JPH0338252A - 選択的酸化反応用触媒 - Google Patents

選択的酸化反応用触媒

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JPH0338252A
JPH0338252A JP2168600A JP16860090A JPH0338252A JP H0338252 A JPH0338252 A JP H0338252A JP 2168600 A JP2168600 A JP 2168600A JP 16860090 A JP16860090 A JP 16860090A JP H0338252 A JPH0338252 A JP H0338252A
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complex
silver
catalyst
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JP2168600A
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Horst-Philipp Beck
ホルスト‐フイリップ・ベック
Gerhard Ehmig
ゲルハルト・エーミッヒ
Guenther Wiesgickl
ギユンター・ウイ―スギックル
Karlheinz Burg
カルルハインツ・ブルク
Karl-Friedrich Mueck
カルル‐フリードリッヒ・ミユック
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、有機物質の選択的な酸化反応に使用できるシ
リケート触媒、上記触媒の製造方法並びにその使用方法
に関する。
(従来技術) 骨格シリケート触媒、例えばゼオライトは、炭化水素の
非酸化的な転換用の触媒として、例えば触媒的分解に工
業的な規模で既に使用されている。
有機化合物が例えばアセトンからのプロペンの製造の場
合にゼオライト触媒により選択的に酸化され得るという
ことも公知である。この場合、90%の選択率が50%
の転換で達成される。使用する触媒の長期間の活性およ
び劣化挙動についてなんら記載はなされていない。
ゼオライトが特別な構造であるので、ゼオライトが有機
化合物のCO,および水までの全酸化を促進すると考え
られる。
ゼオライトに基づく一定の触媒の製造が西ドイツ特許第
113.173号明細書に記載されている。この場合、
一定の金属、例えばバナジウムおよび/またはチタンが
イオン交換によりゼオライトに取り込まれている。
「石粉上の銀」またはrAIzOx上の銀」触媒をしば
しば01〜C4−アルコール類の酸化脱水素に、例えば
メタノールを酸化脱水素してホルムアルデヒドを得るの
にしばしば使用されており、これは特に工業的に重要で
ある。Ah03およびクリストバライトの形態のSiO
□からなるキャリヤーを硝酸銀溶液で含浸することによ
って合成される銀触媒の製造は、ドイツ特許第3,03
7,536号明細書に議論されている。金属銅、銀、金
または鉄で被覆または含浸されている金属またはセラご
ツクキャリヤーからなるホルムアルデヒドの製造用の触
媒も(ドイツ特許出願公開第2,816.471号明細
書)記載されている。
しかしながら、C3〜C4−アルコール類の酸化脱水素
によりカルボニル化合物を製造するのに使用される上記
の触媒では原料の処理量および転化率に対して比較的低
い最終物質の収量しか得られない、加えて材料の転化の
程度並びに生成物の品質もほとんどの場合満足いくもの
ではない、蟻酸もしばしば公知方法で望ましくない副生
酸物として生成する。
(発明が解決しようとする課題) 従って、オキソ化合物の製造ための方法を更に改良する
手段によるその他の触媒物質を見出すことが目的である
(課題を解決するための手段) 従って、本発明は、式 %式%(1) (式中、Hはn価の金属原子を表し、Ag0は元素状の
銀を表し、Xはハロゲン原子を表し、そしてV、W、X
およびyは化学量論係数である〉で表される錯体シリケ
ート触媒に関する。周期律表の第1および第2主族、好
ましくはナトリウム、カリウム、カルシウムおよびバリ
ウムが金属Hとして使用される。11’またはNI+4
”形態も金属M”の代わりにシリケートに存在すること
が可能である。N114”形を高い反応温度でH゛形に
転換する。使用するハロゲン原子Xは、臭素および、好
ましくは塩素である。係数V、W、Xおよびyは0.1
〜7.5、好ましくは4.6までの数を表す。特に好適
なシリケート錯体は、式 %式%(2) 本発明はまた、 (a)  骨格シリケートを銀塩と反応させ、(ロ)銀
イオンを含有する骨格シリケートを還元剤により元素状
の銀を含有するシリダ−116体に変換させ、 (c)  この錯体を酸化剤により再び部分酸化させる
ことによって銀(I)イオンおよび元素状の銀を含有す
るシリケート錯体に変換させ、そして(ψ この錯体を
次いでアルカリ性媒体中でハロゲンイオンを含有する溶
液による処理によって式(1)のシリケート錯体に変換
させる、錯体シリケート触媒の製造方法に関する。
−JG的に寛容であるゼオライトは、本発明による触媒
の製造のための骨格シリケートとして使用され得る。こ
の種のシリケートの特に好適な例は、例えばmolec
ular 5eive ZA (製造元: Union
 Carbide USA)として知られている6Na
zO・6Ag+zOs −12Si011211gOお
よびBaylith CP 190 (製造元:Bay
er AG+ Leverkusen、West Gr
en+any)として知られているNa1. son、
 ! ’^1x(h ・4.65SiOz ・io、4
1hOとして市販されている生成物である。ゼオライト
の水含量を相当な範囲で変化させる。molecula
rseive Z 13 X(製造元: Union 
Carbide、 Corp、+New York、 
 IJSA)として知られているNazO・AI、0、
・2.47SiO□・3.911□0を使用することが
好ましい。
銀カチオンを含有する溶液を、ドーピング、例えば骨格
シリケート中への包接に使用する。銀イオンのモル濃度
は、0.001〜10モル/l、好ましくは0.01〜
1モル/lである0反応は、室温、即ち20〜30℃で
攪拌しながら光を遮断して行われる。
銀イオンの溶液による骨格シリケートの処理は、骨格シ
リケートの金属イオンの交換の所望とされる程度が得ら
れるまで繰り返される。後の反応に関して、ドープされ
たシリケートを乾燥させる。
また、同様な負荷が、例えば含浸プロセスによって得も
られる。
次いで、骨格シリケートに含有される銀イオンは、還元
剤によって元素状の銀に変換される。この還元は、例え
ば水素により100〜500℃、好ましくは300〜4
00℃の温度で慣用の方法で行われる。還元剤の分圧は
、0.05〜5.0バール、好ましくは0.4〜0.7
5バールであり、この分圧の降下が還元の尺度である。
段階(c)の部分再酸化は、酸化剤、例えば酸素または
ハロゲン、例えば臭素または塩素により行われる。この
反応において、元素状の銀を水またはハロゲン化水素の
除去により部分的にIQ(I)イオンまたはハロゲン化
銀に転換させる。この反応は、100〜350℃、好ま
しくは250〜290℃で0゜05〜5.0バール、好
ましくは0.4〜0.75バールの分圧で行われる。酸
化のための処理時間は、5〜60分、好ましくは10〜
30に渡る。
段階(d)において、得られたシリケート錯体をハロゲ
ンイオン、好ましくは塩素イオンを含有する水溶液で処
理する。ハロゲン化水素酸、例えば塩酸、臭酸をこの目
的のために使用するのが好ましい、この処理は、2〜1
5分、好ましくは5〜10分間の範囲で行われる。次い
で、銀イオン錯体−形成剤、例えばアンモニアの0.1
〜0.3モル溶液を添加する0式(1)における金属イ
オン門を含有する過剰の塩、例えばNatNOsを同時
に添加する0次いでこの懸濁液を20〜50分間攪拌す
る。錯体−形成剤および塩による消化を数回繰り返すこ
とができる。
酸化がハロゲンを用いて行われる場合、ハロゲンイオン
含有溶液による処理は、不必要となる。
次いで、段階(d)における後処理を金属塩の存在下に
錯体形成剤のアルカリ性溶液で行うだけである。
乾燥させた後、得られる触媒を1〜5IIII11のペ
レットに加工し、そして使用に供する。
銀が沈澱し、そしてこれがハロゲン化物としてイオンの
形態で部分的に存在し、そして錯体形成剤により後者を
洗い出す結果として、驚くべき活性および作用の選択性
がある元素状の銀成分がシリケートマトリックスに残る
。この方法で製造された触媒は、著しく長い期間の活性
の点および純粋な銀からなる触媒と比較して反応に必要
とされる反応温度が低くそしてアルカノール類の酸化脱
水素、例えばメタノールを酸化脱水素してホルムアルデ
ヒドにする際にキャリヤー上の純粋な銀に比較して高い
転換率および選択性であるという点で優れている。
本発明による触媒は、酸化脱水素反応に使用される。こ
れは、アルキル残基における炭素原子数が1〜4のアル
カノール類の酸化脱水素反応に特に好適であり、特に同
日に出願され本発明の参考文献として提出する「カルボ
ニル化合物の製法」と称するドイツ特許出願第P 39
21452.4号に記載の如きメタノールを酸化脱水素
してホルムアルデヒドとするのに非常に好適である。
(実施例) 実施例1 10.71gのゼオライト13X(式NazO・^1,
0. ・2.47SiO,・3.9H!0)をビー力に
採り、500 atの0゜IN AgNOs溶液を加え
、そしてこの混合物を光から遮断して4時間激しく混合
物した。濾過後、残渣を50IIlの水で洗浄し、そし
て更に400 tdの0.IN硝酸銀を添加し、この混
合物を4時間光から遮断して攪拌し、次いで得られた固
形物質を空気中で乾燥させた。7.88gのこの物質を
、350℃で減圧下に水から遊離させて、次いで0.6
バールの圧力下に水素で20分間同一温度で還元処理を
行った。次いで、水素を除去し、そして残渣を270℃
に冷却した。固形物質を酸素(0,67バール)で8時
間この温度で処理し、そして酸素を除去した後、約25
℃に冷却した。 3.5gの得られた物質を200−の
水に懸濁させ、モして5Idの濃塩酸を撹拌しながら添
加した。5分後、25IIl11!の半一濃縮アンモニ
ア溶液(7モル/ l”)および17gの硝酸ナトリウ
ムを配置添加した。この懸濁液を全1200 dの水で
洗浄した。
得られた物質を空気中で乾燥させそしてこれを直径6a
sのペレットに圧縮し、これを続いて微粉砕した。
実施例2 8.51gのゼオライト13X(式NazO* Alt
os ’2.47SiOz ・3.98zO)をヒーカ
ニ採り、400 d(7)O。
IN AgN0z溶液を加え、そしてこの混合物を光か
ら遮断して3時間激しく混合物した。濾過後、残渣を5
0I11の水で洗浄し、そして更に4001dの0.I
N硝酸銀を添加し、この混合物を3時間光から遮断して
攪拌し、次いで得られた固形物質を空気中で乾燥させた
。 6.35gのこの物質を330℃で減圧下に水から
遊離させて、次いで0.67バールの圧力下に25分間
水素で還元処理を行った。次いで、この物質を170℃
に減圧下に冷却し、0.6バールの圧力下に30分間塩
素で酸化し、そして減圧下に室温にまで冷却した。4g
の得られた物質を200 dの水に懸濁させ、そして2
0gの硝酸ナトリウムおよび30−〇半一濃縮アンモニ
ア溶液を配量添加した。この?A濁液を20分間攪拌し
次いで濾過し、そして残渣を全量250−の水で洗浄し
た。得られた物質を空気中で乾燥させそしてこれを直径
6mのペレットに圧縮し、これを続いて微粉砕した。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、式 ▲数式、化学式、表等があります▼(1) (式中、Mはn価の金属原子を表し、Ag^oは元素状
    の銀を表し、Xはハロゲン原子を表し、そしてV、W、
    Xおよびyは化学量論係数である)で表される錯体シリ
    ケート触媒。 2、式 ▲数式、化学式、表等があります▼(2) に相当する請求項1に記載の触媒。 3、(a)骨格シリケートを銀塩と反応させ、 (b)銀イオンを含有する骨格シリケートを還元剤によ
    り元素状の銀を含有するシリケート錯体に変換させ、 (c)この錯体を酸化剤により再び部分酸化させること
    によって銀(I)イオンおよび元素状の銀を含有するシ
    リケート錯体に変換させ、そして (d)この錯体を次いでアルカリ性媒体中でハロゲンイ
    オンを含有する溶液による処理によって式(1)のシリ
    ケート錯体に変換させる、錯体シリケート触媒の製造方
    法。 4、使用される還元剤が水素である請求項3に記載の方
    法。 5、使用する酸化剤が酸素またはハロゲン、好ましくは
    塩素であり、そして水素またはハロゲン化水素を再酸化
    の際に遊離させる請求項3または4に記載の方法。 6、段階(c)においてハロゲンを用いて再酸化を行う
    際に、式(1)の金属イオンMを含有する塩の存在下に
    錯体形成剤のアルカリ性溶液だけを用いて後に続くの処
    理(d)を行う請求項3〜5のいずれか一つに記載の方
    法。 7、段階(c)で錯体中に形成された銀(I)イオンが
    塩化銀の形態で存在する請求項3〜6のいずれか一つに
    記載の方法。 8、段階(c)で骨格シリケートを0.001〜10モ
    ル/l、好ましくは0.01〜1モル/lの濃度でAg
    ^+イオンを含有する溶液により室温で光を排除して処
    理する請求項3〜7のいずれか一つに記載の方法。 9、100〜500℃、好ましくは300〜400℃で
    0.05〜5.0バール、好ましくは0.4〜0.75
    バールの還元剤の分圧下に段階(b)の還元を行う請求
    項3〜8のいずれか一つに記載の方法。 10、100〜350℃、好ましくは250〜290℃
    で0.05〜5.0バール、好ましくは0.4〜0.7
    5バールの酸化剤の分圧下に5〜60分、好ましくは1
    0〜30分かけて段階(c)の再酸化を行う請求項3〜
    9のいずれか一つに記載の方法。 11、ハロゲンを酸化剤として使用して、好ましくは1
    00〜200℃で再酸化を行う請求項3〜10のいずれ
    か一つに記載の方法。 12、段階(d)におけるハロゲン化物イオン含有溶液
    が0.001〜2、好ましくは0.01〜0.5のモル
    濃度を有している請求項3〜11のいずれか一つに記載
    の方法。 13、酸化脱水素反応に請求項1に記載の触媒を使用す
    る方法。 14、アルコール類の酸化脱水素する方法に使用する請
    求項13に記載の使用方法。 15、メタノールを酸化脱水素してホルムアルデヒドを
    与える方法に使用する請求項13または14に記載の使
    用方法。
JP2168600A 1989-06-30 1990-06-28 選択的酸化反応用触媒 Pending JPH0338252A (ja)

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DE (2) DE3921450A1 (ja)
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