JPH0327324A - 2,2―ジフルオロカルボン酸誘導体の新規合成法 - Google Patents

2,2―ジフルオロカルボン酸誘導体の新規合成法

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JPH0327324A
JPH0327324A JP15946989A JP15946989A JPH0327324A JP H0327324 A JPH0327324 A JP H0327324A JP 15946989 A JP15946989 A JP 15946989A JP 15946989 A JP15946989 A JP 15946989A JP H0327324 A JPH0327324 A JP H0327324A
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小林 義郎
Takeo Taguchi
武夫 田口
Osamu Kitagawa
北川 理
Teruhiro Hashimoto
彰宏 橋本
Akihiko Miura
昭彦 三浦
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は2.2−ジフルオロカルボン酸誘導体の新規製
造法に関するものである。
生理活性物質のフッ素修飾研究は、近年ますます盛んに
なってきており、それにつれ、より効率よく様々な含フ
ッ素化合物を合威し得る新規合威手法への期待が高まっ
ている。このようなフッ素原子含有生理活性物質を合或
するに当たっては,フッ素原子を含む中間体を用いるこ
とが必要、且つ有用な場合が少なくない.本発明者らは
、これまでに様々なジフルオロメチレン基を有する合成
中間体の効率的な合戊法を開発してきた(特願昭61−
192109号、同昭62ー65860号等)。本発明
者らは引続き検討を加え、ジフルオロ酢酸基を3.3−
ジアルコキシプロペン誘導体に対して共役的に付加させ
,様々な2.2−ジフルオロカルボン酸誘導体を合威し
うる新しい手法を開拓するに至ったものである. 本発明はかかる2,2−ジフルオロカルボン酸誘導体の
新規製造法に関するものであり,即ち以下の発明である
. 下記式[I]で表わされる2.2−ジフルオロケテンシ
リルアセタールと下記式[■]で表わされる3,3−ジ
アルコキシプロペン誘導体とを反応させることを特徴と
する下記式[m]で表わされる2,2−ジフルオロカル
ボン酸誘導体の製造法. 但し、R1, R6はl価アルコールの残基な表わし、
R”,R″1,R4は同一又は異なりアルキル基、アリ
ール基、アルアルキル基を表わし、RS.l6.l?は
同一又は異なり水素原子,アルキル基、アリール基,ア
ルアルキル基を表わし Rlは水素原子またはl価アル
コールの残基を表わす.本発明中式[I]で示される2
,2−ジフルオロケテンシリルアセタール類において,
R1は1価アルコールの残基を表わし、通常炭素数1〜
10のアルキル基やベンジル基などが採用される.アル
キル基としては直鎖状アルキル基はもちろん、分岐アル
キル基であってもよいが、特にメチル基、エチル基等の
炭素数1〜4の低級アルキル基が好ましい l11J3
J4は同一又は異なりアルキル基を表わす.特にlt.
lIJ4がすべてメチル基、あるいはエチル基である化
合物や1143.R4の内2個がメチル基、残り1個が
t一ブチル基である化合物が好ましい.かかる2,2一
ジフルオロケテンシリルアセタールは、既に本発明者が
報告している手法( ’Tetrahedron’Le
tt.,』、29巻、1803ページ(1988年》に
より対応するジフルオロハロ酢酸誘導体(但し、ハロゲ
ン原子としてヨウ素原子、臭素原子あるいは塩素原子を
含む)と有機シリル化合物とを亜鉛等の0価金属反応剤
の存在下反応させることにより合威される.反応系中よ
り単離した後所望の反応に供することもできるが、水分
に対して極めて不安定なことから、単離することなくそ
のまま次の反応に用いることが好ましい.かかる2,2
−ジフル才ロケテンシリルアセタールは式[■]で表わ
される3,3−ジアルコキシプロペン誘導体に対して付
加し、続いて加水分解に供することにより式[11I]
で表わされる2,2ここで式[II]中、Rs.R6J
?は水素原子,アルキル基、アリール基、アルアルキル
基を表わすが,本発明における反応に対して不活性な種
々の特性基を有していてもよい.特性基としては保護さ
れていてもよい水酸基,エステル基、ハロゲン原子,ス
ルフィド基、スルホニル基、ニトロ基、ニトリル基、保
護されたアミノ基、イ主ノ基等が挙げられる Haはl
価アルコールの残基を表わし,通常炭素数1〜10のア
ルキル基やベンジル基などが採用される.アルキル基と
しては直鎖状アルキル基はもちろん,分岐アルキル基で
あってもよいが,特にメチル基、エチル基等の炭素数1
〜4の低級アルキル基が好ましい. なお式[III]において、R9は水素原子または1価
アルコールの残基を表わし、通常R!と同一基であるか
又は水素原子である. 反応系中で生戊させた2,2−ジフルオロケテンシリル
アセタールに対する不飽和化合物の使用量は、特に限定
されるものではないが、約0.01−1当量が適当であ
る.特に好ましくは,約0.1〜0.5当量が好ましい
.反応は無溶媒で行うこともできるが、溶媒を用いるこ
とが好ましい。溶媒としては、原料や生成物を溶解しか
つ非反応性の溶媒が適当であり、アセトニトリル、テト
ラヒドロフラン,ジエチルエーテル、1.4−ジオキサ
ン、ジメトキシエタン、ジメチルホルムアミド,ジメチ
ルスルホキシト,ベンゼン等が使用されるが、特にアセ
トニトリルが好ましい.反応温度は約−20〜80℃で
行なわれれるが、特に0℃〜室温が好ましい. 以下,本発明を実施例により具体的に説明するが、本発
明はこれら実施例に限定されるものではない。なお参考
例として、本発明化合物である2を出発物質としてスキ
ームlに示す合成経路による、各種酵素阻害等の生理活
性物質開発研究において幅広い応用が見込まれる5.5
一ジフルオロリジンlの誘導体の合成例を記述した. 1)NaBH4 CN CO.H 5 l スキームl 実施例 アルゴン雰囲気下、亜鉛末(220一g, 3.3mm
ol)をアセトニトリル(3ml)に懸濁させ,水冷下
ジフルオロヨード酢酸メチル(708■g, 3*mo
l).のアセトニトリル溶液(2ml)を5分かけて加
える.さらに同温度で5分攪拌後、トリエチルクロロシ
ラン(0.55ml, 3.3msol)を加えて5分
間攪拌する。水冷下、ケイ皮アルデヒドジェチルアセタ
ール(309mg, 1.5mmol)を加えて30分
間攪拌する.反応液に3%塩酸水溶液を加え、室温で1
0分間攪拌後,エーテルで抽出する.エーテル層を5%
炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で洗浄し、乾燥(無
水硫酸マグネシウム)後、減圧下濃縮する。残渣をシリ
カゲルカラムクロマト(ヘキサンー酢酸エチル60:1
)で精製し、表題化合物を71B(収率l7%)得た.
性状:無色油状物質 IR  cm−”  :  1779,1651.’H
−NMR(CDCIユ)δ : 7.25−7.38(
5H,+*),6.44(IH,d,J=12.6Hz
),5.05(18,dd,J=IO.OHz,  1
2.6Hz),3.91(IH,ddd,J−10.0
,Jll−r”14.4,  17.9Hz),3.7
6(3H,s),3.75−3.82(2H,m),1
.27(3H,J=7Hz). 19F−NMR(CDCI3):−47.2(d,JJ
4Hz),−47.5(d,J=18Hz), MS s/z: 270(M”),250(M”−IF
).225(M”−OEt),211(M”−COJe
),  161(M”−CF.GO.Me),上記例と
同様にジフルオロヨード酢酸メチル(944−g, 4
i+mol).亜鉛末(290mg, 4.4msol
). トリメチルクロロシラン(0.56ml, 4.
4mmol)、アセトニトリル(6■l)を反応させた
後,アクロレインジエチノレアセターノレ(2601g
, 2.0麿鵬o1)を水冷下加えて、同温度で30分
間攪拌する.抽出後シリカゲルカラムクロマト(ベンタ
ンーエーテル30:1)で精製し、2を90+++g 
(収率23%)得た.性状:S色油状物質 IR cm−’  : 1767,1658,’H−N
MR(CDCli)δ: 6.35(IH,d,J−1
2.7Hz),4.60(IH,dt,J=12.7,
 7.711z),3.86(3H,s), 3.73
(2H.q,J=7.0Hz),2.68(2H,dt
,J+++8.0, J.−,sl5.8Hz),1.
26(3H,t,J=7.0Hz).”F−NMR(E
ttO)  : −43.0(t, J−16Hz).
MS  m/z:  194(M中).  174(M
”−HF),高分解能MS: 194.0767 (計算値: CaHxtFtO:+, 194.075
4).考  (± 55−ジフルオロリジン(1の合成 2 (76B一g, 3.96m+aol)のメタノー
ル溶液(6ml)に水冷下、水素化ホウ素ナトリウム(
l66■g, 3,9Fv+sol)を加え、同温度で
30分間攪拌する.反応液をエーテルで希釈し、次いで
2%塩酸を加えて攪拌した後、エーテルで3回抽出する
。エーテル抽出液を5%炭酸水素差ナトリウム水溶液、
食塩水の順で洗浄、乾燥後、減圧下濃縮し、残液を次の
反応に用いた. この残渣の塩化メチレン(8ml)溶液にジイソプロビ
ノレエチノレアミン(1.52鳳1, 8.7■鳳o1
)を加えた後、ドライアイスーアセトン冷却下、トリフ
ルオロメタンスルホン酸無水物(0.73ml,4.3
6mmof)を加え、同温度で30分間攪拌する.反応
腋に5%炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、エーテルで
抽出する.エーテル抽出液を2%塩酸,5%炭酸水素ナ
トリウム水溶液,食塩水の順で洗浄、乾燥後、減圧下濃
縮し残渣を次の反応に用いた. この残渣のジメチルホルムアミド(10ml)溶液にア
ジ化ナトリウム(286mg, 3.96mmol)を
加えて室温で2時間攪拌後、反応掖に水を加えエーテル
で3回抽出する.エーテル抽出液を乾燥し,減圧下濃縮
する.残渣をシリカゲルカラムクロマト(ベンタンーエ
ーテル30:1)で精製し3を得た. 3の性状:無色油状物質 ”H−NMR(CD(:13)δ: 6.29(IH,
d,J−13Hz,5−H).4.60(1B,dt,
J−13. 7.5Hz),3.69(2H,q,J−
7Hz) ,3.38(2B,t,J,,−,sl2H
z) ,2.47(2H,dt,J=7. 5,JH−
r=16Hz) ,1.20(3H,t,J−7Hz)
. 3のTHF溶液(9■l)にトリフェニルホスフィン(
713mg, 2.72smol)を加え、室温で30
分間攪拌後、水(0.5ml)を加えてlO分間攪拌す
る.次いでトリエチルアくン(0.7ml, 5mso
l)、塩化ベンゾイル(5731g, 4.08−曽o
1)加えて室温で15時間攪拌する.反応液に水を加え
てエーテル抽出し、エーテル層を5%炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、食塩水で洗浄,乾燥、減圧下濃縮後、残渣を
シリカゲルカラムクロマト(ヘキサンー酢酸エチル5:
l)で精製して、4を582mg(2よりの通算収率5
5%)得た. 4の性状:無色油状物質 ”H−NMR(CDCI3)  δ : 7.15−7
.90(5H,m).7.00(18,brs,NH)
. 6.45(1B,d,JsI1:l.011z) ,4
.70(lH,dt,J−13.0,  7.5Hz)
,3.83(2H,dt,J=7.0,Jo−rI−1
3.5Hz) ,3.70(2H,q,J=7.0Hz
),2.48(2H,dt,J”7.5.JR−F=1
6HZ),1.20(311,t,J=7Hz),”F
−NMR(CDCIs): −40.3(m).± −
55−ジフル才ロリジン l 4 (250mg, 0.93mmol)のTHF一水
混合溶液(1:1, 4重g)に,濃塩酸を0.2厘l
加えて室温で1時間攪拌後、反応液をエーテルで抽出す
る。
エーテル抽出液を5%炭酸水素ナトリウム水溶液,食塩
水の順で洗浄後、乾燥する.減圧下濃縮し,残渣を次の
反応に用いた. この残渣のジオキサン溶液(3.2ml)に塩化アンモ
ニウム(loomg, 1.86mmol) .シアン
化カリウム(120B, 1.82mmol) ,濃ア
ンモニア水(2.311)を加え,室温で20時間攪拌
する.反応液に5%炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、
エーテルで3回抽出する.エーテル層を食塩水で洗浄し
,乾燥、減圧下濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマ
ト(ヘキサンー酢酸エチル1:2.5)で精製して,ア
くノニトリル体5を230mg(収率92%)得た. 5 (115mg, 0.43會鵬of)に6N塩酸を
加えて、100℃で12時間加熱する.冷却後、反応液
にエーテルを加え、水で抽出する。水層をさらにエーテ
ルで洗浄後、減圧下濃縮し、残渣をイオン交換樹脂(I
R−120B)クロマトグラフィー(5%アンモニア水
)で精製し、目的とする1を581g(収率74%)得
た. lの性状:白色結晶 mp:230°C ’H−NMR(D.0)δ: 3.60(IH,t,J
−5.5Hz),2.90(2H, t, JH−r−
15.4HZ)−1.80−2.00(4H,園).

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)下記式[ I ]で表わされる2,2−ジフルオロ
    ケテンシリルアセタールと下記式[II]で表わされる3
    ,3−ジアルコキシプロペン誘導体とを反応させること
    を特徴とする下記式 [III]で表わされる2,2−ジフルオロカルボン酸誘
    導体の製造法。 ▲数式、化学式、表等があります▼[ I ] ▲数式、化学式、表等があります▼[II] ▲数式、化学式、表等があります▼[III] 但し、R^1、R^8は1価アルコールの残基を表わし
    、R^2、R^3、R^4は同一又は異なりアルキル基
    、アリール基、アルアルキル基を表わし、R^5、R^
    6、R^7は同一又は異なり水素原子、アルキル基、ア
    リール基、アルアルキル基を表わ し、R^9は水素原子または1価アルコールの残基を表
    わす。
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