JPS60198723A - 電子ビ−ム露光装置の描画デ−タ作成方法及びその装置 - Google Patents

電子ビ−ム露光装置の描画デ−タ作成方法及びその装置

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JPS60198723A
JPS60198723A JP59055047A JP5504784A JPS60198723A JP S60198723 A JPS60198723 A JP S60198723A JP 59055047 A JP59055047 A JP 59055047A JP 5504784 A JP5504784 A JP 5504784A JP S60198723 A JPS60198723 A JP S60198723A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は電子ビーム露光装置に用いる描画データを作成
する描画データ作成方法およびその装置に関する。
〔発明の技術的背景およびその問題点〕集積回路の集積
度は年々増加しており、それに伴ない集積回路の設計、
製造の各工程において高密度化、大規模化に対処するこ
とが要求されている。集積回路の製造工程において、そ
の微細かつ複雑なノソターンを高速かつ高精度で形成す
るため、近年電子ビーム露光装置が用りられている。
第1図にラスタスキャンタイプの電子ビーム露光装置を
示す(垂井康夫編、「超LSI技術」オーム社(昭和島
年)参照〕。汎用コンピュータエは、各種データの入出
力処理および電子ビーム露光装置全体の制御をおこなう
。描画パターンである図形データは磁気テープ装置2に
記憶されている。
この図形データは汎用コンピュータ1で描画に適合する
ようにデータ変換されて磁気ディスク装置3に保存され
る。このようにして保存された描画データは描画時に汎
用コンビ二−タ1により描画装置別に入力される。描画
装置別は、制御インターフェース4と、操作・ぐネル5
と、偏向器6と、試料台8と、試料台駆動用のモータ7
と、電子銃9と、電子レンズ10と、これら電子銃9と
電子レンズ10の電子光学銃筒電源11とを備えている
この電子ビーム露光装置による描画方式を第2図に示す
。円形の電子ビーム12が静電偏向板13により一定方
向(X方向)にかつ一定振幅Wで試料14上を繰り返し
走査する。一方、試料台8が電子ビーム12の走査方向
(X方向)に直交するY方向に一定速度で連続的に移動
し、ピッチPで順次走査をしていく。それにより試料1
4における一定幅のたんさく領域15の全体が走査され
る。このたんざく領域15のことをフレームとVa5゜
このようにしてフレーム15の描画が終了すると試料台
8が走食振@Wだけ電子ビーム120走歪方向へステッ
プ移動し、フレーム15とは逆の方向に試料台8を連続
移動して次のフレーム16を描画する。このようにして
試料14の一端から順次1フレームずつ正逆連続移動な
繰り返して試料14の全体を描画する。
一方、この描画に伴って磁気ディスク装置3に保存され
ている図形データが汎用コンピュータ1により制御イン
ターフェース4に転送さね、このデータは制御インター
フェース4内の関数発生器(図示せず)によりドツトパ
ターンに変換されてドラトノぞターンメモリからドツト
パターンを読み出して電子ビーム12の輝度を変化させ
る。このようにして試料14に図形データに従ったパタ
ーンが描画される。
上述の描画動作において磁気テープ装置2に記憶されて
いる図形データは、汎用コンピュータ1により描画に適
合するように単純な基本図形に分割される。従来の固形
分割方法を第3図を用いて説明する(森邦雄他「ラスタ
・スキャン型電子ビ−ム露光装買駆動用データ作成の一
手法」電気通信学会研究会資料CAS80−54参照)
。第3図(a)に示す図形を例として説明する。
■ステップ1:分割する多角層の各頂点のX座標値X□
、N2.・・・、N7を重複を除きながら昇順にソート
して第3図(b) に示すように分割座標テーブルと して記憶する′。
■ステップ2:分割する多角形の各線分ベクトルのうち
X方向が正の線分ベクトル な分割座標テーブルのX座標値 X□、N2.・・・、N7で分割し右方向線分テーブル
(第3図(C))として 記憶する。
■ステップ3:分割する多角形の各線分ベクトルのうち
X方向が負の線分ベクトル を分割座標テーブルのX座標値 X□、N2.・・・、N7で分割し、左方向線分テーブ
ル(第3図(d))とし て記憶する。
■ステップ4:右方向線分テーブルの線分ベクトルを始
点のX座標を第1キー、Y 座標を第2キーとしてソートし、 左方向線分テーブルの線分ペクト ルを終点のX座標を第1キー、Y 座標な第2キーとしてソートする。
■ステップ5:右方向線分テーブルと左方向線分テーブ
ルの中からソートされた順 にひとつずつとり出し台形図形テ ープル(第3図(e))に記憶する。
以上の各ステップ実行後、第3図(a)に示した多角形
図形は、10個の台形図形に分割される。
この従来の図形分割方法の処理時間は処理すべき図形数
と図形の複雑さにより長くなる。処理すべき多角形図形
数をN1平均頂点数をiとすれば、最短の場合ステップ
1.4はソート処理なのでオーダリングがO(Nnlo
gn)であり、ステップ2゜3.5のオーダリングは0
(Nn)である。最悪の場合は、分割・座標値の数もn
個でかつ各線分ベクトルの全てが分割座標値により分割
される場合であり、各多角形図形右方向線分テーブルお
よび左方向線分テーブルの線分ベクトル数は、各々、線
分ベクトル数(n/2)X分割座標数(n)=n2/2
個となるので、ステップ1,4のオーダリングは0(N
n logn)であり、ステップ2,3.5のオーダリ
ングは0(NnJである。したがって平均では処理時間
はO(Nnlogn)から0(N−n21ogn)の間
であると考えられる。実際にプログラムを作成し、汎用
コンピューターで動作させた所、この図形分割方法の処
理時間は分割すべき図形の平均頂点数6の約1.4乗に
比例している。
他の図形分割方法によっても、分割すべき図形の頂点数
Nの約1.2〜1.5乗に比例した処理時間が必要であ
る(樹下行三編「論理装置のCADJ情報処理学会(昭
和あ年)p55参照)。したがって描画/eターンが微
細かつ複雑になると処理時間が加速度的に増大するとい
う問題があった。例えばNが100万以上になると図形
分割処理に数時間を要する。一方電子ビーム露光装置に
よる描画時間は描画パターンの複雑さとは関係なく描画
すべき面積により一定であるため、図形分割処理時間の
増大は、集積回路の製造工程に要する時間の増大に直結
することになり、描画パターンの微細化、複雑化に伴な
い図形分割処理時間の短縮が強く望まれて^る。
また図形分割処理は従来汎用コンピュータ1によりおこ
なっているため低速であり、この汎用コンピュータ1は
描画動作制御や描画データの転送制御をも実行している
ため、さらに図形分割処理に長時間を必要とするという
問題があった。
さらに前述の図形分割方法では、第3図(a)に示すよ
うに不必要な分割がおこなわれるため、分割後の台形図
形数が非常圧多くなるという問題があった。台形図形数
が多くなると描画データも不必要に増え、その転送処理
に時間がより多く必要となる。
また前述の図形処理方法は線分ベクトルのソーティング
処理が必要なためハードウェア化するのが困難であり、
さらに各テーブルも最大多角形頂きるだけの大きな記憶
容量が必要であるという問題があった。
〔発明の目的〕
本発明は上記事情を考慮してなされたもので、多角形図
形を基本台形図形に高速に分割することができ、分割さ
れた描画データとしての台形図形数が必要最小限である
、電子ビーム露光装置の描画データ作成方法および装置
を提供することな目的とする。
[発明の概要] この目的を達成するために本発明による描画データ作成
方法は、描画パターンである多角形図形を予め定めた方
法で2分割し、分割後の図形が分割不要な基本図形にな
るまで上記2分割を繰り返し、これら基本図形を前記多
角形図形の描画データとして出力するものである。
また本発明による描画データ作成装置は、描画パターン
である多角形図形を記憶する多角形図形記憶装置と、こ
の多角形図形を分割後の図形が分割不要な基本図形にな
るまで繰り返し2.分割する図形分割装置と、この固形
分割装置により分割された基本図形を、前記多角形図形
の描画データとして記憶する基本図形記憶装置とを備え
ている。
〔発明の実施例〕
以下本発明を図示の一実施例に基づいて説明する。第4
図に本実施例による電子ビーム露光装置の描画データ作
成装置を示す。描画パターンである多角形図形は多角形
図形記憶装置間に記憶されている。多角形図形記憶装置
間は、例えば磁気テープ装置により構成される。多角形
図形は第5図(b)に示すような点列データ形式で格納
さねている。
すなわち多角形図形の各頂点のX座標値とX座標値を、
線分で結ぶ順番に並べたもので、オペレータがディジタ
イザ等により入力して作成する。第5図(alに示す図
形は第5図(blに示すデータ形式で表現される。多角
形図形記憶装置力に記憶された多角形図形データはデー
タ入力部41に入力され第ルジスタ42に一旦格納され
る。この第ルジスタ42と第2レジスタ49は、後述す
る分割処理において作業レジスタとして機能する。分割
終了判定部必は入力した多角形図形の基本台形図形への
分割が終了したか否かを判定し、分割終了により分割終
了信号を発生する。分割終了信号は、前記データ入力部
41へ発信し、次の多角形図形の入力を促す。Nカウン
タ43は第2レジスタ49に記憶されている多角形図形
の数を示すもので、分割終了判定部44がこのNカウン
タ43の値を参照することにより判定する。
分割判定部45はデータ入力部41から多角形固形を入
力して分割可能か否か調べる。分割可能である場合には
、分割線分決定部46により分割線分を決定し、多角形
図形を2分割する。2分割された多角形図形は、分割図
形出力部47により第ルジスタ42と第2レジスタ49
に分離して格納される。
交点演算部48は分割線分決定部46で決定された分割
線分が父差する相手線分との交点を演算する。
分割判定部45により分割不可能である、すなわち基本
台形図形であると判断されると、この図形は台形図形出
力部Iにより台形図形表現形式に変換して出力される。
ここで基本台形図形とは、最終的に分割終了した後の図
形で、1組の辺が互に平行であってかつY軸に平行な平
行四辺形である。
この基本台形図形には三角形も、矩形も含まれるものと
する。この基本台形図形は第6図(b)に示すデータ形
式で表現される。jなわち、左側下側の頂点のX座標値
(3)、X座標値(Y)と、互いに平行な辺のうち左側
の辺の長さくΔY2)と、これら平行な辺間の距離(Δ
X2)と、上記頂点のY座標(Ylに対して右側の線分
が上、下に伸びている長さくΔY3 、ΔY4)とで表
現される。第6図(a)に示した台形図形は、第6図(
blのように表現される。
台形図形出力郷関から出力された基本台形図形は、台形
図形記憶装置間に記憶される。台形図形記憶装置ωは、
例えば磁気ディスク装置に1.半り構成される。
次に第7図乃至第9図により動作を説明する。
第7図は描画データ作成処理の全体を示す概略フローチ
ャートである。まずステップAで多角形図形記憶装置間
から描画すべき多角形図形のデータを図形分解装置40
に入力する。入力した多角形図形は図形分解装買旬によ
り基本台形図形に分割し台形図形記憶装置ωに格納する
。(・テラ?B)その後描画セルが決定すると、台形図
形記憶装置ωから台形図形をとりだし、描画セルの境界
線がこれら台形図形にかかるか否か判断する。これら台
形図形がセル境界線にかかる時は、このセル境界線で強
制的に分割する(ステップC)。セルとはフレームを構
成する描画単位であり、セル毎に描画がおこなわれる。
次にこれらの分割により得られた基本台形図形をステッ
プDで1/!ドツト縮少しビーム中心座標系で表現し直
す。これはこのまま描画すると、電子ビームのビーム径
の半分だけ描画図形が大きくなるためである。次忙分割
した各台形図形を各セル毎に振りわける(ステップE)
。次に各セルについて必要ならばステップF゛でデータ
圧縮処理をおこない、ステップGで最終的に描画に必要
なファイル形式で磁気ディスク等の台形図形記憶装置ω
に格納するか、描画のため描画装置部に直接出力される
。第4図はステップBを実行する装置だけを特に詳しく
示したものである。
ステップBの動作を第8図のフローチャートに、よりさ
らに詳しく説明する。まずステップB1で第ルジスタ4
2に多角形図形データを格納する。
次に第2レジスタ49の格納図形数を示すNカラ/り4
3をゼロにクリアする。次に分割判定部柘で第ルジスタ
42に格納されている図形が分割可能か否か調べる(ス
テップB3)。具体的にはこの図形が3頂点;でY軸に
平行な線分がある場合または4頂点でY軸に平行な線分
が2つある場合は分割不可能とされる。この図形が分割
可能な場合、すなわち基本台形図形になっていない場合
には、ステップB4でこの図形を2分割する。そして2
分割した図形のうち頂点数の多い図形を2分割する。
そして2分割した図形のうち頂点数の多い図形を第2レ
ジスタ49に格納し、かつNカウンタ43を1カウント
アツプし、頂点数の少い図形を第ルジスタ42へ格納し
、ステップB3に戻る。ステップB3では今、分割され
頂点数が少いということで第ルジスタ42に格納された
図形がさらに分割可能か否か調べる。
ステップB3で、第ルジスタ42に格納されている図形
が分割判定部45により分割不可能である、すなわち基
本台形図形であると判断されると、台形図形出力部Iは
この図形を第6図(b)に示すようなデータ形式に変換
して台形図形記憶装置ωへ出力する。算ルジスタ42に
格納されていた基本台形図形が出力されると、第2レジ
スタ49から第ルジスタ42へ転送する多角形図形があ
るか否か判断する(ステップB6)。すなわち分割終了
判定部材は第2レジスタ49の図形数を示すNカウンタ
43の値がゼロであるか否か判断する。Nカウンタ43
の値がゼロであれば、分割すべき図形がなくなったこと
を意味するので、分割終了判定部材は分割終了信号を出
力する。分割終了信号は、データ入力部41へ発信し、
次の多角形図形の入力を促す。
Nカウンタ43の値がゼロでない場合には、第2レジス
タ49に格納されている多角形図形のうち1個を第ルジ
スタ42に転送する。同時にNカウンタ43を1カウン
トダウンしくステップB7)、ステップB3に戻り以上
の処理を繰り返す。
ステップB4の分割処理動作を第9図、第1θ図を用い
てより詳細に説明する。まずステップB41で第5図(
b)に示すような第ルジスタ42の多角形図形データを
所定のルールの下に並べかえる。本実施例では左下にあ
る点を始点BGとして右まわりに頂点が並ぶように変更
する。すなわち、X座標値が最小の点のうちでY座標値
を最l」のものを始点BGとして並べかえる。これは入
力しやすさを考慮してオペレータがディジタイザ等で図
形入力する場合、始点BGをどこにあるかというルール
までは通常定めないためである。第10図に示す多角形
図形では、頂点P1を始点psとし、頂点P2 、 P
3 、 P4 、 P5 、 P6 、 P7 、 P
8 、 P9 、 PIO。
pHの順に並べかえる。次に分割線分決定部46により
頂点列データの中から分割始1psを決定する(ステッ
プB42)。この決定方法には種々の方法が考えられる
が、本実施例では頂点列データの2番目から検索し、X
座標値が変化した点を分割始点psとする。第1θ図で
は頂点P3が分割始点PSとなる。次にステップB43
で多角形図形を構成する線分の中から相手線分PLをめ
る。分割始点psより多角形図形内部に向かってY軸に
平行に分割線分DLを延ばし最初に交差する線分を相手
線分PLとする第10図の場合は線分P10.P11が
相手線分PLとなる。なお、分割始点PSよりY軸に平
行な線分が図形内部に延ばせない場合は、次の点を分割
始点PSとして設定し直す。次にステップB44で相手
線分PLと分割線分DLとの交点を叉点演算部48によ
りめ、分割終点PEとする。次にステップB45で、多
些形図形を分割線分DLにより2分割する。すなわち多
角形図形のデータを分割線分DL’を中心に左右に分離
し、2つの図形のデータを作成する。第10図の場合に
は、一方の図形データは頂点pi 、 p2 、 p3
(ps) 、 PE。
Filとなり、他方の図形データは頂真P3(PS) 
P4 、 PS 、 P6 、 P7 、 PS 、 
P9 、 PIO、PEとなる。
分離されたこれらの図形データのうち、頂点数が少ない
方の図形データを第2レジスタ42に格納し、頂点数が
多い方の図形データが第2レジスタ49に格納する(ス
テップB46)。このとき第2レジスタ49の格納図形
数を表すNカウンタ43を1カウントアツプする。
以上の2分割を繰り返すと第11図(alに示す多角形
図形は、第11図(b)〜(g)に示すように順次2分
割されて最終的には7個の基本台形図形が出力される。
次に本実施例によれば最小の台形図形数に分割されるこ
とについて説明する。最小台形図形数Mは次のよう−に
してまる。頂点がPI 、 P2 、・・・。
pnであるとき、こわらの頂点のX座標値を昇順に並べ
て同一値でないものがX□、X2.・・・、XNとN個
あったものとする。すると最小図形数Mは次式の如くな
る。
M=N−1 これは、例えば第12図(alに示す多角形図形が与え
られた場合に、上側の遅効なLUとし、下側の遅効なL
Dとし、LU(Xi)でXiにおける上側の遅効LUの
Y座標をあられし、LD (XりでXiにおける下側の
遅効LDのY座標をあられしたとすれば、分割された台
形図形は第12図(b)に示すように頂点P(XI、 
LD(XI)) 、 P(X、 、 r=Ucxi))
 、 P(XI+□。
LU(X’i+ρ) 、 P(Xi+□、LD(Xiや
□月を有する台形図形に分割されるのが最小であること
から明らかである。本実施例における分割処理は結局X
座標値の異なる点で分割されることになり、上述の最小
の台形図形数に多角形図形を分割することになる。
また本実施例によれば高速処理が可能である。
本実施例では多角形図形の頂点数に比例して2分割処理
を繰り返すため、処理時間は頂点数に比例する。したが
って多角形図形数をN、平均頂点数をiとすれば処理時
間のオーダリングは0(N−111)となる。従来の処
理時間のオーダリングo(N−n”°4)に比べて短く
、その効果は図形数、頂点数が増大するに従いきわめて
大きくなる。
また本実施例では2分割を繰り返す方法で処理がなされ
るため、アルゴリズムがシンプルであり、ハードウェア
化が容易である。したがって汎用コンピュータで実施し
てもよいが専用ハードウェアを容易に実現することがで
き、さらに高速処理が可能となる。
さらに第1および第2レジスタの容量も、頂点数に比例
した容量を有すればよく、少なくてすむという利点があ
る。
なお上述の実施例においては分割線り1)LはY軸に平
行な線分としたが、Y軸に半行な線分で分割するように
してもよい。また始点BG、分割始点PS1分割線分D
L、相手線分PLの決め方について上述の実施例と異な
る方法で決定してもよい。
多角形図形、台形図形のデータ形式についても、第5図
、第6図のものに限定されるわけではない。
例えば各線分をベクトル表現したデータ形式でもよい。
また本発明は、ラスクスキャンタイプの電子ビーム露光
装置、ベクタ不キャンタイプの電子ビーム露光装置その
他あらゆるタイプの電子ビーム露光装置に適用すること
ができる。特に1図形ごとに順次描画するペクタスキャ
ンタイプの電子ビーム露光装置の場合、本実施例によれ
ば分割された台形図形数が最小になる5め、描画時間も
短縮されることになる。
さらに描画データとしての基本図形をどのような形状に
するかは電子ビーム露光装置により定まるものであり、
先の実施例に即ける台形図形以外の図形を基本図形とし
てもよい。
〔発明の効果〕
以上の通り本発明は多角形図形を予め定めた2分割処理
を繰2.り返すことKより基本図形に分割することとし
【いるため、■専用ハードウェア化が容易である、■分
割結果の台形数が最小である、■メモリの記憶容量が少
なくてすむ、■処理速度がはやく、入力多角形が増え複
雑化してもその複雑さに比例して増加するだけである、
と−う効果がある。%に従来、処理時間がIさに対して
加速度的に増大していたのに対し、本発明によれば比例
して増加するだけであり、近年の集積回路の集積度の比
躍的増大に対しても十分対応することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は2スタスキヤンタイプの電子ビーム露光装置、 w、2図は同装置の描画動作の説明図、第3図(a)、
(b)、(C)、(d)、(e)は従来の図形分割方法
の説明図、 第4図は本発明の一実施例による電子ビーム露光装置の
描画データ作成装置のブロック図、第5図(a)、(b
)は多角形図形のデータ形式の説明図、 第6図(a)、 (b)は基本台形図形のデータ形式の
説明図、 第7図、第8図、第9図は同描画データ作成装置の動作
を示す7C1−チャート、 第10図、第11図は同描画データ作成装置の動作の説
明図、 第12図(a)、(b)は多角形図形が最小数の台形図
形に分割される状態を示す図である。 l・・・汎用コンピュータ、2・・・磁気テープ装置、
3・・・磁気ディスク装置、4・τ・制御インタフェー
ス、5・・・操作パネル、6・・・偏光器、7・・・モ
ータ、8・・・試料ステージ、9・・・電子銃、10・
・・電子レンズ、11・・・電子光学銃筒電源、工2・
・・電子ビーム、13・・・静電偏向板、14・・・試
料、 15 、16・・・フレーム、加・・・描画装置
、(資)・・・多角形図形記憶装置、(社)・・・図形
分割装置、41・・・データ入力部、42・・・第2レ
ジスタ、侶・・・Nカウンタ、必・・・分割終了判定部
、都・・・分割判定部、46・・・分割結分決定部、4
7・・・分割図形出力部、48・・・交点演算部、49
・・・第2レジスタ、圓・・・台形図形出力部、ω・・
・台形図形記憶装置。 出願人代理人 猪 股 清 第3図 cd) 第5図 ((L’) (b) 第6図 (α)(b) iζ 第7図 第8図 第9図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、描画ノミターンである多角形図形を予め定めた方法
    で2分割し、 分割後の図形が分割不要な基本図形になるまで上記2分
    割を繰り返し、 こ名ら基本図形を前記多角形図形の描画データとして出
    力する、電子ビーム露光装置の描画データ作成方法。 2、描画ノミターンである多角形図形を第1のメモリに
    格納する第1のステップと、 第1のメモリに格納されている図形が分割不要な基本図
    形であるか否かを判断する第2のステップと、 第1のメモリに格納されている図形が基本図形でない場
    合には、この図形を予め定めた方法で2分割する第3の
    ステップと、 2分割された2つの図形のうち角数の少ない図形を第1
    のメモリに格納し、角数の多い図形を第2のメモリに格
    納する第4のステップと、第1のメモリに格納された図
    形が基本図形になるまで前記第3及び第4のステップを
    繰り返す第5のステップと、 第1のメモリに格納された図形が基本図形である場合に
    は、この基本図形を描画データとして出力し、第2のメ
    モリに格納されている図形を取り出して第1のメモリに
    格納する第6のステップと、 第2のメモリに格納された図形がなくなるまで前記第2
    乃至第6のステップを繰り返す第7のステップと を有する、電子ビーム露光装置の描画データ作成方法。 3、描画−々ターンである多角形図形をその各頂点を座
    標値で示した点列データとして第1のメモリに格納する
    第1のステップと 第1のメモリに格納された図形の点列データが基本台形
    図形をあられすか否か判断する第2のステップと。 第1のメモリに格納された図形の点列データが基本台形
    図形をあられさない場合には、これら点列データから所
    定の始点を決定し、前記始点を基準にして予め定めた方
    法で分割始点を決定し、 この分割始点から開始する一定方向の線分であって、所
    定の相手線分との叉点を終点とする分割線分を決定し、 この分割線分により前記点列データを2分割することに
    より、 第1のメモリに格納されている図形を2分割する第3の
    ステップと、 2分割された2つの図形のうち頂点数の少ない方の点列
    データを第1のメモリに格納し、頂点数の多い方の点列
    データを第2のメモリに格納するw、4のステップと、 第1のメモリに格納された図形の点列データが基本台形
    図形をあられすようになるまで、前記第3及び第4のス
    テップを繰り返す第5のステップと、 躯1のメモリに格納された図形の点列データが基本台形
    図形をあられす場合には、この点列データを描画データ
    として出力し、第2のメモリに格納された図形の点列デ
    ータを第1のメモリに格納する第6のステップと、 第2のメモリに格納さhた図形の点列データがなくなる
    まで前記第2乃至第6のステップを繰り返す第7のステ
    ップと を有する、電子ビーム露光装置の描画データ作成方法。 4、描画ノソターンである多角形図形を記憶する多角形
    図形記憶装置と、 この多角形図形を分割後の図形が分割不要な基本図形に
    なるまで繰り返し2分割する図形分割装置と、 この図形分割装置により分割された基本図形を、前記多
    角形図形の描画データとして記憶する基本図形記憶装置
    と を備えた、電子ビーム露光装置の描画データ作成装置。 5、描画IRターンである多角形図形を記憶する多角形
    図形記憶装置と、 多角形図形を一時的に記憶する第1および第2のメモリ
    と、 前記多角形図形記憶装置から多角形図形を入力し、前記
    第1のメモリに格納する図形入力手段と、 前記第1のメモリに記憶された図形が分割不要な基本図
    形であるか否か判断する判断手段と、この判断手段によ
    り基本図形でないと判断された場合に、前記第1のメモ
    リに記憶された図形を予め定めた方法で2分割し、分割
    された2つの図形のうち角数の少ない図形を前記第1の
    メモリに出力し、角数の多い図形を前記第2のメモリに
    出力する分割手段と、 前記判断手段により基本図形であると判断された場合に
    、前記第1のメモリ記憶された図形を描画データとして
    出力する図形出力手段と、前記第2のメモリに格納され
    ている図形を前記第1のメモリに転送する転送手段と、
    前記第2のメモリに格納されている図形数を監視し、図
    形数がゼロになると分割終了信号を発生する分割終了判
    定手段と を備えた、電子ビーム露光装置の描画データ作成装置。 6、描画パターンである多角形図形をその各頂点を座標
    値で示した点列データとして記憶する多角形図形記憶装
    置と、 多角形図形を一時的に記憶する第1および第2のメモリ
    と、 前記多角形図形記憶装置から多角形図形を入力し前記第
    1のメモリに格納する図形入力手段と、 前記fiX1のメモリに記憶された図形が分割不要な基
    本台形図形であるか否か判断する判断手段と、 この判断手段により基本台形図形でないと判断された場
    合に、前記第1のメモリに格納された図世の点列データ
    の始点を基準にして決定された分割始点を始点とし、こ
    の始点から開始する一定方向の線分であって所定の相手
    線分との交点を終点とする分割線分を決定する分割線分
    決定手段と、 この分割線分により前記点列データを2分割し、頂点数
    の少ない方の点列データを前記第1のメモリに格納し、
    頂点数の多い方の点列データを前記第20メそりに格納
    する分割図形格納手段と、 前記判断手段により基本台形図形であると判断された場
    合に、前記第1のメモリに記憶された点列データを描画
    データとして出力する図形出力手段と、 前記第2のメモリに格納されている点列データを前記第
    1のメモリに転送する転送手段と、前記第2のメモリに
    格納されている図形数を監視し、図形数がゼロになると
    分割終了信号を前記図形入力手段へ発信し、次の多角形
    図形へ入力を促す分割終了判定手段と を備えた、電子ビーム露光装置の描画データ作成装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5764234A (en) * 1993-03-19 1998-06-09 Fujitsu Limited Trapezoidal partitioning method and apparatus therefor
JP2007199385A (ja) * 2006-01-26 2007-08-09 Hitachi Via Mechanics Ltd プリント配線基板用描画装置
US7608844B2 (en) 2004-05-26 2009-10-27 Hitachi High-Technologies Corporation Charged particle beam drawing apparatus
US10971331B2 (en) 2018-07-18 2021-04-06 Nuflare Technology, Inc. Writing data generation method, computer-readable recording medium on which program is recorded, and multi-charged particle beam writing apparatus

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57122526A (en) * 1981-01-23 1982-07-30 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Dividing method for drawing figure in electron beam exposure apparatus
JPS57204125A (en) * 1981-06-10 1982-12-14 Hitachi Ltd Electron-ray drawing device

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57122526A (en) * 1981-01-23 1982-07-30 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Dividing method for drawing figure in electron beam exposure apparatus
JPS57204125A (en) * 1981-06-10 1982-12-14 Hitachi Ltd Electron-ray drawing device

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5764234A (en) * 1993-03-19 1998-06-09 Fujitsu Limited Trapezoidal partitioning method and apparatus therefor
US7608844B2 (en) 2004-05-26 2009-10-27 Hitachi High-Technologies Corporation Charged particle beam drawing apparatus
JP2007199385A (ja) * 2006-01-26 2007-08-09 Hitachi Via Mechanics Ltd プリント配線基板用描画装置
US10971331B2 (en) 2018-07-18 2021-04-06 Nuflare Technology, Inc. Writing data generation method, computer-readable recording medium on which program is recorded, and multi-charged particle beam writing apparatus

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