JPH0334623B2 - - Google Patents
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- JPH0334623B2 JPH0334623B2 JP16745783A JP16745783A JPH0334623B2 JP H0334623 B2 JPH0334623 B2 JP H0334623B2 JP 16745783 A JP16745783 A JP 16745783A JP 16745783 A JP16745783 A JP 16745783A JP H0334623 B2 JPH0334623 B2 JP H0334623B2
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
本発明は、被着基材面上に鉄又は鉄合金の窒化
物からなる磁性膜を形成する磁気記録媒体の製造
方法に関する。 コバルト又はコバルト合金の磁性薄膜は高密度
磁気記録媒体として性能的に優れているが、耐摩
耗性、耐蝕性が悪い欠点があるので、この欠点を
解消するものとして、鉄又は鉄合金の窒化物の薄
膜が既に提案されている。 該鉄又は鉄合金の窒化物薄膜は、被着基材面に
窒素雰囲気中で高イオン化された鉄又は鉄合金を
斜方入射させるか、あるいは被着基材面に高イオ
ン化したり鉄又は鉄合金を斜方入射させながら、
窒素分子イオンを照射するなどのイオンプレーテ
イング法によつて形成される。 しかし、この後者の薄膜形成方法によれば、磁
性薄膜の保磁力が小さく、例えば入射角50度のと
き保持力は500〜600エルステツド、入射角が70度
のときは保磁力は600〜700エルステツド程度しか
得られなかつた。 本発明は、このような欠点を解消し、高い保磁
力を有する鉄又は鉄合金窒化物の磁性膜を安定し
て作成することをその目的とするものである。前
記後者の方法において、被着基材面は、加熱され
た蒸発源からの輻射熱及び蒸着磁性金属の保有す
る熱のために150℃〜300℃まで昇温するため、該
被着基材面に形成された窒化膜は脱窒化反応が進
行しやすく、その結果保磁力が低下することに鑑
み、本発明は、被着基材を例えば室温以外に冷却
することを特徴とする。 かくて該被着基材の温度は適温に維持でき、従
来より約100エルステツド以上大きい保磁力を安
定して得ることができ効果を有する。 以下本発明の実施例を図面につき説明する。 本発明の製造方法を実施するために図面に示す
ような装置を使用した。 該装置の構成を説明すると、該装置は例えば純
度98％の鉄塊を収容したるつぼから成る蒸発源１
と、該鉄に対して電子線を照射してこれを蒸発さ
せる電子ビーム放射源２と、鉄蒸気をイオン化す
るための熱電子放射フイラメント３及びイオン化
電極４と、ノズル５を介して流入する窒素ガスを
イオン化すると共に該窒素イオンを加速する例え
ば、フリーマン型イオン銃６と被着基材７への鉄
イオンの入射角を変化できる被着基材ホルダ８
と、膜厚計９とを具備し、これ等部材はすべて
10-5Torrに減圧された真空槽（図示しない。）内
に配置されるようにした。 次に上記装置を使用して磁気記録媒体を製造す
る本発明の方法について説明する。 被着基材ホルダ８をそれに対する鉄イオンの入
射角が50度になるように固定する。電子ビーム放
射源２への供給電力を調整して、蒸発され膜厚計
９に到達する鉄の原子数を８×10-5個／cm2・sec
にし、次いで熱電子放射フイラメント３を加熱
し、イオン化電極４に正電圧を加え、該フイラメ
ント３の通電量とイオン化電極４の正電圧を調整
して被着基材ホルダ８に捕捉される鉄イオンの数
を８×10-14個／cm2・sec（イオン化率10％）にし
た。またノズル５に連なるバルブ１０を調整して
イオン銃６から被着基材ホルダ８に照射する窒素
分子イオンの数を８×10-14個／cm2・secにした。 以上の条件を固定し、被着基材７の温度を77
〓、200〓、300〓、423〓、473〓と変化させ、そ
れぞれの温度毎に該ホルダ８に密着させて大きさ
50mm×50mmで膜厚15μｍの耐熱性高分子フイルム
（ポリミイド樹脂）を取付け、12分間被着させて
1000〓の鉄窒化物薄膜を形成した。 前記被着基材７の温度の調整は、被着基材ホル
ダ８に設けた図示しないパイプに液体窒素を流し
て熱電対温度計で測温して77〓、200〓とし、水
を流して300〓とした。高温の被着基材温度は、
図示しないが被着基板ホルダ８に加熱用ヒータを
取付け、これに電流を流すことにより設定した。 鉄イオンの入射角が60度、70度、80度になるよ
うに被着基材ホルダ８の向きを変え、それぞれに
ついて上記と同様に被着基材温度を変えて鉄窒化
物薄膜を形成した。 以上の鉄窒化物薄膜について、試料振動型磁力
計で保磁力を測定した。この結果を下表に示す。
物からなる磁性膜を形成する磁気記録媒体の製造
方法に関する。 コバルト又はコバルト合金の磁性薄膜は高密度
磁気記録媒体として性能的に優れているが、耐摩
耗性、耐蝕性が悪い欠点があるので、この欠点を
解消するものとして、鉄又は鉄合金の窒化物の薄
膜が既に提案されている。 該鉄又は鉄合金の窒化物薄膜は、被着基材面に
窒素雰囲気中で高イオン化された鉄又は鉄合金を
斜方入射させるか、あるいは被着基材面に高イオ
ン化したり鉄又は鉄合金を斜方入射させながら、
窒素分子イオンを照射するなどのイオンプレーテ
イング法によつて形成される。 しかし、この後者の薄膜形成方法によれば、磁
性薄膜の保磁力が小さく、例えば入射角50度のと
き保持力は500〜600エルステツド、入射角が70度
のときは保磁力は600〜700エルステツド程度しか
得られなかつた。 本発明は、このような欠点を解消し、高い保磁
力を有する鉄又は鉄合金窒化物の磁性膜を安定し
て作成することをその目的とするものである。前
記後者の方法において、被着基材面は、加熱され
た蒸発源からの輻射熱及び蒸着磁性金属の保有す
る熱のために150℃〜300℃まで昇温するため、該
被着基材面に形成された窒化膜は脱窒化反応が進
行しやすく、その結果保磁力が低下することに鑑
み、本発明は、被着基材を例えば室温以外に冷却
することを特徴とする。 かくて該被着基材の温度は適温に維持でき、従
来より約100エルステツド以上大きい保磁力を安
定して得ることができ効果を有する。 以下本発明の実施例を図面につき説明する。 本発明の製造方法を実施するために図面に示す
ような装置を使用した。 該装置の構成を説明すると、該装置は例えば純
度98％の鉄塊を収容したるつぼから成る蒸発源１
と、該鉄に対して電子線を照射してこれを蒸発さ
せる電子ビーム放射源２と、鉄蒸気をイオン化す
るための熱電子放射フイラメント３及びイオン化
電極４と、ノズル５を介して流入する窒素ガスを
イオン化すると共に該窒素イオンを加速する例え
ば、フリーマン型イオン銃６と被着基材７への鉄
イオンの入射角を変化できる被着基材ホルダ８
と、膜厚計９とを具備し、これ等部材はすべて
10-5Torrに減圧された真空槽（図示しない。）内
に配置されるようにした。 次に上記装置を使用して磁気記録媒体を製造す
る本発明の方法について説明する。 被着基材ホルダ８をそれに対する鉄イオンの入
射角が50度になるように固定する。電子ビーム放
射源２への供給電力を調整して、蒸発され膜厚計
９に到達する鉄の原子数を８×10-5個／cm2・sec
にし、次いで熱電子放射フイラメント３を加熱
し、イオン化電極４に正電圧を加え、該フイラメ
ント３の通電量とイオン化電極４の正電圧を調整
して被着基材ホルダ８に捕捉される鉄イオンの数
を８×10-14個／cm2・sec（イオン化率10％）にし
た。またノズル５に連なるバルブ１０を調整して
イオン銃６から被着基材ホルダ８に照射する窒素
分子イオンの数を８×10-14個／cm2・secにした。 以上の条件を固定し、被着基材７の温度を77
〓、200〓、300〓、423〓、473〓と変化させ、そ
れぞれの温度毎に該ホルダ８に密着させて大きさ
50mm×50mmで膜厚15μｍの耐熱性高分子フイルム
（ポリミイド樹脂）を取付け、12分間被着させて
1000〓の鉄窒化物薄膜を形成した。 前記被着基材７の温度の調整は、被着基材ホル
ダ８に設けた図示しないパイプに液体窒素を流し
て熱電対温度計で測温して77〓、200〓とし、水
を流して300〓とした。高温の被着基材温度は、
図示しないが被着基板ホルダ８に加熱用ヒータを
取付け、これに電流を流すことにより設定した。 鉄イオンの入射角が60度、70度、80度になるよ
うに被着基材ホルダ８の向きを変え、それぞれに
ついて上記と同様に被着基材温度を変えて鉄窒化
物薄膜を形成した。 以上の鉄窒化物薄膜について、試料振動型磁力
計で保磁力を測定した。この結果を下表に示す。
【表】
尚、423〓、473〓は被着基材温度を制御しない
場合に相当する。 表に示すように、被着基材温度を制御しない場
合に比べて被着基材温度を常温以下に冷却した時
には鉄窒化物薄膜の保磁力を100エルステツド以
上大きくすることができた。特定の保磁力を有す
る鉄窒化物薄膜を得るときには、従来のものより
入射角を10度以上小さくでき、かかかかか×10-
くて被着効率を著しく向上させることができる。
場合に相当する。 表に示すように、被着基材温度を制御しない場
合に比べて被着基材温度を常温以下に冷却した時
には鉄窒化物薄膜の保磁力を100エルステツド以
上大きくすることができた。特定の保磁力を有す
る鉄窒化物薄膜を得るときには、従来のものより
入射角を10度以上小さくでき、かかかかか×10-
くて被着効率を著しく向上させることができる。
図面は本発明の方法を実施するのに使用する装
置の模式図を示す。 １……蒸着源、２……電子ビーム放射源、３…
…熱電子放射フイラメント、４……イオン化電
極、５……ノズル、６……イオン銃、７……被着
基材、８……被着基材ホルダ、９……膜厚計、１
０……バルブ。
置の模式図を示す。 １……蒸着源、２……電子ビーム放射源、３…
…熱電子放射フイラメント、４……イオン化電
極、５……ノズル、６……イオン銃、７……被着
基材、８……被着基材ホルダ、９……膜厚計、１
０……バルブ。
Claims (1)
- １ 被着基材上に磁性金属を斜方入射して磁気記
録媒体を製造する方法において、前記被着基材を
冷却しながら該被着基材に一部をイオン化した鉄
又は鉄合金を斜方入射させて被着すると同時に、
該被着基材の鉄又は鉄合金の入射面に窒素分子イ
オンを照射することを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16745783A JPS6059537A (ja) | 1983-09-13 | 1983-09-13 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16745783A JPS6059537A (ja) | 1983-09-13 | 1983-09-13 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6059537A JPS6059537A (ja) | 1985-04-05 |
| JPH0334623B2 true JPH0334623B2 (ja) | 1991-05-23 |
Family
ID=15850031
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16745783A Granted JPS6059537A (ja) | 1983-09-13 | 1983-09-13 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6059537A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH061551B2 (ja) * | 1984-08-24 | 1994-01-05 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| GB2167448B (en) * | 1984-11-02 | 1988-10-19 | Hitachi Ltd | Perpendicular magnetic recording medium |
| JPS63152017A (ja) * | 1986-12-16 | 1988-06-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1983
- 1983-09-13 JP JP16745783A patent/JPS6059537A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6059537A (ja) | 1985-04-05 |
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