JPH03271225A - グアニン誘導体 - Google Patents
グアニン誘導体Info
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- JPH03271225A JPH03271225A JP2068935A JP6893590A JPH03271225A JP H03271225 A JPH03271225 A JP H03271225A JP 2068935 A JP2068935 A JP 2068935A JP 6893590 A JP6893590 A JP 6893590A JP H03271225 A JPH03271225 A JP H03271225A
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Landscapes
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は新規なグアニン誘導体に関する。本発明の化合
物は、優れた抗ウィルス作用を有し、抗ウィルス剤とし
て有用である。
物は、優れた抗ウィルス作用を有し、抗ウィルス剤とし
て有用である。
従来の技術
9−(2−ヒドロキシエトキシメチル)グアニン(アシ
クロビル、以下ACVと略す)は、各種DNA及びRN
Aウィルスに対し、in vitro及びin viv
oの両実験において抗ウィルス活性を有することが知ら
れており(英国特許出願第38278/74号)、抗ウ
ィルス剤として上布されている。しかしながら、ACV
は1日3回、8時間毎に1時間以上かけて7日間点滴静
注するか、又は1日5回の経口投与か必要であり、投与
において患者に対する肉体的負担か大きい為に、臨床上
の問題かある。この問題の解決策として、経口吸収を上
げるための試みが数多く行われているか、未たに有用な
化合物は得られていない。
クロビル、以下ACVと略す)は、各種DNA及びRN
Aウィルスに対し、in vitro及びin viv
oの両実験において抗ウィルス活性を有することが知ら
れており(英国特許出願第38278/74号)、抗ウ
ィルス剤として上布されている。しかしながら、ACV
は1日3回、8時間毎に1時間以上かけて7日間点滴静
注するか、又は1日5回の経口投与か必要であり、投与
において患者に対する肉体的負担か大きい為に、臨床上
の問題かある。この問題の解決策として、経口吸収を上
げるための試みが数多く行われているか、未たに有用な
化合物は得られていない。
発明が解決しようとする課題
本発明の目的は優れた抗ウィルス作用を有し、抗ウィル
ス剤として有用な化合物を提供することにある。
ス剤として有用な化合物を提供することにある。
本発明は一般式
[式中、R,、R2及びR3は同−又は相異なって、低
級アルキル基又はフェニル基を示し、R4は水素原子、
低級アシル基又は一般式 5i−R2(式中、RI % R2及びR3は前記3 に同じ。)で表わされる基を示す。]で表わされるグア
ニン誘導体に係る。
級アルキル基又はフェニル基を示し、R4は水素原子、
低級アシル基又は一般式 5i−R2(式中、RI % R2及びR3は前記3 に同じ。)で表わされる基を示す。]で表わされるグア
ニン誘導体に係る。
一般式(I)で表される本発明化合物は、優れた抗ウィ
ルス作用を有しており、抗ウィルス剤として有効である
。
ルス作用を有しており、抗ウィルス剤として有効である
。
上記一般式(1)においてR1、R2及びR3で示され
る低級アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル
、イソプロピル、ブチル、5ec−ブチル、tert−
ブチル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル基等の炭素
数1〜6の直鎖状又は分枝状のア、ルキル基を例示でき
る。R4で示される低級アシル基としては、アセチル、
プロピオニル、ブチリル、バレリル、ピバロイル基等の
炭素数2〜5の直鎖状又は分枝状のアシル基を例示でき
る。
る低級アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル
、イソプロピル、ブチル、5ec−ブチル、tert−
ブチル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル基等の炭素
数1〜6の直鎖状又は分枝状のア、ルキル基を例示でき
る。R4で示される低級アシル基としては、アセチル、
プロピオニル、ブチリル、バレリル、ピバロイル基等の
炭素数2〜5の直鎖状又は分枝状のアシル基を例示でき
る。
一般式(I)で表わされる本発明のグアニン誘導体は、
例えば下記反応工程式より製造される。
例えば下記反応工程式より製造される。
く反応工程式〉
[式中、R,、R2及びR3は前記に同じであり、Rは
炭素数1〜4のアルキル基を示す。](A法) 一般式(II)のACVを一般式(m)で表わされるハ
ロゲノシリル化合物と適当な溶媒中、塩基触媒の存在下
に反応させることにより、目的の一般式(Ia)又は(
Ib)で表わされるグアニン誘導体を得る。溶媒として
は反応に関与しないものであれば特に制限はなく、従来
公知のものを広く使用できる。例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、エーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、アセトニ
トリル、ピリジン、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド等の非プロトン性溶媒等を単独であるいは複
数混合して使用できる。塩基触媒としては、ジメチルア
ミノピリジン、2,6ルチジン、イミダゾール、トリエ
チルアミン等の有機塩基が好適に用いられる。反応の割
合は、ACVIモルに対し、通常、一般式(m)で表わ
されるハロゲノシリル化合物を0.5〜6モル程度、塩
基触媒を1〜10モル程度使用するのが好ましい。又、
反応温度は0〜80℃、好ましくは0℃から室温程度で
あり、反応時間は使用する溶媒、塩基触媒の種類により
異なるが、通常0.5〜20時間程時間先結する。
炭素数1〜4のアルキル基を示す。](A法) 一般式(II)のACVを一般式(m)で表わされるハ
ロゲノシリル化合物と適当な溶媒中、塩基触媒の存在下
に反応させることにより、目的の一般式(Ia)又は(
Ib)で表わされるグアニン誘導体を得る。溶媒として
は反応に関与しないものであれば特に制限はなく、従来
公知のものを広く使用できる。例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、エーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、アセトニ
トリル、ピリジン、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド等の非プロトン性溶媒等を単独であるいは複
数混合して使用できる。塩基触媒としては、ジメチルア
ミノピリジン、2,6ルチジン、イミダゾール、トリエ
チルアミン等の有機塩基が好適に用いられる。反応の割
合は、ACVIモルに対し、通常、一般式(m)で表わ
されるハロゲノシリル化合物を0.5〜6モル程度、塩
基触媒を1〜10モル程度使用するのが好ましい。又、
反応温度は0〜80℃、好ましくは0℃から室温程度で
あり、反応時間は使用する溶媒、塩基触媒の種類により
異なるが、通常0.5〜20時間程時間先結する。
(B法)
一般式(Ia)で表わされる化合物を一般式(IV)で
表わされる酸無水物と適当な溶媒中、塩基触媒の存在下
に反応させることにより、目的の一般式(Ic)で表わ
されるグアニン誘導体を得る。酸無水物としては、前記
R4で示される低級アシル基に対応するアシル部を有す
る脂肪酸の無水物を用いればよく、例えば無水酢酸、無
水プロピオン酸、無水酪酸、無水吉草酸、無水ピバル酸
等を使用できる。溶媒としては反応に関与しないもので
あれば特に制限はなく、従来公知のものを広く使用でき
る。例えば前記の記載の溶媒を単独であるいは複数混合
して使用できる。塩基触媒も前記に記載の有機塩基が好
適に用いられる。反応の割合は、一般式(Ia)で表わ
される化合物1モルに対し、通常、一般式(IV)で表
わされる酸無水物を1〜8モル程度、塩基触媒を0.1
〜5モル程度使用するのが好ましい。又、反応温度は0
〜50℃、好ましくは0℃から室温程度であり、反応時
間は使用する溶媒、塩基触媒の種類により異なるが、通
常0.5〜20時間程時間先結する。
表わされる酸無水物と適当な溶媒中、塩基触媒の存在下
に反応させることにより、目的の一般式(Ic)で表わ
されるグアニン誘導体を得る。酸無水物としては、前記
R4で示される低級アシル基に対応するアシル部を有す
る脂肪酸の無水物を用いればよく、例えば無水酢酸、無
水プロピオン酸、無水酪酸、無水吉草酸、無水ピバル酸
等を使用できる。溶媒としては反応に関与しないもので
あれば特に制限はなく、従来公知のものを広く使用でき
る。例えば前記の記載の溶媒を単独であるいは複数混合
して使用できる。塩基触媒も前記に記載の有機塩基が好
適に用いられる。反応の割合は、一般式(Ia)で表わ
される化合物1モルに対し、通常、一般式(IV)で表
わされる酸無水物を1〜8モル程度、塩基触媒を0.1
〜5モル程度使用するのが好ましい。又、反応温度は0
〜50℃、好ましくは0℃から室温程度であり、反応時
間は使用する溶媒、塩基触媒の種類により異なるが、通
常0.5〜20時間程時間先結する。
上記反応工程式で得られた本発明化合物は、濃縮、濾過
、再結晶、各種クロマトグラフィー等の通常当分野で用
いられる手段により単離、精製される。
、再結晶、各種クロマトグラフィー等の通常当分野で用
いられる手段により単離、精製される。
実施例
次に実施例を示し、本発明を更に詳しく説明する。
〈実施例1〉
N2−t−ブチルジメチルシリル−9−(tブチルジメ
チルシリルオキシエトキシメチル)グアニン(化合物1
)および9−(t−ブチルジメチルシリルオキシエトキ
シメチル)グアニン(化合物2)の台底 A CV 1.25g (5,55mmol)のジメ
チルホルムアミド溶液10+alにイミダゾール1.3
6g (20,00ahaol)及びt−ブチルジメチ
ルシリルクロライド3g (19,991111001
)を加え、室温で16時間攪拌した。反応終了後、酢酸
エチルで抽出し、乾燥、留去した。得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタ
ノール=10:1)にて精製し、2つのフラクションを
得た。各フラクションをエーテル・ヘキサンにて結晶化
させることにより、第1フラクシヨンよりN2−t−ブ
チルジメチルシリル−9−(t−ブチルジメチルシリル
オキシエトキシメチル)グアニン(化合物1)を810
ttig (収率32%)得た。
チルシリルオキシエトキシメチル)グアニン(化合物1
)および9−(t−ブチルジメチルシリルオキシエトキ
シメチル)グアニン(化合物2)の台底 A CV 1.25g (5,55mmol)のジメ
チルホルムアミド溶液10+alにイミダゾール1.3
6g (20,00ahaol)及びt−ブチルジメチ
ルシリルクロライド3g (19,991111001
)を加え、室温で16時間攪拌した。反応終了後、酢酸
エチルで抽出し、乾燥、留去した。得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタ
ノール=10:1)にて精製し、2つのフラクションを
得た。各フラクションをエーテル・ヘキサンにて結晶化
させることにより、第1フラクシヨンよりN2−t−ブ
チルジメチルシリル−9−(t−ブチルジメチルシリル
オキシエトキシメチル)グアニン(化合物1)を810
ttig (収率32%)得た。
融点242〜244℃
’ H−N M R(DMSO−ds ) δppm
:10.51(LH,b、1位旦) 、7.86
(LH,s、8位H)、5.82 (LH,b、−Nl
+−)、5.39(2H,s、−C1(20CII 2
−)、3.52〜3.80 (4H,m、−0CH2C
H20−) 、0.9B、 0.83(18H、s
、 t−ブチル基H) 、0.29 (6H,s。
:10.51(LH,b、1位旦) 、7.86
(LH,s、8位H)、5.82 (LH,b、−Nl
+−)、5.39(2H,s、−C1(20CII 2
−)、3.52〜3.80 (4H,m、−0CH2C
H20−) 、0.9B、 0.83(18H、s
、 t−ブチル基H) 、0.29 (6H,s。
−3t (CH3) 2−NH−) 、0.01 (
6H,s。
6H,s。
−03i (CH3) 2−)
又、第2フラクシヨンより9−(t−ブチルジメチルシ
リルオキシエトキシメチル)グアニン(化合物2)を7
00 mg (収率37%)得た。
リルオキシエトキシメチル)グアニン(化合物2)を7
00 mg (収率37%)得た。
融点272〜273℃
’ H−N M R(DMSO−66)δppm :3
.50〜3.80 (4H,m、−0CH2C1(20
−) 、0.82 (9H。
.50〜3.80 (4H,m、−0CH2C1(20
−) 、0.82 (9H。
s、t−ブチル基H) 、0.03(61(、s、−0
3i(Cll 3 ) 2− )〈実施例2〉 9−(t−ブチルジフェニルシリルオキシエトキシメチ
ル)グアニン(化合物3)の合成ACVl、Og (4
,44mmol)のジメチルホルムアミド溶液10a+
Iにイミダゾール1.21g (17,76mmol)
及びt−ブチルジフェニルシリルクロライド1.83g
(6,66mmoすを加え、室温で16時間攪拌した
。
3i(Cll 3 ) 2− )〈実施例2〉 9−(t−ブチルジフェニルシリルオキシエトキシメチ
ル)グアニン(化合物3)の合成ACVl、Og (4
,44mmol)のジメチルホルムアミド溶液10a+
Iにイミダゾール1.21g (17,76mmol)
及びt−ブチルジフェニルシリルクロライド1.83g
(6,66mmoすを加え、室温で16時間攪拌した
。
反応終了後、酢酸エチルで抽出し、乾燥、留去した。得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ク
ロロホルム:メタノール=lO:1)にて精製後、結晶
化させ、油集し、9−(t−ブチルジフェニルシリルオ
キシエトキシメチル)グアニン(化合物3)を1.77
g (収率86%)得た。
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ク
ロロホルム:メタノール=lO:1)にて精製後、結晶
化させ、油集し、9−(t−ブチルジフェニルシリルオ
キシエトキシメチル)グアニン(化合物3)を1.77
g (収率86%)得た。
融点248〜250℃
1H−N M R(DMSO−d 6)δppm :1
0.65(LH,b、1位H) 、7.80 (LH,
s、8位H)、7.20〜7.84(1011,m、フ
ェニル)、6.50 (2H,b。
0.65(LH,b、1位H) 、7.80 (LH,
s、8位H)、7.20〜7.84(1011,m、フ
ェニル)、6.50 (2H,b。
N1(2−)、5.37 (2H,S、 −CH20C
H2−)、3.44〜3゜80 (4H,10,−0C
H2CH20−) 、0.94 (9H,s、 t−ブ
チル基H) 〈実施例3〉 N2−アセチル−9−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シエトキシメチル)グアニン(化合物4)の合成 実施例1で得た9−(t−ブチルジメチルシリルオキシ
エトキシメチル)グアニン600 mg (1,77m
mol)のピリジン溶液5mlに無水酢酸668 mg
(6゜54mmol) 、ジメチルアミノピリジン0
.03g (0,24mmol)を加え、室温で10時
間攪拌した。反応終了後、酢酸エチルを加え、塩化アン
モニウム水、水で順次洗浄後、乾燥、留去した。得られ
た残渣をメタノール・エーテルにて結晶化後、油集し、
N2−アセチル−9−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シエトキシメチル)グアニン(化合物4)を850 m
g (収率96%)得た。
H2−)、3.44〜3゜80 (4H,10,−0C
H2CH20−) 、0.94 (9H,s、 t−ブ
チル基H) 〈実施例3〉 N2−アセチル−9−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シエトキシメチル)グアニン(化合物4)の合成 実施例1で得た9−(t−ブチルジメチルシリルオキシ
エトキシメチル)グアニン600 mg (1,77m
mol)のピリジン溶液5mlに無水酢酸668 mg
(6゜54mmol) 、ジメチルアミノピリジン0
.03g (0,24mmol)を加え、室温で10時
間攪拌した。反応終了後、酢酸エチルを加え、塩化アン
モニウム水、水で順次洗浄後、乾燥、留去した。得られ
た残渣をメタノール・エーテルにて結晶化後、油集し、
N2−アセチル−9−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シエトキシメチル)グアニン(化合物4)を850 m
g (収率96%)得た。
融点195〜196℃
1H−N M R(DMSO−d6)δppm ニー)
、3.44〜3.60 (411,IL −0CH2C
H20−) 、2.20(311,S、C113Co−
)、0.82 (911,s、t−ブチル基旦)、0.
03 (6H,s、−03i (CH3) 2−)〈実
施例4〉 N2−アセチル−9−(t−ブチルジフェニルシリルオ
キシエトキシメチル)グアニン(化合物5)の合成 実施例2で得たつ−(t−ブチルジフェニルシリルオキ
シエトキシメチル)グアニン300 mg (0゜64
mmol)と無水酢酸を用い、実施例3と同様な方法に
よりN2−アセチル−9−(t−ブチルジフェニルシリ
ルオキシエトキシメチル)グアニン(化合物5)を29
0 mg (収率89%)得た。
、3.44〜3.60 (411,IL −0CH2C
H20−) 、2.20(311,S、C113Co−
)、0.82 (911,s、t−ブチル基旦)、0.
03 (6H,s、−03i (CH3) 2−)〈実
施例4〉 N2−アセチル−9−(t−ブチルジフェニルシリルオ
キシエトキシメチル)グアニン(化合物5)の合成 実施例2で得たつ−(t−ブチルジフェニルシリルオキ
シエトキシメチル)グアニン300 mg (0゜64
mmol)と無水酢酸を用い、実施例3と同様な方法に
よりN2−アセチル−9−(t−ブチルジフェニルシリ
ルオキシエトキシメチル)グアニン(化合物5)を29
0 mg (収率89%)得た。
融点235〜237℃
lH−N M R(DMSO−ds )δppm :1
2.06(LH,b、1位H) 、11.77(LH,
b、AcNH−)、8.13 (LH,s、8位H)
、7.20〜7.84 (IOH、tn、フェニル)
、5.50 (211,S、−CH20CH22)、3
.48〜3.80 (4H,m、 −0C112CH
20−) 、2.19 (3H,S+CH3Co−)、
0.92 (911,s、t−ブチル基H)(以上)
2.06(LH,b、1位H) 、11.77(LH,
b、AcNH−)、8.13 (LH,s、8位H)
、7.20〜7.84 (IOH、tn、フェニル)
、5.50 (211,S、−CH20CH22)、3
.48〜3.80 (4H,m、 −0C112CH
20−) 、2.19 (3H,S+CH3Co−)、
0.92 (911,s、t−ブチル基H)(以上)
Claims (1)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R_1、R_2及びR_3は同一又は相異なっ
て、低級アルキル基又はフェニル基を示し、R_4は、
水素原子、低級アシル基又は一般式▲数式、化学式、表
等があります▼(式中、R_1、R_2及びR_3は前
記に同じ。)で表わされる基を示す。]で表わされるグ
アニン誘導体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2068935A JPH03271225A (ja) | 1990-03-19 | 1990-03-19 | グアニン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2068935A JPH03271225A (ja) | 1990-03-19 | 1990-03-19 | グアニン誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03271225A true JPH03271225A (ja) | 1991-12-03 |
Family
ID=13388020
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2068935A Pending JPH03271225A (ja) | 1990-03-19 | 1990-03-19 | グアニン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03271225A (ja) |
-
1990
- 1990-03-19 JP JP2068935A patent/JPH03271225A/ja active Pending
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