JPH03235995A - 修飾立体文字生成方式 - Google Patents
修飾立体文字生成方式Info
- Publication number
- JPH03235995A JPH03235995A JP2031935A JP3193590A JPH03235995A JP H03235995 A JPH03235995 A JP H03235995A JP 2031935 A JP2031935 A JP 2031935A JP 3193590 A JP3193590 A JP 3193590A JP H03235995 A JPH03235995 A JP H03235995A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- character
- modified
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- point
- straight line
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- 239000007787 solid Substances 0.000 title abstract 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Image Generation (AREA)
- Document Processing Apparatus (AREA)
- Controls And Circuits For Display Device (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は修飾立体文字生成方式に関し、特にワードプロ
セッサ等におけるアウトラインフォント文字の修飾立体
文字を生成する修飾立体文字生成方式に関する。
セッサ等におけるアウトラインフォント文字の修飾立体
文字を生成する修飾立体文字生成方式に関する。
従来、この種の修飾立体文字生成方式では、修飾対象文
字を一定方向に一定距離だけ移動させ移動部の修飾対象
文字を構成するプロット点と移動後の修飾対象文字を構
成するプロット点とを互いに対応するように直線で結ん
だ後に、直線と修飾対象文字の外郭線とによって生成さ
れた閉面を１種類の影の模様パターンで埋めて修飾立体
文字を生成していた。
字を一定方向に一定距離だけ移動させ移動部の修飾対象
文字を構成するプロット点と移動後の修飾対象文字を構
成するプロット点とを互いに対応するように直線で結ん
だ後に、直線と修飾対象文字の外郭線とによって生成さ
れた閉面を１種類の影の模様パターンで埋めて修飾立体
文字を生成していた。
上述した従来の修飾立体文字生成方式では、修飾立体文
字の影の方向および大きさが一定であるとともに影の模
様パターンも１種類であるので、生成された修飾立体文
字が多様性に欠けるという欠点がある。
字の影の方向および大きさが一定であるとともに影の模
様パターンも１種類であるので、生成された修飾立体文
字が多様性に欠けるという欠点がある。
本発明の目的は、上述の点に鑑み、修飾立体文字の影が
収斂する１点（以下、収斂点という）を任意に設定する
ようにして、修飾立体文字の影の方向および大きさを自
由に設定できるとともに、複数種類の影の模様パターン
を使い分けることができるようにした修飾立体文字生成
方式を提供することにある。
収斂する１点（以下、収斂点という）を任意に設定する
ようにして、修飾立体文字の影の方向および大きさを自
由に設定できるとともに、複数種類の影の模様パターン
を使い分けることができるようにした修飾立体文字生成
方式を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の修飾立体文字生成方式は、アウトラインフォン
ト文字の修飾立体文字生成方式において、修飾対象文字
を構成するプロット点の情報を格納する文字情報格納部
と、修飾対象文字に対してレターフェイス外に収斂点を
与え前記文字情報格納部に格納されたプロット点の情報
に基づいて修飾対象文字を構成する各プロット点のうち
のプロット点を中心として上下左右斜めに隣接する点の
中で前記収斂点への距離が一番短い点が修飾対象文字の
レターフェイス外に存在するという条件を満たすプロッ
ト点を修飾立体文字の影の頂点として決定するプロット
点処理部と、このプロット点処理部により決定された頂
点から前記収斂点に直線を引きこの直線が修飾対象文字
の外郭線と交わる直線である場合には外郭線との交点ま
での直線を引く線引き部と、複数種類の模様パターンを
記憶している模様パターン格納部と、前記線引き部によ
り引かれた直線と修飾対象文字の外郭線とによって生成
された閉面と前記模様パターン格納部から取り出した１
種類の模様パターンとの論理和をとることにより修飾立
体文字の影の模様パターンを描画する模様パターン論理
和処理部とを有する。
ト文字の修飾立体文字生成方式において、修飾対象文字
を構成するプロット点の情報を格納する文字情報格納部
と、修飾対象文字に対してレターフェイス外に収斂点を
与え前記文字情報格納部に格納されたプロット点の情報
に基づいて修飾対象文字を構成する各プロット点のうち
のプロット点を中心として上下左右斜めに隣接する点の
中で前記収斂点への距離が一番短い点が修飾対象文字の
レターフェイス外に存在するという条件を満たすプロッ
ト点を修飾立体文字の影の頂点として決定するプロット
点処理部と、このプロット点処理部により決定された頂
点から前記収斂点に直線を引きこの直線が修飾対象文字
の外郭線と交わる直線である場合には外郭線との交点ま
での直線を引く線引き部と、複数種類の模様パターンを
記憶している模様パターン格納部と、前記線引き部によ
り引かれた直線と修飾対象文字の外郭線とによって生成
された閉面と前記模様パターン格納部から取り出した１
種類の模様パターンとの論理和をとることにより修飾立
体文字の影の模様パターンを描画する模様パターン論理
和処理部とを有する。
本発明の修飾立体文字生成方式では、文字情報格納部が
修飾対象文字を構成するプロット点の情報を格納し、プ
ロット点処理部が修飾対象文字に対してレターフェイス
外に収斂点を与え文字情報格納部に格納されたプロット
点の情報に基づいて修飾対象文字を構成する各プロット
点のうちのプロット点を中心として上下左右斜めに隣接
する点の中で収斂点への距離が一番短い点が修飾対象文
字のレターフェイス外に存在するという条件を満たすプ
ロット点を修飾立体文字の影の頂点として決定し、線引
き部がプロット点処理部により決定された頂点から収斂
点に直線を引きこの直線が修飾対象文字の外郭線と交わ
る直線である場合には外郭線との交点までの直線を引き
、模様パターン格納部が複数種類の模様パターンを記憶
し、模様パターン論理和処理部が線引き部により引かれ
た直線と修飾対象文字の外郭線とによって生成された閉
面と模様パターン格納部から取り出した１種類の模様パ
ターンとの論理和をとることにより修飾立体文字の影の
模様パターンを描画する。
修飾対象文字を構成するプロット点の情報を格納し、プ
ロット点処理部が修飾対象文字に対してレターフェイス
外に収斂点を与え文字情報格納部に格納されたプロット
点の情報に基づいて修飾対象文字を構成する各プロット
点のうちのプロット点を中心として上下左右斜めに隣接
する点の中で収斂点への距離が一番短い点が修飾対象文
字のレターフェイス外に存在するという条件を満たすプ
ロット点を修飾立体文字の影の頂点として決定し、線引
き部がプロット点処理部により決定された頂点から収斂
点に直線を引きこの直線が修飾対象文字の外郭線と交わ
る直線である場合には外郭線との交点までの直線を引き
、模様パターン格納部が複数種類の模様パターンを記憶
し、模様パターン論理和処理部が線引き部により引かれ
た直線と修飾対象文字の外郭線とによって生成された閉
面と模様パターン格納部から取り出した１種類の模様パ
ターンとの論理和をとることにより修飾立体文字の影の
模様パターンを描画する。
次に、本発明について図面を参照して詳細に説明する。
第１図は、本発明の一実施例に係る修飾立体文字生成方
式の構成を示すブロック図である。本実施例の修飾立体
文字生成方式は、文字情報格納部１と、プロット点処理
部２と、線引き部３と、模様パターン格納部４と、模様
パターン論理和処理部５とから構成されている。
式の構成を示すブロック図である。本実施例の修飾立体
文字生成方式は、文字情報格納部１と、プロット点処理
部２と、線引き部３と、模様パターン格納部４と、模様
パターン論理和処理部５とから構成されている。
文字情報格納部１には、修飾対象文字を構成するプロッ
ト点の情報が格納されている。
ト点の情報が格納されている。
模様パターン格納部４には、複数種類の模様パターンが
格納されている。
格納されている。
次に、このように構成された本実施例の修飾立体文字生
成方式の動作について、第２図（ａ）〜（ｄ）を参照し
ながら説明する。
成方式の動作について、第２図（ａ）〜（ｄ）を参照し
ながら説明する。
文字情報格納部１に格納された修飾対象文字のプロット
点Ｐｉ （ｔ−１，２，・・・、Ｎ（整数））に対し
て、プロット点処理部２は、操作者、アプリケーション
プログラム等からの収斂点指示に基づいて修飾対象文字
のレターフェイス上にない収斂点Ｏを１点定め、修飾対
象文字を構成する各プロット点Ｐｉのうちのプロット点
Ｐｉを中心として上下左右斜めに隣り合う点の中で収斂
点Ｏへの距離が一番短い点が修飾対象文字のレターフェ
イス外に存在するという条件を満たすプロット点Ｐｉ”
（１≦ｉ≦Ｎ）を修飾立体文字の影の頂点として決定
する。第２図（ａ）に文字情報格納部１に格納された修
飾対象文字の情報の例を、第２図（ｂ）にプロット点処
理部２による処理の例を示す。
点Ｐｉ （ｔ−１，２，・・・、Ｎ（整数））に対し
て、プロット点処理部２は、操作者、アプリケーション
プログラム等からの収斂点指示に基づいて修飾対象文字
のレターフェイス上にない収斂点Ｏを１点定め、修飾対
象文字を構成する各プロット点Ｐｉのうちのプロット点
Ｐｉを中心として上下左右斜めに隣り合う点の中で収斂
点Ｏへの距離が一番短い点が修飾対象文字のレターフェ
イス外に存在するという条件を満たすプロット点Ｐｉ”
（１≦ｉ≦Ｎ）を修飾立体文字の影の頂点として決定
する。第２図（ａ）に文字情報格納部１に格納された修
飾対象文字の情報の例を、第２図（ｂ）にプロット点処
理部２による処理の例を示す。
次に、線引き部３は、プロット点処理部２により決定さ
れた頂点Ｐｉ’ （１≦ｉ≦Ｎ）から収斂点Ｏに直線
を引く。このとき、直線が修飾対象文字の外郭線と交わ
る場合は、外郭線と交わる交点までの直線を引く。この
結果例を、第２図（Ｃ）に示す。
れた頂点Ｐｉ’ （１≦ｉ≦Ｎ）から収斂点Ｏに直線
を引く。このとき、直線が修飾対象文字の外郭線と交わ
る場合は、外郭線と交わる交点までの直線を引く。この
結果例を、第２図（Ｃ）に示す。
続いて、模様パターン論理和処理部５は、操作者、アプ
リケーションプログラム等からの模様パターン指示に基
づいて模様パターン格納部４から模様パターンを１種類
取り出し、この模様パターンと線引き部３で頂点Ｐｉ’
（１≦ｉ≦Ｎ）から収斂点０に直線を引くことによ
って修飾対象文字の外郭線と直線で生成された閉面との
論理和をとり、修飾立体文字の影の模様パターンの描画
を行う。以上によってできた修飾立体文字の例を、第２
図（ｄ）に示す。
リケーションプログラム等からの模様パターン指示に基
づいて模様パターン格納部４から模様パターンを１種類
取り出し、この模様パターンと線引き部３で頂点Ｐｉ’
（１≦ｉ≦Ｎ）から収斂点０に直線を引くことによ
って修飾対象文字の外郭線と直線で生成された閉面との
論理和をとり、修飾立体文字の影の模様パターンの描画
を行う。以上によってできた修飾立体文字の例を、第２
図（ｄ）に示す。
以上説明したように本発明は、修飾立体文字の影が収斂
する収斂点を任意の位置に設定できるようにしたことに
より、修飾立体文字の影の方向および大きさを自由に設
定できるという効果がある。
する収斂点を任意の位置に設定できるようにしたことに
より、修飾立体文字の影の方向および大きさを自由に設
定できるという効果がある。
また、影の模様パターンを任意に指定できるようにした
ことにより、模様パターンの種類に応じて幾種類もの修
飾立体文字を容易に生成することができるという効果が
ある。
ことにより、模様パターンの種類に応じて幾種類もの修
飾立体文字を容易に生成することができるという効果が
ある。
そして、以上の結果、生成される修飾立体文字の多様性
を一挙に高めることができるという効果がある。
を一挙に高めることができるという効果がある。
第１図は本発明の一実施例に係る修飾立体文字生成方式
の構成を示すブロック図、 第２図（ａ）〜（ｄ）は本実施例の修飾立体文字生成方
式の順次の動作を説明するための図である。 図において、 ■・・・文字情報格納部、 ２・・・プロット点処理部、 ３・・・線引き部、 ４・・・模様パターン格納部、 ５・・・模様パターン論理和処理部、 ｐｉ・・プロット点、 Ｐｉ’ ・頂点である。
の構成を示すブロック図、 第２図（ａ）〜（ｄ）は本実施例の修飾立体文字生成方
式の順次の動作を説明するための図である。 図において、 ■・・・文字情報格納部、 ２・・・プロット点処理部、 ３・・・線引き部、 ４・・・模様パターン格納部、 ５・・・模様パターン論理和処理部、 ｐｉ・・プロット点、 Ｐｉ’ ・頂点である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 アウトラインフォント文字の修飾立体文字生成方式にお
いて、 修飾対象文字を構成するプロット点の情報を格納する文
字情報格納部と、 修飾対象文字に対してレターフェイス外に収斂点を与え
前記文字情報格納部に格納されたプロット点の情報に基
づいて修飾対象文字を構成する各プロット点のうちのプ
ロット点を中心として上下左右斜めに隣接する点の中で
前記収斂点への距離が一番短い点が修飾対象文字のレタ
ーフェイス外に存在するという条件を満たすプロット点
を修飾立体文字の影の頂点として決定するプロット点処
理部と、 このプロット点処理部により決定された頂点から前記収
斂点に直線を引きこの直線が修飾対象文字の外郭線と交
わる直線である場合には外郭線との交点までの直線を引
く線引き部と、 複数種類の模様パターンを記憶している模様パターン格
納部と、 前記線引き部により引かれた直線と修飾対象文字の外部
線とによって生成された閉面と前記模様パターン格納部
から取り出した１種類の模様パターンとの論理和をとる
ことにより修飾立体文字の影の模様パターンを描画する
模様パターン論理和処理部と を有することを特徴とする修飾立体文字生成方式。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2031935A JPH03235995A (ja) | 1990-02-13 | 1990-02-13 | 修飾立体文字生成方式 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2031935A JPH03235995A (ja) | 1990-02-13 | 1990-02-13 | 修飾立体文字生成方式 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03235995A true JPH03235995A (ja) | 1991-10-21 |
Family
ID=12344831
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2031935A Pending JPH03235995A (ja) | 1990-02-13 | 1990-02-13 | 修飾立体文字生成方式 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03235995A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0627930A (ja) * | 1992-05-15 | 1994-02-04 | Eastman Kodak Co | 三次元画像フォント文字を作成、記憶、生成し、三次元タイプ設定を実施する方法及び装置 |
-
1990
- 1990-02-13 JP JP2031935A patent/JPH03235995A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0627930A (ja) * | 1992-05-15 | 1994-02-04 | Eastman Kodak Co | 三次元画像フォント文字を作成、記憶、生成し、三次元タイプ設定を実施する方法及び装置 |
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