JPH033132A - 光ディスク製造用モノマー組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は光ディスク製造用モノマー組成物に関し、特に
透明支持体上に凹凸パターンの樹脂層を有する光ディス
ク基板の前記凹凸パターンの樹脂層を形成するのに有用
なモノマー組成物に関する。

［従来技術］ 表面に微細な凹凸パターンか設けられている光ディスク
基板において、前記パターンは型板の凹凸を転写する方
法で形成されている。転写方法としては、微細な凹凸形
状を有する型板と透明支持体との間に均一な厚みで、紫
外線等により硬化し得るモノマー組成物層を設け、透明
支持体側から紫外線等を照射して前記モノマー組成物層
を硬化させた後、型板を剥離して、透明支持体上に硬化
樹脂からなる凹凸パターンを形成する方法（この方法は
フォトポリメリゼーション（Ｐｈｏｔ、ｏ　−Ｐｏｌｙ
ｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）法と呼ばれ、以下２Ｐ法と略記
する）があり、転写精度、光学特性等の面で、熱可塑性
樹脂を射出成形する方法（インジェクション法）に比べ
て優れている。

このような２Ｐ法に用いるモノマー組成物としては、 （イ）硬化後の樹脂が吸水（吸湿）性が低く、長期間使
用による歪み、反り等の変形を生じず、記録用金属膜を
酸化させないこと、 （ロ）硬化後の樹脂の型板との離型か容易で、転写精度
が良好なこと、 （ハ）硬化後の樹脂が耐熱性に優れ、表面硬度が高く、
記録用金属膜の成膜時及び情報書換え時の熱や応力に耐
えて形状変化を起さないこと 等が必要とされる。

２Ｐ法に用いる、このようなモノマー組成物としては、
例えばエチレンオキサイド（Ｅ　Ｏ）変性ビスフェノー
ルＡ（メタ）アクリレートを主体としたモノマー組成物
が特開昭６１−１１７７４６号公報に、また３個の（メ
タ）アクリレート基を有するイソシアヌル酸エステルを
含有したモノマー組成物が特開昭６２−８８１５６号公
報に、さらにトリシクロ［５，２，１，０２°６］デシ
ル（メタ）アクリレートを含有したモノマー組成物が特
開昭６２−１５１４１３号公報にそれぞれ開示されてい
る。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、２Ｐ法に用いられるモノマー組成物を実
用に供する際には、前述のように硬化後の樹脂の特性が
良好であることに加えて、硬化前のモノマー組成物が成
形に適切な粘度を有していることが重要であり、２Ｐ法
による光ディスク基板の生産性を左右する重要なパラメ
ーターとなる。

２Ｐ法では、微細な凹凸形状を有する型板と透明支持体
との間に均一な厚みのモノマー組成物層を設ける必要が
あり、通常、その方法としては、モノマー組成物を型板
の一部分に滴下して上から透明支持体を押し当てて拡げ
る圧延法；型板と透明支持体を間隔をあけて配置し、そ
の間にモノマー組成物を注入する注入法；スピンコード
法、浸漬法などにより型板にモノマー組成物を塗布した
後、透明支持体を押し当てる方法などが適用されている
。

その際に、モノマー組成物の粘度が低すぎると、モノマ
ー組成物層の膜厚の制御が困難となったり、支持体を押
し当てる際に内部に気泡を巻き込んで欠陥を生じたりし
て生産性が低下するという問題が生じる。また型板との
湿潤性が必要以上に高まり、硬化後の樹脂の離型性を悪
化させることもある。また一方、モノマー組成物の粘度
が高すぎると、型板への均一な塗布が困難となったり、
支持体圧着の際に大きな押圧力が必要となり、成形装置
が大型化してしまうといった問題を生じる。

前述の特開昭６２−１５１４１３号公報に開示されたト
リシクロ［５，２，１，０２・６］デシル（メタ）アク
リレートは、硬化後の樹脂が低吸水性ではあるものの、
粘度が１２センチボイズ（２５℃）と低いため、この化
合物の含有量が多いモノマー組成物では実際の成形が困
難であり、硬化後の樹脂の型板との離型性も不良である
という欠点がある。

また、特開昭６１−１１７７４６号公報に開示されたエ
チレンオキサイド（ＥＯ）変性ビスフェノールＡ（メタ
）アクリレートを主成分としたモノマー組成物は、２Ｐ
法で使用できる粘度であっても硬化後の樹脂の硬度およ
び耐熱性が低いという欠点があり、またこのモノマーを
粘度調整の目的で使用しても少量では粘度調整の効果が
現われないという欠点がある。

さらに、特開昭６２−８８１５６号公報に開示された（
メタ）アクリレート基含有イソシアヌル酸エステルを主
成分とするモノマー組成物は、２Ｐ法で使用できる粘度
であっても硬化後の樹脂の吸水率が高く、型板との離型
性も悪いという欠点があり、またこのモノマーを粘度調
整の目的で使用しても少量では粘度調整の効果が現われ
ないという欠点がある。

したがって、これらのモノマーを多量に使用したものは
、硬化後の樹脂特性が良好であっても硬化前のモノマー
組成物の粘度が適切でなく、気泡の巻き込みや離型性に
乏しいといった問題を生じたり、逆に粘度は成形上問題
なくても、硬化後の樹脂特性が劣化するといった問題を
有している。

従って本発明の目的は、以上説明したような従来技術の
問題点を解消し、低吸水性、耐熱性、硬度、離型性とい
った硬化後の樹脂特性に優れているだけでなく、２Ｐ法
による光ディスクの製造時に気泡の巻き込みがなくモノ
マー層の膜厚の制御も容易な適切な粘度を有し、その結
果、転写精度、光学特性に優れ、信頼性にも優れた光デ
ィスクを生産性良く製造することが可能な、光ディスク
製造用モノマー組成物を提供することにある。

また本発明の他の目的は硬化した後の樹脂の特性に影響
を与えることなく、モノマー組成物の粘度を任意に調整
し、光ディスクの生産性を向上させることが可能なモノ
マー組成物を提供することにある。

［課題を解決するための手段］ 本発明は上記目的を達成するためになされたものであり
、本発明の光ディスク製造用モノマー組成物は、主鎖か
ポリスチレン単位を含み、末端に少なくとも１個のエチ
レン性不飽和基を有するスチレンマクロモノマーを、光
ディスク製造用モノマーに含有させたことを特徴とする
。

本発明の光ディスク製造用モノマー組成物は、後述する
ように、光ディスク基板上に設けた記録膜上に塗布、硬
化させて保護膜を形成するためにも用いられるが、２Ｐ
法により、透明支持体上に凹凸パターンの樹脂層を設け
て光ディスク基板を製造する場合に特に好ましく用いら
れるので、以下、２Ｐ法による光ディスク基板製造用モ
ノマー組成物を中心に本発明の詳細な説明する。

本発明に使用される、主鎖がポリスチレン単位を含み、
末端に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有するス
チレンマクロモノマーは、光ディスク基板製造用モノマ
ー組成物の成形性を左右する粘度を任意に調整するため
の成分である。スチレンマクロモノマーは、上述の如＜
（ａ）主鎖がポリスチレン単位を含むこと及び（ｂ）末
端に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有すること
が要件となる。先ず要件（ａ）について説明すると、ポ
リスチレン単位は、式 によって表わされ、スチレンの繰り返し数を示すｎは５
〜１，０００、特に８０〜５００であるのが好ましい。

その理由は、ｎが５未満であると粘度調整効果か低下し
、逆にｎが１，０００を超えると、モノマー組成物が不
均一となり、硬化物か白濁するなどの実用上の問題を生
じるからである。

次に要件（ｂ）はスチレンマクロモノマーと光ディスク
基板製造用モノマーとを共重合させるために必要な条件
であり、例えは主鎖の一方の末端に１個のエチレン性不
飽和基が存在していても良く、また主鎖の両末端にそれ
ぞれ１個のエチレン性不飽和基が存在しても良い。さら
に主鎖に結合した側鎖の末端にエチレン性不飽和基か存
在するものも用いることかできる。

上記要件（ａ）および（ｂ）を満足するスチレンマクロ
モノマーとしては、下記の構造式のものが挙げられる。

（これらの構造式においてＲは水素又はメチル基、ｎは
５〜１０００であり、ｎ＞ｍである）なお、上述のｎと
関連するが、スチレンマクロモノマーの分子量はり、０
００〜１００，０００の範囲にあることが好ましく、特
に好ましくは［０，０００〜５０，０００の範囲である
。これは、分子量が１，０００未満になると粘度調整の
効果が低下し、逆に分子量が１００．０００を越えると
、モノマー組成物が不均一となり、硬化物が白濁するな
どの実用上の問題を生じるからである。

本発明において、スチレンマクロモノマーの使用量は、
スチレンマクロモノマーの分子量にも依存するが、一般
にモノマー組成物全体の０．１〜６０重量％の範囲にあ
ることが好ましく、特に好ましくは１〜４０重量％であ
る。これは０．　１重量％未満であると粘度調整の効果
が現われず、逆に６０重量％を超えるとモノマー組成物
の粘度が高くなり、成形が困難となるためである。

次に、本発明において上記スチレンマクロモノマーが添
加される光ディスク基板製造用モノマーとしては、１分
子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を持つ化合
物で、樹脂成形温度で液体となるもの又は２種以上のモ
ノマーの混合物を使用する場合には、樹脂成形温度で液
体となるモノマー混合物であれば特に制限はなく、通常
紫外線等で硬化する公知のモノマーを使用することが可
能である。特に光ディスク基板用樹脂の性能を良好なも
のとするためには、例えばイソボルニル（メタ）アクリ
レート、シクロへキシル（メタ）アクリレート、１．６
−ヘキサンシオールジ（メタ）アクリレート、ネオペン
チルグリコール（メタ）アクリレート、トリメチロール
プロパントリ（メタ）アクリレート、ジオキサングリコ
ール（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキ
サ（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート
、エチレンオキサイド（ＥＯ）変性ビスフェノールＡジ
（メタ）アクリレート、ビニルｐ−１−ブチルベンゾエ
ート、フェニル（メタ）アクリレートスチレン、ｔ−ブ
チルシクロへキシル（メタ）アクリレート、トリシクロ
［５，２゜１．０２°６］デシル（メタ）アクリレート
、ビス（メタ）アクリロキシメチルトリシクロ［５，２
゜１．０”］デカン、ネオペンチルグリコール変性トリ
メチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリス（
（メタ）アクリロキシエチル）イソシアヌレート等のモ
ノマーが挙げられる。これら１分子中に少なくとも１個
以上のエチレン性不飽和基を持つモノマーは、１種、ま
たは２種以上を混合して用いても良い。また、前記モノ
マーのうちエチレンオキサイド（ＥＯ）変性ビスフェノ
ールＡジ（メタ）アクリレートと、トリス（（メタ）ア
クリロキシエチル）インシアヌレートを適用する際には
、硬化物の物性を低下させないために、前記の他のモノ
マー等と混合し、モノマー組成物全体の２０重量％以下
の割合に限定して使用するのが良い。

次に、本発明で任意成分として用いられる光重合開始剤
について説明する。光重合開始剤は、紫外線等を吸収し
てラジカルを発生するタイプのものであれば特に制限は
ない。具体的には例えば２２′−ジェトキシアセトフェ
ノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロ
パン−１−オン　ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、２
−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサン
トン、ベンゾイン、ベンゾインイソブチルエーテル　ベ
ンジル　２．２−ジフトキン−２−フェニルアセトフェ
ノン、１−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン　
２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モ
ルフォリノ−１−プロパノン等から選ばれた少なくとも
１種の化合物が挙げられる。また前記ベンゾフェノン、
２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサ
ントン、ベンジルなどを使用する場合、増感剤としてＮ
−ブチルアミン、トリエチルアミン、ジエチルアミノエ
チルメタクリレート、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソ
アミルエステル等を添加するとさらに硬化速度が促進さ
れて好適である。

任意成分として用いられる光重合開始剤の添加量は、モ
ノマー組成物全体の１０重量％以下が好ましく、特に好
ましくは５重量％以下である。これは、１０重量％を超
えると、硬化後の樹脂の物性を低下させてしまうからで
ある。

また本発明のモノマー組成物を電子線等の照射により硬
化させる場合は、光重合開始剤の添加は必要ない。

光ディスク用基板の製造に用いる本発明のモノマー組成
物は前記化合物の組合せによって十分目的を達成し得る
ものであるが、更に性能改良のために、本来の特性を損
なわない範囲で、シランカップリング剤、重合禁止剤等
の任意成分を添加することも可能である。

本発明においては、上記の各成分を混合することにより
、モノマー組成物の粘度を２Ｐ法を採用し得る５０〜２
，０００センチポイズ（２５℃）の範囲に調整すること
が好ましく、特に好ましくは２００〜１．０００センチ
ポイズに調整するのが良い。これは、粘度が５０センチ
ポイズ未満であると、成形時の膜厚のコントロールが困
難となったり、気泡を巻き込みやすくなるためである。

逆に、２．０００センチポイズを超えると、型板を加温
しても粘度低下が十分でなく、基板の圧着の際に必要な
押圧力が大きくなってしまい、成形性が低下するためで
ある。

モノマー組成物の粘度調整はスチレンマクロモノマーの
割合の増減により行なわれる。すなわちスチレンマクロ
モノマーの割合を増加させることにより、モノマー組成
物全体の粘度を増加させることができ、逆にスチレンマ
クロモノマーの割合を減少させることによりモノマー組
成物全体の粘度を減少させることができる。

モノマー組成物の粘度は成形時の条件に合せて調整する
必要がある。例えば成形時の温度が高くなると、モノマ
ー組成物全体の粘度が著しく低下するため室温における
モノマー組成物の粘度を高めに設定する必要が生じるし
、モノマー組成物の型板への塗布方法が異なれば、最適
粘度も異なるため、各々の方法に合せて粘度を変動させ
る必要が生じる。本発明によれば、このように成形時の
条件に合せて粘度を調整する際に、モノマー組成物中の
スチレンマクロモノマーの割合のみをわずかに増減する
ことにより粘度を容易に制御することができるという利
点がある。

次に本発明のモノマー組成物を用いた光ディスク基板の
製造方法の一例を説明する。

まず、透明支持体としては、ポリメチルメタクリレート
、ポリカーボネート、エポキシ樹脂などのプラスチック
や、ガラスなどから選ばれた平板力°（用いられる。支
持体の表面に硬化樹脂層との接着性を上げる目的でシラ
ンカップリング剤などを用いた処理を施しても良い。

次に成形条件に対応してスチレンマクロモノマーで最適
な粘度に調整したモノマー組成物を調製する。このモノ
マー組成物を各成分が均一になるまで十分混合したあと
、これを微細な凹凸パターンを有する型板上に塗布し透
明支持体を上から圧着して、均一な厚みのモノマー組成
物層を得る。

次に、透明支持体側から紫外線などを照射し、前記モノ
マー組成物層を硬化させた後に型板を剥離して凹凸パタ
ーンを転写した硬化樹脂層が密着した光ディスク基板を
得る。こうして得られた光ディスク基板は低吸水性、硬
度、耐熱性、離型性などの点において優れた特性を有し
ている。尚この光ディスク基板上に通常用いられている
無機または有機材料から成る記録層を設けることにより
光ディスク（情報記録媒体）が得られる。

以上説明したように、本発明によればスチレンマクロモ
ノマーを含有することで２Ｐ法による光ディスク基板の
成形に最適な粘度を有するモノマー組成物を得ることが
でき、また、硬化後の樹脂の物性も良好なものとするこ
とができる。

なお、以上の記述はすべて本発明のモノマー組成物を、
透明支持体上に微細な凹凸パターンの樹脂層を２Ｐ法に
より形成するために用いた例であるが、この他にも、光
ディスク基板上に記録膜を設けた後、この記録膜上に本
発明のモノマー組成物を塗布、硬化させ、保護膜として
使用することも可能である。

［実施例］ 以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

実施例１ 表−１に示すように、スチレンマクロモノマーとして、
スチレンの繰り返し数（ｎ）が１１０〜１４０のポリス
チレン単位を主鎖中に含み、主鎖の一方の末端にメタク
リレート官能基を有する、分子量（Ｍｗ）が１．３Ｘ１
０’のスチレンマクロモノマー（表−１中のスチレンマ
クロモノマーＡ）３０重量部を用いた。また光ディスク
基板製造用モノマーとして、イソボルニルアクリレート
（表−１中のモノマーＦ）３５重量部および１゜６−ヘ
キサンジオールジアクリレート（表−１中のモノマーＧ
）３５重量部を、そして光重合開始剤として、２．２−
ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン（表−１中の
重合開始剤Ｌ）４重量部をそれぞれ用いた。これらの成
分を混合し、均一なモノマー組成物を得た。この組成物
の粘度は３８０センチボイズ（２５℃）であり、成形に
最適な値であった。次に、トラッキング用溝に対応する
微細な凹凸形状を有したニッケル製の型板と、表面にシ
ランカップリング剤を用いて処理を施したガラス製の透
明支持体（直径１３０ｍｍ、厚さ１゜２　ｍｍ）との間
にこのモノマー組成物を注入して圧着し、均一な厚みの
層を形成させた。この際、気泡の混入などは見られず、
膜厚のコントロールも容易であり、成形性も良好であっ
た。

その後、透明支持体側から３０ｍＷ／ｃ♂（３５０ｎｍ
）の照度で紫外線を１分間照射して、モノマー組成物を
硬化させ、型板を剥離し、表面に微細な凹凸パターンの
樹脂層を有する光ディスク基板を得た。型板からの剥離
は容易であり、得られた基板表面は型板の凹凸形状を精
度よく転写していた。

この硬化樹脂の物性を評価するために、次の方法により
各種物性を測定した。尚、下記（４）、（５）　、（８
）については光ディスク基板作製の際と同じ照射条件に
て硬化物を別に作製して、その物性を測定した。

（１）粘度 芝浦システム■製ビスメトロン回転粘度計を用いて２５
°Ｃにおけるモノマー組成物の粘度を測定した。

（２）成形性 モノマー組成物塗布後、透明支持体を圧着する際に気泡
の発生が無く、膜厚のコントロールも容易である場合を
Ｏｌまた気泡の巻き込みが見られたり、膜厚のコントロ
ールが困難となったものを×とした。

（３）離型性 硬化樹脂層と型板との離型性が良好な場合を○、離型に
過剰な力を必要としたり、離型後、硬化樹脂が変形（破
損）したり一部が型板に残ったりした場合を×とした。

（４）吸水率 ２６ｍｍＸ２４ｍｍＸ０．２’ｍｍの大きさの硬化物を
室温で２４時間真空乾燥したものの重量を乾燥重量（Ｗ
ｄ）、室温で２４時間水中浸漬したものの重量を含水重
量（Ｗｗ）とし、次式より求めた。

Ｗｗ−Ｗｄ （５）耐熱性 ■リガク製高性能示差走査熱量計ＤＳＣ−１０Ａを用い
て硬化物のガラス転移点（Ｔｇ）を測定することで評価
した。

（６）硬度 明石製作所製微小硬度計を用いて、荷重５０ｇｆ、１０
ｓの条件で硬化物のビッカーズ硬度を測定した。

（１）〜（６〉についての測定結果は表−１に示した。

本実施例のモノマー組成物は、成形に適した粘度を有し
、成形性、硬化後の樹脂の離型性共に良好であった。ま
た硬化物の物性も、吸水率が０．５％と低く、Ｔｇが１
３２°Ｃと耐熱性に優れ、硬度が１５で良好であり、光
ディスク基板として優れていた。

比較例１ 実施例１において用いたスチレンマクロモノマーＡを用
いなかった以外は実施例１と同様の方法に従って光ディ
スク基板を作成した。各測定値を表−１に示した。

このモノマー組成物は、粘度が８センチボイズ（２５°
Ｃ）と低いため、成形途中で気泡の混入が見られ、膜厚
のコントロールも困難であり、成形性に劣っていた。ま
た、型板との離型性も不良であり、光ディスク基板とし
て不適当であった。

実施例２〜５ 表−１に示したスチレンマクロモノマー、光ディスク基
板製造用モノマーおよび光重合開始剤を使用して、実施
例１の方法に従って光ディスク基板を作製した。（１）
〜（６）についての測定結果を表−１に示した。いずれ
のモノマー組成物も、実施例１と同様に成形性、硬化後
の樹脂の離型性に優れ、硬化後の樹脂の物性も吸水率が
１．０％以下と低く、Ｔｇが１０４°Ｃ以上と耐熱性に
優れ、硬度が１５以上で良好であり、光ディスク基板と
して優れていた。

比較例２ 実施例３において用いたスチレンマクロモノマーＢを用
いなかった以外は実施例３と同様にして光ディスク基板
を作製した。（１）〜（６）についての測定結果を表−
１に示した。このモノマー組成物は、粘度が９センチポ
イズ（２５°Ｃ）と低いため、成形途中で気泡の混入が
見られ、膜厚のコントロールも困難であり、成形性に劣
っていた。また型板との離型性も不良であり、光ディス
ク基板として不適当であった。

実施例６〜８ 実施例５のスチレンマクロモノマーＡの量（２重量部）
を０．８重量部（実施例６）、８重量部（実施例７）お
よび１０重量部（実施例８）に変えた（これに伴ない実
施例５の光ディスク基板製造用モノマー■の量（９８重
量部）も９９．２重量部（実施例６）、９２重量部（実
施例７）および９０重量部（実施例８）に変えた）以外
は実施例５と同様にして３種のモノマー組成物を調製し
た。これらの組成物は、スチレンマクロモノマーの量を
変えたことにより、粘度が実施例５の組成物と大きく異
なるものとなった。この様に、組成物中のスチレンマク
ロモノマーの割合をわずかに増減することにより、広範
囲の粘度調整が可能であることが明らかとなった。また
これらの組成物を用いて実施例５と同様にして光ディス
ク基板を作製した。各測定値を表−１に示した。いずれ
も、実施例１と同様、またはそれ以上に成形性、離型性
に優れ、硬化後の樹脂の物性も吸水率が１．０％以下と
低く、Ｔｇが２００℃以上と耐熱性に優れ、硬度が２１
と良好であり、光ディスク基板として優れていた。

比較例３ 実施例８と同等の粘度に調整するために、スチレンマク
ロモノマーＡの代りにトリス（アクリロキシエチル）イ
ソシアヌレート（表−１中の粘度調整剤Ｄ）を用いた以
外は、実施例８と同様にして光ディスク基板を作製した
。（１）〜（６）についての測定結果を表−１に示した
。このモノマー組成物の硬化物は、型板との離型性が不
良であった。

また吸水率が２．４％と著しく高くなってしまい光ディ
スク基板としては不適当であった。

実施例９〜１３ 表−１に示したスチレンマクロモノマー、光ディスク基
板製造用モノマーおよび光重合開始剤を使用して、実施
例１の方法に従って光ディスク基板を作製した。（１）
〜（６）についての測定結果を表−１に示した。いずれ
のモノマー組成物も、実施例１と同様、またはそれ以上
に成形性、硬化後の樹脂の離型性に優れ、硬化後の樹脂
物性も吸水率が１．０％以下と低（、Ｔｇが２００°Ｃ
以上と耐熱性に優れ、硬度が１９以上と良好であり、光
ディスク基板として優れていた。

比較例４ 実施例９と同等の粘度に調整するために、スチレンマク
ロモノマーＣの代わりにエチレンオキサイド（ＥＯ）変
性ビスフェノールＡジアクリレート（表−１中の粘度調
整剤Ｅ）を用いた以外は、実施例９と同様にして光ディ
スク基板を作製した。

（１）〜（６）についての測定結果を表−１に示した。

得られた硬化樹脂は、Ｔｇ　　８７℃、硬度１３と低く
、耐熱性、硬度の面で劣っていた。このため、光ディス
ク基板としては不適当であった。

（以下余白） 表−１中の物質は以下の通りである。

（１）スチレンマクロモノマーＡ： ｗ ｌＪ　ｘｔｏａ　　　１１０　≦ｎ≦１４０スチレンマ
クロモノマーＢ： Ｍｗ　　３．Ｏｘ１０４　　２７０　≦ｎ　≦３００ス
チレンマクロモノマーＣ： 芽ｗ　　１．４　Ｘ１０４１２０≦ｎ≦１５０（２）粘
度調整剤Ｄニドリス（アクリロキシメチル）イソシアヌ
レ−ト メｌ　　　Ｅ：エチレンオキサイド（Ｅ　Ｏ’）変性ビ
スフェノールＡジアク リレート （Ｗ＋ｎ−４） （３）光ディスク基板 製造用モノマーＦ：イソボルニルアクリレート ｌ／Ｇ：１．６−ヘキサンジオ− ルジアクリレート 〃　　　Ｈニトリシクロ［５，２゜ １、ｏ　２．Ｂ　］デシルアクリ レート ／／　　　　　Ｉ　：ビスアクリロキシメチルトリシク
ロ［５，２゜ １．０２°６コデカン にネオペンチルグリコール 変性トリメチロールプロ パンジアクリレート に：含フツ素ビスフェノール Ａジアクリレート （４）光重合開始剤Ｌ：２，２−ジメトキシ−２−フェ
ニルアセトフェノン 〃　　Ｍ：１−ヒドロキシシクロへキ シルフェニルケトン 〃　　Ｎ：２−メチル［４−（メチル チオ）フェニル］−２−モ ルフォリノー１−プロパノ ン ［発明の効果コ 以上説明したように、スチレンマクロモノマーを含有し
た本発明の光ディスク製造用モノマー組成物は、例えば
２Ｐ法による光ディスク基板の製造に際して、気泡の巻
き込みがなく、膜厚の制御も容易であるという良好な成
形性を有するとともに硬化後の樹脂の離型性にも優れて
おり、しかも硬化後の樹脂は低吸水性であり、耐熱性、
硬度にも優れている。

また、スチレンマクロモノマーを含有した本発明の光デ
ィスク用製造用モノマー組成物は、組成物中のスチレン
マクロモノマーの割合をわずかに変動させるだけで、成
形温度やモノマー組成物の塗布方法などの成形条件に応
じて、硬化物の特性を損なうことなく、成形上最適な粘
度に調整できるという特長を有している。

以上の様な優れた効果は、従来技術にはなかったもので
あり、本発明に特有の効果である。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）主鎖がポリスチレン単位を含み、末端に少なくと
   も１個のエチレン性不飽和基を有するスチレンマクロモ
   ノマーを、光ディスク製造用モノマーに含有させたこと
   を特徴とする光ディスク製造用モノマー組成物。
2. （２）請求項（１）に記載のモノマー組成物を硬化する
   ことにより得られた硬化樹脂により少なくともその一部
   が形成されていることを特徴とする光ディスク。