JPH0334206B2 - - Google Patents
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- JPH0334206B2 JPH0334206B2 JP59263785A JP26378584A JPH0334206B2 JP H0334206 B2 JPH0334206 B2 JP H0334206B2 JP 59263785 A JP59263785 A JP 59263785A JP 26378584 A JP26378584 A JP 26378584A JP H0334206 B2 JPH0334206 B2 JP H0334206B2
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- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 27
- 230000000712 assembly Effects 0.000 claims description 8
- 238000000429 assembly Methods 0.000 claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- DMFGNRRURHSENX-UHFFFAOYSA-N beryllium copper Chemical compound [Be].[Cu] DMFGNRRURHSENX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims 1
- 101100269850 Caenorhabditis elegans mask-1 gene Proteins 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 239000013598 vector Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000001015 X-ray lithography Methods 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q1/00—Members which are comprised in the general build-up of a form of machine, particularly relatively large fixed members
- B23Q1/25—Movable or adjustable work or tool supports
- B23Q1/26—Movable or adjustable work or tool supports characterised by constructional features relating to the co-operation of relatively movable members; Means for preventing relative movement of such members
- B23Q1/34—Relative movement obtained by use of deformable elements, e.g. piezoelectric, magnetostrictive, elastic or thermally-dilatable elements
- B23Q1/36—Springs
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Machine Tool Units (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体ウエフアとＸ線リソグラフイ
用マスクと整合を維持するためのアラインメント
装置に関するものである。
用マスクと整合を維持するためのアラインメント
装置に関するものである。
サブミクロン線幅を有する半導体デバイスの製
造において、マスクから半導体ウエフアへと所望
のパターンを複製するためにＸ線リソグラフイが
しばしば余地いられる。ウエフアの異なる処理段
階において異なるマスクが用いられるので、ウエ
フアに体しての各マスクの整合が非常に厳格な許
容差で維持されることが決定的に重要である。
造において、マスクから半導体ウエフアへと所望
のパターンを複製するためにＸ線リソグラフイが
しばしば余地いられる。ウエフアの異なる処理段
階において異なるマスクが用いられるので、ウエ
フアに体しての各マスクの整合が非常に厳格な許
容差で維持されることが決定的に重要である。
従来技術において、単一自由度の位置決め装置
内の圧電要素と旋回アームとを組み合わせたもが
用いられた。これは、The Review of
Scientific Instruments、49（12）、1978年12月、
1735〜40ページに、Scire及びTeagueの論文とし
て開示されている。全部で６個の自由度（Ｘ、Ｙ
及びＺ軸のそれぞれについてのそれらの軸に沿つ
た並進とそれらの軸のまわりの回転をもたらすた
めに、従来技術に従い製作された整合（アライン
メント）装置は、各々が１個又は数個の独立な自
由度をもたらすようなステージを複数直列に重ね
たものを利用していた。そのような積層ステージ
アラインメント装置の例として、The Journal
of Vacuum Science Technology、15(3)、1978
年５、６月、987〜991頁に山崎によつて開示され
た五段ステージ装置が挙げられる。しかしなが
ら、ステージ数が多くなるにつれてマスクとウエ
フアとの間の構造的ループ（loop）の長さが長く
なるので、この従来の積層ステージ装置はステー
ジ数の増大につれて外部振動の影響を受けやすく
なつてくる。
内の圧電要素と旋回アームとを組み合わせたもが
用いられた。これは、The Review of
Scientific Instruments、49（12）、1978年12月、
1735〜40ページに、Scire及びTeagueの論文とし
て開示されている。全部で６個の自由度（Ｘ、Ｙ
及びＺ軸のそれぞれについてのそれらの軸に沿つ
た並進とそれらの軸のまわりの回転をもたらすた
めに、従来技術に従い製作された整合（アライン
メント）装置は、各々が１個又は数個の独立な自
由度をもたらすようなステージを複数直列に重ね
たものを利用していた。そのような積層ステージ
アラインメント装置の例として、The Journal
of Vacuum Science Technology、15(3)、1978
年５、６月、987〜991頁に山崎によつて開示され
た五段ステージ装置が挙げられる。しかしなが
ら、ステージ数が多くなるにつれてマスクとウエ
フアとの間の構造的ループ（loop）の長さが長く
なるので、この従来の積層ステージ装置はステー
ジ数の増大につれて外部振動の影響を受けやすく
なつてくる。
McCoy等による米国特許請出願第469154号
（放棄された）は、３個の自由度（Ｘ及びＹ軸に
沿つた並進とＺ軸のまわりの回転）をもつてマス
クを移動させることができる単一ステージアライ
ンメント装置を開示している。この装置は第１図
に示しているが、マスクを支持しかつ移動させる
ための４個の圧電要素を用いている。
（放棄された）は、３個の自由度（Ｘ及びＹ軸に
沿つた並進とＺ軸のまわりの回転）をもつてマス
クを移動させることができる単一ステージアライ
ンメント装置を開示している。この装置は第１図
に示しているが、マスクを支持しかつ移動させる
ための４個の圧電要素を用いている。
上記問題点を解説するために、本発明のアライ
ンメント装置はＸ線マスクを取付けた１枚のステ
ージプレートを可動的に支持している。その支持
は以下のような構成から成るたわみ組立体装置に
よるものである。
ンメント装置はＸ線マスクを取付けた１枚のステ
ージプレートを可動的に支持している。その支持
は以下のような構成から成るたわみ組立体装置に
よるものである。
受け台；
水平アーム；
該水平アームが或る回転軸のまわりで滑らかに
回転可能になるように該水平アームの一端を前記
受け台に接続するための付設手段； 前記水平アームを支持しかつそれをＺ軸方向に
選択的に変位させるために、水平アームの下側に
接続された変位手段； 剛性バー； 該剛性バーをＸ軸方向に移動させるために、剛
性バーと水平アームの他端との間に接続された垂
直たわみ手段；並びに 前記ステージプレートをＹ軸方向に移動するた
めに、前記剛性バーとステージプレートとの間に
接続された水平たわみ手段。
回転可能になるように該水平アームの一端を前記
受け台に接続するための付設手段； 前記水平アームを支持しかつそれをＺ軸方向に
選択的に変位させるために、水平アームの下側に
接続された変位手段； 剛性バー； 該剛性バーをＸ軸方向に移動させるために、剛
性バーと水平アームの他端との間に接続された垂
直たわみ手段；並びに 前記ステージプレートをＹ軸方向に移動するた
めに、前記剛性バーとステージプレートとの間に
接続された水平たわみ手段。
さらに本発明に係る装置は、Ｘ線マスクを支持
する一枚のステージプレートの周囲に等角度で配
置された３基のたわみ組立体から成る。各たわみ
組立体は、Ｚ軸圧電トランスデユーサと、ステー
ジプレートを滑らかに移動させ得る水平及び垂直
たわみ部材とを含む。３個の圧電トランスデユー
サが、ステージプレートのＸ−Ｙ平面内の移動を
もたらす。
する一枚のステージプレートの周囲に等角度で配
置された３基のたわみ組立体から成る。各たわみ
組立体は、Ｚ軸圧電トランスデユーサと、ステー
ジプレートを滑らかに移動させ得る水平及び垂直
たわみ部材とを含む。３個の圧電トランスデユー
サが、ステージプレートのＸ−Ｙ平面内の移動を
もたらす。
第１図は、上記米国特許出願に開示された従来
技術のアラインメント装置の平面図である。
技術のアラインメント装置の平面図である。
第２図は、フレーム３によつて支持されたＸ線
マスク１を示している。マスク１に６個の自由度
をもたらすための６個の変位ベクトルをも示す。
これらベクトルのうち、ＸはＸ軸方向に沿つた並
進運動をもたらす。Y1及びY2は、Ｙ軸に沿つた
並進運動をもたらす。Y1とY2との差がＺ軸につ
いての回転をもたらす。３つのＺベクトルの組合
わせで、Ｚ軸に沿つた並進と、Ｘ軸及びＹ軸につ
いての回転をもたらす。
マスク１を示している。マスク１に６個の自由度
をもたらすための６個の変位ベクトルをも示す。
これらベクトルのうち、ＸはＸ軸方向に沿つた並
進運動をもたらす。Y1及びY2は、Ｙ軸に沿つた
並進運動をもたらす。Y1とY2との差がＺ軸につ
いての回転をもたらす。３つのＺベクトルの組合
わせで、Ｚ軸に沿つた並進と、Ｘ軸及びＹ軸につ
いての回転をもたらす。
第３図に、本発明の好適実施例であアラインメ
ント装置を示す。マスク１及びフレーム３が単一
で剛的なステージプレート５に付設されている。
水平アーム５は、６個の自由度をもつて位置づけ
可能である。周知の圧電トランスデユーサ
（PZT）３１，３３，３５を変位手段として使用
して、プレート５をＸ−Ｙ平面内に位置づけるこ
とができる。圧電トランスデユーサは、印加され
る電位に応じて変位を生じさせるように動作す
る。第３図の装置のPZT３１，３３，３５の場
合には代表的には、100ボルトの印加電位に対し
て40ミクロンの変位をもたらす。電圧と電位の関
係は必ずしも線形でなく、ヒステリシス効果も普
通にある。PZT３１，３３，３５は、弾性要素
５１，５３，５５によつてステージプレート５に
接続されている。これらの弾性要素は、長さ方向
に沿つて堅く伸縮せず、それに直角方向の平面内
部の全方向には可撓性がある。固定ブロツク３
７，３９，４１が、PZT３１，３３，３５を係
止固定する。
ント装置を示す。マスク１及びフレーム３が単一
で剛的なステージプレート５に付設されている。
水平アーム５は、６個の自由度をもつて位置づけ
可能である。周知の圧電トランスデユーサ
（PZT）３１，３３，３５を変位手段として使用
して、プレート５をＸ−Ｙ平面内に位置づけるこ
とができる。圧電トランスデユーサは、印加され
る電位に応じて変位を生じさせるように動作す
る。第３図の装置のPZT３１，３３，３５の場
合には代表的には、100ボルトの印加電位に対し
て40ミクロンの変位をもたらす。電圧と電位の関
係は必ずしも線形でなく、ヒステリシス効果も普
通にある。PZT３１，３３，３５は、弾性要素
５１，５３，５５によつてステージプレート５に
接続されている。これらの弾性要素は、長さ方向
に沿つて堅く伸縮せず、それに直角方向の平面内
部の全方向には可撓性がある。固定ブロツク３
７，３９，４１が、PZT３１，３３，３５を係
止固定する。
第６図は、PZTの変位増をもたらすために用
い得る作動器組立体の側面図を示す。PZT３１
が固定旋回組立体９１及びアーム９９の間に付設
されている。アーム９９と固定旋回組立体９１は
剛性スプリング９３で結合されている。PZT３
１のアーム９９への接続点が変位をすると、アー
ム９９が前記剛性スプリング９３の付設点を中心
に旋回し、アーム９９に付設された剛性バー９５
が変位し、その結果ステージプレート５を変位さ
せる。弾性要素９７は長手方向に硬く、それに直
角な方向で可撓性を有する。前記構成から明らか
なように、前記アーム９９の前記剛性スプリング
９３の付設点が、前記アームのどの位置にあるか
により、PZT３１の前記変位に対する剛性バー
９５変位の割合が異なる。前記付設点が前記
PZT３１に近いとその割合が大きくなり、変位
の増大が達成される。
い得る作動器組立体の側面図を示す。PZT３１
が固定旋回組立体９１及びアーム９９の間に付設
されている。アーム９９と固定旋回組立体９１は
剛性スプリング９３で結合されている。PZT３
１のアーム９９への接続点が変位をすると、アー
ム９９が前記剛性スプリング９３の付設点を中心
に旋回し、アーム９９に付設された剛性バー９５
が変位し、その結果ステージプレート５を変位さ
せる。弾性要素９７は長手方向に硬く、それに直
角な方向で可撓性を有する。前記構成から明らか
なように、前記アーム９９の前記剛性スプリング
９３の付設点が、前記アームのどの位置にあるか
により、PZT３１の前記変位に対する剛性バー
９５変位の割合が異なる。前記付設点が前記
PZT３１に近いとその割合が大きくなり、変位
の増大が達成される。
３基のたわみ組立体１１，１３，１５が、第３
図に示すようにステージプレート５の周囲に等角
度間隔で配置されている。たわみ組立体１１，１
３，１５が、６個の自由度の全ての方向にステー
ジプレート５を変位させることができる。単一の
ステージプレート５を用いてである。たわみ組立
体１１，１３，１５は、水平たわみストリツプ１
７，１９，２１によつてステージプレート５に連
結されている。
図に示すようにステージプレート５の周囲に等角
度間隔で配置されている。たわみ組立体１１，１
３，１５が、６個の自由度の全ての方向にステー
ジプレート５を変位させることができる。単一の
ステージプレート５を用いてである。たわみ組立
体１１，１３，１５は、水平たわみストリツプ１
７，１９，２１によつてステージプレート５に連
結されている。
第４図及び５図は、たわみ組立体１１の詳細を
示す。たわみ組立体１３及び１５も同様である。
受け台６１が、４つの交差する水平及び垂直交差
たわみストリツプ７１及び７３から成る付設手段
の一実施例によつて水平アーム６３に接続されて
いる。水平及び垂直交差たわみストリツプ７１及
び７３の各々は、例えば長さ0.2インチ、圧さ
0.045インチ及び幅0.25インチの硬化ベリリウム
コツパー（hardned beryllium copper）から成
る。水平及び垂直交差たわみストリツプ７１及び
７３の交差点は、水平アーム６３が垂直変位手段
として機能する垂直PZT６９によつて滑らかに
回転し得るところの軸を形成する。垂直PZT６
９の位置づけにより、PZT６９の40ミクロンの
垂直変位（1000ボルトの印加によつて生ずる）が
垂直たわみストリツプ６５のアーム６３の端部に
おける160ミクロンの垂直変位を引き起こす。
示す。たわみ組立体１３及び１５も同様である。
受け台６１が、４つの交差する水平及び垂直交差
たわみストリツプ７１及び７３から成る付設手段
の一実施例によつて水平アーム６３に接続されて
いる。水平及び垂直交差たわみストリツプ７１及
び７３の各々は、例えば長さ0.2インチ、圧さ
0.045インチ及び幅0.25インチの硬化ベリリウム
コツパー（hardned beryllium copper）から成
る。水平及び垂直交差たわみストリツプ７１及び
７３の交差点は、水平アーム６３が垂直変位手段
として機能する垂直PZT６９によつて滑らかに
回転し得るところの軸を形成する。垂直PZT６
９の位置づけにより、PZT６９の40ミクロンの
垂直変位（1000ボルトの印加によつて生ずる）が
垂直たわみストリツプ６５のアーム６３の端部に
おける160ミクロンの垂直変位を引き起こす。
剛性バー６７が、垂直たわみストリツプ６５の
間に付設され、水平たわみ手段として機能する単
一のたわみストリツプ１７がバー６７からステー
ジプレート５へと付設される。例えば硬化ベリリ
ウムコツパー等のスプリング材料で製作できる垂
直および水平たわみストリツプ６５及び１７によ
つて、ステージプレート５が滑らかでかつ反復的
な相対運動できる。このようにして、６個の自由
度の何れの方向へもマスク１の移動が達成され
る。しかも単一ステージプレート５を使用して、
ジツター（jitter）やバツクラツシユなしにであ
る。
間に付設され、水平たわみ手段として機能する単
一のたわみストリツプ１７がバー６７からステー
ジプレート５へと付設される。例えば硬化ベリリ
ウムコツパー等のスプリング材料で製作できる垂
直および水平たわみストリツプ６５及び１７によ
つて、ステージプレート５が滑らかでかつ反復的
な相対運動できる。このようにして、６個の自由
度の何れの方向へもマスク１の移動が達成され
る。しかも単一ステージプレート５を使用して、
ジツター（jitter）やバツクラツシユなしにであ
る。
第３図に示す装置は、閉ループ制御システムに
よつてＸ線マスク及び半導体ウエフアの整合をも
たらすのに最も効率良く用い得るものである。米
国特許出願541385号に開示された型のアラインメ
ント装置を、制御ループ内にフイードバツクをも
たらすために効率的に用いることができる。Ｘ軸
とＹ軸との間の漏洩の影響を最小化することが重
要な場合には、垂直たわみストリツプ６５の各々
が水平たわみストリツプ１７と長さ及び剛性にお
いて等しくなるべきである。垂直たわみストリツ
プ６５がバー６７へと付設される点はたわみスト
リツプ１７の垂直方向中央位置にあるべきであ
る。PZT３５は、マスク１の中央に正確に整合
すべきである。
よつてＸ線マスク及び半導体ウエフアの整合をも
たらすのに最も効率良く用い得るものである。米
国特許出願541385号に開示された型のアラインメ
ント装置を、制御ループ内にフイードバツクをも
たらすために効率的に用いることができる。Ｘ軸
とＹ軸との間の漏洩の影響を最小化することが重
要な場合には、垂直たわみストリツプ６５の各々
が水平たわみストリツプ１７と長さ及び剛性にお
いて等しくなるべきである。垂直たわみストリツ
プ６５がバー６７へと付設される点はたわみスト
リツプ１７の垂直方向中央位置にあるべきであ
る。PZT３５は、マスク１の中央に正確に整合
すべきである。
〔効果〕
本発明に従えば、単一ステージアラインメント
装置により、半導体ウエフアに対してのＸ線マス
クの６個の自由度がもたらされる。単一ステージ
のみを用いるので、積層ステージ装置よりも小型
軽量で装置の剛性が高くなり、かつマスクの位置
制御が改良される。
装置により、半導体ウエフアに対してのＸ線マス
クの６個の自由度がもたらされる。単一ステージ
のみを用いるので、積層ステージ装置よりも小型
軽量で装置の剛性が高くなり、かつマスクの位置
制御が改良される。
第１図は、ステージプレートに自由度３の移動
をもたらすために４個の圧電要素を用いた従来技
術アラインメント装置を示す。第２図は、ステー
ジプレートに６個の自由度をもたらし得る６個の
ベクトルを示す。第３図は、本発明の実施例に従
つたアラインメント装置の平面図である。第４図
は、第３図の装置に用いるたわみ組立体の斜視図
である。第５図は、第４図のたわみ組立体の側面
図である。第６図は、第３図の装置に用い得る作
動器組立体の側面図である。 １……Ｘマスク線、３……フレーム、５……ス
テージプレート、１１，１３，１５……たわみ組
立体、１７，１９，２１……水平たわみストリツ
プ、３１，３３，３５……圧電トランスデユー
サ、３７，３９，４１……固定ブロツク、５１，
５３，５５……弾性要素、６１……受け台、６３
……水平アーム、６５……垂直たわみストリツ
プ、６７……剛性バー、６９……垂直PZT、７
１，７３……たわみストリツプ、９１……固定旋
回組立体、９３……スプリング、９５……剛性バ
ー、９７……弾性要素、９９……アーム。
をもたらすために４個の圧電要素を用いた従来技
術アラインメント装置を示す。第２図は、ステー
ジプレートに６個の自由度をもたらし得る６個の
ベクトルを示す。第３図は、本発明の実施例に従
つたアラインメント装置の平面図である。第４図
は、第３図の装置に用いるたわみ組立体の斜視図
である。第５図は、第４図のたわみ組立体の側面
図である。第６図は、第３図の装置に用い得る作
動器組立体の側面図である。 １……Ｘマスク線、３……フレーム、５……ス
テージプレート、１１，１３，１５……たわみ組
立体、１７，１９，２１……水平たわみストリツ
プ、３１，３３，３５……圧電トランスデユー
サ、３７，３９，４１……固定ブロツク、５１，
５３，５５……弾性要素、６１……受け台、６３
……水平アーム、６５……垂直たわみストリツ
プ、６７……剛性バー、６９……垂直PZT、７
１，７３……たわみストリツプ、９１……固定旋
回組立体、９３……スプリング、９５……剛性バ
ー、９７……弾性要素、９９……アーム。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 以下の諸手段から構成される、ステージプレ
ートを支持するためのたわみ組立装置： 受け台； 水平アーム； 該水平アームが回転軸のまわりで滑らかに回転
可能になるように該水平アームの一端を前記受け
台に接続するための付設手段； 前記水平アームを支持しかつそれをＺ軸方向に
選択的に変位させるために、水平アームの下側に
接続された変位手段； 剛性バー； 該剛性バーをＸ軸方向に移動させるために、剛
性バーと水平アームの他端との間に接続された垂
直たわみ手段；並びに 前記ステージプレートをＹ軸方向に移動するた
めに、前記剛性バーとステージプレートとの間に
接続された水平たわみ手段。 ２ 前記付設手段が、 前記受け台と前記水平アームとの間に接続され
た第１及び第２の垂直交差たわみストリツプ；並
びに 前記受け台と前記水平アームとの間に接続され
た第１及び第２の水平交差たわみストリツプ； から成り、前記垂直交差たわみストリツプと水平
交差たわみストリツプとの交差点が前記回転軸を
決定する； ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のた
わみ組立体装置。 ３ 前記変位手段が、圧電トランスデユーサから
成る； ことを特徴とする特許請求の範囲第２項記載のた
わみ組立体装置。 ４ 前記垂直及び水平交差たわみストリツプの
各々がたわみストリツプから成る； ことを特徴とする特許請求の範囲第３項記載のた
わみ組立体装置。 ５ 前記各たわみストリツプがスプリング材料で
製作される； ことを特徴とする特許請求の範囲第４項記載のた
わみ組立体装置。 ６ 前記スプリング材料が、硬化ベリリウムコツ
パーから成る； ことを特徴とする特許請求の範囲第５項記載のた
わみ組立体装置。 ７ 以下の諸手段から構成される、マスクを可動
的に支持するためのアライメント装置： Ｘ−Ｙ平面内にマスクを支持するためのステー
ジプレート； Ｘ−Ｙ平面内のステージプレートの径方向軸に
沿つて配置されて前記ステージプレートに付設さ
れ、前記ステージプレートを前記径方向軸に沿つ
て並進させるよう動作する、第１の変位手段； 前記径方向軸に直角にＸ−Ｙ平面内に配置され
て前記ステージプレートに付設され、前記ステー
ジプレートを変位させるための、第２及び第３の
変位手段；並びに 前記ステージプレートの周囲に等角度に配置し
た第１、第２及び第３の点において前記ステージ
プレートに付設され、各々が前記ステージプレー
トを支持しかつ前記Ｘ−Ｙ平面に直角なＺ軸に沿
つて前記ステージプレートを変位させるよう動作
する、第１、第２及び第３のたわみ組立体。 ８ 前記変位手段の各々が、前記ステージプレー
トに付設された弾性要素を含み；かつ 該弾性要素は縦方向に硬く、それに直角方向に
可撓性である； ことを特徴とする特許請求の範囲第７項記載のア
ラインメント装置。 ９ 前記変位手段の各々が、圧電トランスデユー
サを含む； ことを特徴とする特許請求の範囲第８項記載のア
ラインメント装置。 １０ 前記第１、第２及び第３の変位手段が、そ
れぞれ第１、第２及び第３の固定ブロツクに固定
されている； ことを特徴とする特許請求の範囲第９項記載のア
ラインメント装置。 １１ 前記第２及び第３の変位手段が協動して、
前記ステージプレートを中心の周りに回転させ、
又前記径方向軸に直角方向に線形に変位させるよ
うになつている； ことを特徴とする特許請求の範囲第１０項記載の
装置。 １２ 以下の諸手段から構成される、マスクを可
動的に支持するためのアラインメント装置： Ｘ−Ｙ平面内にマスクを支持するためのステー
ジプレート； Ｘ−Ｙ平面内のステージプレートの径方向軸に
沿つて配置されて前記ステージプレートに付設さ
れ、前記ステージプレートを前記径方向軸に沿つ
て並進させるよう動作する、第１の変位手段； 前記径方向軸に直角にＸ−Ｙ平面内に配置され
て前記ステージプレートに付設され、前記ステー
ジプレートを変位させるための、第２及び第３の
変位手段；並びに 前記ステージプレートの周囲に等角度に配置し
た第１、第２及び第３の点において前記ステージ
プレートに付設され、各々が前記ステージプレー
トを支持しかつ前記Ｘ−Ｙ平面内に直角なＺ軸に
沿つて前記ステージプレートを変位させるよう動
作する、第１、第２及び第３のたわみ組立体。 前記変位手段は各々前記ステージプレートに付
設された弾性要素を含み、各弾性要素は縦方向に
剛く、それに直角方向に可撓性であり； 前記第１、第２、第３の変位手段はそれぞれ第
１、第２、第３の固定ブロツクに固定されてお
り、 前記第１のたわみ組立体は以下のものを含む： 受け台； 水平アーム； 該水平アームが回転軸のまわりで滑らかに回転
可能になるように該水平アームの一端を前記受け
台に接続するための付設手段； 前記水平アームを支持しかつそれをＺ軸方向に
選択的に変位させるために、水平アームの下側に
接続された変位手段； 剛性バー； 該剛性バーをＸ軸方向に移動させるために、剛
性バーと水平アームの他端との間に接続された垂
直たわみ手段。 １３ 前記付設手段が、 前記受け台と前記水平アームとの間に接続され
た第１及び第２の垂直交差たわみストリツプ；並
びに 前記受け台と前記水平アームとの間に接続され
た第１及び第２の水平交差たわみストリツプ； から成り、前記垂直交差たわみストリツプと水平
交差たわみストリツプとの交差点が前記回転軸を
決定する； ことを特徴とする特許請求の範囲第１２項記載の
アラインメント装置。 １４ 前記変位手段が、圧電トランスデユーサか
ら成る； ことを特徴とする特許請求の範囲第１３項記載の
アラインメント装置。 １５ 前記垂直及び水平交差たわみストリツプの
各々がたわみストリツプから成る； ことを特徴とする特許請求の範囲第１４項記載の
アラインメント装置。 １６ 前記各たわみストリツプがスプリング材料
で製作される； ことを特徴とする特許請求の範囲第１５項記載の
アラインメント装置。 １７ 前記スプリング材料が、硬化ベリリウムコ
ツパーから成る； ことを特徴とする特許請求の範囲第１６項記載の
アラインメント装置。 １８ 前記第２及び第３の変位手段が協動して、
前記ステージプレートを中心の周りに回転させ、
又前記径方向軸に直角方向に線形に変位させるよ
うになつている； ことを特徴とする特許請求の範囲第１６項記載の
装置。 １９ 前記第１、第２及び第３のたわみ組立体
が、前記ステージプレートの第１、第２及び第３
の径方向軸に沿つて配置されている； ことを特徴とする特許請求の範囲第１６項記載の
装置。 ２０ 前記垂直たわみ手段が、前記水平たわみ手
段と長さ及び剛性において実質的に等価であり；
かつ 前記垂直たわみ手段が、前記水平たわみ手段の
垂直方向中央において前記剛性バーに付設されて
いる； ことを特徴とする特許請求の範囲第１６項記載の
装置。 ２１ 前記第２及び第３のたわみ組立体が、前記
第１のたわみ組立体と実質的に等価である； ことを特徴とする特許請求の範囲第２０項記載
の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US564434 | 1983-12-21 | ||
| US06/564,434 US4694477A (en) | 1983-12-21 | 1983-12-21 | Flexure stage alignment apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60154528A JPS60154528A (ja) | 1985-08-14 |
| JPH0334206B2 true JPH0334206B2 (ja) | 1991-05-21 |
Family
ID=24254461
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59263785A Granted JPS60154528A (ja) | 1983-12-21 | 1984-12-18 | ステージ支持装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4694477A (ja) |
| EP (1) | EP0147169B1 (ja) |
| JP (1) | JPS60154528A (ja) |
| DE (1) | DE3474219D1 (ja) |
Families Citing this family (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL8601095A (nl) * | 1986-04-29 | 1987-11-16 | Philips Nv | Positioneerinrichting. |
| GB8713050D0 (en) * | 1987-06-04 | 1987-07-08 | Renishaw Plc | Positioning apparatus |
| IT1221550B (it) * | 1987-10-30 | 1990-07-12 | Elleci Trimate Sas Di Cassanel | Apparecchiatura perfezionata per la lappatura di interni |
| US4870668A (en) * | 1987-12-30 | 1989-09-26 | Hampshire Instruments, Inc. | Gap sensing/adjustment apparatus and method for a lithography machine |
| US5808435A (en) * | 1996-05-28 | 1998-09-15 | Kmy Instruments | Micropositioning device for disk head testing system |
| US5903085A (en) * | 1997-06-18 | 1999-05-11 | Phase Metrics, Inc. | Piezoelectric nanopositioner |
| US6355994B1 (en) | 1999-11-05 | 2002-03-12 | Multibeam Systems, Inc. | Precision stage |
| US6555829B1 (en) | 2000-01-10 | 2003-04-29 | Applied Materials, Inc. | High precision flexure stage |
| US6437463B1 (en) | 2000-04-24 | 2002-08-20 | Nikon Corporation | Wafer positioner with planar motor and mag-lev fine stage |
| US6653639B1 (en) * | 2000-10-17 | 2003-11-25 | Nikon Corporation | Chuck for mounting reticle to a reticle stage |
| US6688183B2 (en) * | 2001-01-19 | 2004-02-10 | Massachusetts Institute Of Technology | Apparatus having motion with pre-determined degrees of freedom |
| US6791669B2 (en) | 2001-04-12 | 2004-09-14 | Nikon Corporation | Positioning device and exposure apparatus including the same |
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| US7068891B1 (en) | 2002-03-12 | 2006-06-27 | Palomar Technologies, Inc. | System and method for positioning optical fibers |
| US20040080730A1 (en) * | 2002-10-29 | 2004-04-29 | Michael Binnard | System and method for clamping a device holder with reduced deformation |
| JP4162664B2 (ja) | 2005-02-22 | 2008-10-08 | 株式会社日立製作所 | 真空スイッチギヤ |
| DE102006034162B4 (de) * | 2006-04-21 | 2008-11-27 | Physik Instrumente (Pi) Gmbh & Co. Kg | Piezoelektrische Einachsen-Verstelleinrichtung |
| KR101678065B1 (ko) * | 2010-12-09 | 2016-12-07 | 삼성전자 주식회사 | 위치 정렬 장치 및 이의 조인트 모듈 |
| WO2014004375A1 (en) | 2012-06-25 | 2014-01-03 | Quantum Electro Opto Systems Sdn. Bhd. | Method and apparatus for aligning of opto-electronic components |
| WO2015191543A1 (en) * | 2014-06-10 | 2015-12-17 | Applied Materials Israel, Ltd. | Scanning an object using multiple mechanical stages |
| US10533251B2 (en) | 2015-12-31 | 2020-01-14 | Lam Research Corporation | Actuator to dynamically adjust showerhead tilt in a semiconductor processing apparatus |
| US10184607B2 (en) | 2016-05-18 | 2019-01-22 | Aerotech, Inc. | Open frame, parallel, two axis flexure stage with yaw compensation |
| CN107329376B (zh) * | 2017-07-18 | 2019-02-22 | 中国科学院光电研究院 | 具有位置调节功能的嵌套式支承结构及其用途 |
| CN110347119B (zh) * | 2019-06-29 | 2021-11-16 | 瑞声科技（南京）有限公司 | 运动控制结构以及执行器 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1572353A1 (de) * | 1967-05-27 | 1970-04-23 | Wenczler & Heidenhain | Verfahren zur Herstellung von Teilungen und sonstigen Bildmustern |
| US4068947A (en) * | 1973-03-09 | 1978-01-17 | The Perkin-Elmer Corporation | Optical projection and scanning apparatus |
| US4019109A (en) * | 1974-05-13 | 1977-04-19 | Hughes Aircraft Company | Alignment system and method with micromovement stage |
| FR2371716A1 (fr) * | 1976-11-19 | 1978-06-16 | Thomson Csf | Appareil photorepeteur de masques |
| US4528451A (en) * | 1982-10-19 | 1985-07-09 | Varian Associates, Inc. | Gap control system for localized vacuum processing |
| US4525852A (en) * | 1983-03-15 | 1985-06-25 | Micronix Partners | Alignment apparatus |
-
1983
- 1983-12-21 US US06/564,434 patent/US4694477A/en not_active Expired - Fee Related
-
1984
- 1984-12-18 JP JP59263785A patent/JPS60154528A/ja active Granted
- 1984-12-19 EP EP84308899A patent/EP0147169B1/en not_active Expired
- 1984-12-19 DE DE8484308899T patent/DE3474219D1/de not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3474219D1 (en) | 1988-10-27 |
| JPS60154528A (ja) | 1985-08-14 |
| EP0147169A2 (en) | 1985-07-03 |
| EP0147169A3 (en) | 1985-08-21 |
| EP0147169B1 (en) | 1988-09-21 |
| US4694477A (en) | 1987-09-15 |
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