JPS6080567A - セグメント形固定砥粒研摩体の製造方法 - Google Patents
セグメント形固定砥粒研摩体の製造方法Info
- Publication number
- JPS6080567A JPS6080567A JP18680083A JP18680083A JPS6080567A JP S6080567 A JPS6080567 A JP S6080567A JP 18680083 A JP18680083 A JP 18680083A JP 18680083 A JP18680083 A JP 18680083A JP S6080567 A JPS6080567 A JP S6080567A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- segment
- abrasive
- etching
- segments
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
- B24D18/00—Manufacture of grinding tools or other grinding devices, e.g. wheels, not otherwise provided for
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、セグメント形固定砥粒研摩体の製造方法に関
する。
する。
セグメントで構成される研摩体は、切刃の面が連続して
いる総形と呼ばれる研摩体に比べ、切粉の排出、冷却液
の供給、被加工物とのなじみ易さ、切刃の面の精度維持
などの点で有利で、加工能率、面粗度、面精度などです
ぐれた性能を発揮し、ガラス、セラミック、金属、半導
体、プラスチックスなどの広範囲の加工に使用されてい
る。
いる総形と呼ばれる研摩体に比べ、切粉の排出、冷却液
の供給、被加工物とのなじみ易さ、切刃の面の精度維持
などの点で有利で、加工能率、面粗度、面精度などです
ぐれた性能を発揮し、ガラス、セラミック、金属、半導
体、プラスチックスなどの広範囲の加工に使用されてい
る。
セグメント型研摩体の製造は、従来、冷間でプレス成形
後焼結を行う通常の粉末冶金法、プレス成形と焼結を同
時に行うホットプレス法、才たは電着法などによシセグ
メントを作シ、個々のセグメントを接着剤などで、工具
ベースの所定の位置に固定することにより行われている
。しかしながら、上記の方法において微細なセグメント
全ベース上に多数固定するような場合、個々のセグメン
トの成形は、技術的に困難を極め、さらにベースの所定
の位置に固定する作業は、大変面倒であるためいずれも
実用化は極めて難かしいのが現状である。
後焼結を行う通常の粉末冶金法、プレス成形と焼結を同
時に行うホットプレス法、才たは電着法などによシセグ
メントを作シ、個々のセグメントを接着剤などで、工具
ベースの所定の位置に固定することにより行われている
。しかしながら、上記の方法において微細なセグメント
全ベース上に多数固定するような場合、個々のセグメン
トの成形は、技術的に困難を極め、さらにベースの所定
の位置に固定する作業は、大変面倒であるためいずれも
実用化は極めて難かしいのが現状である。
本発明はこの様な実情に鑑みなされたものであり、その
目的とするところは、微細なセグメントをも容易に形成
することができ、しかもこのセグメントヲ貼着する作業
等を要することなく所望の配置で固定することのできる
セグメント形固定砥粒研摩体の製造方法を提供すること
にある。
目的とするところは、微細なセグメントをも容易に形成
することができ、しかもこのセグメントヲ貼着する作業
等を要することなく所望の配置で固定することのできる
セグメント形固定砥粒研摩体の製造方法を提供すること
にある。
即ち、本発明のセグメント形固定砥粒仙摩体の製造方法
は、砥粒を結合してなる研摩体表面の所定部分を耐エツ
チング性を有する膜で被検した後、前記膜で被覆されな
い表層部分をエツチングすることを特徴とするものであ
る。
は、砥粒を結合してなる研摩体表面の所定部分を耐エツ
チング性を有する膜で被検した後、前記膜で被覆されな
い表層部分をエツチングすることを特徴とするものであ
る。
本発明で使用する砥粒は、特に制限されず、通常使用さ
れるダイヤモンド、立方晶窒化硼素、アルミナ、炭化け
い素、炭化硼素などの何れをも適用することができる。
れるダイヤモンド、立方晶窒化硼素、アルミナ、炭化け
い素、炭化硼素などの何れをも適用することができる。
砥粒を結合するために用いられる結合剤は、エツチング
処理により食刻可能な拐質であればよく、メタルゲンド
、レジンポンド、ビトリファイドボンド、電着がンドな
どの何れの材質でもよい。エツチングに用いるエツチン
グ液としては、メタル？ンドに対しては塩化第二鉄溶液
、レジンがンドに対してはカセイソーダ液、ビトリファ
イドボンドに対しては７ツ酸液などを用いることができ
る。
処理により食刻可能な拐質であればよく、メタルゲンド
、レジンポンド、ビトリファイドボンド、電着がンドな
どの何れの材質でもよい。エツチングに用いるエツチン
グ液としては、メタル？ンドに対しては塩化第二鉄溶液
、レジンがンドに対してはカセイソーダ液、ビトリファ
イドボンドに対しては７ツ酸液などを用いることができ
る。
本発明で使用する研摩体はどの様な方法で製造されたも
のでもよいが、通常は原料である砥粒と結合剤の粉末を
混合した後、プレス成形などにより常温圧縮し次いで焼
結するか、あるいはホットプレスにより所望形状の成形
体を得る。
のでもよいが、通常は原料である砥粒と結合剤の粉末を
混合した後、プレス成形などにより常温圧縮し次いで焼
結するか、あるいはホットプレスにより所望形状の成形
体を得る。
本発明において、研摩体表面の所定部分を耐エツチング
性を有する膜で被覆することにより、セグメント部分を
構成する研摩体表層部分をエツチング処理に対して保護
し、これ以外の部分をエツチングすることにより、円柱
状、角柱状あるいはこれらよりも更に複雑な形状のセグ
メント部分数あるいは複数配置した一体構造のセグメン
ト形研摩体を得ることができる。セグメント部分を＠覆
するために用いる耐エツチング性金有する膜としては、
所謂フォトレジストと呼ばれる、光二量化型、光重合型
、光分解型等の感光性樹脂が実用的であり、これらの樹
脂としては、食刻部分に光をあて樹脂を可溶化する所謂
ポジ型のフィルムと、セグメント部分に光をあて樹脂を
不溶化する所謂ネガ型のフィルムとがあるが、何れを用
いた場合においてもセグメント部分にエツチング液不溶
の被覆膜が残存可能であれば用いることができる。
性を有する膜で被覆することにより、セグメント部分を
構成する研摩体表層部分をエツチング処理に対して保護
し、これ以外の部分をエツチングすることにより、円柱
状、角柱状あるいはこれらよりも更に複雑な形状のセグ
メント部分数あるいは複数配置した一体構造のセグメン
ト形研摩体を得ることができる。セグメント部分を＠覆
するために用いる耐エツチング性金有する膜としては、
所謂フォトレジストと呼ばれる、光二量化型、光重合型
、光分解型等の感光性樹脂が実用的であり、これらの樹
脂としては、食刻部分に光をあて樹脂を可溶化する所謂
ポジ型のフィルムと、セグメント部分に光をあて樹脂を
不溶化する所謂ネガ型のフィルムとがあるが、何れを用
いた場合においてもセグメント部分にエツチング液不溶
の被覆膜が残存可能であれば用いることができる。
エツチング液に対して不溶の被稜膜を形成することので
きる膜としては、例えば塩化第二鉄溶液に不溶のものと
しては、ポリ桂皮酸系フォトレジストが適し、コダック
社製ＫＰＲ，ＫＰＬ、 ＫＰＲ２、ＫＰＩζ３、ＫＰＲ
４、ＫＯＲ、沖京応化社製ＴＰＲ、オーディル（ドライ
フィルム）、ダイナクム製ラミナーＴｏ（ドライフィル
ム）など、カセイソーダ液不溶のものとしては、環化ゴ
ム系（芳香族ビスアジド系）フォトレジストが適し、コ
ダック社製ＫＭＥＲ、ＫＩＦＲ、ハント社製ウェイコー
トＩＣレジスト、東京応化社製ＯＭＲ−８３など、また
７ツ酸に不溶のものとしては、キノン・ジアザイド系フ
ォトレジストが適し、シップレイ（５ｈｌｐｌａｙ）
社製ＡＺ−１３００シｌＪ−，Ｉ”（ＡＺ−１３７５、
ＡＺ−１３５０Ｊ、ＡＺ−１３７０、Ａ Ｚ −１３５
０Ｂ）。
きる膜としては、例えば塩化第二鉄溶液に不溶のものと
しては、ポリ桂皮酸系フォトレジストが適し、コダック
社製ＫＰＲ，ＫＰＬ、 ＫＰＲ２、ＫＰＩζ３、ＫＰＲ
４、ＫＯＲ、沖京応化社製ＴＰＲ、オーディル（ドライ
フィルム）、ダイナクム製ラミナーＴｏ（ドライフィル
ム）など、カセイソーダ液不溶のものとしては、環化ゴ
ム系（芳香族ビスアジド系）フォトレジストが適し、コ
ダック社製ＫＭＥＲ、ＫＩＦＲ、ハント社製ウェイコー
トＩＣレジスト、東京応化社製ＯＭＲ−８３など、また
７ツ酸に不溶のものとしては、キノン・ジアザイド系フ
ォトレジストが適し、シップレイ（５ｈｌｐｌａｙ）
社製ＡＺ−１３００シｌＪ−，Ｉ”（ＡＺ−１３７５、
ＡＺ−１３５０Ｊ、ＡＺ−１３７０、Ａ Ｚ −１３５
０Ｂ）。
東京応化社製０ＦＰＲなどが挙げられる。フォトマスク
、光照射、非被覆部分の樹脂溶解（現像）、レジストの
除去等の各操作はフォトレジストを扱う分野でよく知ら
れている通常の方法によって行なうことができる。
、光照射、非被覆部分の樹脂溶解（現像）、レジストの
除去等の各操作はフォトレジストを扱う分野でよく知ら
れている通常の方法によって行なうことができる。
また、やや複雑な形状のセグメント部分成する場合、研
摩体自体が大型である場合などにおいては被覆操作及び
／又はエツチング操作を２度以上に別けて実施すること
もてきる。この場合、エツチング深さを適宜変えて段状
のセグメント部分り出すことも可能である。
摩体自体が大型である場合などにおいては被覆操作及び
／又はエツチング操作を２度以上に別けて実施すること
もてきる。この場合、エツチング深さを適宜変えて段状
のセグメント部分り出すことも可能である。
次に、添付した図面に即して、実施例を説明する。第１
図乃至第６図は本発明方法を原理的に示した工程説明図
である。この例では、板状研摩体の片面側に円板状セグ
メン）＝ｌＨ複数形成しているが、研摩体及びセグメン
トの形状はこれにより限定されない。研摩体の形状とし
ては、セグメント部分が内湾状（パラボラ状）、外筒状
等となる場合もある。また、工具ベースに固定するため
に切欠等を設けるなどの加工を行なうことも任意に行な
うことができる。
図乃至第６図は本発明方法を原理的に示した工程説明図
である。この例では、板状研摩体の片面側に円板状セグ
メン）＝ｌＨ複数形成しているが、研摩体及びセグメン
トの形状はこれにより限定されない。研摩体の形状とし
ては、セグメント部分が内湾状（パラボラ状）、外筒状
等となる場合もある。また、工具ベースに固定するため
に切欠等を設けるなどの加工を行なうことも任意に行な
うことができる。
粒度６／１２ミクロンのダイヤモンド砥粒と一３２５メ
ツシュの銅−１０係錫合金粉をダイヤモンド添加率で２
係になるように混合後、プレスにより成形し、アンモニ
ア分解ガス中７５０℃にて焼結して、ダイヤモンド砥粒
とメタル？ンドからなる厚さ０．５圏の第１図に示すよ
うな研摩体基板１を炸裂した。第２図に示すように研摩
体基板１の両面をネガ−ポジ型のドライフィルムと呼ば
れるフィルム状の７オトレジスト２で被覆した。第３図
に示すように７オトレジスト２で被覆した研摩体基板１
の片面に形成すべきセグメントの部分が光を通し、セグ
メント間の溝の部分が光を遮断するように描かれた加工
用原板（フォトマスク）３を密着し、光源４を使って両
面から露光した。第４図に示すように弱アルカリ液によ
る現像後、セグメントを形成すべき個所と裏面に７オト
レジスト膜５が残存した。第５図に示すように、ポンプ
で加圧した塩化第二鉄のエツチング液をノズル６から噴
出させるスプレー方式のエツチングマシーンで、レジス
トが残存した研摩体基板をエツチングした。
ツシュの銅−１０係錫合金粉をダイヤモンド添加率で２
係になるように混合後、プレスにより成形し、アンモニ
ア分解ガス中７５０℃にて焼結して、ダイヤモンド砥粒
とメタル？ンドからなる厚さ０．５圏の第１図に示すよ
うな研摩体基板１を炸裂した。第２図に示すように研摩
体基板１の両面をネガ−ポジ型のドライフィルムと呼ば
れるフィルム状の７オトレジスト２で被覆した。第３図
に示すように７オトレジスト２で被覆した研摩体基板１
の片面に形成すべきセグメントの部分が光を通し、セグ
メント間の溝の部分が光を遮断するように描かれた加工
用原板（フォトマスク）３を密着し、光源４を使って両
面から露光した。第４図に示すように弱アルカリ液によ
る現像後、セグメントを形成すべき個所と裏面に７オト
レジスト膜５が残存した。第５図に示すように、ポンプ
で加圧した塩化第二鉄のエツチング液をノズル６から噴
出させるスプレー方式のエツチングマシーンで、レジス
トが残存した研摩体基板をエツチングした。
溝部を所定の深さまでエツチングによシ除去した。
水洗後、アルカリ液中で残存したレジストの剥離処理を
行い、第６図に示すように、直径０．５咽のセグメント
７を、セグメント間の間隔か約０．５ ｗｎになるよう
に配置したセグメント形固定砥粒研摩体８を得た。
行い、第６図に示すように、直径０．５咽のセグメント
７を、セグメント間の間隔か約０．５ ｗｎになるよう
に配置したセグメント形固定砥粒研摩体８を得た。
本発明によって得られたセグメント形固定砥粒研摩体は
、直接または、弾性体金倉して工具ペースに固定されて
使用されるか、研摩紙、あるいは研摩ベルトに加工され
て使用される場合が多いが、用途はこれらに限定される
ものではなく広範囲にわたり、レンズ、プリズム、ブラ
ウン管、フォトマスク、サブストレート、セラミックス
基板、シリコンウェハーなどの研削、研摩に最適である
・さらに本発明の方法は、量産可能で、実用上の価値大
なるものである。
、直接または、弾性体金倉して工具ペースに固定されて
使用されるか、研摩紙、あるいは研摩ベルトに加工され
て使用される場合が多いが、用途はこれらに限定される
ものではなく広範囲にわたり、レンズ、プリズム、ブラ
ウン管、フォトマスク、サブストレート、セラミックス
基板、シリコンウェハーなどの研削、研摩に最適である
・さらに本発明の方法は、量産可能で、実用上の価値大
なるものである。
第１図乃至第６図は本発明方法の１実施例を示した工８
説明図である。 ｌ・・・研摩体、５・・・耐エツチング性を有する膜、
７・・・セグメント 第１図 第５図 第６図
説明図である。 ｌ・・・研摩体、５・・・耐エツチング性を有する膜、
７・・・セグメント 第１図 第５図 第６図
Claims (1)
- （１）砥粒を結合してなる＠筆体表面の所定部分を」エ
ツチング性を有する膜で被覆した後、前記膜で被覆され
ない表層部分をエツチングすることを特徴とするセグメ
ント形固定砥粒研摩体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18680083A JPS6080567A (ja) | 1983-10-07 | 1983-10-07 | セグメント形固定砥粒研摩体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18680083A JPS6080567A (ja) | 1983-10-07 | 1983-10-07 | セグメント形固定砥粒研摩体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6080567A true JPS6080567A (ja) | 1985-05-08 |
Family
ID=16194801
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18680083A Pending JPS6080567A (ja) | 1983-10-07 | 1983-10-07 | セグメント形固定砥粒研摩体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6080567A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0332577A (ja) * | 1989-06-29 | 1991-02-13 | Fujitsu Ltd | 研摩板およびその製造方法 |
| WO2004067230A1 (ja) * | 2001-07-30 | 2004-08-12 | Poval Kogyo Kabushiki Kaisha | 研磨用ピース、研磨用ラップ及びブラウン管用ガラスパネルの研磨方法 |
| JP2007537891A (ja) * | 2004-05-17 | 2007-12-27 | ポラスキー、アンソニー、デーヴィッド | 研磨材及びその製造方法 |
-
1983
- 1983-10-07 JP JP18680083A patent/JPS6080567A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0332577A (ja) * | 1989-06-29 | 1991-02-13 | Fujitsu Ltd | 研摩板およびその製造方法 |
| WO2004067230A1 (ja) * | 2001-07-30 | 2004-08-12 | Poval Kogyo Kabushiki Kaisha | 研磨用ピース、研磨用ラップ及びブラウン管用ガラスパネルの研磨方法 |
| JP2007537891A (ja) * | 2004-05-17 | 2007-12-27 | ポラスキー、アンソニー、デーヴィッド | 研磨材及びその製造方法 |
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