JP5631151B2 - 描画データの製造方法 - Google Patents
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Description
可変成形型電子線(EB:Electron beam)描画装置は、以下のように動作する。第1のアパーチャ410には、電子線330を成形するための矩形例えば長方形の開口411が形成されている。また、第2のアパーチャ420には、第1のアパーチャ410の開口411を通過した電子線330を所望の矩形形状に成形するための可変成形開口421が形成されている。荷電粒子ソース430から照射され、第1のアパーチャ410の開口411を通過した電子線330は、偏向器により偏向され、第2のアパーチャ420の可変成形開口421の一部を通過して、所定の一方向(例えば、X方向とする)に連続的に移動するステージ上に搭載された試料340に照射される。すなわち、第1のアパーチャ410の開口411と第2のアパーチャ420の可変成形開口421との両方を通過できる矩形形状が、X方向に連続的に移動するステージ上に搭載された試料340の描画領域に描画される。第1のアパーチャ410の開口411と第2のアパーチャ420の可変成形開口421との両方を通過させ、任意形状を作成する方式を可変成形方式(VSB方式)という。
荷電粒子ビームを用いて試料に図形パターンを描画するための描画データの作成方法であって、
同一図形種かつ同一ピッチでありながらサイズが一定間隔で大きく或いは小さくなる複数の図形パターンからなる図形パターン群を、1つのアレイとして、終了図形サイズ、隣り合う図形からの寸法差、及び開始図形と終了図形との間の寸法差のうちの1つと、図形種の識別子と、開始図形サイズと、開始図形座標と、終了図形座標と、繰り返し数と、を用いて定義されるように、描画データを作成することを特徴とする。
荷電粒子ビームを用いて試料に図形パターンを描画するための描画データの作成方法であって、
同一図形種かつ同一ピッチでありながらサイズが一定間隔で大きく或いは小さくなる複数の図形パターンからなる図形パターン群を、1つのアレイとして、終了図形サイズ、隣り合う図形からの寸法差、及び開始図形と終了図形との寸法差のうちの1つと、図形種の識別子と、開始図形サイズと、開始図形座標と、ピッチと、繰り返し数と、を用いて定義されるように、描画データを作成することを特徴とする。
実施の形態1では、電子ビームを用いて試料に図形パターンを描画するための描画データの作成方法について説明する。
11,13 図形パターン
20,21 任意角図形
31,33,35,37 図形パターン
32,34,36,38 図形パターン
50 描画データの作成装置
52 制御計算機
54 メモリ
56,58 記憶装置
100 描画装置
101,340 試料
102 電子鏡筒
103 描画室
105 XYステージ
110 制御計算機
111 メモリ
120 制御回路
140,142 記憶装置
150 描画部
160 制御部
200 電子ビーム
201 電子銃
202 照明レンズ
203,410 第1のアパーチャ
204 投影レンズ
205 偏向器
206,420 第2のアパーチャ
207 対物レンズ
208 主偏向器
209 副偏向器
330 電子線
411 開口
421 可変成形開口
430 荷電粒子ソース
Claims (4)
- 荷電粒子ビームを用いて試料に図形パターンを描画するための描画データの作成方法であって、
同一図形種かつ同一ピッチでありながらサイズが一定間隔で大きく或いは小さくなる複数の図形パターンからなる図形パターン群を、1つのアレイとして、終了図形サイズ、隣り合う図形からの寸法差、及び開始図形と終了図形との間の寸法差のうちの1つと、図形種の識別子と、開始図形サイズと、開始図形座標と、終了図形座標と、繰り返し数と、を用いて定義されるように、描画データを作成することを特徴とする描画データの作成方法。 - 前記複数の図形パターンの配置の配列種を示す配列種識別子をさらに用いて定義されるように、前記描画データを作成することを特徴とする請求項1記載の描画データの作成方法。
- 前記繰り返し数として、一方向分の繰り返し数を定義することを特徴とする請求項1又は2記載の描画データの作成方法。
- 前記複数の図形パターンの配置の配列種を示す配列種識別子をさらに用いて定義されるように、前記描画データを作成し、
前記繰り返し数として、一方向分の繰り返し数を定義し、
前記終了図形座標として、一方向分の座標を定義することを特徴とする請求項1記載の描画データの作成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2010235457A JP5631151B2 (ja) | 2010-10-20 | 2010-10-20 | 描画データの製造方法 |
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JP2010235457A JP5631151B2 (ja) | 2010-10-20 | 2010-10-20 | 描画データの製造方法 |
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JP2012089693A JP2012089693A (ja) | 2012-05-10 |
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Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP5658997B2 (ja) * | 2010-12-17 | 2015-01-28 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置および描画データ生成方法 |
JP2015095538A (ja) * | 2013-11-12 | 2015-05-18 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 描画データの作成方法 |
JP6572347B2 (ja) * | 2018-05-21 | 2019-09-11 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 描画データの作成方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57122529A (en) * | 1981-01-23 | 1982-07-30 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Drawing data processing system for electron beam exposure apparatus |
JPH02170516A (ja) * | 1988-12-23 | 1990-07-02 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビーム描画装置 |
JPH04181715A (ja) * | 1990-11-16 | 1992-06-29 | Fujitsu Ltd | パターンのビーム露光方法 |
JPH06295857A (ja) * | 1993-04-07 | 1994-10-21 | Jeol Ltd | 台形パターン描画方法 |
JPH0778739A (ja) * | 1993-09-06 | 1995-03-20 | Jeol Ltd | 台形パターン描画方法 |
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