JP3227005B2 - フッ素樹脂表面の改質法 - Google Patents

フッ素樹脂表面の改質法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、フッ素樹脂表面に特
に高い接着性を付与するためのフッ素樹脂表面の改質法
に関する。
【0002】
【従来の技術】フッ素樹脂は他の樹脂類に比べて、撥水
撥油性、摺動性、防汚性、耐熱性、耐薬品性および電気
的特性等の点において優れているために、多様な用途を
有しているが、その不活性な表面に起因して、接着剤や
塗料等の塗布が困難なだけでなく、他の材料との複合化
が難しいという欠点がある。
【0003】このような問題の解決策として種々の方法
が提案されている。例えば、(i)金属ナトリウムとナフ
タリンのテトラヒドロフラン溶液から調製される錯化合
物溶液を用いて処理する方法[ネルソン(E.R.Nelson)
ら、Ind.Eng.Chem.、第50巻、第329頁(19
58年)参照]、(ii)グロー放電を利用する方法[角田
ら、工業材料、第29巻(第2号)、第105頁(198
1年)参照]、(iii)低圧下での高周波スパッタエッチン
グによって処理する方法(特公昭53−22108号公
報参照)、(iv)B(CH3)3やAl(CH3)3等の特殊なガス
雰囲気中において、レーザー光を照射する方法(特開平
2−196834号公報参照)、(v)エキシマレーザー光
を直接照射する方法(特公平3−57143号公報参
照)、(vi)低温プラズマスパッタエッチングによって処
理する方法(特公昭58−21928号、特開平2−1
27442号および特公平3−58375号各公報参
照)および(vii)光吸収性物質を予め混練した後、紫外レ
ーザー光を照射する方法(特願平4−145595号明
細書参照)等が挙げられる。
【0004】しかしながら、これらの改質法には次の様
な問題点がある。方法(i)の場合には、処理中に引火の
危険があり、処理液も不安定なために、作業衛生上問題
があるだけでなく、太陽光や高温にさらされると、改質
表面の接着性等が大幅に低下するという欠点がある。方
法(ii)には、ポリエチレン等のフッ素不含ポリマーに比
べて、表面改質効果が著しく低いという難点がある。方
法(iii)の場合には、処理速度が遅く、エッチングされ
た樹脂分が高価で大型の真空系処理装置内部に付着する
だけでなく、樹脂表面に形成される易摩損性凹凸が、低
流動性の接着剤や塗料等に対して十分な接着性や塗装性
等をもたらさないという問題がある。方法(iv)の場合に
は、処理速度が遅く、また、毒性の強いガスと高価で大
型の真空処理装置を必要とするという問題がある。方法
(v)の場合には、フッ素樹脂表面の接着性と濡れ性を十
分に改良できないという難点がある。さらに、方法(vi)
の場合には、処理面の化学組成が変化しないために、高
い接着強度が得難く、従来から比較的高い接着強度が得
られる方法(i)の場合と同等の接着性を得るためには、
狭い範囲の処理条件下において長時間の処理をおこなわ
なければならず、工業的処理技術としては不十分であ
る。さらにまた、方法(vii)の場合には、光吸収性物質
を含まないフッ素樹脂成形体の表面改質には適用できな
いという難点がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、フッ素樹
脂表面の従来の上記改質法の諸問題を解決し、金属ナト
リウム錯体法の場合と同等もしくはそれ以上の接着性を
汎用的にフッ素樹脂表面に付与し得る方法を提供するた
めになされたものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】即ちこの発明は、低温プ
ラズマ処理に付したフッ素樹脂表面に、紫外線吸収性溶
剤の存在下において、エキシマレーザー光を照射するこ
とを特徴とするフッ素樹脂表面の改質法に関する。
【0007】本発明において使用するフッ素樹脂は、含
フッ素ポリマーであって、例えば、ポリテトラフルオロ
エチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレン−ペルフ
ルオロアルコキシエチレンコポリマー(PFA)、テトラ
フルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレンコポリマ
ー(FEP)、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロ
プロピレン−ペルフルオロアルコキシエチレンターポリ
マー(EPE)、テトラフルオロエチレン−エチレンコポ
リマー(ETFE)、ポリクロロトリフルオロエチレン
(PCTFE)、トリフルオロクロロエチレン−エチレン
コポリマー(ECTFE)、ポリフッ化ビニリデン(PV
DF)およびポリフッ化ビニル(PVF)等またはこれら
の任意の混合物が挙げられる。
【0008】本発明によって処理されるフッ素樹脂の具
体的形状は特に限定的ではないが、シート、フィルム、
パイプ、多孔質膜およびその他の任意の形状を有する成
形体等が例示される。
【0009】上記のフッ素樹脂の表面は、まず、ガス雰
囲気下、例えば、Arや、He等の不活性ガス、H2
2、またはH2/N2混合ガス等の雰囲気下において、
低温プラズマ処理に付される。低温プラズマ処理は、ス
パッタエッチング法、プラズマエッチング法、およびパ
レル型プラズマエッチング法のいずれでおこなってもよ
い。雰囲気圧(真空度)は、スパッタエッチング法の場合
には、0.01〜0.1Torr、好ましくは、0.01〜
0.05Torrであり、プラズマエッチング法およびパ
レル型エッチング法の場合には、0.1〜10Torr、好
ましくは0.1〜1Torrである。高周波周波数は通
常、数┼kHz〜数┼MHz、好ましくは、13.56
MHzである。電力密度は、通常2〜5W/cm2であ
る。雰囲気ガスの注入量は通常、10〜100ミリリッ
トル/分である。
【0010】被処理フッ素樹脂は、スパッタエッチング
法の場合には印加電極側に配置させ、プラズマエッチン
グ法の場合には接地電極側に配置させ、また、パレル型
プラズマエッチング法の場合には、印加電極と接地電極
の中間に配置させる。低温プラズマ処理時間は、通常、
20〜240秒である。
【0011】上述の低温プラズマ処理に付されたフッ素
樹脂表面は、さらに、紫外線吸収性溶剤の存在下でのエ
キシマレーザー光照射処理に付される。紫外線吸収性溶
剤としては、自体公知のものを適宜使用すればよく、特
に限定的ではないが、好適な溶剤としては次のものが例
示される:ヘキサンやシクロヘキサン等の脂肪族炭化水
素、ベンゼンやキシレン等の芳香族炭化水素、ナフタレ
ンやアントラセン等の多環芳香族炭化水素、エタノール
やイソプロパノール等の低級アルコール、アセトンやメ
チルエチルケトン等のケトン類、フランやピリジン等の
ヘテロ芳香族化合物、トリエチルアミン等のアミン類、
酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリ
ル類、クロロホルムやトリクレン等の含ハロゲン溶剤、
硫化ジ−n−ブチルやメチルスルホキシド等の含硫黄溶
剤、イソプレンや1,3−シクロペンタジエン等のジエ
ン類、およびこれら の溶剤の任意の混合溶剤。なお、
これらの溶剤はそのまま使用するのが一般的であるが、
後処理が容易な粘着性成分を適宜配合して使用してもよ
く、これによって、作業性等を高めることができる。
【0012】低温プラズマ処理に付されたフッ素樹脂表
面に紫外線吸収性溶剤を存在させる方法は、浸漬、噴霧
および塗布のいずれであってもよい。未処理フッ素樹脂
表面に該溶剤を接触させても、該表面が十分に濡れない
ため、このような状態でエキシマレーザー光照射処理を
実施しても、表面改質はほとんどおこなわれないが、該
表面が低温プラズマ処理に付されている場合には、該表
面が該溶剤によって十分に濡らされ、このような状態で
エキシマレーザー光照射処理を実施することによって、
表面改質が効果的におこなわれ、高い接着性が得られ
る。
【0013】エキシマレーザー光としては、波長が40
0nm以下、特に、193〜308nmの紫外レーザー光が
好適である。特に、高出力が長時間にわたって安定して
得られるKrFエキシマレーザー光(波長:248nm)およ
びArFエキシマレーザー光(波長:193nm)等が好まし
い。エキシマレーザー光照射は、通常、室温、大気中で
おこなうが、酸素雰囲気中でおこなってもよい。また、
エキシマレーザー光の照射条件は、フッ素樹脂の種類お
よび所望の表面改質の程度によって左右されるが、一般
的な照射条件は次の通りである。 フルエンス:約50mJ/cm2/パルス以上 入射エネルギー:約0.1J/cm2以上 ショット数:約100以下
【0014】特に好適なKrFエキシマレーザー光およ
びArFエキシマレーザー光の常用される照射条件は次
の通りである。KrF フルエンス:100〜500mJ/cm2/パルス 入射エネルギー:0.2〜2.0J/cm2 ショット数:1〜20ArF フルエンス:50〜150mJ/cm2/パルス 入射エネルギー:0.1〜1.0J/cm2 ショット数:1〜20
【0015】
【実施例】以下、本発明を実施例によって説明する。実施例1 図1に示す態様の低温プラズマエッチング処理装置を用
いてPTFE製シート(厚さ:0.2mm)を下記の条件下で
処理した。なお、図1において、(1)は高周波発生電
源、(2)はマッチングボックス、(3)は印加電極(陰
極)、(4)は接地電極(陽極)、(5)はPTFE製シー
ト、(6)はシート走行装置、(7)は真空ポンプ、(8)は
ガスボンベ、(9)は減圧弁、(10)は圧力計、(11)は
流量計、(12)は真空計を示す。 印加電極:100mm×300mm(水冷;流水量15リット
ル/分) 接地電極:80mmφ(水冷;流水量10リットル/分) 電極間距離:30mm 高周波発生電源:13.56MHz(2,000V) 印加電力:0.3〜1.5KW 雰囲気圧(真空度):0.02〜5Torr ガス量:10〜40ミリリットル/分 シート速度:0.15〜1.2m/分
【0016】上記の低温プラズマエッチング処理に付さ
れたPTFE製シートをキシレンに浸漬した後、引き上
げ、約1時間後に処理面に、248nmのKrFエキシマ
レーザー光を次の条件下で照射した: フルエンス:300mJ/cm2/パルス 入射エネルギー:0.6J/cm2 ショット数:2
【0017】上述のようにして改質されたPTFE製シ
ートにおける180゜剥離強度(kg/cm)を次の条件下で
測定した。結果を以下の表1に示す。表1には、比較の
ために、低温プラズマ処理のみに付したPTFE製シー
トに関するデータも示す。なお、金属ナトリウム錯体処
理によって得られるPTFE製シートの180゜剥離強
度は約1.0kg/cmである。180゜剥離強度の測定条件 接着剤:常温硬化型エポキシ樹脂 (コニシ(株)製「ボンドEセット」) 相手材:SUS304(0.3mm×25mm×150mm) 硬化条件:常温で20時間加圧(10g/cm2)硬化 テストスピード:100mm/分(オートグラフ)
【0018】
【表1】
【0019】実施例2 キシレンの代わりにベンゼンを使用する以外は、実施例
1と同様にして表面改質したPTFE製シートの180
゜剥離強度(kg/cm)を表2に示す。
【0020】
【表2】
【0021】実施例3 キシレンの代わりに、以下の表3に示す種々の溶剤を使
用する以外は、実施例1と同様にして表面改質したPT
FE製シートの180゜剥離強度(kg/cm)を表3に示
す。
【0022】
【表3】
【0023】実施例4 キシレンの代わりにメチルエチルケトンを使用し、ま
た、エキシマレーザー光として、193nmArFエキシ
マレーザー光(フルエンス:100mJ/cm2/パルス、入
射エネルギー:0.2J/cm2、ショット数:2)を使用す
る以外は、実施例1と同様にして表面改質したPTFE
製シートの180゜剥離強度を表4に示す。
【0024】
【表4】
【0025】実施例5 低温プラズマエッチング処理に付したPTFE製シート
をキシレンに浸漬する代わりに、トルエン溶剤にシリコ
ン系ゴムを分散させた粘着剤(信越化学工業(株)製「KR
−120」)を該プラズマエッチング処理面に塗布する以
外は、実施例1と同様にして表面改質したPTFE製シ
ートの180゜剥離強度(kg/cm)を表5に示す。
【0026】
【表5】
【0027】比較例1 低温プラズマエッチング処理をおこなわない以外は、実
施例1と同様にして処理したPTFE製シートの180
゜剥離強度は0.01kg/cmであった。
【0028】比較例2 低温プラズマエッチング処理をおこなわない以外は実施
例4と同様にして処理したPTFE製シートの180°
剥離強度は0.01kg/cmであった。
【0029】
【発明の効果】本発明によれば、化学的および物理的に
不活性なフッ素樹脂表面の特性、特に接着性を、フッ素
樹脂の特性である優れた耐熱性、耐薬品性および電気的
特性等を損うことなく、効果的に改質することができ
る。従って、本発明によって表面改質されたフッ素樹脂
成形体等は、他の樹脂類や無機材料との複合化等の二次
加工に供することができ、該成形体等の付加価値は飛躍
的に増大する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 低温プラズマエッチング処理装置の模式的構
成図である。
【符号の説明】
1 高周波発生電源 2 マッチングボックス 3 印加電極(陰極) 4 接地電極(陽極) 5 PTFE製シートまたはPFA製シート 6 シート走行装置 7 真空ポンプ 8 ガスボンベ 9 減圧弁 10 圧力計 11 流量計 12 真空計
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 清水 雄一 大阪府寝屋川市三井南町25番1号 日本 原子力研究所高崎研究所大阪支所内 (72)発明者 河西 俊一 大阪府寝屋川市三井南町25番1号 日本 原子力研究所高崎研究所大阪支所内 (72)発明者 杉本 俊一 大阪府寝屋川市三井南町25番1号 日本 原子力研究所高崎研究所大阪支所内 財 団法人放射線照射振興協会内 (72)発明者 遠藤 正雄 大阪府寝屋川市下木田町14番5号 倉敷 紡績株式会社技術研究所内 (72)発明者 長瀬 智洋 大阪府寝屋川市下木田町14番5号 倉敷 紡績株式会社技術研究所内 (56)参考文献 特開 平6−220228(JP,A) 特開 平2−196834(JP,A) 特開 昭60−226534(JP,A) 特開 昭54−138075(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08J 7/00 - 7/18

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 低温プラズマ処理に付したフッ素樹脂表
    面に、紫外線吸収性溶剤の存在下において、エキシマレ
    ーザー光を照射することを特徴とするフッ素樹脂表面の
    改質法。
  2. 【請求項2】 エキシマレーザー光照射処理を、KrF
    エキシマレーザー光またはArFエキシマレーザー光を
    用いておこなう請求項1記載の方法。
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