JPH0332577A - 研摩板およびその製造方法 - Google Patents
研摩板およびその製造方法Info
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- JPH0332577A JPH0332577A JP16783689A JP16783689A JPH0332577A JP H0332577 A JPH0332577 A JP H0332577A JP 16783689 A JP16783689 A JP 16783689A JP 16783689 A JP16783689 A JP 16783689A JP H0332577 A JPH0332577 A JP H0332577A
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- uniform
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- polishing
- alumina plate
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
［概要］
研摩板およびその製造方法に関し、
均一で微細なパターン加工を行なうことができる研摩板
およびその製造方法を提供することを目的とし、 基材と、該基材上に貼着され均一で微細なパターンをそ
の表面に有するアルミナ板と、により構成し、他の発明
は、アルミナ板の表面にホトレジストを塗布し、ホトエ
ツチングを行なって均一で微細なパターンを形威し、パ
ターンの形成されたアルミナ板を基材に貼着するように
構成した。
およびその製造方法を提供することを目的とし、 基材と、該基材上に貼着され均一で微細なパターンをそ
の表面に有するアルミナ板と、により構成し、他の発明
は、アルミナ板の表面にホトレジストを塗布し、ホトエ
ツチングを行なって均一で微細なパターンを形威し、パ
ターンの形成されたアルミナ板を基材に貼着するように
構成した。
［産業上の利用分野］
本発明は、研摩板およびその製造方法に関する。
磁気ディスク装置には磁気記録媒体が用いられているが
、この磁気記録媒体の基板には研摩テープなどによって
表面を適度に粗らすテクスチャ加工処理が施されている
。これによりヘッドと媒体の吸着を防止している。した
がって、基板の表面を均一に粗らすためには、均一なパ
ターンを有する研摩板およびその製造方法の開発が必要
となる。
、この磁気記録媒体の基板には研摩テープなどによって
表面を適度に粗らすテクスチャ加工処理が施されている
。これによりヘッドと媒体の吸着を防止している。した
がって、基板の表面を均一に粗らすためには、均一なパ
ターンを有する研摩板およびその製造方法の開発が必要
となる。
［従来の技術］
従来の研摩テープとしては、例えば、ポリエスチルフィ
ルムなどのベーステープに研摩粒子を接着剤により塗布
したものがある。
ルムなどのベーステープに研摩粒子を接着剤により塗布
したものがある。
研摩粒子としては、所定の中心粒径をもつ酸化アルミニ
ウム、シリコンカーバイト、酸化クロムなどが用いられ
、例えばリバースロール法などによりベーステープに塗
布される。こうして製造された研摩テープの表面を第５
図（Ａ）に、断面を第５図（Ｂ）に、それぞれ示す。図
中、ランダムに配置されているのが研摩粒子である。
ウム、シリコンカーバイト、酸化クロムなどが用いられ
、例えばリバースロール法などによりベーステープに塗
布される。こうして製造された研摩テープの表面を第５
図（Ａ）に、断面を第５図（Ｂ）に、それぞれ示す。図
中、ランダムに配置されているのが研摩粒子である。
この研摩テープによって、例えば磁気記録媒体の基板に
テクスチャ加工を施す。すなわち、アルミニウム板など
からなる基板を回転させながら、加工用ロールにより基
板に研摩テープを所定の圧力で押しつけて研摩テープを
ロールを介して搬送してテクスチャ加工を行なう。
テクスチャ加工を施す。すなわち、アルミニウム板など
からなる基板を回転させながら、加工用ロールにより基
板に研摩テープを所定の圧力で押しつけて研摩テープを
ロールを介して搬送してテクスチャ加工を行なう。
この研摩テープによる基板の研摩跡の平面を第６図（Ａ
）に、断面を第６図（Ｂ）に、それぞれ示す。
）に、断面を第６図（Ｂ）に、それぞれ示す。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、このような従来の研摩テープにあっては
、ベーステープに塗布される研摩粒子の大きさや配列が
不均一であるため、基板にテクスチャ加工を施すとき、
均一で微細なパターンを形成することができないという
問題点があった。
、ベーステープに塗布される研摩粒子の大きさや配列が
不均一であるため、基板にテクスチャ加工を施すとき、
均一で微細なパターンを形成することができないという
問題点があった。
本発明は、このような従来の問題点を鑑みてなされたも
のであって、均一で微細なパターン加工を行なうことが
できる研摩板およびその製造方法を提供することを目的
としている。
のであって、均一で微細なパターン加工を行なうことが
できる研摩板およびその製造方法を提供することを目的
としている。
［課題を解決するための手段］
第１図（Ａ）。（Ｂ）は本発明の原理説明図である。
第１図（Ａ）は本発明の研摩板を示す。
第１図（Ａ）において、４は基材、１は該基材４上に貼
着され均一で微細なパターン３をその表面に有するアル
ミナ板である。
着され均一で微細なパターン３をその表面に有するアル
ミナ板である。
第１図（Ｂ）は研摩板の製造工程を示す。
第１図（Ｂ）において、Ｓｌはアルミナ板１の表面にホ
トレジストを塗布する工程、Ｓ２はホトエツチングを行
なって均一で微細なパターン３を形成する工程、Ｓ３は
パターン３の形成されたアルミナ板１を基材４に貼着す
る工程である。
トレジストを塗布する工程、Ｓ２はホトエツチングを行
なって均一で微細なパターン３を形成する工程、Ｓ３は
パターン３の形成されたアルミナ板１を基材４に貼着す
る工程である。
［作用コ
本発明においては、ホトエツチングにより均一で微細な
パターンをアルミナ板の表面に形成して、研摩板を製造
するようにしたため、この研摩板を用いて磁気記録媒体
の基板上にテクスチャ加工を施すと、均一で微細なテク
スチャ表面を得ることができる。
パターンをアルミナ板の表面に形成して、研摩板を製造
するようにしたため、この研摩板を用いて磁気記録媒体
の基板上にテクスチャ加工を施すと、均一で微細なテク
スチャ表面を得ることができる。
［実施例コ
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第２図〜第４図は本発明の一実施例を示す図である。
第２図（Ａ、 −Ｃ）は研摩板の製造工程を示す図であ
る。
る。
第２図（Ａ）において、１はアルミナ板、２はアルミナ
板１上に塗布されるホトレジスト、３はアルミナ板１の
うちホトエツチングで除去される部分、すなわちパター
ンである。
板１上に塗布されるホトレジスト、３はアルミナ板１の
うちホトエツチングで除去される部分、すなわちパター
ンである。
まず、アルミナ板１にホトレジスト２を塗布し、レーザ
ービームでパターン３を露光し、現像液にてホトレジス
ト２を現像する（第２図（Ａ）、参照）。
ービームでパターン３を露光し、現像液にてホトレジス
ト２を現像する（第２図（Ａ）、参照）。
次に、ポストベーキングの後にアルミナ板１の表面をホ
トエツチングし、剥離法で硬化したホトレジスト２を除
去し、さらにプラズマアッシャ−でホトレジスト２を完
全に除去し、洗浄してから乾燥する。こうして得られる
アルミナ板１を第２図（Ｂ）に示す。第２図（Ｂ）から
明らかなように、アルミナ板１の表面には均一で微細な
パターン３が形成される。
トエツチングし、剥離法で硬化したホトレジスト２を除
去し、さらにプラズマアッシャ−でホトレジスト２を完
全に除去し、洗浄してから乾燥する。こうして得られる
アルミナ板１を第２図（Ｂ）に示す。第２図（Ｂ）から
明らかなように、アルミナ板１の表面には均一で微細な
パターン３が形成される。
次に、アルミナ板１の表面に、窒化チタンまたは炭化チ
タンを塗布する。これにより表面の硬度を増加させてい
る。そして、このアルミナ板１をアルミなどの基材４に
貼着する。
タンを塗布する。これにより表面の硬度を増加させてい
る。そして、このアルミナ板１をアルミなどの基材４に
貼着する。
こうして製造された研摩板６を第２図（Ｃ）に示す。第
２図（Ｃ）において、４はアルミなどの基材、１は均一
で微細なパターン３をもつアルミナ板、５は窒化チタン
層、または炭化チタン層である。
２図（Ｃ）において、４はアルミなどの基材、１は均一
で微細なパターン３をもつアルミナ板、５は窒化チタン
層、または炭化チタン層である。
また、この研摩板６の表面を、第３図（Ａ）に、その断
面を、第３図（Ｂ）に、それぞれ示す。
面を、第３図（Ｂ）に、それぞれ示す。
第３図（Ａ）、 （Ｂ）から明らかなように、パター
ン３は微細なのこぎり歯状で、均一の深さ、均一の幅に
形成されている。
ン３は微細なのこぎり歯状で、均一の深さ、均一の幅に
形成されている。
こうして製造された研摩板６を用いて磁気記録媒体の基
板にテクスチャ加工を行なった。すなわち、基板を回転
させながら、研摩板６を所定の圧力で基板に押しつけて
テクスチャ加工を行なった。
板にテクスチャ加工を行なった。すなわち、基板を回転
させながら、研摩板６を所定の圧力で基板に押しつけて
テクスチャ加工を行なった。
この研摩板６による研摩跡の平面を第４図（Ａ）に、そ
の断面を第４図（Ｂ）に、それぞれ示す。
の断面を第４図（Ｂ）に、それぞれ示す。
第４図（Ａ）、 （Ｂ）から明らかなように、基板に
は均一で微細なテクスチャ表面が形成される。
は均一で微細なテクスチャ表面が形成される。
［発明の効果］
以上説明してきたように、本発明によれば、ホトエツチ
ングによりアルミナ板に均一で微細なパターンを形成し
て研摩板としたため、この研摩板を用いて基板にテクス
チャ加工をするとき、均一で微細なテクスチャ表面を得
ることができる。
ングによりアルミナ板に均一で微細なパターンを形成し
て研摩板としたため、この研摩板を用いて基板にテクス
チャ加工をするとき、均一で微細なテクスチャ表面を得
ることができる。
第１図（Ａ）、 （Ｂ）
第２図（Ａ）〜（Ｃ）
す製造工程図、
第３図（Ａ）、 （Ｂ）
第４図（Ａ）、 （Ｂ）
第５図（Ａ）、 （Ｂ）
す図、
第６図（Ａ）、 （Ｂ）
である。
は本発明の原理説明図、
は本発明の一実施例を示
は研摩板を示す図、
は研摩跡を示す図、
は従来の研摩テープを示
は従来の研摩跡を示す図
図中、
１・・・アルミナ板、
２・・・ホトレジスト、
３・・・パターン、
４・・・基材、
５・・・窒化チタン層または炭化チタン層、６・・・研
摩板。
摩板。
Claims (2)
- （１）基材（４）と、該基材（４）上に貼着され均一で
微細なパターン（３）をその表面に有するアルミナ板（
１）と、を備えたことを特徴とする研摩板。 - （２）アルミナ板（１）の表面にホトレジストを塗布し
（Ｓ１）、ホトエッチングを行なって均一で微細なパタ
ーンを形成し（Ｓ２）、パターンの形成されたアルミナ
板（１）を基材（４）に貼着する（Ｓ３）ことを特徴と
する研摩板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16783689A JPH0332577A (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | 研摩板およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16783689A JPH0332577A (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | 研摩板およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0332577A true JPH0332577A (ja) | 1991-02-13 |
Family
ID=15856985
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16783689A Pending JPH0332577A (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | 研摩板およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0332577A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6432346B1 (en) * | 2000-05-03 | 2002-08-13 | Iomega Corporation | Process of making magnetic recording disk |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5647929A (en) * | 1979-09-14 | 1981-04-30 | Siemens Ag | Surface polishing machine for disk of disk memory |
| JPS6080567A (ja) * | 1983-10-07 | 1985-05-08 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | セグメント形固定砥粒研摩体の製造方法 |
| JPS63300820A (ja) * | 1987-05-15 | 1988-12-08 | サンドビック アクティエボラーグ | 平滑加工用の食刻工具 |
-
1989
- 1989-06-29 JP JP16783689A patent/JPH0332577A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5647929A (en) * | 1979-09-14 | 1981-04-30 | Siemens Ag | Surface polishing machine for disk of disk memory |
| JPS6080567A (ja) * | 1983-10-07 | 1985-05-08 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | セグメント形固定砥粒研摩体の製造方法 |
| JPS63300820A (ja) * | 1987-05-15 | 1988-12-08 | サンドビック アクティエボラーグ | 平滑加工用の食刻工具 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6432346B1 (en) * | 2000-05-03 | 2002-08-13 | Iomega Corporation | Process of making magnetic recording disk |
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