JPH0330851A - 基板上に液状被覆を静電噴霧し乾燥させる方法および装置 - Google Patents
基板上に液状被覆を静電噴霧し乾燥させる方法および装置Info
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- JPH0330851A JPH0330851A JP2148447A JP14844790A JPH0330851A JP H0330851 A JPH0330851 A JP H0330851A JP 2148447 A JP2148447 A JP 2148447A JP 14844790 A JP14844790 A JP 14844790A JP H0330851 A JPH0330851 A JP H0330851A
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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- H05K3/0091—Apparatus for coating printed circuits using liquid non-metallic coating compositions
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、液状被覆の被着中および乾燥中に水平方向に
搬送される基板上に液体を静電噴霧し乾燥させる方法お
よびこの方法を実施する装置に関するものである。
搬送される基板上に液体を静電噴霧し乾燥させる方法お
よびこの方法を実施する装置に関するものである。
[従来技術と問題点]
一般に、印刷配線板はrli燥フィルムの積層によって
、または液状レジストの湿潤被覆によって製造される。
、または液状レジストの湿潤被覆によって製造される。
レジストの!it!l被覆法は、浸漬、ローラ被着、キ
ャスティング、スクリーン印刷、および特に薄層ラミネ
ート被覆の場合に、静電噴霧プロセスによって実施され
る。
ャスティング、スクリーン印刷、および特に薄層ラミネ
ート被覆の場合に、静電噴霧プロセスによって実施され
る。
静電噴霧プロセスは基本的に、噴霧装置によって液状レ
ジストを微細滴状に細分する段階と、細滴を高電圧によ
って静電荷電する段階と、つぎにこれらの細滴をアース
された工作物または基板上に被着する段階とを含む、細
滴は基板面上を流れて、湿潤フィルムを形成し、つぎに
このフィルムを乾燥する。
ジストを微細滴状に細分する段階と、細滴を高電圧によ
って静電荷電する段階と、つぎにこれらの細滴をアース
された工作物または基板上に被着する段階とを含む、細
滴は基板面上を流れて、湿潤フィルムを形成し、つぎに
このフィルムを乾燥する。
欧州特許第0.195,041号に記載の印刷配線板レ
ジスト被覆静電噴霧プロセスにおいて、基板は高電圧発
生器の中に生じた静電場の中を噴霧装置に対して実質的
に垂直に移動される。前記の静電場の中を通過するベル
ト型コンベアによって支持された基板に対して、液状レ
ジストが噴霧される。静電装置の一方の電極がアースさ
れているが、液状レジスト噴霧装置が発生器の高電圧電
極に接続されている。基板のコンベア・ベルトは紙ウェ
ブである。噴霧装置は、エアタービンと、液状レジスト
被着用特殊設計のスプレーベルと、液状レジスト供給手
段とから成る。前記スプレーベルは例えば40kV〜9
0kVの範囲内の負直接電圧を荷電される。
ジスト被覆静電噴霧プロセスにおいて、基板は高電圧発
生器の中に生じた静電場の中を噴霧装置に対して実質的
に垂直に移動される。前記の静電場の中を通過するベル
ト型コンベアによって支持された基板に対して、液状レ
ジストが噴霧される。静電装置の一方の電極がアースさ
れているが、液状レジスト噴霧装置が発生器の高電圧電
極に接続されている。基板のコンベア・ベルトは紙ウェ
ブである。噴霧装置は、エアタービンと、液状レジスト
被着用特殊設計のスプレーベルと、液状レジスト供給手
段とから成る。前記スプレーベルは例えば40kV〜9
0kVの範囲内の負直接電圧を荷電される。
印刷配線板の被覆のためにコンバクなトレステムまたは
組立体が使用され、基板が液状レジストの静電噴霧中に
搬送されるチャンバはプラスチック材料を塗装されてい
る。噴霧プロセス中にその壁体が荷電され、負荷電され
た細滴が反発される。
組立体が使用され、基板が液状レジストの静電噴霧中に
搬送されるチャンバはプラスチック材料を塗装されてい
る。噴霧プロセス中にその壁体が荷電され、負荷電され
た細滴が反発される。
印刷配線板の中間または近傍に堆積したフォトレジスト
細滴が搬送ベルトとしての紙ウェブによってチャンバか
ら除去される。レジストで被覆された紙ウェブは乾燥さ
れて廃棄物として廃棄される。
細滴が搬送ベルトとしての紙ウェブによってチャンバか
ら除去される。レジストで被覆された紙ウェブは乾燥さ
れて廃棄物として廃棄される。
このようにしてチャンバを通る搬送手段は浄化される必
要がなく、湿潤廃棄物が存在しない。液状レジストは供
給タンクからvR整自在の計量ポンプによってスプレー
ベルの内側面に供給される。レジスト被覆の幅は、スプ
レーベル用の自動垂直調節手段によって、または適当な
補助電極によって、250mm〜650mmの所望の範
囲内に自動的に調整する事ができ、従って使用される基
板の幅に適合させる事ができる。噴霧チャンバに続いて
長さ1m〜2mの蒸発チャンバが配置され、この蒸発チ
ャンバの下流に乾燥区域が配置され、この乾燥区域は数
個のvR整整量間区分される。必要ならば、冷却区域も
配置される。
要がなく、湿潤廃棄物が存在しない。液状レジストは供
給タンクからvR整自在の計量ポンプによってスプレー
ベルの内側面に供給される。レジスト被覆の幅は、スプ
レーベル用の自動垂直調節手段によって、または適当な
補助電極によって、250mm〜650mmの所望の範
囲内に自動的に調整する事ができ、従って使用される基
板の幅に適合させる事ができる。噴霧チャンバに続いて
長さ1m〜2mの蒸発チャンバが配置され、この蒸発チ
ャンバの下流に乾燥区域が配置され、この乾燥区域は数
個のvR整整量間区分される。必要ならば、冷却区域も
配置される。
この公知の方法および装置を使用する場合、基板の両面
を液状レジストで被覆する場合に処理時間が比較的長く
なる。すでに被覆された基板が二度目に乾燥区域の中を
搬送される際に基板の被覆面が変形されまたは凹凸を生
じる事が欠点である。
を液状レジストで被覆する場合に処理時間が比較的長く
なる。すでに被覆された基板が二度目に乾燥区域の中を
搬送される際に基板の被覆面が変形されまたは凹凸を生
じる事が欠点である。
すなわち両面レジスト被覆を得るためをとは、片面をレ
ジスト被覆された基板を被覆装置から除去し、この基板
を上下逆転し、再び被覆装置の送入側に挿入する必要が
ある。基板が装置内部を二度目に通過させられる時に、
すでに乾燥された下側面のレジスト層が乾燥チャンバ中
の加熱作用によフて再び軟化する傾向がある。その結果
、前記の変形が生じる。従って、回路板または印刷配線
板の連続両面被覆はこの装置によっては実施できない。
ジスト被覆された基板を被覆装置から除去し、この基板
を上下逆転し、再び被覆装置の送入側に挿入する必要が
ある。基板が装置内部を二度目に通過させられる時に、
すでに乾燥された下側面のレジスト層が乾燥チャンバ中
の加熱作用によフて再び軟化する傾向がある。その結果
、前記の変形が生じる。従って、回路板または印刷配線
板の連続両面被覆はこの装置によっては実施できない。
[発明の目的および効果]
従って本発明の目的は、連続作動装置中において、すで
に乾燥された被覆が後続の被覆プロセスにおいて損傷さ
れないように、種々のサイズの基板を液体、特に液状レ
ジストによって両面被覆する方法および装置を提供する
にある。
に乾燥された被覆が後続の被覆プロセスにおいて損傷さ
れないように、種々のサイズの基板を液体、特に液状レ
ジストによって両面被覆する方法および装置を提供する
にある。
本発明によれば、搬送方向Aに搬送される基板の一方の
面に液体を噴霧し乾燥させる段階と、最初の搬送方向A
をこれと逆方向の搬送方向Bに方向変換させ、この搬送
方向Bにおいて基板の他方の面が上方となるように18
0°垂直回転させる段階と、前記搬送方向Bを最初の搬
送方向Aに平行な搬送方向Cに変換する段階と、前記基
板の半体側面に液体を噴霧し乾燥させる段階と、このよ
うにして両側面に被覆を備え乾燥された基板を貯蔵する
段階とを含み、基板の搬送方向変換と回転は連続作動サ
イクルで実施される事によって前記の目的は達成される
。
面に液体を噴霧し乾燥させる段階と、最初の搬送方向A
をこれと逆方向の搬送方向Bに方向変換させ、この搬送
方向Bにおいて基板の他方の面が上方となるように18
0°垂直回転させる段階と、前記搬送方向Bを最初の搬
送方向Aに平行な搬送方向Cに変換する段階と、前記基
板の半体側面に液体を噴霧し乾燥させる段階と、このよ
うにして両側面に被覆を備え乾燥された基板を貯蔵する
段階とを含み、基板の搬送方向変換と回転は連続作動サ
イクルで実施される事によって前記の目的は達成される
。
本発明の他の実施態様において、基板が装置の3本の搬
送ラインを通して搬送され、この際に基板が第1搬送ラ
インから第2搬送ラインに転送される時に、また第2搬
送ラインから第3搬送ラインに転送される時に、第1お
よび第2搬送ステーシヨンを通過する際に基板の搬送方
向が変換される。基板が第3搬送ラインにおいて、乾燥
チャンバ中でエアクッション上に自由に浮動して一端に
おいて押されながら搬送される。第3搬送ラインの第2
乾燥チヤンバの中において、基板の搬送方向Cの先端が
水平に対して1°乃至2@上方に傾斜する。
送ラインを通して搬送され、この際に基板が第1搬送ラ
インから第2搬送ラインに転送される時に、また第2搬
送ラインから第3搬送ラインに転送される時に、第1お
よび第2搬送ステーシヨンを通過する際に基板の搬送方
向が変換される。基板が第3搬送ラインにおいて、乾燥
チャンバ中でエアクッション上に自由に浮動して一端に
おいて押されながら搬送される。第3搬送ラインの第2
乾燥チヤンバの中において、基板の搬送方向Cの先端が
水平に対して1°乃至2@上方に傾斜する。
本発明の方法の変更例において、装置の2本の搬送ライ
ンは同一レベルに配置され、第3Wi送ラインが前記レ
ベルの上方に配置されるが、他の変更例においては、基
板が装置の3本の搬送ラインを通して搬送され、第1お
よび第3搬送ラインが同一面において並列され、第2搬
送ラインが第1搬送ラインの下方に配置され、また基板
は第1搬送ラインから第2搬送ラインに移動する際にま
た第2搬送ラインから第3搬送ラインに移動する際にそ
れぞれサーペンタイン型コンベアとして設計された搬送
ステーション上を搬送される。後者の変更例においては
、第1搬送ラインと第2搬送ラインを接続するサーペン
タイン型コンベアノ中ヲ基板が搬送される際にこの基板
上の被覆が乾燥される。
ンは同一レベルに配置され、第3Wi送ラインが前記レ
ベルの上方に配置されるが、他の変更例においては、基
板が装置の3本の搬送ラインを通して搬送され、第1お
よび第3搬送ラインが同一面において並列され、第2搬
送ラインが第1搬送ラインの下方に配置され、また基板
は第1搬送ラインから第2搬送ラインに移動する際にま
た第2搬送ラインから第3搬送ラインに移動する際にそ
れぞれサーペンタイン型コンベアとして設計された搬送
ステーション上を搬送される。後者の変更例においては
、第1搬送ラインと第2搬送ラインを接続するサーペン
タイン型コンベアノ中ヲ基板が搬送される際にこの基板
上の被覆が乾燥される。
高圧発電機の導線に接続された少なくとも1つの噴霧ス
テーションと、装置の各ステーションおよびチャンバの
中を基板を搬送するためのコンベア・ベルトとを含む基
板上に液状被覆を静電噴霧し前記基板上において被着さ
れた液状被覆を乾燥する装置において、本発明によれば
、前記装置は相互に搬送ステーションによって連結され
た第1乃至第3搬送ラインから成り、前記第1搬送ライ
ンと第3搬送ラインの中に浄化ステーションと、液状被
覆を被着するための噴霧装置を含む噴霧ステーションと
、初期乾燥区域と、乾燥チャンバとが順次に配置され、
また回転ステーションが第2搬送ラインに配置されて、
そこで基板が垂直に180°回転されて、基板の下側面
が上側に回転される。
テーションと、装置の各ステーションおよびチャンバの
中を基板を搬送するためのコンベア・ベルトとを含む基
板上に液状被覆を静電噴霧し前記基板上において被着さ
れた液状被覆を乾燥する装置において、本発明によれば
、前記装置は相互に搬送ステーションによって連結され
た第1乃至第3搬送ラインから成り、前記第1搬送ライ
ンと第3搬送ラインの中に浄化ステーションと、液状被
覆を被着するための噴霧装置を含む噴霧ステーションと
、初期乾燥区域と、乾燥チャンバとが順次に配置され、
また回転ステーションが第2搬送ラインに配置されて、
そこで基板が垂直に180°回転されて、基板の下側面
が上側に回転される。
本発明の装置の他の実施態様は請求項8乃至18に記載
されている。
されている。
本発明による利点は、基板の第1側面が液状被覆、特に
液状レジスト被覆によって被覆され、乾燥され、その後
に基板が装置の送入端部に転送されて特殊搬送手段によ
って上下逆転され、最後に基板が第1搬送ラインの側方
に隣接した搬送ラインにおいて再び噴霧ステーションと
エアクッション上の乾燥チャンバとを通されるので、基
板の先に被覆された下側面が次の乾燥チャンバ中を通過
する際に被覆面の破損または変形を確実に防止できる事
にある0本発明の方法の連続操作の故に、基板の片面に
被覆した後に手作業で基板を逆転し、被覆されていない
面を被覆するために基板を再び被覆装置の中に挿入させ
る従来法と比較して、大幅な時間の節約が得られる。
液状レジスト被覆によって被覆され、乾燥され、その後
に基板が装置の送入端部に転送されて特殊搬送手段によ
って上下逆転され、最後に基板が第1搬送ラインの側方
に隣接した搬送ラインにおいて再び噴霧ステーションと
エアクッション上の乾燥チャンバとを通されるので、基
板の先に被覆された下側面が次の乾燥チャンバ中を通過
する際に被覆面の破損または変形を確実に防止できる事
にある0本発明の方法の連続操作の故に、基板の片面に
被覆した後に手作業で基板を逆転し、被覆されていない
面を被覆するために基板を再び被覆装置の中に挿入させ
る従来法と比較して、大幅な時間の節約が得られる。
以下、本発明を図面に示す実施例について詳細に説明す
る。
る。
[実施例コ
第1図の平面図は、装置1が相互に平行に配置された第
1、第2および第3搬送ライン1a、1b、1cから成
る事を示す。第1および第2搬送ラインは共通面に配置
され、半円形のベルト型コンベア3aから成る搬送ステ
ーション3によって相互に接続されている。同様に第2
および第3搬送ラインは半円形ベルト型コンベア3bか
ら成る搬送ステーションによって相互に接続されている
。ベルト型コンベア3aはベルト型コンベア3bより大
きい直径を有する。第3搬送ライン1cは他の2搬送ラ
インよりも幾分上方に延在しているので、第1ベルト型
コンベア3a上に配置された基板20は、第3搬送ライ
ン1cの中に配置された動的空気圧ボックス13(下記
において単に空気圧ボックスと呼ぶ)の下方を搬送され
る。
1、第2および第3搬送ライン1a、1b、1cから成
る事を示す。第1および第2搬送ラインは共通面に配置
され、半円形のベルト型コンベア3aから成る搬送ステ
ーション3によって相互に接続されている。同様に第2
および第3搬送ラインは半円形ベルト型コンベア3bか
ら成る搬送ステーションによって相互に接続されている
。ベルト型コンベア3aはベルト型コンベア3bより大
きい直径を有する。第3搬送ライン1cは他の2搬送ラ
インよりも幾分上方に延在しているので、第1ベルト型
コンベア3a上に配置された基板20は、第3搬送ライ
ン1cの中に配置された動的空気圧ボックス13(下記
において単に空気圧ボックスと呼ぶ)の下方を搬送され
る。
両側を被覆される印刷配線板用基板20は、送入−浄化
スチージョン42の中を搬送方向Aに移動する紙ウェブ
30(第2図)上に、任意所望の順序で、相互に例えば
15mmの最小間隔を保持・して手作業でまたは自動的
に配置される0紙ウェブ30は同時に基板の搬送ベルト
を成す、基板20は紙ウェブ30から、まず耐熱コンベ
ア・ベルト2に搬送され、つぎにベルト型コンベア3a
上に転送される。つぎに基板20はベルト型コンベア3
aによって穿孔コンベア・ベルト4上に転送され、この
コンベア・ベルト4は吸引ローラ5上に掛け回されてい
る(第3図)、吸引ローラ5に対してプローブ6aが近
接配置され、また第2プローブ6bが紙ウェブ30とコ
ンベア・ベルト2との遷移点に配置されている。吸引ロ
ーラ5は基板20を傾斜コンベア・ベルト7に転送し、
基板は搬送方向Aに平行に逆方向Bにベルト型コンベア
3bに向かって搬送され、他の紙ウェブ39(第4図)
上に転送され、このウェブ39も無限搬送ベルトとして
の機能を有しく第4図)、搬送方向Aに平行な同一方向
Cに延在する。基板はこの紙ウェブ39によって乾燥チ
ャンバ50に転送され、そこでエアクッション8に乗っ
て貯蔵トレー19に搬送される。この乾燥チャンバは電
磁ベルト11を備え、これについては詳細に後述する。
スチージョン42の中を搬送方向Aに移動する紙ウェブ
30(第2図)上に、任意所望の順序で、相互に例えば
15mmの最小間隔を保持・して手作業でまたは自動的
に配置される0紙ウェブ30は同時に基板の搬送ベルト
を成す、基板20は紙ウェブ30から、まず耐熱コンベ
ア・ベルト2に搬送され、つぎにベルト型コンベア3a
上に転送される。つぎに基板20はベルト型コンベア3
aによって穿孔コンベア・ベルト4上に転送され、この
コンベア・ベルト4は吸引ローラ5上に掛け回されてい
る(第3図)、吸引ローラ5に対してプローブ6aが近
接配置され、また第2プローブ6bが紙ウェブ30とコ
ンベア・ベルト2との遷移点に配置されている。吸引ロ
ーラ5は基板20を傾斜コンベア・ベルト7に転送し、
基板は搬送方向Aに平行に逆方向Bにベルト型コンベア
3bに向かって搬送され、他の紙ウェブ39(第4図)
上に転送され、このウェブ39も無限搬送ベルトとして
の機能を有しく第4図)、搬送方向Aに平行な同一方向
Cに延在する。基板はこの紙ウェブ39によって乾燥チ
ャンバ50に転送され、そこでエアクッション8に乗っ
て貯蔵トレー19に搬送される。この乾燥チャンバは電
磁ベルト11を備え、これについては詳細に後述する。
第2図に図示のように、第1搬送ライン1aは送入/浄
化ライン42と、噴霧装置12a、例えば噴霧ベルまた
は噴霧ヘンドを有する噴霧ステーション12と、第1初
期乾燥区域43と、第1乾燥チヤンバ44と、基板20
を水平面において180°回転させる前記のベルト型コ
ンベア3aを有する搬送ステーション3とから成る0紙
ウェブ30が供給ロール21から繰り出されて、方向変
換ローラ17a、17bの回りを水平に第1浄化ステー
シヨン42、第1噴霧ステ・−ジョン12および第1初
期乾燥ステーション43を案内される。ウェブ30は第
2案内ローラ17aの回りを案内された後に一対の案内
ローラ23,24のニップを通り、最後に巻取りロール
22上に巻取られる。基板20はウェブ30の上におい
て噴霧装置12aの下方を搬送され、このウェブ30は
噴霧された液体によって汚染されるので再使用できない
0紙ウェブがロール21から完全に繰り出されてロール
22上に巻取られた時に、新しい紙ウエブロールが挿入
される。液を噴霧された基板面は第1初期乾燥区域43
において初期乾燥され、つぎに耐熱コンベア・ベルト2
上に転送されて乾燥チャンバ44の中で完全に乾燥され
る。
化ライン42と、噴霧装置12a、例えば噴霧ベルまた
は噴霧ヘンドを有する噴霧ステーション12と、第1初
期乾燥区域43と、第1乾燥チヤンバ44と、基板20
を水平面において180°回転させる前記のベルト型コ
ンベア3aを有する搬送ステーション3とから成る0紙
ウェブ30が供給ロール21から繰り出されて、方向変
換ローラ17a、17bの回りを水平に第1浄化ステー
シヨン42、第1噴霧ステ・−ジョン12および第1初
期乾燥ステーション43を案内される。ウェブ30は第
2案内ローラ17aの回りを案内された後に一対の案内
ローラ23,24のニップを通り、最後に巻取りロール
22上に巻取られる。基板20はウェブ30の上におい
て噴霧装置12aの下方を搬送され、このウェブ30は
噴霧された液体によって汚染されるので再使用できない
0紙ウェブがロール21から完全に繰り出されてロール
22上に巻取られた時に、新しい紙ウエブロールが挿入
される。液を噴霧された基板面は第1初期乾燥区域43
において初期乾燥され、つぎに耐熱コンベア・ベルト2
上に転送されて乾燥チャンバ44の中で完全に乾燥され
る。
送入/浄化ステーション42は例えばブラシおよび/ま
たは圧搾空気吹き付はノズルを備え、これに対してイオ
ン化空気が供給されて、静電作用により基板に付着した
ダスト粒子を除去する。
たは圧搾空気吹き付はノズルを備え、これに対してイオ
ン化空気が供給されて、静電作用により基板に付着した
ダスト粒子を除去する。
ベルト型コンベア3aによって基板が水平面において最
初に回転された後に、基板は第3図に図示の第2搬送ラ
イン1bに転送される。この第2搬送ラインは、第1冷
却区域45と、垂直回転ステーション46と、搬送区域
47と、基板20をもう一度水平面において回転させる
ための搬送ステーション3とを含む。第1冷却区域45
と、垂直回転ステーション46と、搬送区域47は共通
トンネル41の中に収容されて、このトンネルに対して
清浄な冷却空気が供給される。冷却区域45は穿孔無限
回転コンベア・ベルト4を備え、このコンベア・ベルト
は垂直回転ローラ46の一部を成す吸引ローラ5回りに
案内される。吸引ローラ5は円筒形または多角形を成し
、この多角形の各部分面が所定のセグメント長を有する
。また吸引ローラ5は穿孔面を有し、その内部が減圧で
あるので、穿孔コンベア・ベルト4と吸引ローラ5との
接触面に存在する真空の故に、各基板20が吸引されて
、コンベア・ベルト4上においてローラ5の外周囲りに
案内される。
初に回転された後に、基板は第3図に図示の第2搬送ラ
イン1bに転送される。この第2搬送ラインは、第1冷
却区域45と、垂直回転ステーション46と、搬送区域
47と、基板20をもう一度水平面において回転させる
ための搬送ステーション3とを含む。第1冷却区域45
と、垂直回転ステーション46と、搬送区域47は共通
トンネル41の中に収容されて、このトンネルに対して
清浄な冷却空気が供給される。冷却区域45は穿孔無限
回転コンベア・ベルト4を備え、このコンベア・ベルト
は垂直回転ローラ46の一部を成す吸引ローラ5回りに
案内される。吸引ローラ5は円筒形または多角形を成し
、この多角形の各部分面が所定のセグメント長を有する
。また吸引ローラ5は穿孔面を有し、その内部が減圧で
あるので、穿孔コンベア・ベルト4と吸引ローラ5との
接触面に存在する真空の故に、各基板20が吸引されて
、コンベア・ベルト4上においてローラ5の外周囲りに
案内される。
基板は吸引ローラ5によって垂直に回転されて、第3図
に図示のように垂直位置を取る。垂直に配置された基板
20の先端がプローブ6aによって検出され、このプロ
ーブ6aが圧搾空気のジェットをトリガする。この空気
ジェットは吸引ローラ5を通してまたはこのローラ5の
上方に少し離間して配置された空気ノズル40を通して
吹き付けられる。
に図示のように垂直位置を取る。垂直に配置された基板
20の先端がプローブ6aによって検出され、このプロ
ーブ6aが圧搾空気のジェットをトリガする。この空気
ジェットは吸引ローラ5を通してまたはこのローラ5の
上方に少し離間して配置された空気ノズル40を通して
吹き付けられる。
ローラ5によって案内された基板がこのジェットによっ
て傾斜させられまたは転倒させられて、その結果、基板
20はコンベア・ベルト7の搬送区域47の上に、それ
まで下向きであった面を上向きにし、またすでに被覆こ
れ乾燥さ九た面を下向きにして、すなわちコンベア・ベ
ルト7に向けて配置される。コンベア・ベルト7は垂1
[回転区域46から第2ベルト型コンベア3bまで少し
傾斜して無限循環する。
て傾斜させられまたは転倒させられて、その結果、基板
20はコンベア・ベルト7の搬送区域47の上に、それ
まで下向きであった面を上向きにし、またすでに被覆こ
れ乾燥さ九た面を下向きにして、すなわちコンベア・ベ
ルト7に向けて配置される。コンベア・ベルト7は垂1
[回転区域46から第2ベルト型コンベア3bまで少し
傾斜して無限循環する。
第4図に図示の第3搬送ラインICにおいて、基板のま
だ被覆されていない面を被覆する第2噴霧段階が生じる
。第3vIi送ライン1cは第2浄化ステーシヨン48
、第2噴霧ステーション12.第2初期乾燥区域49、
第2乾燥チヤンバ50、第2冷却区域51および両側被
覆された基板の貯蔵トレー19とを含む。基板20は第
3搬送ライン1cに沿って、浄化区域48、噴霧ステー
ション12および初期乾燥区域49を通る搬送ベルトと
しての紙ウェブ39に乗って搬送される。紙ウェブ39
は供給ロール25から繰り出され方向変換ローラ17a
に沿って案内される1紙ウェブは水平に前記の各区域を
通過し、他の方向変換ローラ17bによって方向変換さ
れて、一対の搬送ローラ27,28の間を通される。
だ被覆されていない面を被覆する第2噴霧段階が生じる
。第3vIi送ライン1cは第2浄化ステーシヨン48
、第2噴霧ステーション12.第2初期乾燥区域49、
第2乾燥チヤンバ50、第2冷却区域51および両側被
覆された基板の貯蔵トレー19とを含む。基板20は第
3搬送ライン1cに沿って、浄化区域48、噴霧ステー
ション12および初期乾燥区域49を通る搬送ベルトと
しての紙ウェブ39に乗って搬送される。紙ウェブ39
は供給ロール25から繰り出され方向変換ローラ17a
に沿って案内される1紙ウェブは水平に前記の各区域を
通過し、他の方向変換ローラ17bによって方向変換さ
れて、一対の搬送ローラ27,28の間を通される。
搬送ライン1aとleの2個の紙ウェブ30,39の代
わりに、1本の十分に幅広い紙ウェブを使用する事がで
きる。第2浄化区域48と第1浄化区域42は同−設計
である。搬送ライン1aと10において基板20の画面
に対する浄化ステーションと噴霧ステーションを共通ケ
ーシングの中に配置する事ができる。
わりに、1本の十分に幅広い紙ウェブを使用する事がで
きる。第2浄化区域48と第1浄化区域42は同−設計
である。搬送ライン1aと10において基板20の画面
に対する浄化ステーションと噴霧ステーションを共通ケ
ーシングの中に配置する事ができる。
同様に、これらの搬送ラインの乾燥チャンバ44,45
に共通ケーシングを備える事ができる。
に共通ケーシングを備える事ができる。
すでに被覆された基板20の下側面が第2乾燥チヤンバ
50の中で損傷されないようにするため、基板20を空
気圧ボンクス13の中に作ら九たエアクッション13上
を搬送する事ができる(第5図および第6図)。この空
気圧ボックス13の上方に無限回転電磁ベルト11が配
置されている。
50の中で損傷されないようにするため、基板20を空
気圧ボンクス13の中に作ら九たエアクッション13上
を搬送する事ができる(第5図および第6図)。この空
気圧ボックス13の上方に無限回転電磁ベルト11が配
置されている。
第5図と第6図は乾燥チャンバ50の拡大詳細図である
。空気圧ボックス13は本質的に水平の上側面18aと
傾斜上側面18bとを有し、これらの面はいずれもスロ
ットノズル14を備えている。TM気ベルト11は方向
変換ローラ15aと15b回りを回転する無限ベルトで
あって、空気圧ボックス13の上方一定距離に配置され
ている。磁気ベルト11の上方ランにローラ15aに隣
接して磁気プッシャ9が固着している。これらの磁気プ
ッシャは垂直移動キャッチ10によって解除されて1紙
ウェブ39からエアクッション8に送られる基板20の
サイクルと同期的に磁気ベルト11上に乗ってローラ1
5a回りを回転する。
。空気圧ボックス13は本質的に水平の上側面18aと
傾斜上側面18bとを有し、これらの面はいずれもスロ
ットノズル14を備えている。TM気ベルト11は方向
変換ローラ15aと15b回りを回転する無限ベルトで
あって、空気圧ボックス13の上方一定距離に配置され
ている。磁気ベルト11の上方ランにローラ15aに隣
接して磁気プッシャ9が固着している。これらの磁気プ
ッシャは垂直移動キャッチ10によって解除されて1紙
ウェブ39からエアクッション8に送られる基板20の
サイクルと同期的に磁気ベルト11上に乗ってローラ1
5a回りを回転する。
磁気ベルト11は市販のいわゆる磁気ゴムのベルトであ
って、これは例えばフェライトを合成ゴムの中に混入し
て形成される。プッシャ9の形状は逆T形であって、そ
の中心棒が垂直線に対してわずかに傾斜する。基板20
を乾燥チャンバ50の中を搬送する際に、各プッシャ9
が磁気ベルト11の下方ランに固着している。エアクッ
ション8上の基板20の前進運動は、磁気ベルト11と
共に回転し基板20の後端に接触したプッシャ9によっ
て実施される。空気圧ボックス13の本質的に水平な上
側面18aは水平面に対して搬送方向に1@〜2°の上
向き傾斜を有するので、基板20の後端は搬送中、常に
プッシャ9と接触している。また支持空気層は乾燥チャ
ンバ50内部での溶媒濃度の安全基準の遵守に役立つ、
すなわち、エアクッションを保持するに必要な空気量か
ら、溶媒/空気混合物の爆発下限に達していない事が確
認される。
って、これは例えばフェライトを合成ゴムの中に混入し
て形成される。プッシャ9の形状は逆T形であって、そ
の中心棒が垂直線に対してわずかに傾斜する。基板20
を乾燥チャンバ50の中を搬送する際に、各プッシャ9
が磁気ベルト11の下方ランに固着している。エアクッ
ション8上の基板20の前進運動は、磁気ベルト11と
共に回転し基板20の後端に接触したプッシャ9によっ
て実施される。空気圧ボックス13の本質的に水平な上
側面18aは水平面に対して搬送方向に1@〜2°の上
向き傾斜を有するので、基板20の後端は搬送中、常に
プッシャ9と接触している。また支持空気層は乾燥チャ
ンバ50内部での溶媒濃度の安全基準の遵守に役立つ、
すなわち、エアクッションを保持するに必要な空気量か
ら、溶媒/空気混合物の爆発下限に達していない事が確
認される。
乾燥チャンバ50の後部は第2冷却区域51によって構
成され、この冷却区域は、基板20の貯蔵トレー20に
向かって下降するボックス13の傾斜上側面18bを有
する。
成され、この冷却区域は、基板20の貯蔵トレー20に
向かって下降するボックス13の傾斜上側面18bを有
する。
ローラ15aに隣接配置されたプローブ6bは紙ウェブ
39に乗って搬送される基板20の先端を検出しキャッ
チャ10をトリガするので、1つのプッシャ9が解除さ
れて磁気ベルト11と共に回転し、その間にエアクッシ
ョンまで転送されていた基板20の後端に直接係合して
、矢印方向への基板20の前進運動が実施される。
39に乗って搬送される基板20の先端を検出しキャッ
チャ10をトリガするので、1つのプッシャ9が解除さ
れて磁気ベルト11と共に回転し、その間にエアクッシ
ョンまで転送されていた基板20の後端に直接係合して
、矢印方向への基板20の前進運動が実施される。
第7図は、それぞれ長さSの複数のセグメントから成る
多角形面5aを有する吸引ローラ5の所面図である。こ
のセグメント長Sは、この垂直回転ステーションにおい
て吸引ローラ5回りを搬送される基板20が多角形面に
十分に固着するように実験的に最短基板の長さの半分に
対応する。前記のように吸引ローラ5の外周面を円筒形
とし、この円筒の半径を最大基板の長さと同等またはこ
れ以上とする事ができる。またこの場合、実験的に所要
の減圧がローラの内周面全体について生じるのでなく、
内周面の半分以上の鎌型密封減圧区域5bにおいてのみ
生じるようにローラ5の内部が設計される(第3図)。
多角形面5aを有する吸引ローラ5の所面図である。こ
のセグメント長Sは、この垂直回転ステーションにおい
て吸引ローラ5回りを搬送される基板20が多角形面に
十分に固着するように実験的に最短基板の長さの半分に
対応する。前記のように吸引ローラ5の外周面を円筒形
とし、この円筒の半径を最大基板の長さと同等またはこ
れ以上とする事ができる。またこの場合、実験的に所要
の減圧がローラの内周面全体について生じるのでなく、
内周面の半分以上の鎌型密封減圧区域5bにおいてのみ
生じるようにローラ5の内部が設計される(第3図)。
第8図と第9図は本発明による装置の他の実施態様16
を示す、この装置16の動作は装置1の動作とだいたい
対応する。この装置16は3搬送ライン18a、16b
、16cを含み、搬送ステーション29が第1搬送ライ
ンと第2搬送ライン、および第2搬送ラインと第3搬送
ラインとを相互に接続している。搬送ステーション29
はサーペンタイン型コンベア29a、 29bである。
を示す、この装置16の動作は装置1の動作とだいたい
対応する。この装置16は3搬送ライン18a、16b
、16cを含み、搬送ステーション29が第1搬送ライ
ンと第2搬送ライン、および第2搬送ラインと第3搬送
ラインとを相互に接続している。搬送ステーション29
はサーペンタイン型コンベア29a、 29bである。
第1および第3搬送ライン16a、18Cは同一面に相
互に平行に並列されているが、第2搬送ライン16bは
この面の下方に、N1および第3搬送ラインに対して斜
方向に配置されている。第8図と笈9図に図示のように
、第1図と第4図に図示の実施態様と同様の成分は同一
の数字を有し。
互に平行に並列されているが、第2搬送ライン16bは
この面の下方に、N1および第3搬送ラインに対して斜
方向に配置されている。第8図と笈9図に図示のように
、第1図と第4図に図示の実施態様と同様の成分は同一
の数字を有し。
標記されていない。
v11搬送ライン16aは送入/浄化ステーション42
と、噴霧装置12aを備えた噴霧ステーション12と、
初期乾燥区域43とを含む。紙ウェブ53が供給ロール
35から繰り出され、2つの方向変換ローラ43回りに
浄化ステーション42、噴霧ステーション12および初
期乾燥区域43を通して水平に案内される。
と、噴霧装置12aを備えた噴霧ステーション12と、
初期乾燥区域43とを含む。紙ウェブ53が供給ロール
35から繰り出され、2つの方向変換ローラ43回りに
浄化ステーション42、噴霧ステーション12および初
期乾燥区域43を通して水平に案内される。
その後に、紙ウェブ53は2つの搬送ローラ37 、3
8の間のニップを通され、巻取りロール36上に巻取ら
れる。紙ウェブ53は送入/浄化ステーション42の中
に送入された基板20をサーペンタイン型コンベア29
aに転送し、上側面を被覆され初期乾燥された基板20
がこのサーペンタイン型コンベアによって第2搬送ライ
ン16b上に搬送される。これにより基板20の搬送方
向が約180°逆転されて、搬送方向Bに入る。第2搬
送ライン16bは穿孔傾斜コンベア・ベルト32を有し
、このコンベア・ベルトは無限に吸引ローラ33回りを
回転する。この吸引ローラ33は、策1図の回転ステー
ション46と同−設計/同一動作の垂直回転ステーショ
ン52の一部を成す。
8の間のニップを通され、巻取りロール36上に巻取ら
れる。紙ウェブ53は送入/浄化ステーション42の中
に送入された基板20をサーペンタイン型コンベア29
aに転送し、上側面を被覆され初期乾燥された基板20
がこのサーペンタイン型コンベアによって第2搬送ライ
ン16b上に搬送される。これにより基板20の搬送方
向が約180°逆転されて、搬送方向Bに入る。第2搬
送ライン16bは穿孔傾斜コンベア・ベルト32を有し
、このコンベア・ベルトは無限に吸引ローラ33回りを
回転する。この吸引ローラ33は、策1図の回転ステー
ション46と同−設計/同一動作の垂直回転ステーショ
ン52の一部を成す。
空気ノズル40または吸引ローラ33を通る圧搾区域ジ
ェットによって180@回転すなわち上下逆転された基
板20は無限回転コンベア・ベルト34によって第2サ
ーペンタイン型コンベア29bに搬送される。
ェットによって180@回転すなわち上下逆転された基
板20は無限回転コンベア・ベルト34によって第2サ
ーペンタイン型コンベア29bに搬送される。
このサーペンタイン型コンベア29bは基板20を第3
搬送ライン16cのレベルまで上昇させ、同時にこの基
板20を180@回転させ、搬送方向Bから搬送方向A
に平行な搬送方向Cに方向変換させる。第3搬送ライン
16cは、第2浄化ステーシヨン48と、噴霧装置12
bを有する噴霧ステーション12と、第2初期乾燥区域
49と、第2乾燥チヤンバ50と、冷却区域51と、両
面被覆された基板の貯蔵トレー31とを含む、この第2
乾燥区域50と第2冷却区域51は第1図乃至第4図の
実施態様について詳細に説明したので、ここに繰り返さ
ない。
搬送ライン16cのレベルまで上昇させ、同時にこの基
板20を180@回転させ、搬送方向Bから搬送方向A
に平行な搬送方向Cに方向変換させる。第3搬送ライン
16cは、第2浄化ステーシヨン48と、噴霧装置12
bを有する噴霧ステーション12と、第2初期乾燥区域
49と、第2乾燥チヤンバ50と、冷却区域51と、両
面被覆された基板の貯蔵トレー31とを含む、この第2
乾燥区域50と第2冷却区域51は第1図乃至第4図の
実施態様について詳細に説明したので、ここに繰り返さ
ない。
第10図は装置1よりコンパクトな設計の装置16を通
しての基板20通路を示す概略図である。
しての基板20通路を示す概略図である。
第1図は基板の前側面に液体被覆を被着するための本発
明の装置の第1実施態様の平面図、第2図、第3図およ
び第4図は第1図の装置の第1、第2、第3搬送ライン
の縦断面、第5図は第1図の装置の第3搬送ラインの乾
燥チャンバの部分拡大断面図、第6図は第1図の装置の
第3搬送ラインの乾燥チャンバの他の部分と基板貯蔵ト
レーの部分拡大断面図、第7図は本発明による装置の垂
直回転ステーションの吸引ローラの横断面、第8図は本
発明の装置のjI2実施態様の概略平面図、第9図は第
8図の装置の縦断面、また第10図は第8図による装置
の基板通路を示す概略図である。 1;18 、、、装置、1a、1b、1c;lea、1
6b、18c 、、、搬送ライン、20.iI!r熱コ
ンヘア・ヘルド、3;29 、、、搬送ステーション、
502.吸引ローラ、6a、b、、、プローブ、801
.エアクッション、991.プッシャ、10.、、解除
キャッチ、11.、、磁気ベルト、1290.噴霧区域
、13.、、空気圧ボックス、14. 、 、ノズル、
18a、b、、、ボックス13の上側面、19,31.
、、基板貯蔵トレー、20.、、基板、29a、bo、
、サーペンタイン型コンベア、30,39,53,54
.、、紙ウェブ、42,48.、、浄化区域、43,4
9.、、初期乾燥区域、44,50.、、乾燥チャンバ
、45,51.、、冷却区域、 46.52.、、基板垂直回転 ステーション、
明の装置の第1実施態様の平面図、第2図、第3図およ
び第4図は第1図の装置の第1、第2、第3搬送ライン
の縦断面、第5図は第1図の装置の第3搬送ラインの乾
燥チャンバの部分拡大断面図、第6図は第1図の装置の
第3搬送ラインの乾燥チャンバの他の部分と基板貯蔵ト
レーの部分拡大断面図、第7図は本発明による装置の垂
直回転ステーションの吸引ローラの横断面、第8図は本
発明の装置のjI2実施態様の概略平面図、第9図は第
8図の装置の縦断面、また第10図は第8図による装置
の基板通路を示す概略図である。 1;18 、、、装置、1a、1b、1c;lea、1
6b、18c 、、、搬送ライン、20.iI!r熱コ
ンヘア・ヘルド、3;29 、、、搬送ステーション、
502.吸引ローラ、6a、b、、、プローブ、801
.エアクッション、991.プッシャ、10.、、解除
キャッチ、11.、、磁気ベルト、1290.噴霧区域
、13.、、空気圧ボックス、14. 、 、ノズル、
18a、b、、、ボックス13の上側面、19,31.
、、基板貯蔵トレー、20.、、基板、29a、bo、
、サーペンタイン型コンベア、30,39,53,54
.、、紙ウェブ、42,48.、、浄化区域、43,4
9.、、初期乾燥区域、44,50.、、乾燥チャンバ
、45,51.、、冷却区域、 46.52.、、基板垂直回転 ステーション、
Claims (18)
- 1.液状被覆の被着中および乾燥中に水平方向に搬送さ
れる基板上に液体を静電噴霧し乾燥させる方法において
、搬送方向Aに搬送される基板(20)の一方の面に液
体を噴霧し乾燥させる段階と、最初の搬送方向Aをこれ
と逆方向の搬送方向Bに方向変換させ、この搬送方向B
において基板(20)の他方の面が上方となるように1
80°垂直回転させる段階と、前記搬送方向Bを最初の
搬送方向Aに平行な搬送方向Cに変換する段階と、前記
基板の半体側面に液体を噴霧し乾燥させる段階と、この
ようにして両側面に被覆を備え乾燥された基板を貯蔵す
る段階とを含み、基板の搬送方向変換と回転は連続作動
サイクルで実施される事を特徴とする基板上に液状被覆
を静電噴霧し乾燥させる方法。 - 2.基板(20)が装置(1;16)の3本の搬送ライ
ン(1a,1b,1c;16a,16b,16c)を通
して搬送され、この際に第1搬送ラインと第2搬送ライ
ンとの間において、また第2搬送ラインと第3搬送ライ
ンとの間において、第1および第2搬送ステーション(
3;29)を通過する際に基板(20)の搬送方向が変
換される事を特徴とする請求項1に記載の方法。 - 3.基板(20)が第3搬送ライン(1c;16c)に
おいて、乾燥チャンバ(50)中でエアクッシヨン(8
)上に自由に浮動して一端において押されながら搬送さ
れる事を特徴とする請求項2に記載の方法。 - 4.第3搬送ライン(1c;16c)の第2乾燥チャン
バ(44;50)の中において、基板の搬送方向Cの先
端が水平に対して1°乃至2°上方に傾斜する事を特徴
とする請求項3に記載の方法。 - 5.基板(20)が装置(16)の3本の搬送ライン(
16a,16b,16c)を通して搬送され、第1およ
び第3搬送ライン(16a,16c)が同一面において
並列され、第2搬送ライン(16b)が第1搬送ライン
(16a)の下方に配置され、また基板は第1搬送ライ
ンから第2搬送ラインに移動する際にまた第2搬送ライ
ンから第3搬送ラインに移動する際にサーペンタイン型
コンベア(29a,29b)として設計された搬送ステ
ーション(29)上を搬送される事を特徴とする請求項
1に記載の方法。 - 6.第1搬送ラインと第2搬送ラインを接続するサーペ
ンタイン型コンベア(29a)の中を基板(20)が搬
送される際にこの基板上の被覆を乾燥する事を特徴とす
る請求項5に記載の方法。 - 7.高圧発電機の導線に接続された少なくとも1つの噴
霧ステーションと、装置の各ステーションおよびチャン
バの中を基板を搬送するためのコンベア・ベルトとを含
み、基板上に液状被覆を静電噴霧し前記基板上において
被着された液状被覆を乾燥する装置において、前記装置
(1;16)は、相互に搬送ステーション(3a,3b
;20a,29b)によって連結された第1乃至第3搬
送ライン(1a,1b,1c;16a,16b,16c
)から成り、前記第1搬送ライン(1a;16a)と第
3搬送ライン(1c;16c)の中に、浄化ステーショ
ン(42;48)と、液状被覆を被着するための噴霧装
置(12a,12b)を含む噴霧ステーション(42;
48)と、初期乾燥区域(43;49)と、乾燥チャン
バ(44;50)とが順次に配置され、また回転ステー
ション(46;52)が第2搬送ライン(1b;16b
)に配置されて、この回転ステーションにおいて基板(
20)が垂直に180゜回転されて、基板の下側面が上
側に回転される事を特徴とする装置。 - 8.基板(20)は第1搬送ライン(1a)に沿って紙
ウエブ(30)上を案内され、この紙ウエブは供給ロー
ル(21)から繰り出され第1方向変換ローラ(17a
)を通つて水平に第1浄化ステーシヨン(42)、第1
噴霧ステーシヨン(12)および第1初期乾燥ステーシ
ョン(43)を通り、第2方向変換ローラ(17b)を
通って一対の搬送ローラ(23,24)を通過して巻取
りロール(22)上に巻取られる事を特徴とする請求項
7に記載の装置。 - 9.搬送ステーション(3)は、第1搬送ライン(1a
)を第2搬送ライン(1b)に連結し第2搬送ライン(
1b)を第3搬送ライン(1c)に連結する半円形ベル
ト型コンベア(3a,3b)から成り、第1ベルト型コ
ンベア(3a)の直径は第2ベルト型コンベア(3b)
の直径より大であり、2搬送ライン(1a,1c)が同
一面において相互に平行に並列される事を特徴とする請
求項7に記載の装置。 - 10.第2搬送ライン(1b)は第1冷却区域(45)
と、垂直回転ステーション(46)と、搬送区域(47
)とから成り、これらは共通のトンネル(41)の中に
配置され、このトンネルに対して純枠冷却空気が供給さ
れ、冷却区域(45)は穿孔無限回転コンベア・ベルト
(4)を有し、このコンベア・ベルト(4)は吸引ロー
ラ(5)回りに案内され、この吸引ローラ(5)は回転
ステーシヨン(46)の一部を成し、この回転ステーシ
ョンはさらに吸引ローラ(5)に隣接配置されたプロー
ブ(6a)を有し、このプローブは基板(20)の先端
を検出して圧搾空気ジェットを噴射し、このジェットは
前記吸引ローラ(5)またはその斜め上方に配置された
エアノズル(40)を通して噴射され、このジェットに
よって吸引ローラの外周面上を搬送される基板(20)
が転倒されて上下反対となり、また搬送区域(47)は
、回転ステーシヨン(46)の下端点から第2ベルト型
コンベア(3b)まで少し上方に傾斜して配置された無
限回転コンベア・ベルト(7)から成る事を特徴とする
請求項7に記載の装置。 - 11.吸引ローラ(5)は、最短基板の長さの半分に対
応するセグメント長(5a)から成る多角形面(5a)
を有する事を特徴とする請求項10に記載の装置。 - 12.円筒形吸引ローラ(5)の半径が最長基板の長さ
より大であり乃至は同等である事を特徴とする請求項1
0に記載の装置。 - 13.基板(20)は第3搬送ライン(1c)に沿つて
紙ウエブ(39)上を案内され、この紙ウエブは供給ロ
ール(25)から繰り出され第1方向変換ローラ(17
a)を通つて水平に第2浄化ステーシヨン(48)、第
2噴霧ステーション(12)および第2初期乾燥ステー
ション(49)を通り、第2方向変換ローラ(17b)
を通つて一対の搬送ローラ(27,28)のニップを通
過して巻取りロール(26)上に巻取られる事を特徴と
する請求項7に記載の装置。 - 14.第2乾燥チャンバ(50)は動的空気圧ボックス
(13)を含み、このボックス(13)は水平上側面(
18a)と、傾斜上側面(18b)と、前記の両方の面
(18a,18b)の中に配置された空気支持用スロッ
トノズル(14)と、方向変換ローラ(15a,15b
)に掛け回され前記空気圧ボックス(15)の上方一定
距離に配置された無限回転磁気ベルト(11)とを有し
、また前記方向変換ローラ(15a)に隣接してプッシ
ャ(9)が磁気的に磁気ベルト(11)の上方ランに固
着し、前記プッシャ(9)が垂直移動キャッチによって
解除されて、前記紙ウエブ(39)から空気圧ボックス
上を前記エアクッシヨン(8)まで転送される基板(2
0)と同期的に方向変換ローラ(15a)の回りを回転
し基板(20)の後端に当接する事ができ、これらのプ
ッシャ(9)は基板(20)を乾燥チヤンバ(50)の
中を搬送する際に磁気ベルト(11)の下方ランに固着
している事を特徴とする請求項7または13のいずれか
に記載の装置。 - 15.アキュムレータボックス(13)の上側面(18
a)は搬送方向に見て水平に対して1°乃至2°上方に
傾斜しているので、基板(20)の搬送中に基板(20
)の後端が常にプッシャ(9)に当接している事を特徴
とする請求項14に記載の装置。 - 16.アキュムレータボックス(13)の上側面(18
b)は基板(20)の貯蔵トレー(19)の方向に下方
に傾斜している事を特徴とする請求項14に記載の装置
。 - 17.搬送ステーシヨン(29)は第1搬送ライン(1
6a)を第2搬送ライン(16b)に連結しまた第2搬
送ライン(16b)を第3搬送ライン(16c)に連結
するサーペンタイン型コンベア(29a,29b)であ
って、ここに第1および第3搬送ライン(16a,16
c)が同一面において並列され、第2搬送ライン(16
b)がこの面の下方に、第1搬送ライン(16a)と第
2搬送ライン(16b)に対して傾斜して配置される事
を特徴とする請求項7に記載の装置。 - 18.液状被覆を噴射され初期乾燥された基板(20)
は各サーペンタイン型コンベア(29a,29b)によ
ってそれぞれの初期方向から約180°回転される事を
特徴とする請求項17に記載の装置。
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