JPH03290442A - 含フッ素重合体成形品の表面処理方法 - Google Patents
含フッ素重合体成形品の表面処理方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は、含フッ素重合体戊形侃の表面処理方法に関す
る。更に詳しくは、含フッ素重合体成形品の表面にグロ
ー放電し、プラズマ処理する表面処理方法に関する。 〔従来の技術〕 含フッ素重合体成形品の表面を、アルゴンなどの不活性
ガスおよび酸素ガス、含酸素化合物ガスまたは含窒素化
合物ガスの各雰囲気中で順次プラズマ処理することが、
先に本出願人によって提案されている（特開平１−１５
８９６７号公報、同２−２３８６８号公報）。しかしな
がら、これらのガスで順次プラズマ処理するのではなく
、混合ガスとして用い、それの雰囲気中でプラズマ処理
すると、後記比較例３〜５に示されるように、その表面
改質は十分に行われない。 また、感光性樹脂膜、レジストなどの有機物質膜をＣＦ
４十〇□系混合ガス雰囲気中でプラズマ処理することが
、特開昭６３−３０８９２０号公報に記載されているが
、この方法を含フッ素重合体成形品の表面処理に用いた
場合には、後記比較例１に示されるように、それの表面
改質はわずかじか行われない。 〔発明が解決しようとする課題〕 本発明の目的は、含フッ素重合体成形品の表面をプラズ
マ処理する表面処理方法において、十分にその表面改質
を達成せしめる表面処理方法を提供することにある。 〔課題を解決するための手段〕 かかる本発明の目的は、含フッ素重合体成形品の表面を
、パーフルオロ低級アルカン、酸素ガスまたは含酸素化
合物ガスおよび含窒素化合物ガスの混合ガス雰囲気中で
プラズマ処理することによって達成される。 含フッ素重合体成形品としては、樹脂状またはエラスト
マー状の含フッ素重合体の成形品、一般には膜状（コー
テイング膜を含む）、シート状、板状、粒状のものなど
が用いられる。成形品を形成する含フッ素重合体として
、好ましくはテトラフルオロエチレン樹脂（ポリテトラ
フルオロエチレン）が用いられるが、この他にポリフッ
化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリトリフルオロエ
チレン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロ
ペン共重合体なども用いられる。 パーフルオロアルカンとしてはＣＦ、、 Ｃ，Ｆ、など
が、酸素ガスと同様に用いられる含酸素化合物ガスとし
ては酸化炭素、酸化窒素などが、また含窒素化合物ガス
としてはアンモニア、揮発性アミン化合物などがそれぞ
れ用いられる。 これらの各成分からなる混合ガスは、ＳＣＣＭ （標準
状態換算での流量ｃｄ（ＳＴＰ）／分）単位で、パーフ
ルオロアルカンが約８０〜２０％、好ましくは約６０〜
４０％、酸素ガスまたは含酸素化合物ガスが約０．５〜
ｔａｇ、好ましくは約５〜１％、また含窒素化合物ガス
が約１９，５〜７０％ｂ好ましくは約３５〜５９％の割
合でそれぞれ用いられる。 これらのガス雰囲気中でのプラズマ処理は、例えば真空
ポンプ、リークバルブおよびメインバルブに接続され、
真空計を備えたチューブ状プラズマ反応容器内に含フッ
素重合体成形品を収容し、反応容器内の圧力を約０．０
１Ｔｏｒｒ以上の真空とした後バルブを開き、反応容器
内に混合ガスを約０．０２〜ＩＴｏｒｒの圧力になる迄
導入し、このようにして反応容器内にガスを充満させた
ら、高周波発生装置（１３，５６Ｍ）ｌｚ）およびマツ
チングユニットからなる高周波電源を用いて、有効電力
約１０〜３００ｗ、グロー放電時間約１〜６０分間の条
件下で、反応容器の端部細径円筒部に捲回された発振コ
イルからプラズマ照射することにより行われる。反応容
器としては、上記チューブ状のもの以外に、ペルジャー
型なども用いることができる。また、放電電極としては
、上記コイル状のもの以外に、外部もしくは内部平行電
極板を用いることもできる。 〔作用〕および
る。更に詳しくは、含フッ素重合体成形品の表面にグロ
ー放電し、プラズマ処理する表面処理方法に関する。 〔従来の技術〕 含フッ素重合体成形品の表面を、アルゴンなどの不活性
ガスおよび酸素ガス、含酸素化合物ガスまたは含窒素化
合物ガスの各雰囲気中で順次プラズマ処理することが、
先に本出願人によって提案されている（特開平１−１５
８９６７号公報、同２−２３８６８号公報）。しかしな
がら、これらのガスで順次プラズマ処理するのではなく
、混合ガスとして用い、それの雰囲気中でプラズマ処理
すると、後記比較例３〜５に示されるように、その表面
改質は十分に行われない。 また、感光性樹脂膜、レジストなどの有機物質膜をＣＦ
４十〇□系混合ガス雰囲気中でプラズマ処理することが
、特開昭６３−３０８９２０号公報に記載されているが
、この方法を含フッ素重合体成形品の表面処理に用いた
場合には、後記比較例１に示されるように、それの表面
改質はわずかじか行われない。 〔発明が解決しようとする課題〕 本発明の目的は、含フッ素重合体成形品の表面をプラズ
マ処理する表面処理方法において、十分にその表面改質
を達成せしめる表面処理方法を提供することにある。 〔課題を解決するための手段〕 かかる本発明の目的は、含フッ素重合体成形品の表面を
、パーフルオロ低級アルカン、酸素ガスまたは含酸素化
合物ガスおよび含窒素化合物ガスの混合ガス雰囲気中で
プラズマ処理することによって達成される。 含フッ素重合体成形品としては、樹脂状またはエラスト
マー状の含フッ素重合体の成形品、一般には膜状（コー
テイング膜を含む）、シート状、板状、粒状のものなど
が用いられる。成形品を形成する含フッ素重合体として
、好ましくはテトラフルオロエチレン樹脂（ポリテトラ
フルオロエチレン）が用いられるが、この他にポリフッ
化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリトリフルオロエ
チレン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロ
ペン共重合体なども用いられる。 パーフルオロアルカンとしてはＣＦ、、 Ｃ，Ｆ、など
が、酸素ガスと同様に用いられる含酸素化合物ガスとし
ては酸化炭素、酸化窒素などが、また含窒素化合物ガス
としてはアンモニア、揮発性アミン化合物などがそれぞ
れ用いられる。 これらの各成分からなる混合ガスは、ＳＣＣＭ （標準
状態換算での流量ｃｄ（ＳＴＰ）／分）単位で、パーフ
ルオロアルカンが約８０〜２０％、好ましくは約６０〜
４０％、酸素ガスまたは含酸素化合物ガスが約０．５〜
ｔａｇ、好ましくは約５〜１％、また含窒素化合物ガス
が約１９，５〜７０％ｂ好ましくは約３５〜５９％の割
合でそれぞれ用いられる。 これらのガス雰囲気中でのプラズマ処理は、例えば真空
ポンプ、リークバルブおよびメインバルブに接続され、
真空計を備えたチューブ状プラズマ反応容器内に含フッ
素重合体成形品を収容し、反応容器内の圧力を約０．０
１Ｔｏｒｒ以上の真空とした後バルブを開き、反応容器
内に混合ガスを約０．０２〜ＩＴｏｒｒの圧力になる迄
導入し、このようにして反応容器内にガスを充満させた
ら、高周波発生装置（１３，５６Ｍ）ｌｚ）およびマツ
チングユニットからなる高周波電源を用いて、有効電力
約１０〜３００ｗ、グロー放電時間約１〜６０分間の条
件下で、反応容器の端部細径円筒部に捲回された発振コ
イルからプラズマ照射することにより行われる。反応容
器としては、上記チューブ状のもの以外に、ペルジャー
型なども用いることができる。また、放電電極としては
、上記コイル状のもの以外に、外部もしくは内部平行電
極板を用いることもできる。 〔作用〕および
含フッ素重合体成形品の表面プラズマ処理に際し、雰囲
気ガスとしてＣＦ、＋Ｏ，系に対し更にＮＨ３を混合し
て用いた場合には、大幅な表面改質が達成される。 雰囲気ガスとしてＡｒ系に対し更にＮＦｆ３を混合して
用いた場合にも１例えば接触角にみられるように、数値
的には大幅な表面改質が達成されるが。 質的にはＣＦ、 ＋’Ｏ□十ＮＨ１系と全く事情を異に
している。 即ち、表面粗さの測定結果に示されるように、ＡｒにＮ
ＦＩ３を添加した場合には、表面組成を変化させたこと
、アブレーション効果により表面を粗くしたことの２点
が考えられ、多孔質の薄いシートやファイバーなどでは
放電によるアブレ−ション効果でのダメージがみられる
のに対し、ＣＦ４＋Ｏ２系にＮＨ，を添加した場合には
、アブレーション効果よりもＮＯ，ガスに由来する表面
組成の変化による効果がＡｒ＋ＮＨａ系よりも大きいこ
とが分かり、またアブレーション効果が小さいことは、
素材表面の微細構造へのダメージが小さくてこの点でも
有利であり、このようなことから、ＣＦ４＋Ｏ□＋ＮＨ
３系ではＡｒ 十ＮＨ，系と比較して表面粗さに殆んど
影響を与えずに、親水性、接着性などの表面特性の改質
を達成し得るという質的な違いが認められる。 〔実施例〕 次に、実施例について本発明を説明する。 実施例１〜２ 上下方向に電極間距離３０ｍｍで設置された対向電極を
収納した直径４５０ｍＬ高さ２５０ｍｍの真空グロー放
電装置の下部電極面上に、７０ｍｍ角、厚さ０ 、３ｎ
＋ｍのテフロンシートを搭載し、そこにＣＦ４２Ｂ、５
ＳＣＣＭ、０□１．５ＳＣＣＭ、Ｎｌ（３３０５ＣＣＭ
の混合ガス（合計５Ｏ５（、ＣＭ）を０，５Ｔｏｒｒの
内部圧力で導入し、放電時間５分間の条件下でグロー放
電してプラズマ処理した。 このようにしてプラズマ処理されたテフロンシ−トにつ
いて、その表面改質の度合いを水滴の接触角の大きさと
して示すと１次の表１の如くである。 表１ 塞」む４ 放［ｊ【たΩ吐 挟置１ｕニュ１
１５０ １Ｌ５ ２ ２５０ ６．５ 比較例１ 実施例１において、ＣＦ、５７ＳＣＣＭ、０□３ＳＣＣ
Ｍの混合ガスを用いると、プラズマ処理されたテフロン
シートの水接触角は１０８°であり、未処理テフロンシ
ートの１１８”と比較して、わずかにその値を下げてい
る程度である。 比較例２〜４ 実施例１において、導入ガスとしてＡｒの単独ガスまた
は混合ガスが用いられた。プラズマ処理されたテフロン
シートの水接触角は、後記表２に示される。 比較例５ 実施例２において、導入ガスとしてＡｒ−ＮＨＪ混合ガ
スが用いられた。プラズマ処理されたテフロンシートの
水接触角は、次の表２に示される。 表２ ２ ６０ ７
２３ ３０ ３０
３７．５４ ３０ ３０
２０．５５ ３０
３０ １０以上の実施例２ （ＣＦ、
＋０２＋ ＮＨ，）、比較例５ （Ａｒ＋ ＮＨ３）
およびこれらに用いられたテフロンシートについて、表
面粗さ計（Ｓｌｏａｎ社製ＤＥＫＴＡＫ３０３０）を用
い、触針荷重１５ｍｇ、スキャン長さ１■の条件下で、
Ｒａ（中心線平均粗さ）の値を測定すると、次のような
結果が得られた。 実施例２ Ｒａ＝０．３３μ＋ｍ比較例５
Ｒａ＝０．５１ｕａ＋未処理シート Ｒａ＝０
．２８ｐ＋ｉ実施例３ 実施例２において、テフロンシートの代わりに、４０ｍ
ｍ角、厚さ０．１ｍｍのポリフッ化ビニリデン多孔質フ
ィルムを用いると、プラズマ処理された多孔質フィルム
の水接触角は６°であり、未処理多孔質フィルムの水接
触角の値８４°より、著しく低い値を示した。
気ガスとしてＣＦ、＋Ｏ，系に対し更にＮＨ３を混合し
て用いた場合には、大幅な表面改質が達成される。 雰囲気ガスとしてＡｒ系に対し更にＮＦｆ３を混合して
用いた場合にも１例えば接触角にみられるように、数値
的には大幅な表面改質が達成されるが。 質的にはＣＦ、 ＋’Ｏ□十ＮＨ１系と全く事情を異に
している。 即ち、表面粗さの測定結果に示されるように、ＡｒにＮ
ＦＩ３を添加した場合には、表面組成を変化させたこと
、アブレーション効果により表面を粗くしたことの２点
が考えられ、多孔質の薄いシートやファイバーなどでは
放電によるアブレ−ション効果でのダメージがみられる
のに対し、ＣＦ４＋Ｏ２系にＮＨ，を添加した場合には
、アブレーション効果よりもＮＯ，ガスに由来する表面
組成の変化による効果がＡｒ＋ＮＨａ系よりも大きいこ
とが分かり、またアブレーション効果が小さいことは、
素材表面の微細構造へのダメージが小さくてこの点でも
有利であり、このようなことから、ＣＦ４＋Ｏ□＋ＮＨ
３系ではＡｒ 十ＮＨ，系と比較して表面粗さに殆んど
影響を与えずに、親水性、接着性などの表面特性の改質
を達成し得るという質的な違いが認められる。 〔実施例〕 次に、実施例について本発明を説明する。 実施例１〜２ 上下方向に電極間距離３０ｍｍで設置された対向電極を
収納した直径４５０ｍＬ高さ２５０ｍｍの真空グロー放
電装置の下部電極面上に、７０ｍｍ角、厚さ０ 、３ｎ
＋ｍのテフロンシートを搭載し、そこにＣＦ４２Ｂ、５
ＳＣＣＭ、０□１．５ＳＣＣＭ、Ｎｌ（３３０５ＣＣＭ
の混合ガス（合計５Ｏ５（、ＣＭ）を０，５Ｔｏｒｒの
内部圧力で導入し、放電時間５分間の条件下でグロー放
電してプラズマ処理した。 このようにしてプラズマ処理されたテフロンシ−トにつ
いて、その表面改質の度合いを水滴の接触角の大きさと
して示すと１次の表１の如くである。 表１ 塞」む４ 放［ｊ【たΩ吐 挟置１ｕニュ１
１５０ １Ｌ５ ２ ２５０ ６．５ 比較例１ 実施例１において、ＣＦ、５７ＳＣＣＭ、０□３ＳＣＣ
Ｍの混合ガスを用いると、プラズマ処理されたテフロン
シートの水接触角は１０８°であり、未処理テフロンシ
ートの１１８”と比較して、わずかにその値を下げてい
る程度である。 比較例２〜４ 実施例１において、導入ガスとしてＡｒの単独ガスまた
は混合ガスが用いられた。プラズマ処理されたテフロン
シートの水接触角は、後記表２に示される。 比較例５ 実施例２において、導入ガスとしてＡｒ−ＮＨＪ混合ガ
スが用いられた。プラズマ処理されたテフロンシートの
水接触角は、次の表２に示される。 表２ ２ ６０ ７
２３ ３０ ３０
３７．５４ ３０ ３０
２０．５５ ３０
３０ １０以上の実施例２ （ＣＦ、
＋０２＋ ＮＨ，）、比較例５ （Ａｒ＋ ＮＨ３）
およびこれらに用いられたテフロンシートについて、表
面粗さ計（Ｓｌｏａｎ社製ＤＥＫＴＡＫ３０３０）を用
い、触針荷重１５ｍｇ、スキャン長さ１■の条件下で、
Ｒａ（中心線平均粗さ）の値を測定すると、次のような
結果が得られた。 実施例２ Ｒａ＝０．３３μ＋ｍ比較例５
Ｒａ＝０．５１ｕａ＋未処理シート Ｒａ＝０
．２８ｐ＋ｉ実施例３ 実施例２において、テフロンシートの代わりに、４０ｍ
ｍ角、厚さ０．１ｍｍのポリフッ化ビニリデン多孔質フ
ィルムを用いると、プラズマ処理された多孔質フィルム
の水接触角は６°であり、未処理多孔質フィルムの水接
触角の値８４°より、著しく低い値を示した。
Claims (1)
- １、含フッ素重合体成形品の表面を、パーフルオロ低級
アルカン、酸素ガスまたは含酸素化合物ガスおよび含窒
素化合物ガスの混合ガス雰囲気中でプラズマ処理するこ
とを特徴とする含フッ素重合体成形品の表面処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9189990A JP2952950B2 (ja) | 1990-04-06 | 1990-04-06 | 含フッ素重合体成形品の表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9189990A JP2952950B2 (ja) | 1990-04-06 | 1990-04-06 | 含フッ素重合体成形品の表面処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03290442A true JPH03290442A (ja) | 1991-12-20 |
| JP2952950B2 JP2952950B2 (ja) | 1999-09-27 |
Family
ID=14039417
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9189990A Expired - Lifetime JP2952950B2 (ja) | 1990-04-06 | 1990-04-06 | 含フッ素重合体成形品の表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2952950B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001066824A1 (en) * | 2000-03-10 | 2001-09-13 | Lg Electronics Inc. | Plasma polymerization system and method for plasma polymerization |
| WO2001079337A1 (fr) * | 2000-04-19 | 2001-10-25 | Daikin Industries, Ltd. | Objet moule de fluoroelastomere a excellente capacite de demoulage, et son procede de production |
| KR100341565B1 (ko) * | 1998-11-11 | 2002-06-22 | 김윤 | 젖음성이 우수한 표면을 갖는 불소계 수지 |
| JP2007245151A (ja) * | 2007-04-06 | 2007-09-27 | Dainippon Toryo Co Ltd | 単分散粒子の製造方法 |
| JPWO2006059697A1 (ja) * | 2004-12-03 | 2008-06-05 | 旭硝子株式会社 | エチレン−テトラフルオロエチレン系共重合体成形物およびその製造方法 |
-
1990
- 1990-04-06 JP JP9189990A patent/JP2952950B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100341565B1 (ko) * | 1998-11-11 | 2002-06-22 | 김윤 | 젖음성이 우수한 표면을 갖는 불소계 수지 |
| WO2001066824A1 (en) * | 2000-03-10 | 2001-09-13 | Lg Electronics Inc. | Plasma polymerization system and method for plasma polymerization |
| EP1264005A1 (en) * | 2000-03-10 | 2002-12-11 | Lg Electronics Inc. | Plasma polymerization system and method for plasma polymerization |
| EP1264005A4 (en) * | 2000-03-10 | 2005-04-13 | Lg Electronics Inc | PLASMA POLYMERIZATION DEVICE AND PLASMA POLYMERIZATION PROCESS |
| WO2001079337A1 (fr) * | 2000-04-19 | 2001-10-25 | Daikin Industries, Ltd. | Objet moule de fluoroelastomere a excellente capacite de demoulage, et son procede de production |
| US7125598B2 (en) | 2000-04-19 | 2006-10-24 | Daikin Industries, Ltd. | Molded fluoroelastomer with excellent detachability and process for producing the same |
| KR100743409B1 (ko) * | 2000-04-19 | 2007-07-30 | 다이낑 고오교 가부시키가이샤 | 탈착성이 우수한 불소함유 엘라스토머 성형품 및 그 제조방법 |
| CN100345893C (zh) * | 2000-04-19 | 2007-10-31 | 大金工业株式会社 | 分离性优良的含氟弹性体成型品及其制造方法 |
| JPWO2006059697A1 (ja) * | 2004-12-03 | 2008-06-05 | 旭硝子株式会社 | エチレン−テトラフルオロエチレン系共重合体成形物およびその製造方法 |
| JP2007245151A (ja) * | 2007-04-06 | 2007-09-27 | Dainippon Toryo Co Ltd | 単分散粒子の製造方法 |
| JP4537421B2 (ja) * | 2007-04-06 | 2010-09-01 | 大日本塗料株式会社 | 単分散粒子の製造方法 |
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