JPH03270216A - 荷電粒子ビーム描画方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［目次］ 概要 産業上の利用分野 従来の技術（第１４図） 発明が解決しようとする課題 課題を解決するための手段 作用（第１図〉 実施例（第２図〜第１３図） Ａ１本実施例の概要 Ｂ１図形データのＬｉ様 Ｃ１実施装置の一例 り、パターン発生回路の動作例 Ｅ９本本実側の効果 発明の効果 ［概要コ 荷電粒子ビームの断面形状を所望の大きさの矩形に成形
して描画を行う荷電粒子ビーム描画方法に関し、 描画すべき図形が非矩形、かつ、それが有する斜辺のＸ
軸に対する角度が４５度でない場合に、その斜辺をスム
ースな形状に描画できるようにすることを目的とし、 図形データを、オペレーション・コード、始点データ、
大きさデータ及び前記斜辺の角度を表示するデータで構
成し、前記斜辺の前記Ｘ軸に対する角度が４５度よりも
大きい場合には、前記荷電粒子ビームを前記Ｘ軸に平行
なＹ軸方向の幅を一定とする複数の矩形に成形すること
によって前記斜辺を含む領域を描画し、前記斜辺の前記
Ｘ軸に対する角度が４５度よりも小さい場合には、前記
荷電粒子ビームを前記ＹＩｌ［ｌに平行なＸ軸方向の幅
を一定とする複数の矩形に成形することによって前記斜
辺を含む領域を描画する。

［産業上の利用分野コ 本発明は、ＬＳＩ製造工程において適用される電子ビー
ム描画等、荷電粒子ビームを使用して行う描画方法、よ
り詳しくは、荷電粒子ビームの断面形状を所望の大きさ
の矩形に成形して描画を行う荷電粒子ビーム描画方法に
関する。

近年、ＬＳＩの高集積化に伴い、長年、微細パターン形
成の主流であったフォトリソグラフィに代わり、電子ビ
ームを使用する描画装置が使用されるようになってきた
。

［従来の技術］ 電子ビーム描画装置においては、矩形のほか、直角二等
辺三角形（以下、標準角三角形という）の描画を求めら
れる場合がある。この場合、従来においては、第１４図
Ａ〜Ｄに示すようにして描画が行われていた。

例えば、第１４図Ａは、描画すべき標準角三角形をＸ軸
に平行なＹ軸方向の辺を一定とする細長い短冊状の矩形
の集合体で擬制し、これら矩形のうちＸ軸方向の辺が最
大ビームサイズを越えている矩形部分１については、最
大ビームサイズを限界として等分割した矩形に電子ビー
ムを成形し、また、標準角三角形を擬制した矩形のうち
、Ｘ軸方向の辺が最大ビームサイズを越えていない矩形
部分２については、電子ビームをその矩形に成形して描
画を行う場合を示している。

また、第１４図Ｂは、描画すべき標準角三角形のＸ軸方
向の大きさＸ２を最大ビームサイズを限界として等分割
した場合のピッチサイズＸｐと、Ｙ軸方向の大きさＹ２
を最大ビームサイズを限界として等分割した場合のピッ
チサイズＹρとを算出し、標準角三角形を、ＸＰ及びｙ
ｐをそれぞれＸ軸方向の辺の長さ及びＹ軸方向の辺の長
さとする矩形３と、小三角形４とに区分し、矩形３の部
分については、電子ビームを矩形３と同一形状に成形し
、小三角形４の部分については、電子ビームを、Ｘ軸方
向の辺を可変、Ｙ軸方向の辺を一定とする矩形５とに成
形して描画を行う場合を示しており、これは第１４図Ａ
の場合よりも電子ビームのショツト数を減らし、スルー
プットの向上を図ろうとするものである。

また、第１４図Ｃは、描画すべき標準角三角形をＹ軸に
平行なＸ軸方向の辺を一定とする細長い短冊状の矩形の
集合体で擬制し、これら矩形のうちＹ軸方向の辺が最大
ビームサイズを越えている矩形部分６については、最大
ビームサイズを限界として等分割した矩形に電子ビーム
を成形し、また、標準角三角形を擬制した矩形のうち、
Ｙ軸方向の辺が最大ビームサイズを越えていない矩形部
分７については、電子ビームをその矩形に成形して描画
を行う場合を示している。

また、第１４図りは、第１４図Ｂと同様に、描画すべき
標準角三角形のＸ軸方向の大きさＸ２を最大ビームサイ
ズを限界として等分割した場合のピッチサイズＸｐと、
Ｙ軸方向の大きさＹ２を最大ビームサイズを限界として
等分割した場合のピッチサイズＹｐとを算出し、標準角
三角形を、ＸＰ及びＹｐをそれぞれＸ軸方向の辺の長さ
及びＹ軸方向の辺の長さとする矩形３と、小三角形４と
に区分し、矩形３の部分については、電子ビームを矩形
３と同一形状に成形し、小三角形４の部分については、
電子ビームを、Ｘ軸方向の辺を可変、Ｙ軸方向の辺を一
定とする矩形８とに成形して描画を行う場合を示してお
り、これは第１４図Ｃの場合よりも電子ビームのショツ
ト数を減らし、スループットの向上を図ろうとするもの
である。

［発明が解決しようとする課題］ ところで、近年、電子ビーム露光装置においては、ＬＳ
Ｉの高集積化に対応して、Ｘ軸に対して４５°以外の角
度をなす斜辺を有してなる直角三角形（以下、任意角三
角形という）や平行四辺形（以下、任意角平行四辺形と
いう）等の非矩形を描画できるようにすることが要求さ
れている。この場合、かかる非矩形の斜辺を、いかにし
てスムースな形状に描画するかが、高精度な図形を描画
する上で重要な問題となる。

本発明は、かかる点に鑑み、荷電粒子ビームの断面形状
を所望の大きさの矩形に成形して描画を行う荷電粒子ビ
ーム描画方法において、描画すべき図形が非矩形、かつ
、それが有する斜辺のＸ軸に対する角度が４５度でない
場合、その斜辺をスムースな形状に描画できるようにす
ることを目的とする。

［課題を解決するための手段］ 本発明の荷電粒子ビーム描画方法は、荷電粒子ビームの
断面形状を所望の大きさの矩形に成形して描画を行う荷
電粒子ビーム描画方法において、描画すべき図形が非矩
形、かつ、それが有する斜辺のＸ軸に対する角度が４５
度でない場合、描画すべき図形が非矩形、かつ、それが
有する斜辺のＸ軸に対する角度が４５度でない場合、図
形データを、オペレーション・コード（以下、オペ・コ
ードという）、始点データ、大きさデータ及び前記斜辺
の角度を表示するデータで槽底し、前記斜辺の前記Ｘ軸
に対する角度が４５度よりも大きい場合には、前記荷電
粒子ビームを前記Ｘ軸に平行なＹ軸方向の幅を一定とす
る複数の矩形に成形することによって前記斜辺を含む領
域を描画し、前記斜辺の前記Ｘ軸に対する角度が４５度
よりも小さい場合には、前記荷電粒子ビームを前記Ｙ軸
に平行なＸ軸方向の幅を一定とする複数の矩形に成形す
ることによって前記斜辺を含む領域を描画する、という
ものである。

［作用］ 本発明によれば、描画すべき図形が非矩形で、それが有
する斜辺のＸ軸に対する角度が４５度でない場合、例え
ば、任意角三角形で、それが有する斜辺のＸ軸に対する
角度が４５度よりも大きい場合には、例えば、第１図Ａ
に示すように描画される。なお、破線９は任意角三角形
の斜辺を示し、実線１０は成形された電子ビームの形状
を示している。

ここに、第１図Ｂは、第１図Ａの場合と同様のパターン
ルールの下に、荷電粒子ビームの断面形状をＸ軸方向の
辺を一定、Ｙ軸方向の辺を可変とする矩形１１に成形す
ることによって、斜辺５を含む領域を描画する場合を示
している。

これら第１図Ａ及びＢからも明白なように、第１図Ａの
場合の方が、第１図Ｂの場合よりも、より多くの矩形電
子ビームを使用して斜辺９を含む領域を形成することに
なるので、その分、斜辺９の形状をスムースに描画する
ことができる。

また、本発明によれば、描画すべき図形が、例えば、任
意角三角形で、それが有する斜辺のＸ軸に対する角度が
４５度よりも小さい場合には、例えば、第１図Ｃに示す
ように描画される。なお、破線１２は任意角三角形の斜
辺を示し、実線１３は成形された電子ビームの形状を示
している。

ここに、第１図りは、第１図Ｃの場合と同様のパターン
ルールの下に、荷電粒子ビームの断面形状をＸ軸方向の
辺を可変、Ｙ軸方向の辺を一定とする矩形１４に成形す
ることによって、斜辺１２を含む領域を描画する場合を
示している。

これら第１図Ｃ及びＤからも明白なように、第１図Ｃの
場合の方が、第１図りの場合よりも、より多くの矩形電
子ビームを使用して斜辺１２を含む領域を形成すること
になるので、その分、斜辺１２の形状をスムースに描画
することができる。

このように、本発明によれば、描画すべき図形が非矩形
、かつ、それが有する斜辺のＸ軸に対する角度が４５度
でない場合、その斜辺をスムースな形状に描画すること
ができる。

［実施例］ 以下、第２図〜第１３図を参照して１本発明の一実施例
につき、本発明を電子ビーム描画方法に適用した場合を
例にして、（Ａ）本実施例の概要、（Ｂ）図形データの
態様、（Ｃ）実施装置の一例、（Ｄ＞パターン発生回路
の動作、（Ｅ）本実施例の効果、に項を分けて説明する
。

Ａ１本実施例の概要 本実施例の電子ビーム露光方法は、描画すべき図形が矩
形、標準角三角形の場合には、従来の場合と同様の方法
によって描画し、描画すべき図形が任意角三角形、任意
角平行四辺形の場合には、斜辺のＸ軸に対する角度が４
５度よりも大きい場合には、電子ビームをＸ軸に平行な
Ｙ軸方向の幅を一定とする複数の矩形に成形することに
よって斜辺を含む領域を描画し、斜辺のＸ軸に対する角
度が４５度よりも小さい場合には、電子ビームをＹ軸に
平行なＸ軸方向の幅を一定とする複数の矩形に成形する
ことによって斜辺を含む領域を描画する、というもので
ある。

Ｂ１図形データの態様（第２図〜第５図）本実施例にお
いては、描画すべき図形が第３図Ａ〜Ｄに示すような標
準角三角形である場合、図形データは、第２図Ａに示す
ように、オペ・コード、始点データ（ＸＩ、Ｙｌ〉、大
きさデータ（Ｘ２、Ｙ２）で構成される。オペ・コード
には、形状コードとして、第３図Ａ〜Ｄに示す４個の方
向性を有する標準角三角形がそれぞれ、例えば、コード
１〜４として表示される。

また、描画すべき図形が第４図Ａ〜Ｈに示すような任意
角三角形の場合には、図形データは、第２図Ｂに示すよ
うに、オペ・コード、始点データ（Ｘｉ、Ｙｌ）、大き
さデータ（Ｘ２、Ｙ２＞、斜辺の角度データ（ｔａｎθ
）で構成される。オペ・コードには、形状コードとして
、第４図Ａ〜Ｈに示す８個の三角形がそれぞれ例えば、
コード５〜１２として表示される。なお、コード５〜８
の任意角三角形は、斜辺のＸ軸に対する角度が４５度よ
りも大きい場合であって、この場合には、角度データ（
ｔａｎθ）はＸ２／Ｙ２の値で表示される。また、コー
ド９〜１２の任意角三角形は、斜辺のＸ軸に対する角度
が４５度よりも小さい場合であって、この場合には、角
度データ（ｔａｎθ）は、Ｙ２／Ｘ２の値で表示される
。

また、描画すべき図形が第５図Ａ〜Ｈに示すような平行
四辺形の場合、図形データは、第２図Ｃに示すように、
オペ・コード、始点データ（ＸＩ、Ｙｌ）、大きさデー
タ（Ｘ２、Ｙ２〉、斜辺の角度データ（ｔａｎθ）で構
成される。オペ・コードには、形状コードとして、第５
図Ａ〜Ｈに示す８個の平行四辺形がそれぞれ、例えば、
コード１３〜２０として表示される。なお、コード１３
〜１６の平行四辺形は、斜辺のＸ軸に対する角度が４５
度よりも大きい場合であって、この場合には、角度デー
タ（ｔａｎθ〉は、斜辺のＸ軸成分を斜辺のＹ軸成分で
割った値で表示される。また、コード１７〜２０の平行
四辺形は、斜辺のＸ軸に対する角度が４５度よりも小さ
い場合であって、この場合には、角度データ（ｔａｎθ
）は、斜辺のＹ軸成分を斜辺のＸ軸成分で割った値で表
示される。

Ｃ１実施装置の一例（第６図〜第１０図）第６図は本実
施例の電子ビーム露光方法を実施するための電子ビーム
露光装置の要部を示す図であって、図中、１５は電子光
学カラム、１６は電子銃、１７は第１スリツト（アパー
チャ）、１８はビームサイズ用の偏向器、１９は第２ス
リツト（アパーチャ）、２０は副偏向器、２１は主偏向
器、２２は試料台、２３はＣＰＵ、２４は磁気テープ、
２５は磁気ディスク、２６はインタフェース回路、２７
はデータメモリ、２８はパターン発全回路、２９はパタ
ーン補正回路、３０はビームサイズ信号用のデジタル・
アナログ・コンバータ（以下、ＤＡコンバータという）
、３１は同じく増幅器、３２は副偏向信号用のＤＡコン
バータ、３３は同じく増幅器、３４は主偏向信号用のＤ
Ａコンバータ、３５は同じく増幅器である。

かかる電子ビーム露光装置においては、露光時、図形デ
ータは、外部記憶装置である磁気テープ２４から磁気デ
ィスク２５に転送された後、インタフェース回路２６を
介してデータメモリ２７に格納される。その後、図形デ
ータは、パターン発生回路２８に供給され、解読されて
、電子ビームの偏向位置信号、ビームサイズ信号等、パ
ターン信号が発生され、これがパターン補正回路２９に
供給される。パターン信号は、このパターン補正回路２
９において偏向位置補正等を受け、ビームサイズ信号に
ついては、ＤＡコンバータ３０及び増幅器３１を介して
ビームサイズ用の偏向器１８に供給され、副偏向信号に
ついては、ＤＡコンバータ３２及び増幅器３３を介して
副偏向器２０に供給され、主偏向信号については、ＤＡ
コンバータ３４及び増幅器３５を介して主偏向器２１に
供給される。

ここに、パターン発生回路２８は、その要部を第７図に
その回路図を示すように構成されている。

図中、４１〜４６，１４１〜１１４はレジスタ、５１．
７１．７２．９１〜９４はセレクタ、６１〜６３はピッ
チメモリ、６４〜６６はショツト数メモリ、８１〜８３
は掛算器、１０１〜１０４゜１２１．１２２は加減算器
、１３１は制御信号発生回路であって、レジスタ４１〜
４６．１１１〜１１４、セレクタ５１．７１．７２．９
１〜９４及び加減算器１０１〜１０４．１２１．１２２
は制御信号発生回路１３１によって制御されるように構
成されている。

また、ピッチメモリ６１及びショツト数メモリ６４は、
第８図にその概念図を示すように、それぞれＸ軸方向の
最大ビームサイズを、例えば、３μｍとした場合におけ
るＸ軸方向のピッチデータＸｐ及びショツト数データＸ
ｎを格納しており、レジスタ４３から大きさデータＸ２
が供給された場合に、対応するアドレスから、それぞれ
ピッチデータＸｐ及びショツト数データＸｎを読み出す
ことができるように構成されている。

また、ピッチメモリ６２及びショツト数メモリ６５は、
第９図にその概念図を示すように、それぞれＸ軸方向及
びＹ軸方向の最大ビームサイズを例えば、０．３μｍと
した場合におけるＸ軸方向及びＹ軸方向のピッチデータ
Ｒｐ及びショツト数データＲｎを格納しており、レジス
タ４３又は４４から大きさデータＸ２又はＹ２が供給さ
れた場合に、対応するアドレスから、それぞれピッチデ
ータｙｐ及びショツト数データＲｎを読み出すことがで
きるように構成されている。

また、ピッチメモリ６３及びショツト数メモリ６６は、
第１０図にその概念図を示すように、それぞれＹ軸方向
の最大ビームサイズを、例えば、３μｍとした場合にお
けるＹ軸方向のピッチデータＹｐ及びショツト数データ
Ｙｎを格納しており、レジスタ４３から大きさデータＹ
２が供給された場合に、対応するアドレスがら、それぞ
れピッチデータｙｐ及びショツト数データＹｎを読み出
すことができるように構成されている。

なお、ショット数メモリ６４．６５．６６がら読み出さ
れたショット数デ〜すＸｎ　＋　Ｒｎ、Ｙｎは、制御信
号発生回路１３１に供給されるように構成されており、
また、制御信号発生回路１３１は、これらショツト数デ
ータＸｎ　、Ｒｎ　、Ｙｎを使用してレジスタ４１〜４
６．１１１〜１１４、セレクタ５１．７１．７２．９１
〜９４及び加減算器１０１〜１０４．１２１．１２２を
制御できるように構成されている。

Ｄ、パターン発生囲路２８の動作例 パターン発生回路２８の動作につき、（Ｉ＞標準角三角
形を描画する場合、（ＩＩ）任意角三角形を描画する場
合を例にして説明する。

■、標準角三角形を描画する場合（第１１図）第１１図
は描画すべき標準角三角形及び成形された電子ビームを
示す図であって、本実施例においては、矩形部１４１．
１４２、小三角形部１４３、矩形部１４４、小三角形部
１４５．１４６の順に描画される。以下、この場合のパ
ターン発生回路２８の動作につき説明する。

（１）まず、レジスタ４１〜４６．１１１〜１１４がリ
セットされた状態で、始点データＸ１．Ｙｌ、大きさデ
ータＸ２、Ｙ２、形状コードがそれぞれレジスタ４１〜
４５に格納され、また、セレクタ５１はレジスタ４４を
選択する。なお、この場合、形状コードは標準角三角形
を表示しているので、レジスタ４６には角度データは供
給されず、セレクタ７１．７２は数値ｒ　１．ＯＪを選
択する。

ここに、レジスタ４１．４２に格納された始点データＸ
１、Ｙｌは、それぞれ加減算器１２１゜１２２に供給さ
れる。但し、この時点では、加減算器１２１．１２２は
不活性とされている。

また、レジスタ４３に格納された大きさデータＸ２は、
ピッチメモリ６１及びショツト数メモリ６４に供給され
る。ここに、ピッチメモリ６１においては、対応するア
ドレスからピッチデータＸρが読み出され、これが掛算
器８１に供給される。また、ショツト数メモリ６４にお
いては、対応するアドレスからショツト数データＸｎか
読み出され、これが制御信号発生回路１３１に供給され
る。

また、レジスタ４４に格納された大きさデータＹ２は、
セレクタ５１を介してピッチメモリ６２及びショツト数
メモリ６５に供給される。ここに、ピッチメモリ６２に
おいては、対応するアドレスからピッチデータＲｐが読
み出され、これが掛算器８２及びセレクタ９１〜９４に
供給される。また、ショツト数メモリ６５においては、
対応するアドレスからショツト数データＲｎが読み出さ
れ、これが制御信号発生回路１３１に供給される。

また、レジスタ４４に格納された大きさデータＹ２は、
ピッチメモリ６３及びショツト数メモリ６６にも供給さ
れる。ここに、ピッチメモリ６３においては、対応する
アドレスからピッチデータＹｐが読み出され、これが掛
算器８３に供給される。また、ショツト数メモリ６６に
おいては、対応するアドレスからショツト数データＹｎ
が読み出され、これが制御信号発生回路１３１に供給さ
れる。

（２）矩形部１４１の描画 動作■（１）に続いて、加減算器１０３．１０４゜１２
１．１２２が加算器として活性化されると共に、セレク
タ９３は掛算器８１を選択し、セレクタ９４は掛算器８
３を選択する。なお、加減算器１０１．１０２は不活性
とされる。この場合、出力される電子ビームの位置デー
タＰｘ　−Ｐｙ　、ビームサイズデータＳｘ　、Ｓｙは
次のようになる。

■位置データＰｘ レジスタ４１に格納された始点データＸ１が加減算器１
２１を介して出力されるので、位置データＰｘはＰｘ＝
Ｘ１となる。

■位置データルｙ レジスタ４２に格納された始点データＹ１が加減算器１
２２を介して出力されるので、位置データｐｙはＰｙ＝
Ｙ１となる。

■ビームサイズデータＳｘ ピッチメモリ６１の出力ｘｐが、掛算器８１、セレクタ
９３、加減算器１０３を介してレジスタ１１３に格納さ
れるので、ピッチサイズデータＳｘは５ｘ＝Ｘｐ　とな
る。

■ビームサイズデータｓｙ ピッチメモリ６３の出力Ｙｐが、掛算器８３、セレクタ
９４、加減算器１０４を介してレジスタ１１４に格納さ
れるので、ピッチサイズデータｓｙはｓｙ　＝ｙｐ　と
なる。

したがって、これら位置データＰｘ　、　Ｐｙ　、ビー
ムサイズデータＳｘ、Ｓｙに基づいて、矩形部１４１の
描画が行われる。

（３）矩形部１４２の描画 動作■（２）に続いて、改めて加減算器１０１゜１２１
．１２２が加算器として活性化されると共に、セレクタ
９１は掛算器８１を選択する。なお、加減算器１０２〜
１０４は不活性とされる。この場合、電子ビームの位置
データＰｘ　、Ｐｙ　、ビームサイズデータＳｘ　、Ｓ
ｙは次の通りになる。

■位置データＰｘ ピッチメモリ６１の出力Ｘρが、掛算器８１、セレクタ
９１、加減算器１０１を介してレジスタ１１１に格納さ
れ、このレジスタ１１１の内容はＸｐとなる。したがっ
て、位置データＰｘはＰｘ−Ｘｌ＋Ｘｐとなる。

■位置データルｙ 加減算器１０２は活性化されないので、位置データｐｙ
はＰｙ＝Ｙ１のままである。

■ビームサイズデータＳｘ 加減算器１０３は活性化されないので、ビームサイズデ
ータＳ、ｘはＳｘ　＝Ｘｐのままである。

■ビームサイズｓｙ 加減算器１０４は活性化されないので、ビームサイズデ
ータｓｙはｓｙ　＝Ｙｐのままである。

したがって、これら位置データＰｘ　、　Ｐｙ　、ビー
ムサイズデータＳｘ　、Ｓｙに基づいて、矩形部１４２
の描画が行われる。

（４）小三角形部１４３の描画 ａ、１シヨツト目 レジスタ１１４がリセットされた後、改めて加減算器１
０１．１０４が加算器として活性化され、セレクタ９１
は掛算器８１を選択し、セレクタ９４はピッチメモリ６
２を選択する。なお、加減算器１０２．１０３は不活性
とされる。この場合、出力される電子ビームの位置デー
タＰｘ　、Ｐｙ、ビームサイズデータＳｘ　、Ｓｙは次
のようになる。

■位置データＰｘ ピッチメモリ６１の出力ＸＰが、掛算器８１、セレクタ
９１を介して加減算器１０１に供給されるので、レジス
タ１１１の内容は２Ｘｐとなる。

この結果、位置データＰｘはＰｘ＝Ｘ１＋２ＸＰとなる
。

■位置データＰｙ 加減算器１０２は活性化されないので、位置データｐｙ
はＰｙ＝Ｙ１のままである。

■ビームサイズデータＳｘ 加減算器１０３は活性化されないので、ビームサイズデ
ータＳｘはＳｘ　＝Ｘｐのままである。

■ビームサイズデータｓｙ ピッチメモリ６２の出力Ｒｐがセレクタ９４、加算器１
０４を介してレジスタ１１４に供給され、レジスタ１１
４の内容はＲｐとなる。この結果、ビームサイズデータ
ｓｙはｓｙ　＝Ｒｐとなる。

したがって、これら位置データＰｘ　、Ｐｙ　、ビーム
サイズデータＳｘ、Ｓｙに基づいて小三角形部１４３の
１シヨツト目の描画が行われる。なお、第１１図におい
て、１４３Ａは、この１シヨツト目の矩形電子ビームを
示している。

ｂ、２シヨツト目 動作Ｉ（３）ａに続いて、改めて加減算器１０２゜１２
１．１２２が加算器として活性化され、加減算器１０３
が減算器として活性化されると共に、セレクタ９２はピ
ッチメモリ６２を選択し、セレクタ９３は掛算器８２を
選択する。なお、加減算器１０１．１０４は不活性とさ
れる。この場合、出力される電子ビームの位置データＰ
ｘ　、Ｐｙ、ビームサイズデータＳｘ　、Ｓｙは次のよ
うになる。

■位置データＰｘ 加減算器１０１は活性化されないので、レジスタ１１１
の内容は２Ｘｐのままである。この結果、位置データＰ
ｘはＰｘ　＝Ｘ１　＋２Ｘｐのままである。

■位置データルｙ ピッチメモリ６２の出力ＲＰがセレクタ９２を介して加
減算器１０２に供給されので、レジスタ１１２の内容は
Ｙｌ＋Ｒｐとなる。この結果、位置データｐｙはＰｙ　
＝Ｙ　１　＋Ｒｐとなる。

■ビームサイズデータＳｘ ピッチメモリ６２の出力Ｒｐが、掛算器８２、セレクタ
９３を介して減算器として活性化された加減算器１０３
に供給される。この結果、レジスタ１１３の内容はＸｐ
−Ｒｐとなるので、ビームサイズデータＳｘはＳｘ　＝
Ｘｐ−Ｒｐとなる。

■ビームサイズｓｙ 加減算器１０４は活性化されないので、レジスタ１１４
の内容はＲｐのままであり、ビームサイズデータｓｙは
ｓｙ　＝Ｒｐとなる。

したがって、これら位置データＰｘ　、　Ｐｙ　、ビー
ムサイズデータＳｘ、Ｓｙに基づいて小三角形部１４３
の２シヨツト目の描画が行われる。なお、第１１図にお
いて、１４３Ｂは、この２シヨツト目の矩形電子ビーム
を示している。

ｃ、３シヨツト目 動作Ｈ３）ｂに続いて、改めて加減算器１０２゜１２１
．１２２が加算器として活性化され、加減算器１０３が
減算器として活性化されると共に、セレクタ９２はピッ
チメモリ６２を選択し、セレクタ９３は掛算器８２を選
択する。なお、加減算器１０１．１０４は不活性とされ
る。この場合、出力される電子ビームの位置データＰｘ
　、Ｐｙ、ビームサイズデータＳｘ　、Ｓｙは次のよう
になる。

■位置データＰｘ 加減算器１０１は活性化されないので、レジスタ１１１
の内容は２Ｘｐのままである。この結果、位置データＰ
ｘもＰｘ＝Ｘ１＋２Ｘρのままである。

■位置データルｙ ピッチメモリ６２の出力Ｒｐがセレクタ９２を介して加
減算器１０２に供給される。この結果、レジスタ１１２
の内容はＹ１＋２Ｒρとなるので、位置データｐｙはＰ
ｙ＝Ｙ１＋２Ｒｐとなる。

■ビームサイズデータＳｘ ピッチメモリ６２の出力Ｒρが、掛算器８２、セレクタ
９３を介して減算器として活性化された加減算器１０３
に供給される。この結果、レジスタ１１３の内容はＸｐ
−２Ｒｐとなるので、ビームサイズデータＳｘはＳｘ　
＝Ｘｐ−２Ｒｐとなる。

■ビームサイズｓｙ 加減算器１０４は活性化されないので、レジスタ１１４
の内容はＲｐのままであり、ビームサイズデータｓｙは
ｓｙ　＝Ｒｐとなる。

したがって、これら位置データＰｘ　、　Ｐｙ−ビーム
サイズデータＳｘ、Ｓｙに基づいて小三角形部１４３の
３シヨツト目の描画が行われる。なお、第１１図におい
て、１４３Ｃは、この３シヨツト目の矩形電子ビームを
示している。

以下、同様にして、小三角形部１４３の描画が実行され
、これが終了すると、レジスタ１１１〜１１４はリセッ
トされる。

（５）矩形部１４４の描画 動作■（４）に続いて、改めて加減算器１０２゜１０３
．１０４．１２１．１２２が加算器として活性化される
と共に、セレクタ９２．９４は掛算器８３を選択し、セ
レクタ９３は掛算器８１を選択する。なお、加減算器１
０１は不活性とされる。

この場合、出力される電子ビームの位置データＰｘ　、
　Ｐｙ　、ビームサイズデータＳｘ、Ｓｙは次のように
なる。

■位置データＰｘ レジスタ４１に格納されている始点データＸｉが加減算
器１２１を介して出力されるので、位置データＰｘはＰ
ｘ＝Ｘ１となる。

■位置データルｙ ピッチメモリ６３の出力ｙｐが、掛算器８３、セレクタ
９２、加算器１０２を介してレジスタ１１２に格納され
る。したがって、位置データｐｙはＰｙ　＝Ｙ　１　＋
Ｙｐとなる。

■ビームサイズデータＳＸ ピッチメモリ６１の出力ｘｐが、掛算器８１、セレクタ
９３、加減算器１０３を介してレジスタ１１３に格納さ
れるので、ピッチサイステータＳｘはＳｘ　＝Ｘｐとな
る。

■ビームサイズデータｓｙ ピッチメモリ６３の出力ＹＰが、掛算器８３、セレクタ
９４、加減算器１０４を介してレジスタ１１４に格納さ
れるので、ピッチサイズデータｓｙはｓｙ　＝Ｙｐ　と
なる。

したがって、これら位置データＰｘ　、　Ｐｙ　、ビー
ムサイズデータＳｘ、Ｓｙに基づいて、矩形部１４４の
描画が行われる。

（６）小三角形部１４５の描画 ａ、１シヨツト目 レジスタ１１４がリセットされた後、改めて加減算器１
０１．１０２．１０４か加算器として活性化され、セレ
クタ９１は掛算器８１を選択し、セレクタ９２は掛算器
８３を選択し、セレクタ９４はピッチメモリ６２を選択
する。なお、加減算器１０３は不活性とされる。この場
合、出力される電子ビームの位置データＰｘ　、　Ｐｙ
　、ビームサイズデータＳｘ　、Ｓｙは次のようになる
。

■位置データＰｘ ピッチメモリ６１の出力Ｘｐが、掛算器８１、セレクタ
９１を介して加減算器１０１に供給されるので、レジス
タ１１１の内容はＸｐとなる。この結果、位置データＰ
ｘはＰｘ＝Ｘ１＋Ｘｐとなる。

■位置データルｙ ピッチメモリ６３の出力Ｙｐが、掛算器８３、セレクタ
９２、加減算器１０２を介してレジスタ１１２に格納さ
れる。この結果、位置データｐｙはＰ３／　＝Ｙ　１　
＋Ｙｐとなる。

■ビームサイズデータＳｘ 加減算器１０３は活性化されないので、ビームサイズデ
ータＳｘはＳｘ　＝Ｘｐのままである。

■ビームサイズデータｓｙ ピッチメモリ６２の出力ＲＰがセレクタ９４、加算器１
０４を介してレジスタ１１４に格納される。この結果、
ビームサイズデータｓｙは５ｙ＝Ｒｐとなる。

したがって、これら位置データＰｘ　、　Ｐｙ　、ビー
ムサイズデータ５ｘ−８ｙに基づいて小三角形部１４５
の１シヨツト目の描画が行われる。なお、第１１図にお
いて、１４５Ａは、この１シヨツト目の矩形電子ビーム
を示している。

以下、動作■（４）の場合と同様にしてショットが実行
され、これが終了すると、レジスタ１１１〜１１４はリ
セットされる。

（７）小三角形１４６の描画 ａ、１シヨツト目 動作Ｉ（６）に続いて、改めて加減算器１０２゜１０３
．１０４．１２１．１２２が加算器として活性化される
と共に、セレクタ９２は掛算器８３を選択し、セレクタ
９３は掛算器８１を選択し、セレクタ９４はピッチメモ
リ６２を選択する。なお、加減算器１０１は不活性とさ
れる。この場合、出力される電子ビームの位置データＰ
ｘ　、Ｐｙ、ビームサイズデータＳｘ　、Ｓｙは次のよ
うになる。

■位置データＰｘ レジスタ４１に格納されている始点データＸ１が加減算
器１２１を介して出力されるので、位置データＰｘはＰ
ｘ＝Ｘ１となる。

■位置データルｙ ピッチメモリ６３の出力Ｙｐが、掛算器８３、セレクタ
９４を介して加減算器１０２に供給されて、加算動作が
２回行われる。この結果、レジスタ１１２の内容は２Ｙ
ｐとなるので、位置データｐｙはＰｙ　＝Ｙ１＋２Ｙｐ
となる。

■ビームサイズデータＳｘ ピッチメモリ６１の出力Ｘｐが、掛算器８１、セレクタ
９３、加減算器１０３を介してレジスタ１１３に格納さ
れるので、ピッチサイズデータＳｘは５ｘ＝Ｘｐとなる
。

■ビームサイズデータｓｙ ピッチメモリ６２の出力Ｒｐがセレクタ９４、加算器１
０４を介してレジスタ１１４に格納される。この結果、
ビームサイズデータｓｙは５ｙ＝Ｒｐとなる。

したがって、これら位置データＰｘ　、　Ｐｙ　、ビー
ムサイズデータＳｘ、Ｓｙに基づいて小三角形部１４６
の１シヨツト目の描画が行われる。なお、第１１図にお
いて、１４６Ａは、この１シヨツト目の矩形電子ビーム
を示している。

以下、動作■（４）の場合と同様にしてショットが実行
され、ここに、標準角三角形の描画が終了する。

■、任意角三角形を描画する場合（第１２図）第１２図
Ａは、描画すべき任意角三角形及び成形された電子ビー
ムを示す図であって、本実施例においては、矩形部１５
１．１５２、小三角形部１５３、矩形部１５４、小三角
形部１５５゜１５６の順に描画される。以下、この場合
のパターン発生回路２８の動作につき説明する。

（１）まず、レジスタ４１〜４６．１１１〜１１４がリ
セットされた状態で、始点データＸ１、Ｙｌ、大きさデ
ータＸ　２　ＪＹ　２　＋形状コード、角度データｔａ
ｎθがそれぞれレジスタ４１〜４６に格納され、また、
セレクタ５１はレジスタ４４を選択する。

（２）矩形部１５１の描画 パターン発生回路２８は、前例■（２）の場合と同様に
動作する。この結果、レジスタ１１１゜１１２．１１３
．１１４の内容は、それぞれ０、ｏ、ｘｐ　、ＹＰとな
り、位置データＰｘ　−Ｐｙ、ビームサイズデータＳｘ
　、Ｓｙは、それぞれＸｌ、Ｙｌ、Ｘｐ　、Ｙｐとなる
。したがって、これら位置データＰｘ　、Ｐｙ　、ビー
ムサイズデータＳｘ、ｓｙに基づいて矩形部１５１の描
画が行われる。

（３）矩形部１５２の描画 パターン発生回路２８は、前例■（３）の場合と同様に
動作する。この結果、レジスタ１１１゜１１２．１１３
．１１４の内容は、それぞれｘｐ、０、ｘｐ　、ｙｐと
なり、位置データＰｘ　−Ｐｙ、ビームサイズデータＳ
ｘ　、Ｓｙは、それぞれＸ１＋Ｘｐ　、Ｙｌ、Ｘｐ　、
Ｙｐとなる。したがって、これら位置データＰＸ、Ｐｙ
、ビームサイズデータＳｘ　、Ｓｙに基づいて矩形部１
５２の描画が行われる。

（４〉小三角形部１５３の描画 ａ、１シヨツト目 パターン発生回路２８は、前例Ｉ（４）ａの場合と同様
に動作する。この結果、レジスタ１１１゜１１２．１１
３．１１４の内容はそれぞれ２Ｘｐ、０、ｘｐ　、Ｒｐ
となり、位置データＰｘ　、Ｐｙ、ビームサイズデータ
Ｓｘ　＝　ＳｙはそれぞれＸ１＋２Ｘｐ　、Ｙｌ、ｘｐ
　、Ｒｐとなる。したがッテ、これら位置データＰｘ　
、　Ｐｙ　＋ビームサイズデータＳｘ　、Ｓｙに基づい
て矩形部１５３の描画が行われる。なお、第１２図にお
いて、１５３Ａはこの１シヨツト目の矩形電子ビームを
示している。

ｂ、２シヨツト目 動作ＩＩ（３）ａに続いて、改めて加減算器１０２゜１
２１．１２２が加算器として活性化され、加減算器１０
３が減算器として活性化されると共に、セレクタ９２は
ピッチメモリ６２を選択し、セレクタ９３は掛算器８２
を選択する。なお、加減算器１０１．１０４は不活性と
される。この場合、出力される電子ビームの位置データ
Ｐｘ　、Ｐｙ、ビームサイズデータＳｘ、Ｓｙは次のよ
うになる。

■位置データＰｘ 加減算器１０１は活性化されないので、レジスタ１１１
の内容は２Ｘｐのままである。この結果、位置データＰ
ｘはＰｘ＝Ｘ１＋２Ｘｐのままである。

■位置データルｙ ピッチメモリ６２の出力Ｒρがセレクタ９２を介して加
減算器１０２に供給される。この結果、レジスタ１１２
の内容はＲｐとなるので、位置データｐｙはＰｙ＝Ｙ１
＋Ｒｐとなる。

■ビームサイズデータＳｘ ピッチメモリ６２の出力Ｒｐが、掛算器８２、セレクタ
９３を介して減算器として活性化された加減算器１０３
に供給される。この結果、レジスタ１１３の内容は、Ｘ
ｐ−ＲｐＸ　ｔａｎθとなるので、ビームサイズデータ
ＳｘはＳｘ　＝Ｘｐ　−ＲｐＸ　ｔａｎθとなる。

■ビームサイズｓｙ 加減算器１０４は活性化されないので、レジスタ１１４
の内容はＲｐのままであり、ビームサイズデータｓｙは
ｓｙ　＝＝Ｒｐとなる。

したがって、これら位置データＰｘ、Ｐｙ−ビームサイ
ズデータ５ｘ−３ｙに基ついて小三角形部１５３の２シ
ヨツト目の描画が行われる。なお、第１２図において、
１５３Ｂは、この２シヨツト目の矩形電子ビームを示し
ている。

ｃ、３シヨツト目 動作ｎ（３）ｂに続いて、改めて加減算器１０２゜１２
１．１２２が加算器として活性化され、加減算器１０３
が減算器として活性化されると共に、セレクタ９２はピ
ッチメモリ６２を選択し、セレクタ９３は掛算器８２を
選択する。なお、加減算器１０１．１０４は不活性とさ
れる。この場合、出力される電子ビームの位置データＰ
ｘ　−Ｐｙ、ビームサイズデータＳｘ　、Ｓｙは次のよ
うになる。

■位置データＰｘ 加減算器１０１は活性化されないので、レジスタ１１１
の内容は２Ｘｐのままである。この結果、位置データＰ
ｘはＰｘ＝Ｘ１＋２Ｘｐのままである。

■位置データルｙ ピッチメモリ６２の出力ＲＰがセレクタ９２を介して加
減算器１０２に供給される。この結果、レジスタ１１２
の内容は２Ｒｐとなるので、位置データＰｙはＰｙ＝Ｙ
１＋２Ｒｐとなる。

■ビームサイズデータＳｘ ピッチメモリ６２の出力Ｒｐが、掛算器８２、セレクタ
９３を介して減算器として活性化された加減算器１０３
に供給される。この結果、レジスタ１１３の内容は、Ｘ
ｐ　−２Ｒｐ　Ｘ　ｔａｎθとなるので、ビームサイズ
データＳｘはＳｘ　＝Ｘｐ　−２Ｒｐ　Ｘ　ｔａｎθと
なる。

■ビームサイズｓｙ 加減算器１０４は活性化されないので、レジスタ１１４
の内容はＲＰのままであり、ビームサイズデータｓｙは
ｓｙ　＝ＲＰとなる。

したがって、これら位置データＰｘ　、　Ｐｙ　＋ビー
ムサイズデータＳｘ、Ｓｙに基づいて小三角形部１５３
の２シヨツト目の描画が行われる。なお、第１２図にお
いて、１５３Ｃは、この３シヨツト目の矩形電子ビーム
を示している。

以下、同様にして、小三角形部１５３の描画が実行され
、これが終了すると、レジスタ１１１〜１１４はリセッ
トされる。

（５）矩形部１５４の描画 パターン発生回路２８は、前例■（５〉の場合と同様に
動作する。この結果、レジスタ１１１゜１１２．１１３
．１１４の内容は、それぞれＯｌｏ、ｘｐ　、Ｙｐとな
り、位置データＰｘ　、Ｐｙ、ビームサイズデータＳｘ
　、Ｓｙは、それぞれＸｌ、Ｙ１＋Ｙｐ　、Ｘｐ　、Ｙ
ｐとなる。したがって、これら位置データＰｘ　、　Ｐ
ｙ　、ビームサイズデータ５ｘ−Ｂｙに基づいて矩形部
１５４の描画が行われる。

（６〉小三角形部１５５の描画 ａ、１シヨツト目 パターン発生回路２８は、前例Ｉ（６）ａの場合と同様
に動作する。この結果、レジスタ１１１゜１１２．１１
３．１１４の内容はそれぞれＸｐ、Ｙｐ、Ｘｐ、Ｒｐと
なり、位置データＰｘ、Ｐｙ、ビームサイズデータＳｘ
　、ＳｙはそれぞれＸ１＋Ｘｐ、Ｙ１＋Ｙｐ　＋　ｘｐ
　、Ｒｐとなる。この結果、これら位置データＰｘ　＋
　ｐｙ　、ビームサイズデータＳｘ　、Ｓｙに基づいて
、小三角形部１５５の１シヨツト目の描画が行われる。

なお、第１２図において、１５５Ａはこの１シヨツト目
の矩形電子ビームを示している。

以下、動作■（５）の場合と同様にしてショットが実行
され、これが終了すると、レジスタ１１１〜１１４はリ
セットされる。

（７）小三角形１５６の描画 ａ、１シヨツト目 パターン発生回路２８は、前例１（７）ａの場合と同様
に動作する。この結果、レジスタ１１１゜１１２．１１
３．１１４の内容は、それぞれＯｌｏ、ｘＰ　、Ｒｐと
なり、位置データＰｘ　、Ｐｙ、ビームサイズデータＳ
ｘ　、ＳｙはそれぞれＸｌ、Ｙ１＋２Ｙｐ　、Ｘｐ　、
Ｒｐとなる。この結果、これら位置データＰｘ　、　Ｐ
ｙ　、ビームサイズデータＳχ、Ｓｙに基づいて、小三
角形部１５５の１シヨツト目の描画が行われる。なお、
第１２図において、１５６Ａはこの１シヨツト目の矩形
電子ビームを示している。

以下、動作■（６）の場合と同様にしてショットが実行
され、ここに、任意角三角形の描画が終了する。

ここに、第１２図Ｂは、第１２図Ａの場合と同様のパタ
ーンルールの下に、電子ビームの断面形状をＸ軸方向の
辺を一定、Ｙ軸方向の辺を可変とする矩形に成形するこ
とによって、斜辺を含む領域を描画した場合を示してい
る。

これら第１２図Ａ及びＢからも明白なように、第１２図
Ａの場合の方が、第１２図Ｂの場合よりも、より多くの
矩形電子ビームを使用して斜辺を含む領域を形成するこ
とになるので、その分、斜辺の形状をスムースに描画す
ることができる。

また、前例■では、第４図Ｂに示すコード６の任意角三
角形を描画する場合につき述べたが、本実施例によれば
、その他のコードの任意角三角形についても、前例■と
同様の手法で描画することもできる０例えば、第４図Ｅ
に示すコード９の任意角三角形の場合は、第１２図Ｃに
示すように描画することができる。ここに、第１２図り
は、第１２図Ｃの場合と同様のパターンルールの下に、
電子ビームの断面形状をＸ軸方向の辺を一定、Ｙ軸方向
の辺を可変とする矩形に成形することによって、斜辺を
含む領域を描画した場合を示している。これら第１２図
Ｃ及びＤからも明白なように、第１２図Ｃの場合の方が
、第１２図りの場合よりも、より多くの矩形電子ビーム
を使用して斜辺を含む領域を形成することになるので、
その分、斜辺の形状をスムースに描画することができる
。

また、本実施例によれば、例えば、第５図りに示すコー
ド１６の平行四辺形の場合は、例えば、第１３図Ａに示
すように描画することができる。ここに、第１３図Ｂは
、第１３図Ａの場合と同様のパターンルールの下に電子
ビームの断面形状をＹ軸方向に平行な細長い短冊状に成
形することによってコード１６の平行四辺形を描画した
場合を示している。これら第１３図Ｃ及びＤからも明白
なように第１３図Ｃの場合の方が、第１３図りの場合よ
りも、より多くの矩形電子ビームを使用して斜辺を含む
領域を形成することになるので、その分、斜辺の形状を
スムースに描画することができる。

また、本実施例によれば、例えば、第５図Ｇに示すコー
ド１９の平行四辺形の場合は、例えば、第１３図Ｃに示
すように描画することができる。ここに、第１３図りは
、第１３図Ｃの場合と同様のパターンルールの下に電子
ビームの断面形状をＸ軸方向に平行な細長い短冊状に成
形することによってコード１６の平行四辺形を描画した
場合を示している。これら第１３図Ｃ及びＤからも明白
なように第１３図Ｃの場合の方が、第１３図りの場合よ
りも、より多くの矩形電子ビームを使用して斜辺を含む
領域を形成することになるので、その分、斜辺の形状を
スムースに描画することができる。他のコードの任意角
平行四辺形を描画する場合も同様の手法で描画すること
ができる。

Ｅ７本実施例の効果 本実１１！、例によれば、描画すべき図形が任意角三角
形、任意角平行四辺形の場合、図形データを、オペ　コ
ード、始点データ（ＸＩ、Ｙｌ）、大きさデータ（Ｘ２
、Ｙ２＞及び斜辺の角度データ（ｔ、ａｎθ）で構成し
、斜辺のＸ軸に対する角度が４５度よりも大きい場合に
は、電子ビームをＸ軸に平行なＹ軸方向の幅を一定とす
る複数の矩形に成形することによって斜辺を含む領域を
描画し、斜辺のＸ軸に対する角度が４５度よりも小さい
場合には、電子ビームをＹ軸に平行なＸ軸方向の幅を一
定とする複数の矩形に成形することによって斜辺を含む
領域を描画する、という描画方法を採用したことにより
、描画すべき図形が非矩形、かつ、それが有する斜辺の
Ｘ軸に対する角度が４５度でなｃ′１場合、その斜辺を
スムースな形状に描画することができる。

［発明の効果コ 本発明によれば、描画すべき図形が非矩形、かつ、それ
が有する斜辺のＸ軸に対する角度が４５度でない場合、
図形データを、オペレーションコード、始点データ、大
きさデータ及び前記斜辺の角度を表示するデータで構成
し、斜辺のＸ軸に対する角度が４５度よりも大きい場合
には、荷電粒子ビームをＸ軸に平行なＹ軸方向の幅を一
定とする複数の矩形に成形することによって斜辺を含む
領域を描画し、斜辺のＸ軸に対する角度が４５度よりも
小さい場合には、荷電粒子ビームをＹ軸に平行なＸ軸方
向の幅を一定とする複数の矩形に成形することによって
斜辺を含む領域を描画するという描画方法を採用したこ
とにより、描画すべき図形が非矩形、かつ、それが有す
る斜辺のＸ軸に対する角度が４５度でない場合、その斜
辺をスムースな形状に描画することができる。

【図面の簡単な説明】

第工図Ａ−Ｄは本発明の詳細な明 第２図Ａ〜Ｃは本実施例における図形データの態様を示
す図、 第３図Ａ〜Ｄは本実施例においてコード化されている標
準角三角形を示す図、 第４図Ａ〜Ｈは本実施例においてコード化されている任
意角三角形を示す図、 第５図Ａ〜Ｈは本実施例においてコード化されている平
行四辺形を示す図、 第６図は本発明の一実施例を実施するための電子ビーム
露光装置の要部を示す図、 第７図は第６図例の電子ビーム露光装置を構成するパタ
ーン発生回路の要部を示す回路図、第８図は第７図例の
パターン発生回路を構成するピッチメモリ及びショツト
数メモリの−を示す概念図、 第９図は第７図例のパターン発生回路を構成するピッチ
メモリ及びショツト数メモリの二を示す概念図、 第１０図は第７図例のパターン発生回路を構成するピッ
チメモリ及びショツト数メモリの三を示す概念図、 第１１図は本発明の一実施例により標準角三角形を描画
する場合を説明するための図、 第１２図Ａ〜Ｄは本発明の一実施例により任意角三角形
を描画する場合を説明するための図、第１３図Ａ〜Ｄは
本発明の一実施例により平行四辺形を描画する場合を説
明するための図、第１４図Ａ〜Ｄは従来において既に採
用されている標準角三角形の描画方法を説明するための
図である。 （Ａ） （Ｂ） （Ｃ） （Ｄ） （× 本実施例においてコード化されている標準角三角形（直
角二等辺三角形）第３ 図 （Ａ） （ＸＩ、Ｙｌ） （８） （Ｅ） （Ｇ） 本実施例においてコード化されている平行四辺形第５図 （Ｆ） （Ｈ） ピッチメモリ６１．ショツト数メモリ６４を示す概念図
ピッチメモリ６３、 ショツト数メモリ６６を示す概念図 第１０図 ピッチメモリ６２、ショツト数メモリ６５を示す概念図
第７図例のパターン発生回路の 動作を説明するための図 （標準角三角形を描画する場合） 第１１図 （Ａ） （Ｂ） （Ａ） （Ｃ） （Ｄ） 路の動作を説明するための図 （任意角三角形を描画する場合） 第１２図 （Ｂ） （Ｃ） （Ｄ） 第７図例のパターン発生回路の動作を説明するための図
（任意角平行四辺形を描画する場合）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 　荷電粒子ビームの断面形状を所望の大きさの矩形に成
   形して描画を行う荷電粒子ビーム描画方法において、 描画すべき図形が非矩形、かつ、それが有する斜辺のＸ
   軸に対する角度が４５度でない場合、図形データを、オ
   ペレーション・コード、始点データ、大きさデータ及び
   前記斜辺の角度を表示するデータで構成し、 前記斜辺の前記Ｘ軸に対する角度が４５度よりも大きい
   場合には、前記荷電粒子ビームを前記Ｘ軸に平行なＹ軸
   方向の幅を一定とする複数の矩形に成形することによつ
   て前記斜辺を含む領域を描画し、 前記斜辺の前記Ｘ軸に対する角度が４５度よりも小さい
   場合には、前記荷電粒子ビームを前記Ｙ軸に平行なＸ軸
   方向の幅を一定とする複数の矩形に成形することによっ
   て前記斜辺を含む領域を描画することを特徴とする荷電
   粒子ビーム露光方法。