JPH02108291A - 浮上型磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はコンピュータの磁気記録装置に用いられる浮上
型磁気ヘッドに関するものである。

（従来の技術） 従来の浮上型磁気ヘッドの浮上面については、微細なダ
イヤモンド砥粒を用いた湿式ラップにより、浮上面は平
面に仕上加工されている。又、その面精度は０．０１　
ｐ　ｍ以下と高精度に仕上げられている。

（発明が解決しようとする問題点） 従来のコンピュータ記憶装置に使用される記録媒体は、
γ−へマタイトを塗布したディスクが主流となっていた
が、近年ではメツキ法、スパッタ法などによるディスク
が次第に使用されつつある。

このメツキ法、スパッタ法によるディスク表面は高精度
に仕上げられており、従来にはなかった磁気ヘッドを記
録媒体との粘着性が問題となって来ている。又、記憶装
置自体についても小型化、軽量化されつつあり、これに
伴いディスクを駆動させるモーターも小型化され低トル
フのものとなって来ている。更に記録密度を向上させる
ために、磁気ヘッド浮上面と記録媒体との隙間が年々小
さくなる方向にあり、又、同様目的のため記録媒体の厚
さも薄くなりつつある傾向にある。つまり、磁気ヘッド
の高精度に仕上げられた面と、近年、高精度化された記
録媒体の相互の高精度な面がより高い密着性を有するこ
ととなり、ディスクの駆動時にその粘着性が大きく、デ
ィスク駆動時の摩擦力が太き（ＣＳ　／　Ｓ　（Ｃｏｎ
ｔａｃｔ　５ｔａｒｔ　ａｎｄ　５ｔｏｐ）特性が低下
することとなり、この問題の解決が必要不可決となって
いる。

（問題点を解決するための手段） 本発明は、磁気ヘッドの浮上面に０．０５〜０．３μｍ
の微少量の摺動方向に沿った湾曲形状を有し、更にその
浮上面に微小凹凸形成加工を施すことにより、制御され
た面積度のスライダーを有することを特徴とする磁気ヘ
ッドである。

本発明において、磁気ヘッド自体の弾性変形を利用し形
成する湾曲形状と逆形状に磁気ヘノドを湾曲させた状態
で、磁気ヘッドの浮上面を加工し、その後弾性変形の解
放により目的とする浮上面の湾曲形状を得るものである
。

更に、この浮上面の面精度の制御は通常のスパッタ方式
を応用し、逆スパツタと称する方法により加工が可能で
ある。

ここで逆スパックとは、イオン化した不活性ガスを磁気
ヘッドの浮上面に衝突させて浮上面の表面の原子を除去
していくものである。ここで磁気ヘッドの材質は多結晶
材であり、その各結晶方向で原子の結合エネルギーに差
があり、この結合エネルギー差により、表面の逆スパッ
クによる除去量に差を生じさせ結果的に微細な高さ変位
を牛しさせることになり、その結果として第１１図に示
す効果が得られた。

又、この逆スパツタではスパッタの時間により表面粗さ
の制御をすることが可能であり、更には表面の汚れ等の
除去にも有効であり品質向上の面からも有効である。

（実施例） 以下図面を参照しながら実施例について説明する。

第１図に示す実施例において１磁気ヘツドの浮上面の反
対面の形状を利用しこの部分に２糸状のもの（例えばプ
ラスチック系ワイヤー）を介し、このワイヤーの張力を
利用することにより磁気ヘッドを湾曲させる。湾曲量２
（第２図）はこの張力により管理する。この状態でラッ
プ加工を浮上面が平面になるまで施す。この方法により
湾曲量！として０．０９〜０．１４μｍのデータを得た
。

この湾曲形状を得る方法として、第１図から第６図の方
法も可能。第３図に示す３ネジと４ツメ治具によりネジ
を押し込むことにより１磁気ヘツドを湾曲させランプ加
工を行う方法。この場合バネの弾性を利用することも可
能。

第４図に示す５磁気ヘツド円定治具に６接着剤により１
磁気ヘツドを固定する。この時の接着剤の収縮力を利用
しラップ加工を行なう。

第５図に示す７湾曲させた固定砥粒定盤上に１磁気ヘツ
ドの浮上面をスライドさせる方法。

実施例第３図、第４図、第５図で湾曲形状が得られたの
は実施例第１図の如くである。

更に（第６図）逆スパツタの実施例を示す。

１磁気ヘツドとしてＭｎ　−Ｚｎ系多結晶材の湾曲形状
を施したものでその浮上面はダイヤセン１−砥粒による
湿式ラップを行ない、０．０１μｍ以下の面積度のもの
を用いた。スパッタ装置としてＲ−Ｆ型。

ターンテーブルφ４２ｃｍ、投入電力０．５ｋＷ、Ａｒ
ガス圧０．４４〜０．４８Ｐａとした。第６図にて８斜
線部が逆スパツタを施した面である。第１０図に逆スパ
ツタ時間と面粗さの関係を示す。又、この関係は投入電
力、ガス種類、ガス構成、ガス圧力等により変化するが
直線の傾きが変化するだけであり、面粗さは逆スパツタ
の時間にほぼ比例する結果を得た。

又、第７図において逆スパツタによる除去量以上の厚さ
を有する９マスクを用いることにより部分的に逆スパツ
タ処理することが可能である。

更に、マスクの厚さをある一定周期で変化させることに
より逆スパンタ面に一定の波長を持たせることが可能で
ある（第９図（ａ）、　（ｂ））。

又、同等の成果を得る方法として、腐食作用を使用する
方法等も可能である。

更に、第１１図に従来ラップ品と本発明形状品における
Ｃ　Ｓ　／　Ｓ特性図を示す。従来ラップ品においては
約１万回から摩擦力が急増しておりその増加量も本発明
形状のものと比較し大きなものとなっている。

（発明の効果） 本発明により、磁気ヘッドの浮上面と、記録媒体の間に
発生する摩擦を低減することが出来、ディスクの小型化
、軽量化、薄肉化に対応可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明にかかわる一実施例を示すもであり（ａ
）は磁気ヘッドの浮上面と対向する裏面からの視図であ
り、（ｂ）はその側面からの視図である。 第２図は湾曲量２を示す。 第３図〜第４図〜第５図はその他の実施例を示す。 第６図は湾曲形状を施し更に逆スパツタ処理を行ったも
のである。（斜線部が逆スパツタ処理を施した部分であ
る。） 第７図は逆スパツタ処理を部分的に行なう模式第８図は
逆スパツタ処理後の表面状態を模式化したものであり、
１０斜線部が除去量の少ない部分、１１が除去量の多い
部分である。 第９図（ａ）は逆スパツタ処理を部分的に施すためにマ
スク厚さを変化させたものであり、（ｂ）はその結果と
して成る表面状態を粗さ曲線的に模式化したものである
。 第１０図は除去量及び表面粗さと逆スパツタ時間の関係
図である。 第１１図は従来ランプ品と本発明形状品とのＣ３／Ｓを
比較したものである。 第１図（ａ） 第４図 第２図 第５図 第 図 第 図 第 図 第１０ 図 （Ｐｍ） 逆スパツタ時間 （分） 第 図 （ａ） （ｂ） 第 図 １゜ ×（１０３） Ｃ５７５回 数

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、コンピュータの記憶装置に使用されるスライダーを
   有する磁気ヘッドにおいて、記録媒体と対向する浮上面
   の摺動方向に沿って微少量の湾曲形状を持たせ、かつ、
   その浮上面の平均面粗さが０．０２μｍ以下であり、か
   つ、微小な凹凸形状を形成した２重面粗さ構造を持つこ
   とを特徴とした浮上型磁気ヘッド。 ２、製造方法 形成する湾曲形状と逆の形状に磁気ヘッドを弾性変形さ
   せ、これを固定した状態にて０．０２μｍ以下の面粗度
   に平面仕上げを行い、その後逆状スパッタにより、上記
   面粗度を維持する凹凸形状を成形する浮上型磁気ヘッド
   の製造方法。 ３、第１項又は第２項記載のモノリシック型磁気ヘッド
   の製造方法。