(s
、6H)、 4.24(t、J=5Hz、2H)、
5.08(s、2)1)、 6.40(s、2H)
。
δ;2.64(s、3H)、 2.76(t、J=8H
z、3H)、 3.29(s、3H)、 3.30〜3
.44(m、4N)、 3.55(t、J=8Hz、2
H)、 3.83(s、3)1)、 3.84(s
、6H)、 4.24(t、J=5Hz、2H)、
5.08(s、2)1)、 6.40(s、2H)
。
7、0(1〜7.20(m、 2H)、 7.59(
dt、 J=8Hz、 2Hz。
dt、 J=8Hz、 2Hz。
IH)、 8.47(dd、J=8Hz、2Hz、I
H)c (6)で得た化合物1.1gをヨウ化エチル20m1に
溶解し、24時間加熱還流した。反応液を室温にし、不
溶物を濾別し、アセトンに溶解した。エーテルを加え再
度沈澱させ、上澄みを除くことにより、標題化合物を1
.0g得た。
H)c (6)で得た化合物1.1gをヨウ化エチル20m1に
溶解し、24時間加熱還流した。反応液を室温にし、不
溶物を濾別し、アセトンに溶解した。エーテルを加え再
度沈澱させ、上澄みを除くことにより、標題化合物を1
.0g得た。
・’)I−NMR(90MHz、 CDC13) δ
;1.72(t、J=8Hz、3H)、 2.62(s
、3H)、 2.80(t、J=7Hz、2H)、 3
.36(s、3N)、 3.06〜3.32(m、1N
)、 3.44〜3.80(m、4H)、 3.79(
s、3H)。
;1.72(t、J=8Hz、3H)、 2.62(s
、3H)、 2.80(t、J=7Hz、2H)、 3
.36(s、3N)、 3.06〜3.32(m、1N
)、 3.44〜3.80(m、4H)、 3.79(
s、3H)。
3.84(s、6)1)、 4.28〜4.44(m、
2H)、 5.02(q、J=8Hz、2H)、 5.
38(s、2H)、 6.42(s、21()。
2H)、 5.02(q、J=8Hz、2H)、 5.
38(s、2H)、 6.42(s、21()。
7、75(d、 J=8Hz、 IH)、 8.03(
t、 J=8Hz、 IH)。
t、 J=8Hz、 IH)。
8、48 (t、 J=8Hz、 IH)、 9.57
(d、 J=8Hz、 IH)(1) 3−〇− (テトラヒドロ−2H−ピラン−2 −イル) −2−0−メチルグリセリンの合 或 グリセリン−2−メチルエーテル26.7 gを塩化メ
チレン260−に溶かし、水冷下で撹拌しながらジヒド
ロピラン10.6g、p−トルエンスルホン酸2.7g
を加えた後、室温にして1.5時間反応させた。反応液
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に加え、塩化メチレン
10〇−で2回抽出し、有機層を集め硫酸マグネシウム
で乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチルニヘキサン=l
’2)で精製し、標題化合物を13.6 g得た。
(d、 J=8Hz、 IH)(1) 3−〇− (テトラヒドロ−2H−ピラン−2 −イル) −2−0−メチルグリセリンの合 或 グリセリン−2−メチルエーテル26.7 gを塩化メ
チレン260−に溶かし、水冷下で撹拌しながらジヒド
ロピラン10.6g、p−トルエンスルホン酸2.7g
を加えた後、室温にして1.5時間反応させた。反応液
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に加え、塩化メチレン
10〇−で2回抽出し、有機層を集め硫酸マグネシウム
で乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチルニヘキサン=l
’2)で精製し、標題化合物を13.6 g得た。
” H−NMR(90M)lz、 CDCl、) δ
:1.36〜1.96(m、6H)、 2.54(bs
、LH)、 2.32〜3.00(m、7N)、 3.
28(s、3)1)、 4.58(m、IH)(2) 1−ローメタンスルホニル−3−ロー (チ ーローメチルグリセリンの合成 (1)で得た化合物0.9gをピリジン10rdに溶か
し、室温で撹拌しながらメタンスルホニルクロリド0.
7rIf!を加え、30分間反応させた。
:1.36〜1.96(m、6H)、 2.54(bs
、LH)、 2.32〜3.00(m、7N)、 3.
28(s、3)1)、 4.58(m、IH)(2) 1−ローメタンスルホニル−3−ロー (チ ーローメチルグリセリンの合成 (1)で得た化合物0.9gをピリジン10rdに溶か
し、室温で撹拌しながらメタンスルホニルクロリド0.
7rIf!を加え、30分間反応させた。
反応液を飽和炭酸水素す)IJウム水溶液に加え、クロ
ロホルム20rd!で2回抽出した。有機層を集め、無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒;酢酸エ
チル:n−ヘキサン=1:2)で精製し、標題化合物を
1.1g得た。
ロホルム20rd!で2回抽出した。有機層を集め、無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒;酢酸エ
チル:n−ヘキサン=1:2)で精製し、標題化合物を
1.1g得た。
=’H−NMR(90MHz、 CDC13) δ;
1.36〜2.96(m、6H)、 3.02(s、
3H)、 3.30〜3.97(m、5H)、 3
.24(s、3H)、 4.20〜4.38(m、2
H)、 4.35(+n、IH)合皮 3.4.5−トリメトキシフェノール1.0gをN、N
−ジメチルホルムアミド20−に溶かし、室温で撹拌し
ながら水素化す) IJウム(60%)280mgを加
えた。I時間後、(2)で得た化合物のN、N−ジメチ
ルホルムアミド溶液(1,0g15+njり5−を滴下
し、60℃で1時間反応させた。反応液を室温に戻し、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に加えクロロホルム20
−で2回抽出した。有機層を集め、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル:n−ヘキサン
=12)で精製し、標題化合物を1.3g得た。
1.36〜2.96(m、6H)、 3.02(s、
3H)、 3.30〜3.97(m、5H)、 3
.24(s、3H)、 4.20〜4.38(m、2
H)、 4.35(+n、IH)合皮 3.4.5−トリメトキシフェノール1.0gをN、N
−ジメチルホルムアミド20−に溶かし、室温で撹拌し
ながら水素化す) IJウム(60%)280mgを加
えた。I時間後、(2)で得た化合物のN、N−ジメチ
ルホルムアミド溶液(1,0g15+njり5−を滴下
し、60℃で1時間反応させた。反応液を室温に戻し、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に加えクロロホルム20
−で2回抽出した。有機層を集め、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル:n−ヘキサン
=12)で精製し、標題化合物を1.3g得た。
・’ll−N1.IR(90MHz、 CDC13)
δ;1.40〜1.92(m、6tl)、 3.32
〜4.24(+n、7H)。
δ;1.40〜1.92(m、6tl)、 3.32
〜4.24(+n、7H)。
3.52(s、3H)、 3.78(s、3H)、 3
.84(s、6H)。
.84(s、6H)。
4.62(m、lH)、 6.18(s、2B)(3)
で得た化合物1.3gをメタノール26mI!に溶かし
、室温で撹拌しなからp−)ルエンスルホン酸0.4g
を加え3時間反応させた。反応液を飽和炭酸水素す)
IJウム水溶液に加え、クロロホルム20m1’で3回
抽出した。有機層を集め、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(溶出溶媒;酢酸エチル:n−ヘキサン=1:1
)で精製し、標題化合物を1.0g得た。
で得た化合物1.3gをメタノール26mI!に溶かし
、室温で撹拌しなからp−)ルエンスルホン酸0.4g
を加え3時間反応させた。反応液を飽和炭酸水素す)
IJウム水溶液に加え、クロロホルム20m1’で3回
抽出した。有機層を集め、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(溶出溶媒;酢酸エチル:n−ヘキサン=1:1
)で精製し、標題化合物を1.0g得た。
−’)I−NMR(90MHz、C[lC1,)
δ ;1.20(bs、IH)、 3.54(s、3)
1)、 3.60〜3,82(m、3H)、 3.78
(s、3H)、 3.84(s、6H)、 3.82〜
4゜16(m、2H)、 6.16(s、2H)ンの合
皮 (4)で得た化合物970mgをピリジン20mf!に
溶かし、水冷下で撹拌しながらクロロギ酸フェニルO,
?2mlを滴下した。1時間後、反応液を飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液に加え、クロロホルム207nl’で
3回抽出した。有機層を集め、減圧濃縮し、粗カーボネ
ートを得た。得られたカーボネート1.5gをクロロホ
ルム25−に溶かし、2−アミノメチルピリジン1.5
mI!を加え、3時間加熱還流した。反応液を室温に戻
し減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(溶出溶媒;酢酸エチル;n−ヘキサン=2 :
1)で精製し、標題化合物を1.4g得た。
δ ;1.20(bs、IH)、 3.54(s、3)
1)、 3.60〜3,82(m、3H)、 3.78
(s、3H)、 3.84(s、6H)、 3.82〜
4゜16(m、2H)、 6.16(s、2H)ンの合
皮 (4)で得た化合物970mgをピリジン20mf!に
溶かし、水冷下で撹拌しながらクロロギ酸フェニルO,
?2mlを滴下した。1時間後、反応液を飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液に加え、クロロホルム207nl’で
3回抽出した。有機層を集め、減圧濃縮し、粗カーボネ
ートを得た。得られたカーボネート1.5gをクロロホ
ルム25−に溶かし、2−アミノメチルピリジン1.5
mI!を加え、3時間加熱還流した。反応液を室温に戻
し減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(溶出溶媒;酢酸エチル;n−ヘキサン=2 :
1)で精製し、標題化合物を1.4g得た。
・’H−NMR(90MHz、 CDC13) δ:
3.50(s、3H)、 3.78(s、3)1)、
3.82(s、6H)。
3.50(s、3H)、 3.78(s、3)1)、
3.82(s、6H)。
3.80〜3.90(m、lH)、 3.87〜4.2
0(m、2H)。
0(m、2H)。
4.33(m、2H)、 4.50(d、J=7Hz、
2H)、 6.00(br、IH)、 6.15(s、
2H)、 7.03〜7.40(m。
2H)、 6.00(br、IH)、 6.15(s、
2H)、 7.03〜7.40(m。
2H)、 7.63(m、lH)、 7.50(m、1
ll)(6) 3−0−[N−アセチル−N−(2−
ピリジル) メチル〕 カルバモイル−2−0−メ c (5)で得た化合物1.3gを無水酢酸13mj’、ピ
リジン13mj!に溶かし、110℃で12時間反応さ
せた。反応液を室温に戻し、減圧濃縮し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル:n−
ヘキサン=1:1)で精製し、標題化合物を1.0 g
得た。
ll)(6) 3−0−[N−アセチル−N−(2−
ピリジル) メチル〕 カルバモイル−2−0−メ c (5)で得た化合物1.3gを無水酢酸13mj’、ピ
リジン13mj!に溶かし、110℃で12時間反応さ
せた。反応液を室温に戻し、減圧濃縮し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル:n−
ヘキサン=1:1)で精製し、標題化合物を1.0 g
得た。
・’HNMR(90MHz、 CDC13) δ;2
.60(s、3H)、 3.18(s、3H)、 3.
30〜3.82(m、3H)、 3.79(s、3H)
、 3.82(s、6H)、 4J6(m、2H)、
5.08(bs、2H)、 6.06(s、2N)、
6.96〜7.14 (m、 2H) 。
.60(s、3H)、 3.18(s、3H)、 3.
30〜3.82(m、3H)、 3.79(s、3H)
、 3.82(s、6H)、 4J6(m、2H)、
5.08(bs、2H)、 6.06(s、2N)、
6.96〜7.14 (m、 2H) 。
7、52 (m、 I H) 。
8、40 (m、 11()
合成
c
(6)で得た化合物0.95 gをヨウ化エチル20r
d!に溶かし、50℃で1日反応させた。反応液を室温
に戻し、エーテルを加え、上澄みをデカントで除いた。
d!に溶かし、50℃で1日反応させた。反応液を室温
に戻し、エーテルを加え、上澄みをデカントで除いた。
残渣をアセトンを加えて溶かし、再度エーテルを加え上
澄みをデカントで除き、濃縮乾固して、標題化合物を3
00mg得た。
澄みをデカントで除き、濃縮乾固して、標題化合物を3
00mg得た。
’H−NMR(90MHz、 CDCl、) δ;1
.68(t、J=7Hz、3H)、 2.66(s、
:E)、 3.47(s、3H)、 3.77(s
、3H)、 3.66〜3.88(m、IH)。
.68(t、J=7Hz、3H)、 2.66(s、
:E)、 3.47(s、3H)、 3.77(s
、3H)、 3.66〜3.88(m、IH)。
3.85(s、6H)、 4.04(m、2)1)、
4.74(m、2H)。
4.74(m、2H)。
5.00(Q、J=7Hz、2H)、 5.47(s
、2H)、 6.14(s、2N)、 7.66(
m、LH)、 7.92(m、IH)、 8.26
(m、IH)、 9.34(m、1)1)i)1−オ
クタデカノール54gを塩化メチレン500mj’及び
トリエチルアミン40gに溶解シ、水冷下、塩化メタン
スルホニル45.8 gを滴下し、室温で2時間撹拌し
た。反応液を希塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、これ
を濾過し溶媒を留去して、対応するメシルエステル体を
定量的に得た。
、2H)、 6.14(s、2N)、 7.66(
m、LH)、 7.92(m、IH)、 8.26
(m、IH)、 9.34(m、1)1)i)1−オ
クタデカノール54gを塩化メチレン500mj’及び
トリエチルアミン40gに溶解シ、水冷下、塩化メタン
スルホニル45.8 gを滴下し、室温で2時間撹拌し
た。反応液を希塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、これ
を濾過し溶媒を留去して、対応するメシルエステル体を
定量的に得た。
ii)シリンガアルデヒド19gをN、N−ジメチルホ
ルムアミド150mj’に溶解し、室温下で水素化ナト
リウム(55%)6.8gを加え、80℃で40分撹拌
した。これを氷冷し、ヨウ化カリウム13.5 g及び
i)で得たメシルエステル体47.27 gをN、N−
ジメチルホルムアミド400m1’に懸濁して加え、再
び90℃で13.5時間撹拌した。冷後、水及びクロロ
ホルムを加え不溶物を濾去し、クロロホルム層を分取し
、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。これを濾過し、溶媒留去後、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付しく溶出溶媒;酢酸エチル:
n−ヘキサン=5 :95) 、3.5−ジメトキシ−
4−オクタデシルオキシベンツアルデヒドを24.26
g得た。
ルムアミド150mj’に溶解し、室温下で水素化ナト
リウム(55%)6.8gを加え、80℃で40分撹拌
した。これを氷冷し、ヨウ化カリウム13.5 g及び
i)で得たメシルエステル体47.27 gをN、N−
ジメチルホルムアミド400m1’に懸濁して加え、再
び90℃で13.5時間撹拌した。冷後、水及びクロロ
ホルムを加え不溶物を濾去し、クロロホルム層を分取し
、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。これを濾過し、溶媒留去後、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付しく溶出溶媒;酢酸エチル:
n−ヘキサン=5 :95) 、3.5−ジメトキシ−
4−オクタデシルオキシベンツアルデヒドを24.26
g得た。
iii ) ii )で得たアルデヒド体24.26
gをジオキサン850rnlに溶解し、水素化ホウ素
ナトリウム3.15 gを加え、60℃で2時間撹拌し
た。水を加え、クロロホルムで抽出し、飽和食塩水で洗
浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。これを濾過し
、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付しく溶出溶媒;酢酸エチル:n−ヘキサン=
1:4)、標題化合物を18.35 g得た。
gをジオキサン850rnlに溶解し、水素化ホウ素
ナトリウム3.15 gを加え、60℃で2時間撹拌し
た。水を加え、クロロホルムで抽出し、飽和食塩水で洗
浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。これを濾過し
、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付しく溶出溶媒;酢酸エチル:n−ヘキサン=
1:4)、標題化合物を18.35 g得た。
アルデヒド体
−’H−NMR(90MHz、 CDCl、) δ;
0.7〜1.05(m、3H)、 1.05〜1..9
(m、32H)。
0.7〜1.05(m、3H)、 1.05〜1..9
(m、32H)。
3.90s、6H)、 4.07(t、J=7Hz、
2H)、 7.11(s、 2H) 、 9.85
(s、 IH)アルコール体 一〇−NMR(90MHz、 CDCl5) δ;0
.75〜1.0(m、3H)、 1.05〜1.9(m
、33H)。
2H)、 7.11(s、 2H) 、 9.85
(s、 IH)アルコール体 一〇−NMR(90MHz、 CDCl5) δ;0
.75〜1.0(m、3H)、 1.05〜1.9(m
、33H)。
3.84(s、6H)、 3.94(t、J=7)1z
、2H)、 4.5〜4.7(m、2H)、 6.59
(s、2H)3.5−ジメトキシ−4−オクタデシルオ
キシベンジルアルコール18.8 g 、グリセロール
21、5 g 及びp−)ルエンスルホン酸・−水和物
1.2gをクロロホルム150mj!に溶解し、4時間
加熱還流した。クロロホルムを増量し、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液、水、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。これを濾過し、溶媒留去後
、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付しく
溶出溶媒;酢酸エチル:n−ヘキサン−1:9〉、標題
化合物を12.34 g得た。
、2H)、 4.5〜4.7(m、2H)、 6.59
(s、2H)3.5−ジメトキシ−4−オクタデシルオ
キシベンジルアルコール18.8 g 、グリセロール
21、5 g 及びp−)ルエンスルホン酸・−水和物
1.2gをクロロホルム150mj!に溶解し、4時間
加熱還流した。クロロホルムを増量し、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液、水、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。これを濾過し、溶媒留去後
、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付しく
溶出溶媒;酢酸エチル:n−ヘキサン−1:9〉、標題
化合物を12.34 g得た。
・’H−NMR(90MHz、 c[]ct、) δ
;0.7〜1.0(m、3H)、 1.1〜1.9(m
、32t()。
;0.7〜1.0(m、3H)、 1.1〜1.9(m
、32t()。
1.9〜2.2(m、1)1)、 3.44(s、3H
)、 3.3〜3.85(m、5H)、 3.80(s
、6H)、 3.90(t、J=7Hz。
)、 3.3〜3.85(m、5H)、 3.80(s
、6H)、 3.90(t、J=7Hz。
2H)、 4.44(s、2H)、 6.48(s、2
H)(2)で得たアルコール体12.34 gを塩化メ
チレン25〇−及びピリジン5.58 gに溶解し、水
冷下でクロロギ酸フェニル7、36 gを滴下し、その
まま30分撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を
加え、塩化メチレン層を分取し、水層はクロロホルムで
抽出し先の塩化メチレン層と合わせ、飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。これを濾過し、
溶媒留去後、残渣に2−アミノメチルピリジン7、63
gを加え、80℃で1時間撹拌した。反応混合物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付しく溶出溶媒;
酢酸エチル:n−ヘキサン=3:2)、標題化合物を9
L 45 g得た。
H)(2)で得たアルコール体12.34 gを塩化メ
チレン25〇−及びピリジン5.58 gに溶解し、水
冷下でクロロギ酸フェニル7、36 gを滴下し、その
まま30分撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を
加え、塩化メチレン層を分取し、水層はクロロホルムで
抽出し先の塩化メチレン層と合わせ、飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。これを濾過し、
溶媒留去後、残渣に2−アミノメチルピリジン7、63
gを加え、80℃で1時間撹拌した。反応混合物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付しく溶出溶媒;
酢酸エチル:n−ヘキサン=3:2)、標題化合物を9
L 45 g得た。
・’H−NMR(90MHz、 CDCl、) δ:
0.7〜1.0(m、3)1)、 1.05〜1.9(
m、32H)。
0.7〜1.0(m、3)1)、 1.05〜1.9(
m、32H)。
3.48(s、3)1)、 3.5〜3.65(m、3
H)、 3.85(s、6tl)、 3.94(t、J
=llz、2H)、 4.15〜4.35(m、2)1
)、 4.35〜4.55(m、4H)、 5.65〜
6.0(m、1N)、 6,57(s、2)1)、 7
.05〜7.35(m、2H)。
H)、 3.85(s、6tl)、 3.94(t、J
=llz、2H)、 4.15〜4.35(m、2)1
)、 4.35〜4.55(m、4H)、 5.65〜
6.0(m、1N)、 6,57(s、2)1)、 7
.05〜7.35(m、2H)。
7、66(td、 J=8Hz、 211z、 IH)
、 8.52(bd、 J=5Hz。
、 8.52(bd、 J=5Hz。
1)1)
ピリジル)
メチルカルバモイル]
2−〇−
(3)で得たピリジン体9.45 gをピリジン20〇
−に溶解し、室温下2−メトキシ安息香酸クロリド7、
40 gを滴下し、50℃で1時間撹拌した。溶媒留去
後、酢酸エチルを加え、水、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。これを濾過し、溶媒留去後、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付しく溶出溶媒;酢酸エチル
:n−ヘキサン=35 :65) 、標題化合物を10
.52 g得た。
−に溶解し、室温下2−メトキシ安息香酸クロリド7、
40 gを滴下し、50℃で1時間撹拌した。溶媒留去
後、酢酸エチルを加え、水、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。これを濾過し、溶媒留去後、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付しく溶出溶媒;酢酸エチル
:n−ヘキサン=35 :65) 、標題化合物を10
.52 g得た。
・’H−NMR(90MHz、 CDCl5) δ;
0.65〜1.0(m、3)1)、 1.0〜1.9(
m、32H)。
0.65〜1.0(m、3)1)、 1.0〜1.9(
m、32H)。
3.17(s、3H)、 3.05〜3.6(m、3H
)、 3.78(s。
)、 3.78(s。
9)1)、 3.89(t、J=7Hz、2N)、 3
.95〜4.2(m。
.95〜4.2(m。
2H)、 4.28(s、2H)、 5.17(s
、2H)、 6.40(s。
、2H)、 6.40(s。
2tl)、 6.65〜7.7(m、7H)、 8
.43(bd、J=5Hz。
.43(bd、J=5Hz。
IH)
の合成
(4)で得た2−メトキシベンゾイル体6.00 gを
ヨウ化エチル120m1’に溶解し、窒素気流下61時
間加熱還流した。溶媒留去後、残渣をI RA−410
(CI型、溶出溶媒:メタノール:水=7二3)で処理
し、クロロ塩とした。さらにこれをシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(溶出溶媒;メタノール:塩化メチレ
ン=5:95)に付し、標題化合物を2.80 g得た
。
ヨウ化エチル120m1’に溶解し、窒素気流下61時
間加熱還流した。溶媒留去後、残渣をI RA−410
(CI型、溶出溶媒:メタノール:水=7二3)で処理
し、クロロ塩とした。さらにこれをシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(溶出溶媒;メタノール:塩化メチレ
ン=5:95)に付し、標題化合物を2.80 g得た
。
−’ H−NMR(90MHz、 CDC13) δ
:0.65〜1.0(m、3H)、 1.0〜1.9(
m、3211)。
:0.65〜1.0(m、3H)、 1.0〜1.9(
m、3211)。
1.76(bt、J=7Hz、3)1)、 3.16(
s、3H)、 2.9〜3.3(m、3H)、 3.7
9(s、6H)、 3.84(s、3H)。
s、3H)、 2.9〜3.3(m、3H)、 3.7
9(s、6H)、 3.84(s、3H)。
3.90(t、J=7Hz、2H)、 4.0〜4.2
5(m、2H)。
5(m、2H)。
4.30(s、2)1)、 5.15(bq、J=7H
z、2H)、 5.39(bs、2H)、 6.42(
s、2H)、 6.65〜7.1(m、2H)。
z、2H)、 5.39(bs、2H)、 6.42(
s、2H)、 6.65〜7.1(m、2H)。
7.2〜7.5(m、2H)、 7.8〜8.Hm、2
H)、 8.15〜8.25(m、 IH)、 10.
15(bd、 J=7Hz、 IH)・MS m/z
(FAB、Pos、) ;82HM”)(1) − (4−ビフェニル) メチルオキシ−2 グリセリン−2−メチルエーテル58.4 gをN、N
−ジメチルホルムアミド420−に溶解し、水冷下で水
素化ナトリウム(55%)26.3 gを加え、80℃
で50分間撹拌した。再度氷冷し、4−(クロロメチル
〉ビフェニル55.56 gのN。
H)、 8.15〜8.25(m、 IH)、 10.
15(bd、 J=7Hz、 IH)・MS m/z
(FAB、Pos、) ;82HM”)(1) − (4−ビフェニル) メチルオキシ−2 グリセリン−2−メチルエーテル58.4 gをN、N
−ジメチルホルムアミド420−に溶解し、水冷下で水
素化ナトリウム(55%)26.3 gを加え、80℃
で50分間撹拌した。再度氷冷し、4−(クロロメチル
〉ビフェニル55.56 gのN。
N−ジメチルホルムアミド溶液180mを滴下し、その
まま1時間撹拌し、次いで80℃で2.5時間撹拌した
。反応液を留去し、水を加え、クロロホルムで抽出し、
クロロホルム層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。これを濾過し、溶媒留去後、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付しく溶出溶媒;酢酸
エチル:n−ヘキサン=4:6)標題化合物を16.8
g得た。
まま1時間撹拌し、次いで80℃で2.5時間撹拌した
。反応液を留去し、水を加え、クロロホルムで抽出し、
クロロホルム層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。これを濾過し、溶媒留去後、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付しく溶出溶媒;酢酸
エチル:n−ヘキサン=4:6)標題化合物を16.8
g得た。
−’)l−NMR(90MH2,CDC1,) δ;
1.84(bs、IH)、 3.3〜3.9(m、5H
)、 3.45(s。
1.84(bs、IH)、 3.3〜3.9(m、5H
)、 3.45(s。
3H)。
4.56 (s、 2H) 。
7、1〜7.7 (m、 9H)
(1)で得たアルコール体16.76 gを塩化メチレ
ン300m1!に溶解し、ピリジン14.6gを加え、
水冷下クロロギ酸フェニル19.3 gを滴下し、その
まま30分間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液を加え激しく撹拌し、塩化メチレン層を分取し
、水層からはクロロホルムで抽出し塩化メチレン層と合
わせた。
ン300m1!に溶解し、ピリジン14.6gを加え、
水冷下クロロギ酸フェニル19.3 gを滴下し、その
まま30分間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液を加え激しく撹拌し、塩化メチレン層を分取し
、水層からはクロロホルムで抽出し塩化メチレン層と合
わせた。
これを飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、これを濾過し、溶媒留去した。得られた残渣に2
−アミノメチルピリジン9.98 gを加え、80℃で
30分撹拌した。反応液をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付しく溶出溶媒;酢酸エチル:n−ヘキサン
=4 : 6) 、標題化合物を23.11 g得た。
燥し、これを濾過し、溶媒留去した。得られた残渣に2
−アミノメチルピリジン9.98 gを加え、80℃で
30分撹拌した。反応液をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付しく溶出溶媒;酢酸エチル:n−ヘキサン
=4 : 6) 、標題化合物を23.11 g得た。
・’H−NMR(90MHz、 CDC13) δ:
3.3〜3.8(m、3N)、 3.44(s、3H)
、 4.1〜4.4(m、2H)、 4.45(d、J
=6Hz、2H)、 4.56(s、2H)。
3.3〜3.8(m、3N)、 3.44(s、3H)
、 4.1〜4.4(m、2H)、 4.45(d、J
=6Hz、2H)、 4.56(s、2H)。
5.6〜5.9(m、E)、 6.95〜7.7(m、
12H)。
12H)。
8、44 (d、 J=5Hz、 IH)(2)で得た
ピリジン体10.2 gをピリジン10〇−に溶解し、
室温で2−メトキシ安息香酸クロリド6、42 gを室
温で滴下し、50℃で2時間撹拌した。溶媒留去後、酢
酸エチルを加え、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、
水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
ピリジン体10.2 gをピリジン10〇−に溶解し、
室温で2−メトキシ安息香酸クロリド6、42 gを室
温で滴下し、50℃で2時間撹拌した。溶媒留去後、酢
酸エチルを加え、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、
水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
これを濾過し、溶媒留去後、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付しく溶出溶媒;酢酸エチル:n−
ヘキサン=3:7)、標題化合物を10.93 g得た
。
ロマトグラフィーに付しく溶出溶媒;酢酸エチル:n−
ヘキサン=3:7)、標題化合物を10.93 g得た
。
・’H−NMR(90M)Iz、 CDCl5) δ
;3.05〜3.4(m、3H)、 3.22(s、3
1()、 3.78(s。
;3.05〜3.4(m、3H)、 3.22(s、3
1()、 3.78(s。
3H)、 3.95〜4.2(m、2i()、 4.4
0(s、2H)。
0(s、2H)。
5.18(s、2)1)、 6.7〜7.7(m、16
)1)、 8.4〜8、55 (m、 IH) (3)で得た2−メトキシベンゾイル体9.4gをヨウ
化エチル100−に溶解し、窒素気流下57時間加熱還
流した。反応液を留去し、残渣をI RA−410(C
1型、溶出溶媒;メタノール:水=7:3)で処理し、
クロル体を得た。さらにこれをシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーに付しく溶出溶媒:メタノール:塩化メチ
レン=5:95)、標題化合物を8.32 g得た。
)1)、 8.4〜8、55 (m、 IH) (3)で得た2−メトキシベンゾイル体9.4gをヨウ
化エチル100−に溶解し、窒素気流下57時間加熱還
流した。反応液を留去し、残渣をI RA−410(C
1型、溶出溶媒;メタノール:水=7:3)で処理し、
クロル体を得た。さらにこれをシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーに付しく溶出溶媒:メタノール:塩化メチ
レン=5:95)、標題化合物を8.32 g得た。
・’H−NMR(90MHz、 CDC13) δ:
1.72(t、J=7Hz、3H)、 3.1〜3.4
(m、3H)。
1.72(t、J=7Hz、3H)、 3.1〜3.4
(m、3H)。
3.20(s、3H)、 3.85(S、3H)、 3
.95〜4.4(m。
.95〜4.4(m。
2N)、 4.43(s、2H)、 5.00((]、
J=71(z、21()。
J=71(z、21()。
5.34(bs、2H)、 6.7〜7.15(m、2
H)、 7.15〜7.75(m、11)1)、 7.
85〜8.2(m、2H)、 8.25〜8.6(m、
IH)、 9.65(d、 J=6Hz、 IH)−
MS m/z (FAR,Pos、) ;569(M
”)シリンガアルデヒド171.6 gのN、N−ジメ
チルホルムアミド溶液1.81に水素化ナトリウム49
gを加え60℃で30分撹拌した後、水冷下、シクロヘ
キシルブロマイド200 g 、ヨウ化カリウム92g
を加え80℃で1時間撹拌した。
H)、 7.15〜7.75(m、11)1)、 7.
85〜8.2(m、2H)、 8.25〜8.6(m、
IH)、 9.65(d、 J=6Hz、 IH)−
MS m/z (FAR,Pos、) ;569(M
”)シリンガアルデヒド171.6 gのN、N−ジメ
チルホルムアミド溶液1.81に水素化ナトリウム49
gを加え60℃で30分撹拌した後、水冷下、シクロヘ
キシルブロマイド200 g 、ヨウ化カリウム92g
を加え80℃で1時間撹拌した。
冷後、水1.5Ilを注ぎ酢酸エチルで抽出し、硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を留去した後、残留物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エ
チル:n−ヘキサン=1:9)で精製することにより、
標題化合物を250 g得た。
グネシウムで乾燥した。溶媒を留去した後、残留物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エ
チル:n−ヘキサン=1:9)で精製することにより、
標題化合物を250 g得た。
・’H−NMR(90MHz、 CDC13) δ;
0.70〜1.04(m、IIH)、 3.9Hs、6
H)、 3.76〜3.96(m、2H)、 7.11
(s、2H)、 9.85(s、IH)(1)で得た化
合物2.3gのエタノール溶液6〇−に室温で水素化ホ
ウ素ナトリウム0.45 gを加え、60℃で1時間撹
拌した。冷後、溶媒を留去し、水を注いでクロロホルム
で抽出した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去
することより、標題化合物を2.3g得た。
0.70〜1.04(m、IIH)、 3.9Hs、6
H)、 3.76〜3.96(m、2H)、 7.11
(s、2H)、 9.85(s、IH)(1)で得た化
合物2.3gのエタノール溶液6〇−に室温で水素化ホ
ウ素ナトリウム0.45 gを加え、60℃で1時間撹
拌した。冷後、溶媒を留去し、水を注いでクロロホルム
で抽出した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去
することより、標題化合物を2.3g得た。
O’H−NMR(90M)lz、 CDC1a) δ
:0.72〜2.04(m、118)、 3.64〜3
.88(m、2H)。
:0.72〜2.04(m、118)、 3.64〜3
.88(m、2H)。
3.84(s、6H)、 4.52〜4.66(m、
2H)、 6.57(s。
2H)、 6.57(s。
2H)
(2)で得た化合物10.6 gのクロロホルム溶液1
00rrti!に、氷冷下漬塩酸25mj2を滴下し、
室温で2.5時間撹拌した。クロロホルム層を取り、水
洗後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗い、再び水洗
した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去するこ
とにより、標題化合物を11.3g得た。
00rrti!に、氷冷下漬塩酸25mj2を滴下し、
室温で2.5時間撹拌した。クロロホルム層を取り、水
洗後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗い、再び水洗
した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去するこ
とにより、標題化合物を11.3g得た。
O’H−NMR(90MHz、 CDCl5) δ;
0.68〜2.04(m、11H)、 3.64〜3.
92(m、2H)。
0.68〜2.04(m、11H)、 3.64〜3.
92(m、2H)。
3.85(s、6H)、 4.53(s、2H)、 6
.61(s、2H)2−メトキシ−1,3−プロパンジ
オール21gのN、N−ジメチルホルムアミド溶液25
0mj!に、氷冷下水素化ナトリウム5.6gを徐々に
加えた後、80℃に昇温しで1時間撹拌した。
.61(s、2H)2−メトキシ−1,3−プロパンジ
オール21gのN、N−ジメチルホルムアミド溶液25
0mj!に、氷冷下水素化ナトリウム5.6gを徐々に
加えた後、80℃に昇温しで1時間撹拌した。
これに水冷下、(3)で得た化合物19.4gを加え再
び80℃に昇温し、1時間撹拌した。冷後、水1.5
I!を加え、酢酸エチルIJで抽出し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を留去して得た残留物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶出溶媒;酢酸エチル:n
−ヘキサン=1 : 1)で精製することにより、標題
化合物を10.0 g得た。
び80℃に昇温し、1時間撹拌した。冷後、水1.5
I!を加え、酢酸エチルIJで抽出し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を留去して得た残留物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶出溶媒;酢酸エチル:n
−ヘキサン=1 : 1)で精製することにより、標題
化合物を10.0 g得た。
・’fl−NMR(90MHz、 CD’C13)
δ;0.66〜2.22(m、12H)、 3.08〜
3.94(m、7H)。
δ;0.66〜2.22(m、12H)、 3.08〜
3.94(m、7H)。
3.44(s、3)1)、 3.80(s、6H)、
4.43(s、21()。
4.43(s、21()。
6、49 (s、 2)1)
(5) l−0−(4−シクロへキシルメトキシ−3
゜5 一ジメ トキシ) ベンジル−2−〇−メチル (4)で得た化合物10. Og 、塩化メチレン20
〇−、ピリジン4.7gの混合物に水冷下クロロギ酸フ
ェニル5gを滴下し、10分間撹拌した。
゜5 一ジメ トキシ) ベンジル−2−〇−メチル (4)で得た化合物10. Og 、塩化メチレン20
〇−、ピリジン4.7gの混合物に水冷下クロロギ酸フ
ェニル5gを滴下し、10分間撹拌した。
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗い、水洗した後硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得た油状物を
2−(アミノメチル〉ピリジン4.3gに溶かし、温室
で0.5時間撹拌した。これをシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(溶出溶媒;酢酸エチル:n−ヘキサン=
l:1)で精製することにより、標題化合物を10.0
g得た。
マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得た油状物を
2−(アミノメチル〉ピリジン4.3gに溶かし、温室
で0.5時間撹拌した。これをシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(溶出溶媒;酢酸エチル:n−ヘキサン=
l:1)で精製することにより、標題化合物を10.0
g得た。
O’H−NMR,(90MH2,CDCl5) δ;
0.83〜1.06(m、11H)、 3.36〜3.
94(m、5H)。
0.83〜1.06(m、11H)、 3.36〜3.
94(m、5H)。
3.44(s、3ft)、 3.80(s、6H)、
4.22(m、2H)。
4.22(m、2H)。
4.32〜4.52(m、2H)、 4.43(s、2
11)、 5.60〜5.90(br、s、IH)、
6.49(s、2H)、 7.02〜7.26(+++
、2H)、 7.44〜7.70(m、IH)、 8.
39〜8.51(m、IH) (5)で得られた化合物10.0gのピリジン溶液20
0m1に室温で2−メトキシベンゾイルクロリド5.1
gを加え、50℃で2時間撹拌した。
11)、 5.60〜5.90(br、s、IH)、
6.49(s、2H)、 7.02〜7.26(+++
、2H)、 7.44〜7.70(m、IH)、 8.
39〜8.51(m、IH) (5)で得られた化合物10.0gのピリジン溶液20
0m1に室温で2−メトキシベンゾイルクロリド5.1
gを加え、50℃で2時間撹拌した。
冷後、酢酸エチル300−を加え、水洗2回、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液で2回洗い、硫酸マグネシウムで
乾燥した。溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(溶出溶媒;酢酸エチル:n−ヘキサン−
1:1)で精製することにより、標題化合物を9:0g
得た。
水素ナトリウム水溶液で2回洗い、硫酸マグネシウムで
乾燥した。溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(溶出溶媒;酢酸エチル:n−ヘキサン−
1:1)で精製することにより、標題化合物を9:0g
得た。
・’H−NMR(90MHz、 CDCl5) δ;
0.72〜2.03(m、IIH)、 3.18(s、
5H)、 3.58〜4.16(m、5H)、 3.7
8(s、9N、)、 4.29(s、2H)。
0.72〜2.03(m、IIH)、 3.18(s、
5H)、 3.58〜4.16(m、5H)、 3.7
8(s、9N、)、 4.29(s、2H)。
5.19(s、2H)、 6.43(s、2H)、 6
.7(1〜7.70(m。
.7(1〜7.70(m。
7H)、 8.38〜8.54(m、111)クロリド
の合成 (6)で得た化合物9.0gのヨウ化エチル溶液100
m1’を遮光、窒素ガス中80℃で2.5日間撹拌した
。冷後、反応液を濃縮乾固し、残渣をI RA−410
(CA型、溶出溶媒;メタノール:水=7:3)で処理
した。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶
出溶媒;塩化メチレン:メタノール=9 : 1)で精
製し凍結乾燥することにより、標題化合物を6.9g得
た。
の合成 (6)で得た化合物9.0gのヨウ化エチル溶液100
m1’を遮光、窒素ガス中80℃で2.5日間撹拌した
。冷後、反応液を濃縮乾固し、残渣をI RA−410
(CA型、溶出溶媒;メタノール:水=7:3)で処理
した。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶
出溶媒;塩化メチレン:メタノール=9 : 1)で精
製し凍結乾燥することにより、標題化合物を6.9g得
た。
O’H−NMR(400MHz、 CDCl、)δ:0
.95〜1.07(m、2H)、 1.12〜1.32
(m、3H)。
.95〜1.07(m、2H)、 1.12〜1.32
(m、3H)。
1.62〜1.80(m、7H)、 1.90(m、2
8)、 3.18(s。
8)、 3.18(s。
5H)、 3.73(d、J=7Hz、2N)、 3.
81s、6H)。
81s、6H)。
3、85 (s、 3H) 、 4.06(m、IH)
、 4.23(m、IN)。
、 4.23(m、IN)。
4.33(s、2H)、 5.20(m、2)1)、
5.42(s、2H)。
5.42(s、2H)。
6.47(s、2H)、 6.90(d、J=8Hz、
IH)、 7.05(m。
IH)、 7.05(m。
IH)、 7.46(m、2H)、 7.97〜8.1
2(m、2H)。
2(m、2H)。
8.36(m、IH)、 10.27(m、IH)(
1) 1−〇− (4−シクロヘキシルメ トキシー 実施例5の(4)で得た化合物8.5 g 、ピリジン
4g1塩化メチレン100m!!の混合物に冷却下クロ
ロギ酸フェニル4.2gを滴下し、10分間撹拌した。
1) 1−〇− (4−シクロヘキシルメ トキシー 実施例5の(4)で得た化合物8.5 g 、ピリジン
4g1塩化メチレン100m!!の混合物に冷却下クロ
ロギ酸フェニル4.2gを滴下し、10分間撹拌した。
これを飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗い、水洗した
のち硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得た
残渣をN。
のち硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得た
残渣をN。
N−ジメチルエチレンジアミン8.1gに溶かし、室温
で1時間撹拌した。これをシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(溶出溶媒;酢酸エチル〉で精製することによ
り、標題化合物IQgを得た。
で1時間撹拌した。これをシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(溶出溶媒;酢酸エチル〉で精製することによ
り、標題化合物IQgを得た。
−’ H−NMR(90MHz、 coc 13)
δ;0.84〜1.12(m、IIH)、 2.20(
s、6ti)、 1.36(m、2H)、 3.20m
、2H)、 3.44(s、3H)、 3.46〜3.
88(m、5H)、 3.80(s、6H)、 4.1
7(m、2tl)。
δ;0.84〜1.12(m、IIH)、 2.20(
s、6ti)、 1.36(m、2H)、 3.20m
、2H)、 3.44(s、3H)、 3.46〜3.
88(m、5H)、 3.80(s、6H)、 4.1
7(m、2tl)。
4、44 (s、 2H) 、 5゜08〜5.32(
m、1tl)、 6.50(s。
m、1tl)、 6.50(s。
2H)
(1)で得た化合物1.5 gのテトラヒドロフラン溶
液30mj!に室温で水素化カリウム(35%)0.5
3gを加え30分間撹拌した。これに水冷下、2−メト
キシベンゾイルクロリド0.80 gを加え30分間撹
拌した。酢酸0.56 gを加え室温で30分間撹拌し
たのち、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え酢酸エチ
ルで抽出し、水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶
媒を除いてシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出
溶媒:酢酸エチル:n−ヘキサン=4:1)で精製する
ことにより、標題化合物を0.24 g得た。
液30mj!に室温で水素化カリウム(35%)0.5
3gを加え30分間撹拌した。これに水冷下、2−メト
キシベンゾイルクロリド0.80 gを加え30分間撹
拌した。酢酸0.56 gを加え室温で30分間撹拌し
たのち、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え酢酸エチ
ルで抽出し、水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶
媒を除いてシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出
溶媒:酢酸エチル:n−ヘキサン=4:1)で精製する
ことにより、標題化合物を0.24 g得た。
・’H−NMR(90MHz、 CDC13) δ:
0.76〜2.03(m、11H)、 2.28(s、
6H)、 2.40〜2.66(m、2H)、 3.2
4(s、5H)、 3.60〜4.13(m、7H)、
3.73(s、3H)、 3.78(s、6H)、
4.33(s、2H)、 6.44(s、28)、 6
.60〜?、01(m、2)1)。
0.76〜2.03(m、11H)、 2.28(s、
6H)、 2.40〜2.66(m、2H)、 3.2
4(s、5H)、 3.60〜4.13(m、7H)、
3.73(s、3H)、 3.78(s、6H)、
4.33(s、2H)、 6.44(s、28)、 6
.60〜?、01(m、2)1)。
7、18〜7.42 (m、 2H)
(3) N、N、N −)リフチル−2−CN−(3
−(4−シクロへキシルメトキシ−3,5−ジメ トキシ) ベンジルオキシ−2 メ トキシ) (2)で得た化合物0.24 g 、ヨウ化メチル0.
11g1ジエチルエーテル10−の混合物を室温で遮光
して、窒素中4日間撹拌した。生じた沈澱をジエチルエ
ーテルで洗い、標題化合物を0、25 g得た。
−(4−シクロへキシルメトキシ−3,5−ジメ トキシ) ベンジルオキシ−2 メ トキシ) (2)で得た化合物0.24 g 、ヨウ化メチル0.
11g1ジエチルエーテル10−の混合物を室温で遮光
して、窒素中4日間撹拌した。生じた沈澱をジエチルエ
ーテルで洗い、標題化合物を0、25 g得た。
−’)I−NMR(90MHz、 C[]C1,)
δ;0.84〜2.10(m、11H)、 3.23(
s、5H)、 3J6〜4,47(m、9)1)、 3
.51(s、9H)、 3.77(s、3)1)。
δ;0.84〜2.10(m、11H)、 3.23(
s、5H)、 3J6〜4,47(m、9)1)、 3
.51(s、9H)、 3.77(s、3)1)。
3、80(s、 6H)。
4、35 (s、 2H) 。
6.46(s、 2H)。
6、70〜7.06 (m、 2H) 。
7、26〜7.47 (m、 2N)
グリセリン−2−メチルエーテル10gをN、N−ジメ
チルホルムアミド100dに溶かし、水素化ナトリウム
(60%)3.8gを加え、60℃で1時間撹拌した。
チルホルムアミド100dに溶かし、水素化ナトリウム
(60%)3.8gを加え、60℃で1時間撹拌した。
反応液を室温に戻し、3,4゜5−トリメトキシベンジ
ルクロリド8.3gを加え1時間反応させた。反応液を
水100m1に加えベンゼン100−で抽出し、有機層
を集め、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した
。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶
媒;酢酸エチル:n−ヘキサン=1:1)で精製し゛、
標題化合物を7.5g得た。
ルクロリド8.3gを加え1時間反応させた。反応液を
水100m1に加えベンゼン100−で抽出し、有機層
を集め、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した
。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶
媒;酢酸エチル:n−ヘキサン=1:1)で精製し゛、
標題化合物を7.5g得た。
・’H−NMR(90MHz、 CDCl、) δ;
3.28〜3.85(m、6H)、 3.45(s、3
H)、 3.81(s、3H)、 3.84(s、6H
)、 4.25(s、2H)、 6.50(s、2H) 合成 (1)で得た化合物6.7gをピリジン67rrI!!
に溶かし、水冷下で撹拌しながらクロロギ酸フェニル3
.5mlを滴下し、1時間反応させた。反応液を飽和炭
酸水素す) IJウム水溶液に加え、ジクロロメタン5
0m1で2回抽出した。有機層を集め、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧濃縮し、粗カーボネート7.5g
を得た。粗カーボネートをクロロホルム70m1に溶か
し、2−アミノメチルピリジン7rnlを加え、3時間
加熱還流した。反応液を室温に戻し、減圧濃縮し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒;酢
酸エチル:n−ヘキサン−1:1〉で精製し、標題化合
物8.8gを得た。
3.28〜3.85(m、6H)、 3.45(s、3
H)、 3.81(s、3H)、 3.84(s、6H
)、 4.25(s、2H)、 6.50(s、2H) 合成 (1)で得た化合物6.7gをピリジン67rrI!!
に溶かし、水冷下で撹拌しながらクロロギ酸フェニル3
.5mlを滴下し、1時間反応させた。反応液を飽和炭
酸水素す) IJウム水溶液に加え、ジクロロメタン5
0m1で2回抽出した。有機層を集め、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧濃縮し、粗カーボネート7.5g
を得た。粗カーボネートをクロロホルム70m1に溶か
し、2−アミノメチルピリジン7rnlを加え、3時間
加熱還流した。反応液を室温に戻し、減圧濃縮し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒;酢
酸エチル:n−ヘキサン−1:1〉で精製し、標題化合
物8.8gを得た。
−’ )l−NMR(9θMH2,CDC13) δ
:3.45(s、3H)、 3.48〜3.68(m、
3H)、 3.80(s、3H)、 3.84(s、6
H)、 4.14〜4.30(m。
:3.45(s、3H)、 3.48〜3.68(m、
3H)、 3.80(s、3H)、 3.84(s、6
H)、 4.14〜4.30(m。
2ft)、 4.45(d、 J=7.5Hz、 2H
)、 4.46(s、 2H)。
)、 4.46(s、 2H)。
5.85(br、LH)、 6.52(s、2H)、
7.02〜7.28(m、2H)、 7.60(m、L
H)、 8.45(m、LH)セリンの合成 (2)で得た化合物0.56 gをN、N−ジメチルホ
ルムアミド15rnlに溶かし、水素化ナトリウム(6
0%)80mgを加え室温で1時間撹拌後、N、N−ジ
メチルカルバミルクロリド0.18−を加え、1時間反
応させた。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に加
え、塩化メチレン20m1で3回抽出し、有機層を集め
、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒;酢
酸エチル:n−ヘキサン=2 : 1)で精製し、標題
化合物を0、58 g得た。
7.02〜7.28(m、2H)、 7.60(m、L
H)、 8.45(m、LH)セリンの合成 (2)で得た化合物0.56 gをN、N−ジメチルホ
ルムアミド15rnlに溶かし、水素化ナトリウム(6
0%)80mgを加え室温で1時間撹拌後、N、N−ジ
メチルカルバミルクロリド0.18−を加え、1時間反
応させた。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に加
え、塩化メチレン20m1で3回抽出し、有機層を集め
、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒;酢
酸エチル:n−ヘキサン=2 : 1)で精製し、標題
化合物を0、58 g得た。
’)l−NMR(90Mi(z、 CDC13) δ
:2.96(s、6H)、 3,38(s、3H)、
3.40〜3.62(m、3H)、 3.82(
s、3)1)、 3.85(s、6H)。
:2.96(s、6H)、 3,38(s、3H)、
3.40〜3.62(m、3H)、 3.82(
s、3)1)、 3.85(s、6H)。
4.14〜4.35(m、2H)、 4.43(s、
2H)、 4.62(s、2tl)、 6.53(
s、2H)、 7.04〜7.36(m。
2H)、 4.62(s、2tl)、 6.53(
s、2H)、 7.04〜7.36(m。
2H)、 7.62(m、IH)、 8.50(m
、IH)(3)で得た化合物300mg をヨウ化エチル15 −に溶かし、50℃で3日間反応させた。反応液を室温
に戻し、エーテルを加え、デカントで上澄みを除いた。
、IH)(3)で得た化合物300mg をヨウ化エチル15 −に溶かし、50℃で3日間反応させた。反応液を室温
に戻し、エーテルを加え、デカントで上澄みを除いた。
アセトンで沈澱を溶かし、エーテルを加えデカントで上
澄みを除いた。沈澱を乾固して、標題化合物を250m
g得た。
澄みを除いた。沈澱を乾固して、標題化合物を250m
g得た。
O’H−NMR(90Ml(z、 CDCl、) δ
:1.71(t、J=7Hz、3)1)、 3.04(
s、6H)、 3.39(s、3H)、 3.40〜3
.66(m、3H)、 3.83(s。
:1.71(t、J=7Hz、3)1)、 3.04(
s、6H)、 3.39(s、3H)、 3.40〜3
.66(m、3H)、 3.83(s。
3H)、 3.86(s、6H)’、 4.24〜4.
44(m、28)。
44(m、28)。
4.46(s、2)1)、 5.04(Q、J=7Hz
、2H)、 5.25(s、2H)、 6.56(s、
28)、 7.92〜8.54(m。
、2H)、 5.25(s、2H)、 6.56(s、
28)、 7.92〜8.54(m。
3H)、 9.52(m、IH)
−ジド
OMe
実施例7の(1)で得られた化合物3.0g及びトリエ
チルアミン2.2gをテトラヒドロフラン100−に溶
解し、水冷下塩化メタンスルホニル1.5gを滴下した
。室温で1時間撹拌し、氷水中に注ぎ酢酸エチル50m
A’により3回抽出した。抽出液を飽和食塩水により洗
浄し、溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(溶出溶媒;酢酸エチル:ヘキサン=1
:5)により精製し、標題化合物を2.8g得た。
チルアミン2.2gをテトラヒドロフラン100−に溶
解し、水冷下塩化メタンスルホニル1.5gを滴下した
。室温で1時間撹拌し、氷水中に注ぎ酢酸エチル50m
A’により3回抽出した。抽出液を飽和食塩水により洗
浄し、溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(溶出溶媒;酢酸エチル:ヘキサン=1
:5)により精製し、標題化合物を2.8g得た。
・’ H−NMR(90MH2,CDClり δ;3
.04(s、3H)、 3.48(s、3H)、 3.
60(m、2H)。
.04(s、3H)、 3.48(s、3H)、 3.
60(m、2H)。
3、24〜3゜68(m、IH)、 3.84(s、3
fl)、 3.88(s、6)1)、 4.28〜4.
40(m、2H)、 4.49(s、2H)。
fl)、 3.88(s、6)1)、 4.28〜4.
40(m、2H)、 4.49(s、2H)。
6、58(s、 2H)
(2)3−(2−ピリジル)メチルヒダントインの台底
ヒダントイン5.0g、2−クロロメチルピリジン8.
2 g 、無水炭酸カリウム6.9gをN。
2 g 、無水炭酸カリウム6.9gをN。
N−ジメチルホルムアミド100rn1に溶解し、室温
で1時間、80℃で30分間撹拌した。・N、N−ジメ
チルホルムアミドを減圧留去し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(溶出溶媒;クロロホルム:メタ
ノール=9:1)により精製し、標題化合物を4,8g
得た。
で1時間、80℃で30分間撹拌した。・N、N−ジメ
チルホルムアミドを減圧留去し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(溶出溶媒;クロロホルム:メタ
ノール=9:1)により精製し、標題化合物を4,8g
得た。
・’H−NMR(90MHz、 CDC13) δ;
4、(13(s、2H)、 4.81(s、2N)
、 6.54(brs、IHン。
4、(13(s、2H)、 4.81(s、2N)
、 6.54(brs、IHン。
7.08〜7.36(m、2H)、 7.65(t、J
=8Hz、1N)。
=8Hz、1N)。
8、54 (d、 J=8Hz、 1)1)(2)で得
た3−(2−ピリジル)メチルヒダントイン0.9gを
N、N−ジメチルホルムアミド50dに溶解し、室温で
水素化ナトリウム(60%)0.2gを加え30分間撹
拌した。さらに(1)で得られた化合物を加え室温で3
0分、80℃で1時間撹拌した。反応液を室温にし氷水
中に注ぎ1oOrn!!の酢酸エチルにより3回抽出し
た。
た3−(2−ピリジル)メチルヒダントイン0.9gを
N、N−ジメチルホルムアミド50dに溶解し、室温で
水素化ナトリウム(60%)0.2gを加え30分間撹
拌した。さらに(1)で得られた化合物を加え室温で3
0分、80℃で1時間撹拌した。反応液を室温にし氷水
中に注ぎ1oOrn!!の酢酸エチルにより3回抽出し
た。
抽出液を飽和食塩水により洗浄し、溶媒を減圧留去後、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー〈溶出溶媒
:酢酸エチル:ヘキサン=4 : 1)により精製し、
標題化合物を0.66g得た。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー〈溶出溶媒
:酢酸エチル:ヘキサン=4 : 1)により精製し、
標題化合物を0.66g得た。
・’H−NMR(90MHz、 CDCl5) δ;
3.42(s、3H)、 3.48〜3.64(m、5
H)、 3.84(s、9H)、 4.12(s、2H
)、 4.45(s、2H)、 4.80(S、2H)
、 6.54(S、2)1)、 7.04〜7.32(
m、2)1)。
3.42(s、3H)、 3.48〜3.64(m、5
H)、 3.84(s、9H)、 4.12(s、2H
)、 4.45(s、2H)、 4.80(S、2H)
、 6.54(S、2)1)、 7.04〜7.32(
m、2)1)。
7、62(t、 J=8Hz、 LH)、 8.49
(d、 J=7Hz、 1N)(3)で得られた化合物
をヨウ化エチル10m1!に溶解し24時間還流した。
(d、 J=7Hz、 1N)(3)で得られた化合物
をヨウ化エチル10m1!に溶解し24時間還流した。
不溶物を濾別し、アセトンに溶解させエーテルを加える
ことにより沈澱させた。上澄みを除くことにより、標題
化合物を0.6g得た。
ことにより沈澱させた。上澄みを除くことにより、標題
化合物を0.6g得た。
・’)I−NMR(90MHz、 CDC13) δ
;1.68(t、J=8Hz、3H)、 3.44(s
、311)、 3.52〜3.68(m、5H)、 3
.82(s、3H)、 3.86(s、6H)。
;1.68(t、J=8Hz、3H)、 3.44(s
、311)、 3.52〜3.68(m、5H)、 3
.82(s、3H)、 3.86(s、6H)。
4.26(s、2H)、 4.46(9,2H)、 5
.00(q、J=8Hz。
.00(q、J=8Hz。
2H)、 5.06(s、2)1)、 6.56(s、
2H)、 7.98〜8.2Hm、2H)、 8.47
(t、J=8Hz、IH)、 9.39(d、 J=8
Hz、 LH) (1) 2−メ トキシー3−(3,4,5−)リメ トキシ ルの合成 2−メトキシ−3−(3,4,5−)リメトキシベンジ
ルオキシ)−1−プロパノール4.43 gヲN、N−
ジメチルホルムアミド50rlf!に溶解し、室温で水
素化す) IJウム(60%)1.2gを加え60℃で
1時間加熱し、水冷下でブロモ酢酸メチル11.83
gを滴下し、そのまましばらく撹拌した。溶媒留去後、
氷水を加え、クロロホルムで抽出し、飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。これを濾過し、
溶媒留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付しく溶出溶媒;酢酸エチル:n−ヘキサン=1:
3)、標題化合物を1.79g%た。
2H)、 7.98〜8.2Hm、2H)、 8.47
(t、J=8Hz、IH)、 9.39(d、 J=8
Hz、 LH) (1) 2−メ トキシー3−(3,4,5−)リメ トキシ ルの合成 2−メトキシ−3−(3,4,5−)リメトキシベンジ
ルオキシ)−1−プロパノール4.43 gヲN、N−
ジメチルホルムアミド50rlf!に溶解し、室温で水
素化す) IJウム(60%)1.2gを加え60℃で
1時間加熱し、水冷下でブロモ酢酸メチル11.83
gを滴下し、そのまましばらく撹拌した。溶媒留去後、
氷水を加え、クロロホルムで抽出し、飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。これを濾過し、
溶媒留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付しく溶出溶媒;酢酸エチル:n−ヘキサン=1:
3)、標題化合物を1.79g%た。
φ’H−NMR(90MHz、 CDCl*) δ:
3.49(9,3H)、 3.4〜3.8(m、5H
)、 3.75(s。
3.49(9,3H)、 3.4〜3.8(m、5H
)、 3.75(s。
3H)、 3.85(s、3H)、 3.88(s
、6H)、 4.14(s。
、6H)、 4.14(s。
2H)、 4.49(s、2H)、 6.58(s
、2H)水素化リチウムアルミニウム140mg ヲテ
トラヒドロフラン1(lrnlに懸濁し、そこに(1)
で得たエステル体1.79 gを水冷下滴下した。室温
に戻し、発泡しなくなるまで水素化リチウムアルミニウ
ムを追加し、30分間撹拌した。再度氷冷し、水0.5
−120%水酸化ナトリウム水溶液1−1水1rnlの
順に滴下し、不溶物を濾去し、溶媒を留去した。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付しく溶出溶媒
;酢酸エチル:n−ヘキサン=7:3)、標題化合物を
1.01 g得た。
、2H)水素化リチウムアルミニウム140mg ヲテ
トラヒドロフラン1(lrnlに懸濁し、そこに(1)
で得たエステル体1.79 gを水冷下滴下した。室温
に戻し、発泡しなくなるまで水素化リチウムアルミニウ
ムを追加し、30分間撹拌した。再度氷冷し、水0.5
−120%水酸化ナトリウム水溶液1−1水1rnlの
順に滴下し、不溶物を濾去し、溶媒を留去した。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付しく溶出溶媒
;酢酸エチル:n−ヘキサン=7:3)、標題化合物を
1.01 g得た。
・’)I−NMR(90MHz、 CDCl5) δ
:2.3(bs、LH)、 3.3〜3.8(m、9
H)、 3.44(s。
:2.3(bs、LH)、 3.3〜3.8(m、9
H)、 3.44(s。
3H)、 3.80(s、3H)、 3.83(s
、6H)、 4.45(s。
、6H)、 4.45(s。
28)、 6..5Hs、2N)
(2)で得たアルコール体1.0gを塩化メチレン20
rnl及びトリエチルアミン920mgに溶解し、−1
5℃以下で塩化メタンスルホニル870mgを滴下した
。約30分撹拌後、水を加え、クロロホルムで抽出し、
クロロホルム層をIN−塩酸、飽和炭酸水素す) IJ
ウム水溶液、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。これを濾過し、溶媒を留去して、標
題化合物を1.38 g得た。
rnl及びトリエチルアミン920mgに溶解し、−1
5℃以下で塩化メタンスルホニル870mgを滴下した
。約30分撹拌後、水を加え、クロロホルムで抽出し、
クロロホルム層をIN−塩酸、飽和炭酸水素す) IJ
ウム水溶液、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。これを濾過し、溶媒を留去して、標
題化合物を1.38 g得た。
・’H−NMR(90MHz、 CDC13) δ:
3.02(s、3H)、 3.3〜3.95(m、7
H)、 3.44(s、3H)、 3.8Hs、3
H)、 3.84(s、6H)、 4.15〜4.
5(m、2H)、 4.45(s、2H)、 6.
51(s、2H)ンの合成 アミノメチルピリジン650mgをN、N−ジメチルホ
ルムアミド5rnlに溶解し、室温下水素化ナトリウム
(60%)290mgを加え、60℃で20分間撹拌し
た後、氷冷し、(3)で得たメシルエステル体1.38
gのN、N−ジメチルホルムアミド溶液(10−)を加
え、80℃で2時間撹拌した。
3.02(s、3H)、 3.3〜3.95(m、7
H)、 3.44(s、3H)、 3.8Hs、3
H)、 3.84(s、6H)、 4.15〜4.
5(m、2H)、 4.45(s、2H)、 6.
51(s、2H)ンの合成 アミノメチルピリジン650mgをN、N−ジメチルホ
ルムアミド5rnlに溶解し、室温下水素化ナトリウム
(60%)290mgを加え、60℃で20分間撹拌し
た後、氷冷し、(3)で得たメシルエステル体1.38
gのN、N−ジメチルホルムアミド溶液(10−)を加
え、80℃で2時間撹拌した。
溶媒留去後、水を加え、クロロホルムで抽出し、クロロ
ホルム層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。これを濾過し、溶媒留去後、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付しく溶出溶媒;メタ
ノール:クロロホルム=5:95)、標題化合物を33
0mg得た。
ホルム層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。これを濾過し、溶媒留去後、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付しく溶出溶媒;メタ
ノール:クロロホルム=5:95)、標題化合物を33
0mg得た。
−’H−NMR(90MH2,CDC13) δ;2
.82(t、J=5Hz、2H)、 3.3〜3.8(
m、5H)。
.82(t、J=5Hz、2H)、 3.3〜3.8(
m、5H)。
3.44(s、3H)、 3.59(t、J=5Hz、
2)1)、 3.79(s、3H)、 3,8Hs、6
H)、 3.89(s、2H)、 4.44(S、2H
)、 6.51(s、2H)、 6.9〜7.35(m
、2N)。
2)1)、 3.79(s、3H)、 3,8Hs、6
H)、 3.89(s、2H)、 4.44(S、2H
)、 6.51(s、2H)、 6.9〜7.35(m
、2N)。
7.4〜7.7(m、IH)、 8.3〜8.55(m
、IH)(4)で得たアミン体330mgをピリジン1
0m7に溶解し、室温下無水酢酸400mgを滴下し、
そのまま30分間撹拌した。溶媒留去後、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付しく溶出溶媒;メタ
ノール:クロロホルム−1:99)、標題化合物を28
0mg得た。
、IH)(4)で得たアミン体330mgをピリジン1
0m7に溶解し、室温下無水酢酸400mgを滴下し、
そのまま30分間撹拌した。溶媒留去後、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付しく溶出溶媒;メタ
ノール:クロロホルム−1:99)、標題化合物を28
0mg得た。
・’H−NMR(90MHz、 CDCl、) δ;
2.06 and 2.18(each s、3H)、
3.3〜3.75(m、9H)、 3.40(s、3
H)、 3.79(s、3H)、 3.82(、S、6
H)、 4.42(S、2H)、 4.67(S、2)
1)、 6.50(s、2)1)、 6.9〜7.35
(m、2H)、 7.4〜7.7(m、1N)、 8.
3〜8.6(m、IH)シトの合成 (5)で得たアセチル体280mgをヨウ化エチル10
−に溶解し、窒素気流下で60℃で87時間撹°拌した
。油状物質が浮遊していたのでデカントして溶媒を除き
、アセトンを加えて溶かし、エーテルを加え再沈澱させ
た。デカントして溶媒を除き再びエーテルを加えるとい
う操作を繰り返し、標題化合物を230mg得た。
2.06 and 2.18(each s、3H)、
3.3〜3.75(m、9H)、 3.40(s、3
H)、 3.79(s、3H)、 3.82(、S、6
H)、 4.42(S、2H)、 4.67(S、2)
1)、 6.50(s、2)1)、 6.9〜7.35
(m、2H)、 7.4〜7.7(m、1N)、 8.
3〜8.6(m、IH)シトの合成 (5)で得たアセチル体280mgをヨウ化エチル10
−に溶解し、窒素気流下で60℃で87時間撹°拌した
。油状物質が浮遊していたのでデカントして溶媒を除き
、アセトンを加えて溶かし、エーテルを加え再沈澱させ
た。デカントして溶媒を除き再びエーテルを加えるとい
う操作を繰り返し、標題化合物を230mg得た。
・’H−NMR(90MHz、 CDC13) δ;
1.69(t、J=7Hz、3H)、 2.24(s、
3H)、 3.3〜4.0(m、9H)、 3.44(
s、3H)、 3.80(s、3H)。
1.69(t、J=7Hz、3H)、 2.24(s、
3H)、 3.3〜4.0(m、9H)、 3.44(
s、3H)、 3.80(s、3H)。
3、82 (s、 6H) 、 4.43 (s、 2
H) 、 4.79 (q、 J=7Hz。
H) 、 4.79 (q、 J=7Hz。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aは (1)式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、nは0又は1〜6の整数を意味し、R^1、R
^2、R^3は同一又は相異なる水素原子又はアルコキ
シ基を意味する)で示される基、 (2)式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、mは0又は1〜6の整数を意味する)で示され
る基、又は (3)式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、pは0又は1〜6の整数を意味する)で示され
る基を意味する。 Bは低級アルキル基又はアリールアルキル基を意味する
。 Dは、式−Y−(CH_2)_q−G 〔式中、Yは式▲数式、化学式、表等があります▼(式
中、R^4はアシル基又は式▲数式、化学式、表等があ
ります▼(式中、R^5、R^6は同一又は相異なる水
素原子又は低級アルキル基を意味する)で示され基を意
味する)で示される基、式 ▲数式、化学式、表等があります▼(式中、rは1〜3
の整数を意味 し、R^7はアシル基を意味する)で示され基、式▲数
式、化学式、表等があります▼で示される基、又は式▲
数式、化学式、表等があります▼で示 される基を意味する。 qは0又は1〜3の整数を意味する。 Gは式▲数式、化学式、表等があります▼で示される基
又は式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^8、R^9は同一又は相異なる低級アルキ
ル基を意味する)で示される基を意味する〕で示される
基を意味する。) で表されるグリセリン誘導体又はその薬理学的に許容で
きる塩。 2 薬理学的に許容できる塩が、Gの定義における式▲
数式、化学式、表等があります▼で示される基又は式▲
数式、化学式、表等があります▼(式 中、R^8、R^9は同一又は相異なる低級アルキル基
を意味する)で示される基の窒素原子において四級化さ
れた四級塩である請求項1記載の薬理学的に許容できる
塩。 3 薬理学的に許容できる塩が、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aは (1)式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、nは0又は1〜6の整数を意味し、R^1、R
^2、R^3は同一又は相異なる水素原子又はアルコキ
シ基を意味する)で示される基、 (2)式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、mは0又は1〜6の整数を意味する)で示され
る基、又は (3)式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、pは0又は1〜6の整数を意味する)で示され
る基を意味する。 Bは低級アルキル基又はアリールアルキル基を意味する
。 D′は、式−Y−(CH_2)_q−G′ 〔式中、Yは式▲数式、化学式、表等があります▼(式
中、R^4はアシル基又は式▲数式、化学式、表等があ
ります▼(式中、R^5、R^6は同一又は相異なる水
素原子又は低級アルキル基を意味する)で示され基を意
味する)で示される基、式 ▲数式、化学式、表等があります▼(式中、rは1〜3
の整数を意味 し、R^7はアシル基を意味する)で示され基、式▲数
式、化学式、表等があります▼で示される基、又は式▲
数式、化学式、表等があります▼で示 される基を意味する。 qは0又は1〜3の整数を意味する。 G′は式▲数式、化学式、表等があります▼(式中、R
^1^0は水素原子又は低級アルキル基を意味し、Xは
薬理学的に許容できるアニオンを意味する)で示される
基、又は式▲数式、化学式、表等があります▼(式中、
R^8、R^9、R^1^1は同一又は相異なる低級ア
ルキル基を意味し、Xは薬理学的に許容できるアニオン
を意味する)で示される基を意味する〕で示される基を
意味する。) で表される四級塩である請求項1記載の薬理学的に許容
できる塩。 4 Xがハロゲンである請求項3記載の薬理学的に許容
できる塩。 5 Xが塩素である請求項4記載の薬理学的に許容でき
る塩。 6 Aが式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、nは0又は1〜6の整数を意味し、R^1、R
^2、R^3は同一又は相異なる水素原子又はアルコキ
シ基を意味する)で示される基である請求項1〜5のい
ずれか一項に記載のグリセリン誘導体又はその薬理学的
に許容できる塩。 7 Aが式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、nは0又は1〜6の整数を意味し、R^1、R
^2、R^3は同一又は相異なる水素原子又はアルコキ
シ基を意味する)で示される基であり、Bがメチル基で
ある請求項1〜5のいずれか一項に記載のグリセリン誘
導体又はその薬理学的に許容できる塩。 8 Aが式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、nは0又は1〜6の整数を意味し、R^1、R
^2、R^3は同一又は相異なる水素原子又はアルコキ
シ基を意味する)で示される基であり、Bがメチル基で
あり、Dが式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^4′はアシル基を意味し、qは0又は1〜
3の整数を意味する)で示される基である請求項1〜5
のいずれか一項に記載のグリセリン誘導体又はその薬理
学的に許容できる塩。 9 R^4′がo−、m−又はp−アルコキシベンゾイ
ル基である請求項8記載のグリセリン誘導体又はその薬
理学的に許容できる塩。 10 R^4′がo−、m−又はp−メトキシベンゾイ
ル基である請求項8記載のグリセリン誘導体又はその薬
理学的に許容できる塩。 11 R^4′がo−メトキシベンゾイル基である請求
項8記載のグリセリン誘導体又はその薬理学的に許容で
きる塩。 12 Aが式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^2′はアルコキシ基を意味する)で表され
る基である請求項6記載のグリセリン誘導体又はその薬
理学的に許容できる塩。 13 R^2′が炭素数14〜22のアルコキシ基であ
る請求項12記載のグリセリン誘導体又はその薬理学的
に許容できる塩。 14 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aは (1)式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、nは0又は1〜6の整数を意味し、R^1、R
^2、R^3は同一又は相異なる水素原子又はアルコキ
シ基を意味する)で示される基、 (2)式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、mは0又は1〜6の整数を意味する)で示され
る基、又は (3)式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、pは0又は1〜6の整数を意味する)で示され
る基を意味する。 Bは低級アルキル基又はアリールアルキル基を意味する
。 Dは、式−Y−(CH_2)_q−G 〔式中、Yは式▲数式、化学式、表等があります▼(式
中、R^4はアシル基又は式▲数式、化学式、表等があ
ります▼(式中、R^5、R^6は同一又は相異なる水
素原子又は低級アルキル基を意味する)で示され基を意
味する)で示される基、式 ▲数式、化学式、表等があります▼(式中、rは1〜3
の整数を意味 し、R^7はアシル基を意味する)で示され基、式▲数
式、化学式、表等があります▼で示される基、又は式▲
数式、化学式、表等があります▼で示 される基を意味する。 qは0又は1〜3の整数を意味する。 Gは式▲数式、化学式、表等があります▼で示される基
又は式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^8、R^9は同一又は相異なる低級アルキ
ル基を意味する)で示される基を意味する〕で示される
基を意味する。) で表されるグリセリン誘導体又はその薬理学的に許容で
きる塩を有効成分とする抗PAF剤。 15 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aは (1)式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、nは0又は1〜6の整数を意味し、R^1、R
^2、R^3は同一又は相異なる水素原子又はアルコキ
シ基を意味する)で示される基、 (2)式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、mは0又は1〜6の整数を意味する)で示され
る基、又は (3)式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、pは0又は1〜6の整数を意味する)で示され
る基を意味する。 Bは低級アルキル基又はアリールアルキル基を意味する
。 Dは、式−Y−(CH_2)_q−G 〔式中、Yは式▲数式、化学式、表等があります▼(式
中、R^4はアシル基又は式▲数式、化学式、表等があ
ります▼(式中、R^5、R^6は同一又は相異なる水
素原子又は低級アルキル基を意味する)で示され基を意
味する)で示される基、式 −O−(CH_2)_r−N−(式中、rは1〜3の整
数を意味し、R^7はアシル基を意味する)で示され基
、式▲数式、化学式、表等があります▼で示される基、
又は式▲数式、化学式、表等があります▼で示 される基を意味する。 qは0又は1〜3の整数を意味する。 Gは式▲数式、化学式、表等があります▼で示される基
又は式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^8、R^9は同一又は相異なる低級アルキ
ル基を意味する)で示される基を意味する〕で示される
基を意味する。) で表されるグリセリン誘導体又はその薬理学的に許容で
きる塩を有効成分とする抗PAF剤が有効な疾患の治療
・予防剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1171363A JP2843059B2 (ja) | 1989-07-03 | 1989-07-03 | グリセリン誘導体 |
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---|---|---|---|
JP1171363A JP2843059B2 (ja) | 1989-07-03 | 1989-07-03 | グリセリン誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0338561A true JPH0338561A (ja) | 1991-02-19 |
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ID=15921797
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---|---|---|---|
JP1171363A Expired - Fee Related JP2843059B2 (ja) | 1989-07-03 | 1989-07-03 | グリセリン誘導体 |
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---|---|
JP (1) | JP2843059B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100965307B1 (ko) * | 2010-03-24 | 2010-06-22 | 대한센서 주식회사 | 경광 누수감지기 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5622331A (en) * | 1979-04-20 | 1981-03-02 | Schoeller & Co Elektronik | Method of manufacturing adhesionnsolid metal film treated chemically by vacuum evaporation or sputtering on insulator body |
JPS6254073A (ja) * | 1985-09-02 | 1987-03-09 | Polyplastics Co | 表面金属処理した樹脂成形品 |
JPS6337694A (ja) * | 1986-07-31 | 1988-02-18 | 松下電工株式会社 | 回路基板の製造方法 |
-
1989
- 1989-07-03 JP JP1171363A patent/JP2843059B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5622331A (en) * | 1979-04-20 | 1981-03-02 | Schoeller & Co Elektronik | Method of manufacturing adhesionnsolid metal film treated chemically by vacuum evaporation or sputtering on insulator body |
JPS6254073A (ja) * | 1985-09-02 | 1987-03-09 | Polyplastics Co | 表面金属処理した樹脂成形品 |
JPS6337694A (ja) * | 1986-07-31 | 1988-02-18 | 松下電工株式会社 | 回路基板の製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100965307B1 (ko) * | 2010-03-24 | 2010-06-22 | 대한센서 주식회사 | 경광 누수감지기 |
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---|---|
JP2843059B2 (ja) | 1999-01-06 |
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