JPH03270216A - 荷電粒子ビーム描画方法 - Google Patents
荷電粒子ビーム描画方法Info
- Publication number
- JPH03270216A JPH03270216A JP2072337A JP7233790A JPH03270216A JP H03270216 A JPH03270216 A JP H03270216A JP 2072337 A JP2072337 A JP 2072337A JP 7233790 A JP7233790 A JP 7233790A JP H03270216 A JPH03270216 A JP H03270216A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- data
- drawn
- hypotenuse
- axis
- adder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims description 22
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims description 14
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 abstract description 60
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 63
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 29
- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000002039 particle-beam lithography Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[目次]
概要
産業上の利用分野
従来の技術(第14図)
発明が解決しようとする課題
課題を解決するための手段
作用(第1図〉
実施例(第2図〜第13図)
A1本実施例の概要
B1図形データのLi様
C1実施装置の一例
り、パターン発生回路の動作例
E9本本実側の効果
発明の効果
[概要コ
荷電粒子ビームの断面形状を所望の大きさの矩形に成形
して描画を行う荷電粒子ビーム描画方法に関し、 描画すべき図形が非矩形、かつ、それが有する斜辺のX
軸に対する角度が45度でない場合に、その斜辺をスム
ースな形状に描画できるようにすることを目的とし、 図形データを、オペレーション・コード、始点データ、
大きさデータ及び前記斜辺の角度を表示するデータで構
成し、前記斜辺の前記X軸に対する角度が45度よりも
大きい場合には、前記荷電粒子ビームを前記X軸に平行
なY軸方向の幅を一定とする複数の矩形に成形すること
によって前記斜辺を含む領域を描画し、前記斜辺の前記
X軸に対する角度が45度よりも小さい場合には、前記
荷電粒子ビームを前記YIl[lに平行なX軸方向の幅
を一定とする複数の矩形に成形することによって前記斜
辺を含む領域を描画する。
して描画を行う荷電粒子ビーム描画方法に関し、 描画すべき図形が非矩形、かつ、それが有する斜辺のX
軸に対する角度が45度でない場合に、その斜辺をスム
ースな形状に描画できるようにすることを目的とし、 図形データを、オペレーション・コード、始点データ、
大きさデータ及び前記斜辺の角度を表示するデータで構
成し、前記斜辺の前記X軸に対する角度が45度よりも
大きい場合には、前記荷電粒子ビームを前記X軸に平行
なY軸方向の幅を一定とする複数の矩形に成形すること
によって前記斜辺を含む領域を描画し、前記斜辺の前記
X軸に対する角度が45度よりも小さい場合には、前記
荷電粒子ビームを前記YIl[lに平行なX軸方向の幅
を一定とする複数の矩形に成形することによって前記斜
辺を含む領域を描画する。
[産業上の利用分野コ
本発明は、LSI製造工程において適用される電子ビー
ム描画等、荷電粒子ビームを使用して行う描画方法、よ
り詳しくは、荷電粒子ビームの断面形状を所望の大きさ
の矩形に成形して描画を行う荷電粒子ビーム描画方法に
関する。
ム描画等、荷電粒子ビームを使用して行う描画方法、よ
り詳しくは、荷電粒子ビームの断面形状を所望の大きさ
の矩形に成形して描画を行う荷電粒子ビーム描画方法に
関する。
近年、LSIの高集積化に伴い、長年、微細パターン形
成の主流であったフォトリソグラフィに代わり、電子ビ
ームを使用する描画装置が使用されるようになってきた
。
成の主流であったフォトリソグラフィに代わり、電子ビ
ームを使用する描画装置が使用されるようになってきた
。
[従来の技術]
電子ビーム描画装置においては、矩形のほか、直角二等
辺三角形(以下、標準角三角形という)の描画を求めら
れる場合がある。この場合、従来においては、第14図
A〜Dに示すようにして描画が行われていた。
辺三角形(以下、標準角三角形という)の描画を求めら
れる場合がある。この場合、従来においては、第14図
A〜Dに示すようにして描画が行われていた。
例えば、第14図Aは、描画すべき標準角三角形をX軸
に平行なY軸方向の辺を一定とする細長い短冊状の矩形
の集合体で擬制し、これら矩形のうちX軸方向の辺が最
大ビームサイズを越えている矩形部分1については、最
大ビームサイズを限界として等分割した矩形に電子ビー
ムを成形し、また、標準角三角形を擬制した矩形のうち
、X軸方向の辺が最大ビームサイズを越えていない矩形
部分2については、電子ビームをその矩形に成形して描
画を行う場合を示している。
に平行なY軸方向の辺を一定とする細長い短冊状の矩形
の集合体で擬制し、これら矩形のうちX軸方向の辺が最
大ビームサイズを越えている矩形部分1については、最
大ビームサイズを限界として等分割した矩形に電子ビー
ムを成形し、また、標準角三角形を擬制した矩形のうち
、X軸方向の辺が最大ビームサイズを越えていない矩形
部分2については、電子ビームをその矩形に成形して描
画を行う場合を示している。
また、第14図Bは、描画すべき標準角三角形のX軸方
向の大きさX2を最大ビームサイズを限界として等分割
した場合のピッチサイズXpと、Y軸方向の大きさY2
を最大ビームサイズを限界として等分割した場合のピッ
チサイズYρとを算出し、標準角三角形を、XP及びy
pをそれぞれX軸方向の辺の長さ及びY軸方向の辺の長
さとする矩形3と、小三角形4とに区分し、矩形3の部
分については、電子ビームを矩形3と同一形状に成形し
、小三角形4の部分については、電子ビームを、X軸方
向の辺を可変、Y軸方向の辺を一定とする矩形5とに成
形して描画を行う場合を示しており、これは第14図A
の場合よりも電子ビームのショツト数を減らし、スルー
プットの向上を図ろうとするものである。
向の大きさX2を最大ビームサイズを限界として等分割
した場合のピッチサイズXpと、Y軸方向の大きさY2
を最大ビームサイズを限界として等分割した場合のピッ
チサイズYρとを算出し、標準角三角形を、XP及びy
pをそれぞれX軸方向の辺の長さ及びY軸方向の辺の長
さとする矩形3と、小三角形4とに区分し、矩形3の部
分については、電子ビームを矩形3と同一形状に成形し
、小三角形4の部分については、電子ビームを、X軸方
向の辺を可変、Y軸方向の辺を一定とする矩形5とに成
形して描画を行う場合を示しており、これは第14図A
の場合よりも電子ビームのショツト数を減らし、スルー
プットの向上を図ろうとするものである。
また、第14図Cは、描画すべき標準角三角形をY軸に
平行なX軸方向の辺を一定とする細長い短冊状の矩形の
集合体で擬制し、これら矩形のうちY軸方向の辺が最大
ビームサイズを越えている矩形部分6については、最大
ビームサイズを限界として等分割した矩形に電子ビーム
を成形し、また、標準角三角形を擬制した矩形のうち、
Y軸方向の辺が最大ビームサイズを越えていない矩形部
分7については、電子ビームをその矩形に成形して描画
を行う場合を示している。
平行なX軸方向の辺を一定とする細長い短冊状の矩形の
集合体で擬制し、これら矩形のうちY軸方向の辺が最大
ビームサイズを越えている矩形部分6については、最大
ビームサイズを限界として等分割した矩形に電子ビーム
を成形し、また、標準角三角形を擬制した矩形のうち、
Y軸方向の辺が最大ビームサイズを越えていない矩形部
分7については、電子ビームをその矩形に成形して描画
を行う場合を示している。
また、第14図りは、第14図Bと同様に、描画すべき
標準角三角形のX軸方向の大きさX2を最大ビームサイ
ズを限界として等分割した場合のピッチサイズXpと、
Y軸方向の大きさY2を最大ビームサイズを限界として
等分割した場合のピッチサイズYpとを算出し、標準角
三角形を、XP及びYpをそれぞれX軸方向の辺の長さ
及びY軸方向の辺の長さとする矩形3と、小三角形4と
に区分し、矩形3の部分については、電子ビームを矩形
3と同一形状に成形し、小三角形4の部分については、
電子ビームを、X軸方向の辺を可変、Y軸方向の辺を一
定とする矩形8とに成形して描画を行う場合を示してお
り、これは第14図Cの場合よりも電子ビームのショツ
ト数を減らし、スループットの向上を図ろうとするもの
である。
標準角三角形のX軸方向の大きさX2を最大ビームサイ
ズを限界として等分割した場合のピッチサイズXpと、
Y軸方向の大きさY2を最大ビームサイズを限界として
等分割した場合のピッチサイズYpとを算出し、標準角
三角形を、XP及びYpをそれぞれX軸方向の辺の長さ
及びY軸方向の辺の長さとする矩形3と、小三角形4と
に区分し、矩形3の部分については、電子ビームを矩形
3と同一形状に成形し、小三角形4の部分については、
電子ビームを、X軸方向の辺を可変、Y軸方向の辺を一
定とする矩形8とに成形して描画を行う場合を示してお
り、これは第14図Cの場合よりも電子ビームのショツ
ト数を減らし、スループットの向上を図ろうとするもの
である。
[発明が解決しようとする課題]
ところで、近年、電子ビーム露光装置においては、LS
Iの高集積化に対応して、X軸に対して45°以外の角
度をなす斜辺を有してなる直角三角形(以下、任意角三
角形という)や平行四辺形(以下、任意角平行四辺形と
いう)等の非矩形を描画できるようにすることが要求さ
れている。この場合、かかる非矩形の斜辺を、いかにし
てスムースな形状に描画するかが、高精度な図形を描画
する上で重要な問題となる。
Iの高集積化に対応して、X軸に対して45°以外の角
度をなす斜辺を有してなる直角三角形(以下、任意角三
角形という)や平行四辺形(以下、任意角平行四辺形と
いう)等の非矩形を描画できるようにすることが要求さ
れている。この場合、かかる非矩形の斜辺を、いかにし
てスムースな形状に描画するかが、高精度な図形を描画
する上で重要な問題となる。
本発明は、かかる点に鑑み、荷電粒子ビームの断面形状
を所望の大きさの矩形に成形して描画を行う荷電粒子ビ
ーム描画方法において、描画すべき図形が非矩形、かつ
、それが有する斜辺のX軸に対する角度が45度でない
場合、その斜辺をスムースな形状に描画できるようにす
ることを目的とする。
を所望の大きさの矩形に成形して描画を行う荷電粒子ビ
ーム描画方法において、描画すべき図形が非矩形、かつ
、それが有する斜辺のX軸に対する角度が45度でない
場合、その斜辺をスムースな形状に描画できるようにす
ることを目的とする。
[課題を解決するための手段]
本発明の荷電粒子ビーム描画方法は、荷電粒子ビームの
断面形状を所望の大きさの矩形に成形して描画を行う荷
電粒子ビーム描画方法において、描画すべき図形が非矩
形、かつ、それが有する斜辺のX軸に対する角度が45
度でない場合、描画すべき図形が非矩形、かつ、それが
有する斜辺のX軸に対する角度が45度でない場合、図
形データを、オペレーション・コード(以下、オペ・コ
ードという)、始点データ、大きさデータ及び前記斜辺
の角度を表示するデータで槽底し、前記斜辺の前記X軸
に対する角度が45度よりも大きい場合には、前記荷電
粒子ビームを前記X軸に平行なY軸方向の幅を一定とす
る複数の矩形に成形することによって前記斜辺を含む領
域を描画し、前記斜辺の前記X軸に対する角度が45度
よりも小さい場合には、前記荷電粒子ビームを前記Y軸
に平行なX軸方向の幅を一定とする複数の矩形に成形す
ることによって前記斜辺を含む領域を描画する、という
ものである。
断面形状を所望の大きさの矩形に成形して描画を行う荷
電粒子ビーム描画方法において、描画すべき図形が非矩
形、かつ、それが有する斜辺のX軸に対する角度が45
度でない場合、描画すべき図形が非矩形、かつ、それが
有する斜辺のX軸に対する角度が45度でない場合、図
形データを、オペレーション・コード(以下、オペ・コ
ードという)、始点データ、大きさデータ及び前記斜辺
の角度を表示するデータで槽底し、前記斜辺の前記X軸
に対する角度が45度よりも大きい場合には、前記荷電
粒子ビームを前記X軸に平行なY軸方向の幅を一定とす
る複数の矩形に成形することによって前記斜辺を含む領
域を描画し、前記斜辺の前記X軸に対する角度が45度
よりも小さい場合には、前記荷電粒子ビームを前記Y軸
に平行なX軸方向の幅を一定とする複数の矩形に成形す
ることによって前記斜辺を含む領域を描画する、という
ものである。
[作用]
本発明によれば、描画すべき図形が非矩形で、それが有
する斜辺のX軸に対する角度が45度でない場合、例え
ば、任意角三角形で、それが有する斜辺のX軸に対する
角度が45度よりも大きい場合には、例えば、第1図A
に示すように描画される。なお、破線9は任意角三角形
の斜辺を示し、実線10は成形された電子ビームの形状
を示している。
する斜辺のX軸に対する角度が45度でない場合、例え
ば、任意角三角形で、それが有する斜辺のX軸に対する
角度が45度よりも大きい場合には、例えば、第1図A
に示すように描画される。なお、破線9は任意角三角形
の斜辺を示し、実線10は成形された電子ビームの形状
を示している。
ここに、第1図Bは、第1図Aの場合と同様のパターン
ルールの下に、荷電粒子ビームの断面形状をX軸方向の
辺を一定、Y軸方向の辺を可変とする矩形11に成形す
ることによって、斜辺5を含む領域を描画する場合を示
している。
ルールの下に、荷電粒子ビームの断面形状をX軸方向の
辺を一定、Y軸方向の辺を可変とする矩形11に成形す
ることによって、斜辺5を含む領域を描画する場合を示
している。
これら第1図A及びBからも明白なように、第1図Aの
場合の方が、第1図Bの場合よりも、より多くの矩形電
子ビームを使用して斜辺9を含む領域を形成することに
なるので、その分、斜辺9の形状をスムースに描画する
ことができる。
場合の方が、第1図Bの場合よりも、より多くの矩形電
子ビームを使用して斜辺9を含む領域を形成することに
なるので、その分、斜辺9の形状をスムースに描画する
ことができる。
また、本発明によれば、描画すべき図形が、例えば、任
意角三角形で、それが有する斜辺のX軸に対する角度が
45度よりも小さい場合には、例えば、第1図Cに示す
ように描画される。なお、破線12は任意角三角形の斜
辺を示し、実線13は成形された電子ビームの形状を示
している。
意角三角形で、それが有する斜辺のX軸に対する角度が
45度よりも小さい場合には、例えば、第1図Cに示す
ように描画される。なお、破線12は任意角三角形の斜
辺を示し、実線13は成形された電子ビームの形状を示
している。
ここに、第1図りは、第1図Cの場合と同様のパターン
ルールの下に、荷電粒子ビームの断面形状をX軸方向の
辺を可変、Y軸方向の辺を一定とする矩形14に成形す
ることによって、斜辺12を含む領域を描画する場合を
示している。
ルールの下に、荷電粒子ビームの断面形状をX軸方向の
辺を可変、Y軸方向の辺を一定とする矩形14に成形す
ることによって、斜辺12を含む領域を描画する場合を
示している。
これら第1図C及びDからも明白なように、第1図Cの
場合の方が、第1図りの場合よりも、より多くの矩形電
子ビームを使用して斜辺12を含む領域を形成すること
になるので、その分、斜辺12の形状をスムースに描画
することができる。
場合の方が、第1図りの場合よりも、より多くの矩形電
子ビームを使用して斜辺12を含む領域を形成すること
になるので、その分、斜辺12の形状をスムースに描画
することができる。
このように、本発明によれば、描画すべき図形が非矩形
、かつ、それが有する斜辺のX軸に対する角度が45度
でない場合、その斜辺をスムースな形状に描画すること
ができる。
、かつ、それが有する斜辺のX軸に対する角度が45度
でない場合、その斜辺をスムースな形状に描画すること
ができる。
[実施例]
以下、第2図〜第13図を参照して1本発明の一実施例
につき、本発明を電子ビーム描画方法に適用した場合を
例にして、(A)本実施例の概要、(B)図形データの
態様、(C)実施装置の一例、(D>パターン発生回路
の動作、(E)本実施例の効果、に項を分けて説明する
。
につき、本発明を電子ビーム描画方法に適用した場合を
例にして、(A)本実施例の概要、(B)図形データの
態様、(C)実施装置の一例、(D>パターン発生回路
の動作、(E)本実施例の効果、に項を分けて説明する
。
A1本実施例の概要
本実施例の電子ビーム露光方法は、描画すべき図形が矩
形、標準角三角形の場合には、従来の場合と同様の方法
によって描画し、描画すべき図形が任意角三角形、任意
角平行四辺形の場合には、斜辺のX軸に対する角度が4
5度よりも大きい場合には、電子ビームをX軸に平行な
Y軸方向の幅を一定とする複数の矩形に成形することに
よって斜辺を含む領域を描画し、斜辺のX軸に対する角
度が45度よりも小さい場合には、電子ビームをY軸に
平行なX軸方向の幅を一定とする複数の矩形に成形する
ことによって斜辺を含む領域を描画する、というもので
ある。
形、標準角三角形の場合には、従来の場合と同様の方法
によって描画し、描画すべき図形が任意角三角形、任意
角平行四辺形の場合には、斜辺のX軸に対する角度が4
5度よりも大きい場合には、電子ビームをX軸に平行な
Y軸方向の幅を一定とする複数の矩形に成形することに
よって斜辺を含む領域を描画し、斜辺のX軸に対する角
度が45度よりも小さい場合には、電子ビームをY軸に
平行なX軸方向の幅を一定とする複数の矩形に成形する
ことによって斜辺を含む領域を描画する、というもので
ある。
B1図形データの態様(第2図〜第5図)本実施例にお
いては、描画すべき図形が第3図A〜Dに示すような標
準角三角形である場合、図形データは、第2図Aに示す
ように、オペ・コード、始点データ(XI、Yl〉、大
きさデータ(X2、Y2)で構成される。オペ・コード
には、形状コードとして、第3図A〜Dに示す4個の方
向性を有する標準角三角形がそれぞれ、例えば、コード
1〜4として表示される。
いては、描画すべき図形が第3図A〜Dに示すような標
準角三角形である場合、図形データは、第2図Aに示す
ように、オペ・コード、始点データ(XI、Yl〉、大
きさデータ(X2、Y2)で構成される。オペ・コード
には、形状コードとして、第3図A〜Dに示す4個の方
向性を有する標準角三角形がそれぞれ、例えば、コード
1〜4として表示される。
また、描画すべき図形が第4図A〜Hに示すような任意
角三角形の場合には、図形データは、第2図Bに示すよ
うに、オペ・コード、始点データ(Xi、Yl)、大き
さデータ(X2、Y2>、斜辺の角度データ(tanθ
)で構成される。オペ・コードには、形状コードとして
、第4図A〜Hに示す8個の三角形がそれぞれ例えば、
コード5〜12として表示される。なお、コード5〜8
の任意角三角形は、斜辺のX軸に対する角度が45度よ
りも大きい場合であって、この場合には、角度データ(
tanθ)はX2/Y2の値で表示される。また、コー
ド9〜12の任意角三角形は、斜辺のX軸に対する角度
が45度よりも小さい場合であって、この場合には、角
度データ(tanθ)は、Y2/X2の値で表示される
。
角三角形の場合には、図形データは、第2図Bに示すよ
うに、オペ・コード、始点データ(Xi、Yl)、大き
さデータ(X2、Y2>、斜辺の角度データ(tanθ
)で構成される。オペ・コードには、形状コードとして
、第4図A〜Hに示す8個の三角形がそれぞれ例えば、
コード5〜12として表示される。なお、コード5〜8
の任意角三角形は、斜辺のX軸に対する角度が45度よ
りも大きい場合であって、この場合には、角度データ(
tanθ)はX2/Y2の値で表示される。また、コー
ド9〜12の任意角三角形は、斜辺のX軸に対する角度
が45度よりも小さい場合であって、この場合には、角
度データ(tanθ)は、Y2/X2の値で表示される
。
また、描画すべき図形が第5図A〜Hに示すような平行
四辺形の場合、図形データは、第2図Cに示すように、
オペ・コード、始点データ(XI、Yl)、大きさデー
タ(X2、Y2〉、斜辺の角度データ(tanθ)で構
成される。オペ・コードには、形状コードとして、第5
図A〜Hに示す8個の平行四辺形がそれぞれ、例えば、
コード13〜20として表示される。なお、コード13
〜16の平行四辺形は、斜辺のX軸に対する角度が45
度よりも大きい場合であって、この場合には、角度デー
タ(tanθ〉は、斜辺のX軸成分を斜辺のY軸成分で
割った値で表示される。また、コード17〜20の平行
四辺形は、斜辺のX軸に対する角度が45度よりも小さ
い場合であって、この場合には、角度データ(tanθ
)は、斜辺のY軸成分を斜辺のX軸成分で割った値で表
示される。
四辺形の場合、図形データは、第2図Cに示すように、
オペ・コード、始点データ(XI、Yl)、大きさデー
タ(X2、Y2〉、斜辺の角度データ(tanθ)で構
成される。オペ・コードには、形状コードとして、第5
図A〜Hに示す8個の平行四辺形がそれぞれ、例えば、
コード13〜20として表示される。なお、コード13
〜16の平行四辺形は、斜辺のX軸に対する角度が45
度よりも大きい場合であって、この場合には、角度デー
タ(tanθ〉は、斜辺のX軸成分を斜辺のY軸成分で
割った値で表示される。また、コード17〜20の平行
四辺形は、斜辺のX軸に対する角度が45度よりも小さ
い場合であって、この場合には、角度データ(tanθ
)は、斜辺のY軸成分を斜辺のX軸成分で割った値で表
示される。
C1実施装置の一例(第6図〜第10図)第6図は本実
施例の電子ビーム露光方法を実施するための電子ビーム
露光装置の要部を示す図であって、図中、15は電子光
学カラム、16は電子銃、17は第1スリツト(アパー
チャ)、18はビームサイズ用の偏向器、19は第2ス
リツト(アパーチャ)、20は副偏向器、21は主偏向
器、22は試料台、23はCPU、24は磁気テープ、
25は磁気ディスク、26はインタフェース回路、27
はデータメモリ、28はパターン発全回路、29はパタ
ーン補正回路、30はビームサイズ信号用のデジタル・
アナログ・コンバータ(以下、DAコンバータという)
、31は同じく増幅器、32は副偏向信号用のDAコン
バータ、33は同じく増幅器、34は主偏向信号用のD
Aコンバータ、35は同じく増幅器である。
施例の電子ビーム露光方法を実施するための電子ビーム
露光装置の要部を示す図であって、図中、15は電子光
学カラム、16は電子銃、17は第1スリツト(アパー
チャ)、18はビームサイズ用の偏向器、19は第2ス
リツト(アパーチャ)、20は副偏向器、21は主偏向
器、22は試料台、23はCPU、24は磁気テープ、
25は磁気ディスク、26はインタフェース回路、27
はデータメモリ、28はパターン発全回路、29はパタ
ーン補正回路、30はビームサイズ信号用のデジタル・
アナログ・コンバータ(以下、DAコンバータという)
、31は同じく増幅器、32は副偏向信号用のDAコン
バータ、33は同じく増幅器、34は主偏向信号用のD
Aコンバータ、35は同じく増幅器である。
かかる電子ビーム露光装置においては、露光時、図形デ
ータは、外部記憶装置である磁気テープ24から磁気デ
ィスク25に転送された後、インタフェース回路26を
介してデータメモリ27に格納される。その後、図形デ
ータは、パターン発生回路28に供給され、解読されて
、電子ビームの偏向位置信号、ビームサイズ信号等、パ
ターン信号が発生され、これがパターン補正回路29に
供給される。パターン信号は、このパターン補正回路2
9において偏向位置補正等を受け、ビームサイズ信号に
ついては、DAコンバータ30及び増幅器31を介して
ビームサイズ用の偏向器18に供給され、副偏向信号に
ついては、DAコンバータ32及び増幅器33を介して
副偏向器20に供給され、主偏向信号については、DA
コンバータ34及び増幅器35を介して主偏向器21に
供給される。
ータは、外部記憶装置である磁気テープ24から磁気デ
ィスク25に転送された後、インタフェース回路26を
介してデータメモリ27に格納される。その後、図形デ
ータは、パターン発生回路28に供給され、解読されて
、電子ビームの偏向位置信号、ビームサイズ信号等、パ
ターン信号が発生され、これがパターン補正回路29に
供給される。パターン信号は、このパターン補正回路2
9において偏向位置補正等を受け、ビームサイズ信号に
ついては、DAコンバータ30及び増幅器31を介して
ビームサイズ用の偏向器18に供給され、副偏向信号に
ついては、DAコンバータ32及び増幅器33を介して
副偏向器20に供給され、主偏向信号については、DA
コンバータ34及び増幅器35を介して主偏向器21に
供給される。
ここに、パターン発生回路28は、その要部を第7図に
その回路図を示すように構成されている。
その回路図を示すように構成されている。
図中、41〜46,141〜114はレジスタ、51.
71.72.91〜94はセレクタ、61〜63はピッ
チメモリ、64〜66はショツト数メモリ、81〜83
は掛算器、101〜104゜121.122は加減算器
、131は制御信号発生回路であって、レジスタ41〜
46.111〜114、セレクタ51.71.72.9
1〜94及び加減算器101〜104.121.122
は制御信号発生回路131によって制御されるように構
成されている。
71.72.91〜94はセレクタ、61〜63はピッ
チメモリ、64〜66はショツト数メモリ、81〜83
は掛算器、101〜104゜121.122は加減算器
、131は制御信号発生回路であって、レジスタ41〜
46.111〜114、セレクタ51.71.72.9
1〜94及び加減算器101〜104.121.122
は制御信号発生回路131によって制御されるように構
成されている。
また、ピッチメモリ61及びショツト数メモリ64は、
第8図にその概念図を示すように、それぞれX軸方向の
最大ビームサイズを、例えば、3μmとした場合におけ
るX軸方向のピッチデータXp及びショツト数データX
nを格納しており、レジスタ43から大きさデータX2
が供給された場合に、対応するアドレスから、それぞれ
ピッチデータXp及びショツト数データXnを読み出す
ことができるように構成されている。
第8図にその概念図を示すように、それぞれX軸方向の
最大ビームサイズを、例えば、3μmとした場合におけ
るX軸方向のピッチデータXp及びショツト数データX
nを格納しており、レジスタ43から大きさデータX2
が供給された場合に、対応するアドレスから、それぞれ
ピッチデータXp及びショツト数データXnを読み出す
ことができるように構成されている。
また、ピッチメモリ62及びショツト数メモリ65は、
第9図にその概念図を示すように、それぞれX軸方向及
びY軸方向の最大ビームサイズを例えば、0.3μmと
した場合におけるX軸方向及びY軸方向のピッチデータ
Rp及びショツト数データRnを格納しており、レジス
タ43又は44から大きさデータX2又はY2が供給さ
れた場合に、対応するアドレスから、それぞれピッチデ
ータyp及びショツト数データRnを読み出すことがで
きるように構成されている。
第9図にその概念図を示すように、それぞれX軸方向及
びY軸方向の最大ビームサイズを例えば、0.3μmと
した場合におけるX軸方向及びY軸方向のピッチデータ
Rp及びショツト数データRnを格納しており、レジス
タ43又は44から大きさデータX2又はY2が供給さ
れた場合に、対応するアドレスから、それぞれピッチデ
ータyp及びショツト数データRnを読み出すことがで
きるように構成されている。
また、ピッチメモリ63及びショツト数メモリ66は、
第10図にその概念図を示すように、それぞれY軸方向
の最大ビームサイズを、例えば、3μmとした場合にお
けるY軸方向のピッチデータYp及びショツト数データ
Ynを格納しており、レジスタ43から大きさデータY
2が供給された場合に、対応するアドレスがら、それぞ
れピッチデータyp及びショツト数データYnを読み出
すことができるように構成されている。
第10図にその概念図を示すように、それぞれY軸方向
の最大ビームサイズを、例えば、3μmとした場合にお
けるY軸方向のピッチデータYp及びショツト数データ
Ynを格納しており、レジスタ43から大きさデータY
2が供給された場合に、対応するアドレスがら、それぞ
れピッチデータyp及びショツト数データYnを読み出
すことができるように構成されている。
なお、ショット数メモリ64.65.66がら読み出さ
れたショット数デ〜すXn + Rn、Ynは、制御信
号発生回路131に供給されるように構成されており、
また、制御信号発生回路131は、これらショツト数デ
ータXn 、Rn 、Ynを使用してレジスタ41〜4
6.111〜114、セレクタ51.71.72.91
〜94及び加減算器101〜104.121.122を
制御できるように構成されている。
れたショット数デ〜すXn + Rn、Ynは、制御信
号発生回路131に供給されるように構成されており、
また、制御信号発生回路131は、これらショツト数デ
ータXn 、Rn 、Ynを使用してレジスタ41〜4
6.111〜114、セレクタ51.71.72.91
〜94及び加減算器101〜104.121.122を
制御できるように構成されている。
D、パターン発生囲路28の動作例
パターン発生回路28の動作につき、(I>標準角三角
形を描画する場合、(II)任意角三角形を描画する場
合を例にして説明する。
形を描画する場合、(II)任意角三角形を描画する場
合を例にして説明する。
■、標準角三角形を描画する場合(第11図)第11図
は描画すべき標準角三角形及び成形された電子ビームを
示す図であって、本実施例においては、矩形部141.
142、小三角形部143、矩形部144、小三角形部
145.146の順に描画される。以下、この場合のパ
ターン発生回路28の動作につき説明する。
は描画すべき標準角三角形及び成形された電子ビームを
示す図であって、本実施例においては、矩形部141.
142、小三角形部143、矩形部144、小三角形部
145.146の順に描画される。以下、この場合のパ
ターン発生回路28の動作につき説明する。
(1)まず、レジスタ41〜46.111〜114がリ
セットされた状態で、始点データX1.Yl、大きさデ
ータX2、Y2、形状コードがそれぞれレジスタ41〜
45に格納され、また、セレクタ51はレジスタ44を
選択する。なお、この場合、形状コードは標準角三角形
を表示しているので、レジスタ46には角度データは供
給されず、セレクタ71.72は数値r 1.OJを選
択する。
セットされた状態で、始点データX1.Yl、大きさデ
ータX2、Y2、形状コードがそれぞれレジスタ41〜
45に格納され、また、セレクタ51はレジスタ44を
選択する。なお、この場合、形状コードは標準角三角形
を表示しているので、レジスタ46には角度データは供
給されず、セレクタ71.72は数値r 1.OJを選
択する。
ここに、レジスタ41.42に格納された始点データX
1、Ylは、それぞれ加減算器121゜122に供給さ
れる。但し、この時点では、加減算器121.122は
不活性とされている。
1、Ylは、それぞれ加減算器121゜122に供給さ
れる。但し、この時点では、加減算器121.122は
不活性とされている。
また、レジスタ43に格納された大きさデータX2は、
ピッチメモリ61及びショツト数メモリ64に供給され
る。ここに、ピッチメモリ61においては、対応するア
ドレスからピッチデータXρが読み出され、これが掛算
器81に供給される。また、ショツト数メモリ64にお
いては、対応するアドレスからショツト数データXnか
読み出され、これが制御信号発生回路131に供給され
る。
ピッチメモリ61及びショツト数メモリ64に供給され
る。ここに、ピッチメモリ61においては、対応するア
ドレスからピッチデータXρが読み出され、これが掛算
器81に供給される。また、ショツト数メモリ64にお
いては、対応するアドレスからショツト数データXnか
読み出され、これが制御信号発生回路131に供給され
る。
また、レジスタ44に格納された大きさデータY2は、
セレクタ51を介してピッチメモリ62及びショツト数
メモリ65に供給される。ここに、ピッチメモリ62に
おいては、対応するアドレスからピッチデータRpが読
み出され、これが掛算器82及びセレクタ91〜94に
供給される。また、ショツト数メモリ65においては、
対応するアドレスからショツト数データRnが読み出さ
れ、これが制御信号発生回路131に供給される。
セレクタ51を介してピッチメモリ62及びショツト数
メモリ65に供給される。ここに、ピッチメモリ62に
おいては、対応するアドレスからピッチデータRpが読
み出され、これが掛算器82及びセレクタ91〜94に
供給される。また、ショツト数メモリ65においては、
対応するアドレスからショツト数データRnが読み出さ
れ、これが制御信号発生回路131に供給される。
また、レジスタ44に格納された大きさデータY2は、
ピッチメモリ63及びショツト数メモリ66にも供給さ
れる。ここに、ピッチメモリ63においては、対応する
アドレスからピッチデータYpが読み出され、これが掛
算器83に供給される。また、ショツト数メモリ66に
おいては、対応するアドレスからショツト数データYn
が読み出され、これが制御信号発生回路131に供給さ
れる。
ピッチメモリ63及びショツト数メモリ66にも供給さ
れる。ここに、ピッチメモリ63においては、対応する
アドレスからピッチデータYpが読み出され、これが掛
算器83に供給される。また、ショツト数メモリ66に
おいては、対応するアドレスからショツト数データYn
が読み出され、これが制御信号発生回路131に供給さ
れる。
(2)矩形部141の描画
動作■(1)に続いて、加減算器103.104゜12
1.122が加算器として活性化されると共に、セレク
タ93は掛算器81を選択し、セレクタ94は掛算器8
3を選択する。なお、加減算器101.102は不活性
とされる。この場合、出力される電子ビームの位置デー
タPx −Py 、ビームサイズデータSx 、Syは
次のようになる。
1.122が加算器として活性化されると共に、セレク
タ93は掛算器81を選択し、セレクタ94は掛算器8
3を選択する。なお、加減算器101.102は不活性
とされる。この場合、出力される電子ビームの位置デー
タPx −Py 、ビームサイズデータSx 、Syは
次のようになる。
■位置データPx
レジスタ41に格納された始点データX1が加減算器1
21を介して出力されるので、位置データPxはPx=
X1となる。
21を介して出力されるので、位置データPxはPx=
X1となる。
■位置データルy
レジスタ42に格納された始点データY1が加減算器1
22を介して出力されるので、位置データpyはPy=
Y1となる。
22を介して出力されるので、位置データpyはPy=
Y1となる。
■ビームサイズデータSx
ピッチメモリ61の出力xpが、掛算器81、セレクタ
93、加減算器103を介してレジスタ113に格納さ
れるので、ピッチサイズデータSxは5x=Xp とな
る。
93、加減算器103を介してレジスタ113に格納さ
れるので、ピッチサイズデータSxは5x=Xp とな
る。
■ビームサイズデータsy
ピッチメモリ63の出力Ypが、掛算器83、セレクタ
94、加減算器104を介してレジスタ114に格納さ
れるので、ピッチサイズデータsyはsy =yp と
なる。
94、加減算器104を介してレジスタ114に格納さ
れるので、ピッチサイズデータsyはsy =yp と
なる。
したがって、これら位置データPx 、 Py 、ビー
ムサイズデータSx、Syに基づいて、矩形部141の
描画が行われる。
ムサイズデータSx、Syに基づいて、矩形部141の
描画が行われる。
(3)矩形部142の描画
動作■(2)に続いて、改めて加減算器101゜121
.122が加算器として活性化されると共に、セレクタ
91は掛算器81を選択する。なお、加減算器102〜
104は不活性とされる。この場合、電子ビームの位置
データPx 、Py 、ビームサイズデータSx 、S
yは次の通りになる。
.122が加算器として活性化されると共に、セレクタ
91は掛算器81を選択する。なお、加減算器102〜
104は不活性とされる。この場合、電子ビームの位置
データPx 、Py 、ビームサイズデータSx 、S
yは次の通りになる。
■位置データPx
ピッチメモリ61の出力Xρが、掛算器81、セレクタ
91、加減算器101を介してレジスタ111に格納さ
れ、このレジスタ111の内容はXpとなる。したがっ
て、位置データPxはPx−Xl+Xpとなる。
91、加減算器101を介してレジスタ111に格納さ
れ、このレジスタ111の内容はXpとなる。したがっ
て、位置データPxはPx−Xl+Xpとなる。
■位置データルy
加減算器102は活性化されないので、位置データpy
はPy=Y1のままである。
はPy=Y1のままである。
■ビームサイズデータSx
加減算器103は活性化されないので、ビームサイズデ
ータS、xはSx =Xpのままである。
ータS、xはSx =Xpのままである。
■ビームサイズsy
加減算器104は活性化されないので、ビームサイズデ
ータsyはsy =Ypのままである。
ータsyはsy =Ypのままである。
したがって、これら位置データPx 、 Py 、ビー
ムサイズデータSx 、Syに基づいて、矩形部142
の描画が行われる。
ムサイズデータSx 、Syに基づいて、矩形部142
の描画が行われる。
(4)小三角形部143の描画
a、1シヨツト目
レジスタ114がリセットされた後、改めて加減算器1
01.104が加算器として活性化され、セレクタ91
は掛算器81を選択し、セレクタ94はピッチメモリ6
2を選択する。なお、加減算器102.103は不活性
とされる。この場合、出力される電子ビームの位置デー
タPx 、Py、ビームサイズデータSx 、Syは次
のようになる。
01.104が加算器として活性化され、セレクタ91
は掛算器81を選択し、セレクタ94はピッチメモリ6
2を選択する。なお、加減算器102.103は不活性
とされる。この場合、出力される電子ビームの位置デー
タPx 、Py、ビームサイズデータSx 、Syは次
のようになる。
■位置データPx
ピッチメモリ61の出力XPが、掛算器81、セレクタ
91を介して加減算器101に供給されるので、レジス
タ111の内容は2Xpとなる。
91を介して加減算器101に供給されるので、レジス
タ111の内容は2Xpとなる。
この結果、位置データPxはPx=X1+2XPとなる
。
。
■位置データPy
加減算器102は活性化されないので、位置データpy
はPy=Y1のままである。
はPy=Y1のままである。
■ビームサイズデータSx
加減算器103は活性化されないので、ビームサイズデ
ータSxはSx =Xpのままである。
ータSxはSx =Xpのままである。
■ビームサイズデータsy
ピッチメモリ62の出力Rpがセレクタ94、加算器1
04を介してレジスタ114に供給され、レジスタ11
4の内容はRpとなる。この結果、ビームサイズデータ
syはsy =Rpとなる。
04を介してレジスタ114に供給され、レジスタ11
4の内容はRpとなる。この結果、ビームサイズデータ
syはsy =Rpとなる。
したがって、これら位置データPx 、Py 、ビーム
サイズデータSx、Syに基づいて小三角形部143の
1シヨツト目の描画が行われる。なお、第11図におい
て、143Aは、この1シヨツト目の矩形電子ビームを
示している。
サイズデータSx、Syに基づいて小三角形部143の
1シヨツト目の描画が行われる。なお、第11図におい
て、143Aは、この1シヨツト目の矩形電子ビームを
示している。
b、2シヨツト目
動作I(3)aに続いて、改めて加減算器102゜12
1.122が加算器として活性化され、加減算器103
が減算器として活性化されると共に、セレクタ92はピ
ッチメモリ62を選択し、セレクタ93は掛算器82を
選択する。なお、加減算器101.104は不活性とさ
れる。この場合、出力される電子ビームの位置データP
x 、Py、ビームサイズデータSx 、Syは次のよ
うになる。
1.122が加算器として活性化され、加減算器103
が減算器として活性化されると共に、セレクタ92はピ
ッチメモリ62を選択し、セレクタ93は掛算器82を
選択する。なお、加減算器101.104は不活性とさ
れる。この場合、出力される電子ビームの位置データP
x 、Py、ビームサイズデータSx 、Syは次のよ
うになる。
■位置データPx
加減算器101は活性化されないので、レジスタ111
の内容は2Xpのままである。この結果、位置データP
xはPx =X1 +2Xpのままである。
の内容は2Xpのままである。この結果、位置データP
xはPx =X1 +2Xpのままである。
■位置データルy
ピッチメモリ62の出力RPがセレクタ92を介して加
減算器102に供給されので、レジスタ112の内容は
Yl+Rpとなる。この結果、位置データpyはPy
=Y 1 +Rpとなる。
減算器102に供給されので、レジスタ112の内容は
Yl+Rpとなる。この結果、位置データpyはPy
=Y 1 +Rpとなる。
■ビームサイズデータSx
ピッチメモリ62の出力Rpが、掛算器82、セレクタ
93を介して減算器として活性化された加減算器103
に供給される。この結果、レジスタ113の内容はXp
−Rpとなるので、ビームサイズデータSxはSx =
Xp−Rpとなる。
93を介して減算器として活性化された加減算器103
に供給される。この結果、レジスタ113の内容はXp
−Rpとなるので、ビームサイズデータSxはSx =
Xp−Rpとなる。
■ビームサイズsy
加減算器104は活性化されないので、レジスタ114
の内容はRpのままであり、ビームサイズデータsyは
sy =Rpとなる。
の内容はRpのままであり、ビームサイズデータsyは
sy =Rpとなる。
したがって、これら位置データPx 、 Py 、ビー
ムサイズデータSx、Syに基づいて小三角形部143
の2シヨツト目の描画が行われる。なお、第11図にお
いて、143Bは、この2シヨツト目の矩形電子ビーム
を示している。
ムサイズデータSx、Syに基づいて小三角形部143
の2シヨツト目の描画が行われる。なお、第11図にお
いて、143Bは、この2シヨツト目の矩形電子ビーム
を示している。
c、3シヨツト目
動作H3)bに続いて、改めて加減算器102゜121
.122が加算器として活性化され、加減算器103が
減算器として活性化されると共に、セレクタ92はピッ
チメモリ62を選択し、セレクタ93は掛算器82を選
択する。なお、加減算器101.104は不活性とされ
る。この場合、出力される電子ビームの位置データPx
、Py、ビームサイズデータSx 、Syは次のよう
になる。
.122が加算器として活性化され、加減算器103が
減算器として活性化されると共に、セレクタ92はピッ
チメモリ62を選択し、セレクタ93は掛算器82を選
択する。なお、加減算器101.104は不活性とされ
る。この場合、出力される電子ビームの位置データPx
、Py、ビームサイズデータSx 、Syは次のよう
になる。
■位置データPx
加減算器101は活性化されないので、レジスタ111
の内容は2Xpのままである。この結果、位置データP
xもPx=X1+2Xρのままである。
の内容は2Xpのままである。この結果、位置データP
xもPx=X1+2Xρのままである。
■位置データルy
ピッチメモリ62の出力Rpがセレクタ92を介して加
減算器102に供給される。この結果、レジスタ112
の内容はY1+2Rρとなるので、位置データpyはP
y=Y1+2Rpとなる。
減算器102に供給される。この結果、レジスタ112
の内容はY1+2Rρとなるので、位置データpyはP
y=Y1+2Rpとなる。
■ビームサイズデータSx
ピッチメモリ62の出力Rρが、掛算器82、セレクタ
93を介して減算器として活性化された加減算器103
に供給される。この結果、レジスタ113の内容はXp
−2Rpとなるので、ビームサイズデータSxはSx
=Xp−2Rpとなる。
93を介して減算器として活性化された加減算器103
に供給される。この結果、レジスタ113の内容はXp
−2Rpとなるので、ビームサイズデータSxはSx
=Xp−2Rpとなる。
■ビームサイズsy
加減算器104は活性化されないので、レジスタ114
の内容はRpのままであり、ビームサイズデータsyは
sy =Rpとなる。
の内容はRpのままであり、ビームサイズデータsyは
sy =Rpとなる。
したがって、これら位置データPx 、 Py−ビーム
サイズデータSx、Syに基づいて小三角形部143の
3シヨツト目の描画が行われる。なお、第11図におい
て、143Cは、この3シヨツト目の矩形電子ビームを
示している。
サイズデータSx、Syに基づいて小三角形部143の
3シヨツト目の描画が行われる。なお、第11図におい
て、143Cは、この3シヨツト目の矩形電子ビームを
示している。
以下、同様にして、小三角形部143の描画が実行され
、これが終了すると、レジスタ111〜114はリセッ
トされる。
、これが終了すると、レジスタ111〜114はリセッ
トされる。
(5)矩形部144の描画
動作■(4)に続いて、改めて加減算器102゜103
.104.121.122が加算器として活性化される
と共に、セレクタ92.94は掛算器83を選択し、セ
レクタ93は掛算器81を選択する。なお、加減算器1
01は不活性とされる。
.104.121.122が加算器として活性化される
と共に、セレクタ92.94は掛算器83を選択し、セ
レクタ93は掛算器81を選択する。なお、加減算器1
01は不活性とされる。
この場合、出力される電子ビームの位置データPx 、
Py 、ビームサイズデータSx、Syは次のように
なる。
Py 、ビームサイズデータSx、Syは次のように
なる。
■位置データPx
レジスタ41に格納されている始点データXiが加減算
器121を介して出力されるので、位置データPxはP
x=X1となる。
器121を介して出力されるので、位置データPxはP
x=X1となる。
■位置データルy
ピッチメモリ63の出力ypが、掛算器83、セレクタ
92、加算器102を介してレジスタ112に格納され
る。したがって、位置データpyはPy =Y 1 +
Ypとなる。
92、加算器102を介してレジスタ112に格納され
る。したがって、位置データpyはPy =Y 1 +
Ypとなる。
■ビームサイズデータSX
ピッチメモリ61の出力xpが、掛算器81、セレクタ
93、加減算器103を介してレジスタ113に格納さ
れるので、ピッチサイステータSxはSx =Xpとな
る。
93、加減算器103を介してレジスタ113に格納さ
れるので、ピッチサイステータSxはSx =Xpとな
る。
■ビームサイズデータsy
ピッチメモリ63の出力YPが、掛算器83、セレクタ
94、加減算器104を介してレジスタ114に格納さ
れるので、ピッチサイズデータsyはsy =Yp と
なる。
94、加減算器104を介してレジスタ114に格納さ
れるので、ピッチサイズデータsyはsy =Yp と
なる。
したがって、これら位置データPx 、 Py 、ビー
ムサイズデータSx、Syに基づいて、矩形部144の
描画が行われる。
ムサイズデータSx、Syに基づいて、矩形部144の
描画が行われる。
(6)小三角形部145の描画
a、1シヨツト目
レジスタ114がリセットされた後、改めて加減算器1
01.102.104か加算器として活性化され、セレ
クタ91は掛算器81を選択し、セレクタ92は掛算器
83を選択し、セレクタ94はピッチメモリ62を選択
する。なお、加減算器103は不活性とされる。この場
合、出力される電子ビームの位置データPx 、 Py
、ビームサイズデータSx 、Syは次のようになる
。
01.102.104か加算器として活性化され、セレ
クタ91は掛算器81を選択し、セレクタ92は掛算器
83を選択し、セレクタ94はピッチメモリ62を選択
する。なお、加減算器103は不活性とされる。この場
合、出力される電子ビームの位置データPx 、 Py
、ビームサイズデータSx 、Syは次のようになる
。
■位置データPx
ピッチメモリ61の出力Xpが、掛算器81、セレクタ
91を介して加減算器101に供給されるので、レジス
タ111の内容はXpとなる。この結果、位置データP
xはPx=X1+Xpとなる。
91を介して加減算器101に供給されるので、レジス
タ111の内容はXpとなる。この結果、位置データP
xはPx=X1+Xpとなる。
■位置データルy
ピッチメモリ63の出力Ypが、掛算器83、セレクタ
92、加減算器102を介してレジスタ112に格納さ
れる。この結果、位置データpyはP3/ =Y 1
+Ypとなる。
92、加減算器102を介してレジスタ112に格納さ
れる。この結果、位置データpyはP3/ =Y 1
+Ypとなる。
■ビームサイズデータSx
加減算器103は活性化されないので、ビームサイズデ
ータSxはSx =Xpのままである。
ータSxはSx =Xpのままである。
■ビームサイズデータsy
ピッチメモリ62の出力RPがセレクタ94、加算器1
04を介してレジスタ114に格納される。この結果、
ビームサイズデータsyは5y=Rpとなる。
04を介してレジスタ114に格納される。この結果、
ビームサイズデータsyは5y=Rpとなる。
したがって、これら位置データPx 、 Py 、ビー
ムサイズデータ5x−8yに基づいて小三角形部145
の1シヨツト目の描画が行われる。なお、第11図にお
いて、145Aは、この1シヨツト目の矩形電子ビーム
を示している。
ムサイズデータ5x−8yに基づいて小三角形部145
の1シヨツト目の描画が行われる。なお、第11図にお
いて、145Aは、この1シヨツト目の矩形電子ビーム
を示している。
以下、動作■(4)の場合と同様にしてショットが実行
され、これが終了すると、レジスタ111〜114はリ
セットされる。
され、これが終了すると、レジスタ111〜114はリ
セットされる。
(7)小三角形146の描画
a、1シヨツト目
動作I(6)に続いて、改めて加減算器102゜103
.104.121.122が加算器として活性化される
と共に、セレクタ92は掛算器83を選択し、セレクタ
93は掛算器81を選択し、セレクタ94はピッチメモ
リ62を選択する。なお、加減算器101は不活性とさ
れる。この場合、出力される電子ビームの位置データP
x 、Py、ビームサイズデータSx 、Syは次のよ
うになる。
.104.121.122が加算器として活性化される
と共に、セレクタ92は掛算器83を選択し、セレクタ
93は掛算器81を選択し、セレクタ94はピッチメモ
リ62を選択する。なお、加減算器101は不活性とさ
れる。この場合、出力される電子ビームの位置データP
x 、Py、ビームサイズデータSx 、Syは次のよ
うになる。
■位置データPx
レジスタ41に格納されている始点データX1が加減算
器121を介して出力されるので、位置データPxはP
x=X1となる。
器121を介して出力されるので、位置データPxはP
x=X1となる。
■位置データルy
ピッチメモリ63の出力Ypが、掛算器83、セレクタ
94を介して加減算器102に供給されて、加算動作が
2回行われる。この結果、レジスタ112の内容は2Y
pとなるので、位置データpyはPy =Y1+2Yp
となる。
94を介して加減算器102に供給されて、加算動作が
2回行われる。この結果、レジスタ112の内容は2Y
pとなるので、位置データpyはPy =Y1+2Yp
となる。
■ビームサイズデータSx
ピッチメモリ61の出力Xpが、掛算器81、セレクタ
93、加減算器103を介してレジスタ113に格納さ
れるので、ピッチサイズデータSxは5x=Xpとなる
。
93、加減算器103を介してレジスタ113に格納さ
れるので、ピッチサイズデータSxは5x=Xpとなる
。
■ビームサイズデータsy
ピッチメモリ62の出力Rpがセレクタ94、加算器1
04を介してレジスタ114に格納される。この結果、
ビームサイズデータsyは5y=Rpとなる。
04を介してレジスタ114に格納される。この結果、
ビームサイズデータsyは5y=Rpとなる。
したがって、これら位置データPx 、 Py 、ビー
ムサイズデータSx、Syに基づいて小三角形部146
の1シヨツト目の描画が行われる。なお、第11図にお
いて、146Aは、この1シヨツト目の矩形電子ビーム
を示している。
ムサイズデータSx、Syに基づいて小三角形部146
の1シヨツト目の描画が行われる。なお、第11図にお
いて、146Aは、この1シヨツト目の矩形電子ビーム
を示している。
以下、動作■(4)の場合と同様にしてショットが実行
され、ここに、標準角三角形の描画が終了する。
され、ここに、標準角三角形の描画が終了する。
■、任意角三角形を描画する場合(第12図)第12図
Aは、描画すべき任意角三角形及び成形された電子ビー
ムを示す図であって、本実施例においては、矩形部15
1.152、小三角形部153、矩形部154、小三角
形部155゜156の順に描画される。以下、この場合
のパターン発生回路28の動作につき説明する。
Aは、描画すべき任意角三角形及び成形された電子ビー
ムを示す図であって、本実施例においては、矩形部15
1.152、小三角形部153、矩形部154、小三角
形部155゜156の順に描画される。以下、この場合
のパターン発生回路28の動作につき説明する。
(1)まず、レジスタ41〜46.111〜114がリ
セットされた状態で、始点データX1、Yl、大きさデ
ータX 2 JY 2 +形状コード、角度データta
nθがそれぞれレジスタ41〜46に格納され、また、
セレクタ51はレジスタ44を選択する。
セットされた状態で、始点データX1、Yl、大きさデ
ータX 2 JY 2 +形状コード、角度データta
nθがそれぞれレジスタ41〜46に格納され、また、
セレクタ51はレジスタ44を選択する。
(2)矩形部151の描画
パターン発生回路28は、前例■(2)の場合と同様に
動作する。この結果、レジスタ111゜112.113
.114の内容は、それぞれ0、o、xp 、YPとな
り、位置データPx −Py、ビームサイズデータSx
、Syは、それぞれXl、Yl、Xp 、Ypとなる
。したがって、これら位置データPx 、Py 、ビー
ムサイズデータSx、syに基づいて矩形部151の描
画が行われる。
動作する。この結果、レジスタ111゜112.113
.114の内容は、それぞれ0、o、xp 、YPとな
り、位置データPx −Py、ビームサイズデータSx
、Syは、それぞれXl、Yl、Xp 、Ypとなる
。したがって、これら位置データPx 、Py 、ビー
ムサイズデータSx、syに基づいて矩形部151の描
画が行われる。
(3)矩形部152の描画
パターン発生回路28は、前例■(3)の場合と同様に
動作する。この結果、レジスタ111゜112.113
.114の内容は、それぞれxp、0、xp 、ypと
なり、位置データPx −Py、ビームサイズデータS
x 、Syは、それぞれX1+Xp 、Yl、Xp 、
Ypとなる。したがって、これら位置データPX、Py
、ビームサイズデータSx 、Syに基づいて矩形部1
52の描画が行われる。
動作する。この結果、レジスタ111゜112.113
.114の内容は、それぞれxp、0、xp 、ypと
なり、位置データPx −Py、ビームサイズデータS
x 、Syは、それぞれX1+Xp 、Yl、Xp 、
Ypとなる。したがって、これら位置データPX、Py
、ビームサイズデータSx 、Syに基づいて矩形部1
52の描画が行われる。
(4〉小三角形部153の描画
a、1シヨツト目
パターン発生回路28は、前例I(4)aの場合と同様
に動作する。この結果、レジスタ111゜112.11
3.114の内容はそれぞれ2Xp、0、xp 、Rp
となり、位置データPx 、Py、ビームサイズデータ
Sx = SyはそれぞれX1+2Xp 、Yl、xp
、Rpとなる。したがッテ、これら位置データPx
、 Py +ビームサイズデータSx 、Syに基づい
て矩形部153の描画が行われる。なお、第12図にお
いて、153Aはこの1シヨツト目の矩形電子ビームを
示している。
に動作する。この結果、レジスタ111゜112.11
3.114の内容はそれぞれ2Xp、0、xp 、Rp
となり、位置データPx 、Py、ビームサイズデータ
Sx = SyはそれぞれX1+2Xp 、Yl、xp
、Rpとなる。したがッテ、これら位置データPx
、 Py +ビームサイズデータSx 、Syに基づい
て矩形部153の描画が行われる。なお、第12図にお
いて、153Aはこの1シヨツト目の矩形電子ビームを
示している。
b、2シヨツト目
動作II(3)aに続いて、改めて加減算器102゜1
21.122が加算器として活性化され、加減算器10
3が減算器として活性化されると共に、セレクタ92は
ピッチメモリ62を選択し、セレクタ93は掛算器82
を選択する。なお、加減算器101.104は不活性と
される。この場合、出力される電子ビームの位置データ
Px 、Py、ビームサイズデータSx、Syは次のよ
うになる。
21.122が加算器として活性化され、加減算器10
3が減算器として活性化されると共に、セレクタ92は
ピッチメモリ62を選択し、セレクタ93は掛算器82
を選択する。なお、加減算器101.104は不活性と
される。この場合、出力される電子ビームの位置データ
Px 、Py、ビームサイズデータSx、Syは次のよ
うになる。
■位置データPx
加減算器101は活性化されないので、レジスタ111
の内容は2Xpのままである。この結果、位置データP
xはPx=X1+2Xpのままである。
の内容は2Xpのままである。この結果、位置データP
xはPx=X1+2Xpのままである。
■位置データルy
ピッチメモリ62の出力Rρがセレクタ92を介して加
減算器102に供給される。この結果、レジスタ112
の内容はRpとなるので、位置データpyはPy=Y1
+Rpとなる。
減算器102に供給される。この結果、レジスタ112
の内容はRpとなるので、位置データpyはPy=Y1
+Rpとなる。
■ビームサイズデータSx
ピッチメモリ62の出力Rpが、掛算器82、セレクタ
93を介して減算器として活性化された加減算器103
に供給される。この結果、レジスタ113の内容は、X
p−RpX tanθとなるので、ビームサイズデータ
SxはSx =Xp −RpX tanθとなる。
93を介して減算器として活性化された加減算器103
に供給される。この結果、レジスタ113の内容は、X
p−RpX tanθとなるので、ビームサイズデータ
SxはSx =Xp −RpX tanθとなる。
■ビームサイズsy
加減算器104は活性化されないので、レジスタ114
の内容はRpのままであり、ビームサイズデータsyは
sy ==Rpとなる。
の内容はRpのままであり、ビームサイズデータsyは
sy ==Rpとなる。
したがって、これら位置データPx、Py−ビームサイ
ズデータ5x−3yに基ついて小三角形部153の2シ
ヨツト目の描画が行われる。なお、第12図において、
153Bは、この2シヨツト目の矩形電子ビームを示し
ている。
ズデータ5x−3yに基ついて小三角形部153の2シ
ヨツト目の描画が行われる。なお、第12図において、
153Bは、この2シヨツト目の矩形電子ビームを示し
ている。
c、3シヨツト目
動作n(3)bに続いて、改めて加減算器102゜12
1.122が加算器として活性化され、加減算器103
が減算器として活性化されると共に、セレクタ92はピ
ッチメモリ62を選択し、セレクタ93は掛算器82を
選択する。なお、加減算器101.104は不活性とさ
れる。この場合、出力される電子ビームの位置データP
x −Py、ビームサイズデータSx 、Syは次のよ
うになる。
1.122が加算器として活性化され、加減算器103
が減算器として活性化されると共に、セレクタ92はピ
ッチメモリ62を選択し、セレクタ93は掛算器82を
選択する。なお、加減算器101.104は不活性とさ
れる。この場合、出力される電子ビームの位置データP
x −Py、ビームサイズデータSx 、Syは次のよ
うになる。
■位置データPx
加減算器101は活性化されないので、レジスタ111
の内容は2Xpのままである。この結果、位置データP
xはPx=X1+2Xpのままである。
の内容は2Xpのままである。この結果、位置データP
xはPx=X1+2Xpのままである。
■位置データルy
ピッチメモリ62の出力RPがセレクタ92を介して加
減算器102に供給される。この結果、レジスタ112
の内容は2Rpとなるので、位置データPyはPy=Y
1+2Rpとなる。
減算器102に供給される。この結果、レジスタ112
の内容は2Rpとなるので、位置データPyはPy=Y
1+2Rpとなる。
■ビームサイズデータSx
ピッチメモリ62の出力Rpが、掛算器82、セレクタ
93を介して減算器として活性化された加減算器103
に供給される。この結果、レジスタ113の内容は、X
p −2Rp X tanθとなるので、ビームサイズ
データSxはSx =Xp −2Rp X tanθと
なる。
93を介して減算器として活性化された加減算器103
に供給される。この結果、レジスタ113の内容は、X
p −2Rp X tanθとなるので、ビームサイズ
データSxはSx =Xp −2Rp X tanθと
なる。
■ビームサイズsy
加減算器104は活性化されないので、レジスタ114
の内容はRPのままであり、ビームサイズデータsyは
sy =RPとなる。
の内容はRPのままであり、ビームサイズデータsyは
sy =RPとなる。
したがって、これら位置データPx 、 Py +ビー
ムサイズデータSx、Syに基づいて小三角形部153
の2シヨツト目の描画が行われる。なお、第12図にお
いて、153Cは、この3シヨツト目の矩形電子ビーム
を示している。
ムサイズデータSx、Syに基づいて小三角形部153
の2シヨツト目の描画が行われる。なお、第12図にお
いて、153Cは、この3シヨツト目の矩形電子ビーム
を示している。
以下、同様にして、小三角形部153の描画が実行され
、これが終了すると、レジスタ111〜114はリセッ
トされる。
、これが終了すると、レジスタ111〜114はリセッ
トされる。
(5)矩形部154の描画
パターン発生回路28は、前例■(5〉の場合と同様に
動作する。この結果、レジスタ111゜112.113
.114の内容は、それぞれOlo、xp 、Ypとな
り、位置データPx 、Py、ビームサイズデータSx
、Syは、それぞれXl、Y1+Yp 、Xp 、Y
pとなる。したがって、これら位置データPx 、 P
y 、ビームサイズデータ5x−Byに基づいて矩形部
154の描画が行われる。
動作する。この結果、レジスタ111゜112.113
.114の内容は、それぞれOlo、xp 、Ypとな
り、位置データPx 、Py、ビームサイズデータSx
、Syは、それぞれXl、Y1+Yp 、Xp 、Y
pとなる。したがって、これら位置データPx 、 P
y 、ビームサイズデータ5x−Byに基づいて矩形部
154の描画が行われる。
(6〉小三角形部155の描画
a、1シヨツト目
パターン発生回路28は、前例I(6)aの場合と同様
に動作する。この結果、レジスタ111゜112.11
3.114の内容はそれぞれXp、Yp、Xp、Rpと
なり、位置データPx、Py、ビームサイズデータSx
、SyはそれぞれX1+Xp、Y1+Yp + xp
、Rpとなる。この結果、これら位置データPx +
py 、ビームサイズデータSx 、Syに基づいて
、小三角形部155の1シヨツト目の描画が行われる。
に動作する。この結果、レジスタ111゜112.11
3.114の内容はそれぞれXp、Yp、Xp、Rpと
なり、位置データPx、Py、ビームサイズデータSx
、SyはそれぞれX1+Xp、Y1+Yp + xp
、Rpとなる。この結果、これら位置データPx +
py 、ビームサイズデータSx 、Syに基づいて
、小三角形部155の1シヨツト目の描画が行われる。
なお、第12図において、155Aはこの1シヨツト目
の矩形電子ビームを示している。
の矩形電子ビームを示している。
以下、動作■(5)の場合と同様にしてショットが実行
され、これが終了すると、レジスタ111〜114はリ
セットされる。
され、これが終了すると、レジスタ111〜114はリ
セットされる。
(7)小三角形156の描画
a、1シヨツト目
パターン発生回路28は、前例1(7)aの場合と同様
に動作する。この結果、レジスタ111゜112.11
3.114の内容は、それぞれOlo、xP 、Rpと
なり、位置データPx 、Py、ビームサイズデータS
x 、SyはそれぞれXl、Y1+2Yp 、Xp 、
Rpとなる。この結果、これら位置データPx 、 P
y 、ビームサイズデータSχ、Syに基づいて、小三
角形部155の1シヨツト目の描画が行われる。なお、
第12図において、156Aはこの1シヨツト目の矩形
電子ビームを示している。
に動作する。この結果、レジスタ111゜112.11
3.114の内容は、それぞれOlo、xP 、Rpと
なり、位置データPx 、Py、ビームサイズデータS
x 、SyはそれぞれXl、Y1+2Yp 、Xp 、
Rpとなる。この結果、これら位置データPx 、 P
y 、ビームサイズデータSχ、Syに基づいて、小三
角形部155の1シヨツト目の描画が行われる。なお、
第12図において、156Aはこの1シヨツト目の矩形
電子ビームを示している。
以下、動作■(6)の場合と同様にしてショットが実行
され、ここに、任意角三角形の描画が終了する。
され、ここに、任意角三角形の描画が終了する。
ここに、第12図Bは、第12図Aの場合と同様のパタ
ーンルールの下に、電子ビームの断面形状をX軸方向の
辺を一定、Y軸方向の辺を可変とする矩形に成形するこ
とによって、斜辺を含む領域を描画した場合を示してい
る。
ーンルールの下に、電子ビームの断面形状をX軸方向の
辺を一定、Y軸方向の辺を可変とする矩形に成形するこ
とによって、斜辺を含む領域を描画した場合を示してい
る。
これら第12図A及びBからも明白なように、第12図
Aの場合の方が、第12図Bの場合よりも、より多くの
矩形電子ビームを使用して斜辺を含む領域を形成するこ
とになるので、その分、斜辺の形状をスムースに描画す
ることができる。
Aの場合の方が、第12図Bの場合よりも、より多くの
矩形電子ビームを使用して斜辺を含む領域を形成するこ
とになるので、その分、斜辺の形状をスムースに描画す
ることができる。
また、前例■では、第4図Bに示すコード6の任意角三
角形を描画する場合につき述べたが、本実施例によれば
、その他のコードの任意角三角形についても、前例■と
同様の手法で描画することもできる0例えば、第4図E
に示すコード9の任意角三角形の場合は、第12図Cに
示すように描画することができる。ここに、第12図り
は、第12図Cの場合と同様のパターンルールの下に、
電子ビームの断面形状をX軸方向の辺を一定、Y軸方向
の辺を可変とする矩形に成形することによって、斜辺を
含む領域を描画した場合を示している。これら第12図
C及びDからも明白なように、第12図Cの場合の方が
、第12図りの場合よりも、より多くの矩形電子ビーム
を使用して斜辺を含む領域を形成することになるので、
その分、斜辺の形状をスムースに描画することができる
。
角形を描画する場合につき述べたが、本実施例によれば
、その他のコードの任意角三角形についても、前例■と
同様の手法で描画することもできる0例えば、第4図E
に示すコード9の任意角三角形の場合は、第12図Cに
示すように描画することができる。ここに、第12図り
は、第12図Cの場合と同様のパターンルールの下に、
電子ビームの断面形状をX軸方向の辺を一定、Y軸方向
の辺を可変とする矩形に成形することによって、斜辺を
含む領域を描画した場合を示している。これら第12図
C及びDからも明白なように、第12図Cの場合の方が
、第12図りの場合よりも、より多くの矩形電子ビーム
を使用して斜辺を含む領域を形成することになるので、
その分、斜辺の形状をスムースに描画することができる
。
また、本実施例によれば、例えば、第5図りに示すコー
ド16の平行四辺形の場合は、例えば、第13図Aに示
すように描画することができる。ここに、第13図Bは
、第13図Aの場合と同様のパターンルールの下に電子
ビームの断面形状をY軸方向に平行な細長い短冊状に成
形することによってコード16の平行四辺形を描画した
場合を示している。これら第13図C及びDからも明白
なように第13図Cの場合の方が、第13図りの場合よ
りも、より多くの矩形電子ビームを使用して斜辺を含む
領域を形成することになるので、その分、斜辺の形状を
スムースに描画することができる。
ド16の平行四辺形の場合は、例えば、第13図Aに示
すように描画することができる。ここに、第13図Bは
、第13図Aの場合と同様のパターンルールの下に電子
ビームの断面形状をY軸方向に平行な細長い短冊状に成
形することによってコード16の平行四辺形を描画した
場合を示している。これら第13図C及びDからも明白
なように第13図Cの場合の方が、第13図りの場合よ
りも、より多くの矩形電子ビームを使用して斜辺を含む
領域を形成することになるので、その分、斜辺の形状を
スムースに描画することができる。
また、本実施例によれば、例えば、第5図Gに示すコー
ド19の平行四辺形の場合は、例えば、第13図Cに示
すように描画することができる。ここに、第13図りは
、第13図Cの場合と同様のパターンルールの下に電子
ビームの断面形状をX軸方向に平行な細長い短冊状に成
形することによってコード16の平行四辺形を描画した
場合を示している。これら第13図C及びDからも明白
なように第13図Cの場合の方が、第13図りの場合よ
りも、より多くの矩形電子ビームを使用して斜辺を含む
領域を形成することになるので、その分、斜辺の形状を
スムースに描画することができる。他のコードの任意角
平行四辺形を描画する場合も同様の手法で描画すること
ができる。
ド19の平行四辺形の場合は、例えば、第13図Cに示
すように描画することができる。ここに、第13図りは
、第13図Cの場合と同様のパターンルールの下に電子
ビームの断面形状をX軸方向に平行な細長い短冊状に成
形することによってコード16の平行四辺形を描画した
場合を示している。これら第13図C及びDからも明白
なように第13図Cの場合の方が、第13図りの場合よ
りも、より多くの矩形電子ビームを使用して斜辺を含む
領域を形成することになるので、その分、斜辺の形状を
スムースに描画することができる。他のコードの任意角
平行四辺形を描画する場合も同様の手法で描画すること
ができる。
E7本実施例の効果
本実11!、例によれば、描画すべき図形が任意角三角
形、任意角平行四辺形の場合、図形データを、オペ コ
ード、始点データ(XI、Yl)、大きさデータ(X2
、Y2>及び斜辺の角度データ(t、anθ)で構成し
、斜辺のX軸に対する角度が45度よりも大きい場合に
は、電子ビームをX軸に平行なY軸方向の幅を一定とす
る複数の矩形に成形することによって斜辺を含む領域を
描画し、斜辺のX軸に対する角度が45度よりも小さい
場合には、電子ビームをY軸に平行なX軸方向の幅を一
定とする複数の矩形に成形することによって斜辺を含む
領域を描画する、という描画方法を採用したことにより
、描画すべき図形が非矩形、かつ、それが有する斜辺の
X軸に対する角度が45度でなc′1場合、その斜辺を
スムースな形状に描画することができる。
形、任意角平行四辺形の場合、図形データを、オペ コ
ード、始点データ(XI、Yl)、大きさデータ(X2
、Y2>及び斜辺の角度データ(t、anθ)で構成し
、斜辺のX軸に対する角度が45度よりも大きい場合に
は、電子ビームをX軸に平行なY軸方向の幅を一定とす
る複数の矩形に成形することによって斜辺を含む領域を
描画し、斜辺のX軸に対する角度が45度よりも小さい
場合には、電子ビームをY軸に平行なX軸方向の幅を一
定とする複数の矩形に成形することによって斜辺を含む
領域を描画する、という描画方法を採用したことにより
、描画すべき図形が非矩形、かつ、それが有する斜辺の
X軸に対する角度が45度でなc′1場合、その斜辺を
スムースな形状に描画することができる。
[発明の効果コ
本発明によれば、描画すべき図形が非矩形、かつ、それ
が有する斜辺のX軸に対する角度が45度でない場合、
図形データを、オペレーションコード、始点データ、大
きさデータ及び前記斜辺の角度を表示するデータで構成
し、斜辺のX軸に対する角度が45度よりも大きい場合
には、荷電粒子ビームをX軸に平行なY軸方向の幅を一
定とする複数の矩形に成形することによって斜辺を含む
領域を描画し、斜辺のX軸に対する角度が45度よりも
小さい場合には、荷電粒子ビームをY軸に平行なX軸方
向の幅を一定とする複数の矩形に成形することによって
斜辺を含む領域を描画するという描画方法を採用したこ
とにより、描画すべき図形が非矩形、かつ、それが有す
る斜辺のX軸に対する角度が45度でない場合、その斜
辺をスムースな形状に描画することができる。
が有する斜辺のX軸に対する角度が45度でない場合、
図形データを、オペレーションコード、始点データ、大
きさデータ及び前記斜辺の角度を表示するデータで構成
し、斜辺のX軸に対する角度が45度よりも大きい場合
には、荷電粒子ビームをX軸に平行なY軸方向の幅を一
定とする複数の矩形に成形することによって斜辺を含む
領域を描画し、斜辺のX軸に対する角度が45度よりも
小さい場合には、荷電粒子ビームをY軸に平行なX軸方
向の幅を一定とする複数の矩形に成形することによって
斜辺を含む領域を描画するという描画方法を採用したこ
とにより、描画すべき図形が非矩形、かつ、それが有す
る斜辺のX軸に対する角度が45度でない場合、その斜
辺をスムースな形状に描画することができる。
第工図A−Dは本発明の詳細な明
第2図A〜Cは本実施例における図形データの態様を示
す図、 第3図A〜Dは本実施例においてコード化されている標
準角三角形を示す図、 第4図A〜Hは本実施例においてコード化されている任
意角三角形を示す図、 第5図A〜Hは本実施例においてコード化されている平
行四辺形を示す図、 第6図は本発明の一実施例を実施するための電子ビーム
露光装置の要部を示す図、 第7図は第6図例の電子ビーム露光装置を構成するパタ
ーン発生回路の要部を示す回路図、第8図は第7図例の
パターン発生回路を構成するピッチメモリ及びショツト
数メモリの−を示す概念図、 第9図は第7図例のパターン発生回路を構成するピッチ
メモリ及びショツト数メモリの二を示す概念図、 第10図は第7図例のパターン発生回路を構成するピッ
チメモリ及びショツト数メモリの三を示す概念図、 第11図は本発明の一実施例により標準角三角形を描画
する場合を説明するための図、 第12図A〜Dは本発明の一実施例により任意角三角形
を描画する場合を説明するための図、第13図A〜Dは
本発明の一実施例により平行四辺形を描画する場合を説
明するための図、第14図A〜Dは従来において既に採
用されている標準角三角形の描画方法を説明するための
図である。 (A) (B) (C) (D) (× 本実施例においてコード化されている標準角三角形(直
角二等辺三角形)第3 図 (A) (XI、Yl) (8) (E) (G) 本実施例においてコード化されている平行四辺形第5図 (F) (H) ピッチメモリ61.ショツト数メモリ64を示す概念図
ピッチメモリ63、 ショツト数メモリ66を示す概念図 第10図 ピッチメモリ62、ショツト数メモリ65を示す概念図
第7図例のパターン発生回路の 動作を説明するための図 (標準角三角形を描画する場合) 第11図 (A) (B) (A) (C) (D) 路の動作を説明するための図 (任意角三角形を描画する場合) 第12図 (B) (C) (D) 第7図例のパターン発生回路の動作を説明するための図
(任意角平行四辺形を描画する場合)
す図、 第3図A〜Dは本実施例においてコード化されている標
準角三角形を示す図、 第4図A〜Hは本実施例においてコード化されている任
意角三角形を示す図、 第5図A〜Hは本実施例においてコード化されている平
行四辺形を示す図、 第6図は本発明の一実施例を実施するための電子ビーム
露光装置の要部を示す図、 第7図は第6図例の電子ビーム露光装置を構成するパタ
ーン発生回路の要部を示す回路図、第8図は第7図例の
パターン発生回路を構成するピッチメモリ及びショツト
数メモリの−を示す概念図、 第9図は第7図例のパターン発生回路を構成するピッチ
メモリ及びショツト数メモリの二を示す概念図、 第10図は第7図例のパターン発生回路を構成するピッ
チメモリ及びショツト数メモリの三を示す概念図、 第11図は本発明の一実施例により標準角三角形を描画
する場合を説明するための図、 第12図A〜Dは本発明の一実施例により任意角三角形
を描画する場合を説明するための図、第13図A〜Dは
本発明の一実施例により平行四辺形を描画する場合を説
明するための図、第14図A〜Dは従来において既に採
用されている標準角三角形の描画方法を説明するための
図である。 (A) (B) (C) (D) (× 本実施例においてコード化されている標準角三角形(直
角二等辺三角形)第3 図 (A) (XI、Yl) (8) (E) (G) 本実施例においてコード化されている平行四辺形第5図 (F) (H) ピッチメモリ61.ショツト数メモリ64を示す概念図
ピッチメモリ63、 ショツト数メモリ66を示す概念図 第10図 ピッチメモリ62、ショツト数メモリ65を示す概念図
第7図例のパターン発生回路の 動作を説明するための図 (標準角三角形を描画する場合) 第11図 (A) (B) (A) (C) (D) 路の動作を説明するための図 (任意角三角形を描画する場合) 第12図 (B) (C) (D) 第7図例のパターン発生回路の動作を説明するための図
(任意角平行四辺形を描画する場合)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 荷電粒子ビームの断面形状を所望の大きさの矩形に成
形して描画を行う荷電粒子ビーム描画方法において、 描画すべき図形が非矩形、かつ、それが有する斜辺のX
軸に対する角度が45度でない場合、図形データを、オ
ペレーション・コード、始点データ、大きさデータ及び
前記斜辺の角度を表示するデータで構成し、 前記斜辺の前記X軸に対する角度が45度よりも大きい
場合には、前記荷電粒子ビームを前記X軸に平行なY軸
方向の幅を一定とする複数の矩形に成形することによつ
て前記斜辺を含む領域を描画し、 前記斜辺の前記X軸に対する角度が45度よりも小さい
場合には、前記荷電粒子ビームを前記Y軸に平行なX軸
方向の幅を一定とする複数の矩形に成形することによっ
て前記斜辺を含む領域を描画することを特徴とする荷電
粒子ビーム露光方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2072337A JPH03270216A (ja) | 1990-03-20 | 1990-03-20 | 荷電粒子ビーム描画方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2072337A JPH03270216A (ja) | 1990-03-20 | 1990-03-20 | 荷電粒子ビーム描画方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03270216A true JPH03270216A (ja) | 1991-12-02 |
Family
ID=13486379
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2072337A Pending JPH03270216A (ja) | 1990-03-20 | 1990-03-20 | 荷電粒子ビーム描画方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03270216A (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62154729A (ja) * | 1985-12-27 | 1987-07-09 | Hitachi Ltd | 電子線描画装置 |
JPH01251718A (ja) * | 1988-03-31 | 1989-10-06 | Toshiba Corp | 荷電ビーム描画方法 |
-
1990
- 1990-03-20 JP JP2072337A patent/JPH03270216A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62154729A (ja) * | 1985-12-27 | 1987-07-09 | Hitachi Ltd | 電子線描画装置 |
JPH01251718A (ja) * | 1988-03-31 | 1989-10-06 | Toshiba Corp | 荷電ビーム描画方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2009188000A (ja) | 描画装置及び描画データの変換方法 | |
JPH0336299B2 (ja) | ||
JPH03270216A (ja) | 荷電粒子ビーム描画方法 | |
JP5148233B2 (ja) | 描画装置及び描画方法 | |
JP5631151B2 (ja) | 描画データの製造方法 | |
JP5068515B2 (ja) | 描画データの作成方法、描画データの変換方法及び荷電粒子線描画方法 | |
JPH03116922A (ja) | 電子ビーム露光方法 | |
JP4752152B2 (ja) | 描画用パターンの分割処理方法、描画用パターンの分割処理装置、描画方法、マスクの作成方法、半導体装置の製造方法、描画用パターンの分割処理プログラム及びこのプログラムを記録したコンピュータ読みとり可能な記録媒体 | |
JP2004303834A (ja) | 露光データ生成方法及び露光データ生成プログラム | |
JP2009081339A (ja) | 描画装置及び描画方法 | |
JP2894746B2 (ja) | 荷電ビーム描画方法 | |
JP2002237445A (ja) | 電子ビーム描画方法及び描画システム | |
JPS6381819A (ja) | 電子ビ−ム露光の制御方式 | |
JP2002062633A (ja) | マスクパターン補正方法及び補正装置 | |
JP2003099770A (ja) | データ変換装置およびその方法、並びに当該方法を用いたプログラム | |
JP2008288360A (ja) | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | |
JP3282894B2 (ja) | 露光データ作成方法 | |
JP2824304B2 (ja) | 図形処理方法 | |
JP2010015480A (ja) | 描画装置及び描画装置入力用データの作成方法 | |
JPS60198723A (ja) | 電子ビ−ム露光装置の描画デ−タ作成方法及びその装置 | |
JP2013507793A (ja) | マスクおよびウエハーパターニングツールのショット定義の一般化 | |
JPH1041224A (ja) | 電子ビーム描画データの合成方法及びその合成装置 | |
JPH04291463A (ja) | データ変換装置 | |
JPS61294817A (ja) | 電子線描画方法および装置 | |
JPH02148824A (ja) | 荷電ビーム描画方法及び描画装置 |