JPH0326454B2 - - Google Patents
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- JPH0326454B2 JPH0326454B2 JP56106798A JP10679881A JPH0326454B2 JP H0326454 B2 JPH0326454 B2 JP H0326454B2 JP 56106798 A JP56106798 A JP 56106798A JP 10679881 A JP10679881 A JP 10679881A JP H0326454 B2 JPH0326454 B2 JP H0326454B2
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- Japan
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- sample
- thin film
- polymer
- fluorine
- ester
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- Expired - Lifetime
Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/722—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing an anticorrosive material
Landscapes
- Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
本発明は金属薄膜型磁気記録媒体に関し、磁性
層表面の改質を行ない、走行性および耐食性の向
上を目ざしたものである。 真空蒸着またはメツキ法で作成した薄膜型磁気
記録媒体は高密度性に優れている。特に近年はオ
ーデイオ録音用やビデオ記録テープ用としての用
途が期待されている。しかし、一般的に金属薄膜
は腐食し易くこれを避けるために磁性体自体の合
金化の方法や磁性層上に高分子化合物の皮膜を形
成するなどの方法が採用されている。しかし、磁
性層の合金化の場合、磁気特性の観点からは、耐
食性の良い合金が必ずしも良い特性を持つている
とは言えないのが普通である。また、磁気ヘツド
との摺動によつて摩耗を生じやすいため、その摩
耗部分より腐食が生じやすいなどの欠点を持つて
いる。そこで皮膜の形成を種々の高分子化合物に
ついて行なつた。その結果、フツ素高分子化合物
が耐食性に効果があることがわかつた。しかしな
がら、ポリテトラフロオロエチレン(テフロン)
などフツ素置換したポリオレフイン化合物は、基
板との接着性が悪く、また、その低い表面張力の
ため、基板に均一に塗布することができないなど
の欠点を持つている。 本発明ではエステル側鎖にフツ素を含むアクリ
ル酸エステルまたは、メタクリル酸エステルの重
合体を用いることによつて、均一な塗布被膜を
得、耐食性および走行性を向上させたものであ
る。以下に本発明の説明を行なう。 ポリエステル、ポリイミドなどのプラスチツク
基体上に真空蒸着法、スパツタリング法、電気メ
ツキ法などで作成したコバルトなどの強磁性金属
よりなる磁気記録用薄膜上に含フツ素重合体の皮
膜を形成させる。含フツ素重合体としては、エス
テル側鎖にフツ素を含むアクリル酸エステル、ま
たはメタクリル酸エステルを用いる。ベースポリ
マーとしてアクリル酸エステルまたはメタクリル
酸エステルを用いることによつてポリオレフイン
をベースポリマーとするテフロンなどよりも接着
性の向上がはかれる。また、溶剤も一般的な有機
溶剤を使用できる。すなわち、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、酢
酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、酢酸エ
チルセロソルブなどのセロソルブ類を使用でき
る。 ポリマー濃度としては、1%〜0.01%が使用で
きる。1%以上の濃度の場合には、塗布膜厚は
1000Å以上となり、スペーシングロスが大きくな
り電磁変換特性の観点から不適当である。また
0.01%以下の濃度で塗布した皮膜では、不十分な
耐食性しか示さず、また、走行性も不安定であつ
た。 本発明における高分子樹脂皮膜は、ナイフコー
ターで塗布して得られる。塗布方式としては、そ
の他にバーコーター、スクイズコーター、グラビ
アコーター、リバールロールコーターなど一般的
なコーター方式が使用できる。 次に具体的に本発明の実施例および比較例を示
す。 比較例 ポリエステルフイルム上に真空蒸着法で作成し
たコバルト(80%)ニツケル(20%)の強磁性合
金薄膜に下記の組成の溶液をバーコーター方式で
塗布し、乾燥した。(試料A;比較試料) AG−Lub(旭硝子(株)社製、ポリ4−フツ化エチ
レンテレマー溶液) 1部 フロンソルブ(旭硝子(株)社製、フツ素系溶剤)
25部 実施例 1 比較例と同様にポリエステルフイルム上に真空
蒸着法で作成したコバルト(80%)ニツケル(20
%)の強磁性合金薄膜に下記の組成の溶液をバー
コーター方式で塗布し乾燥した。(試料B) FBM(ダイキン(株)社製フロオロレジスト溶液構
造式
層表面の改質を行ない、走行性および耐食性の向
上を目ざしたものである。 真空蒸着またはメツキ法で作成した薄膜型磁気
記録媒体は高密度性に優れている。特に近年はオ
ーデイオ録音用やビデオ記録テープ用としての用
途が期待されている。しかし、一般的に金属薄膜
は腐食し易くこれを避けるために磁性体自体の合
金化の方法や磁性層上に高分子化合物の皮膜を形
成するなどの方法が採用されている。しかし、磁
性層の合金化の場合、磁気特性の観点からは、耐
食性の良い合金が必ずしも良い特性を持つている
とは言えないのが普通である。また、磁気ヘツド
との摺動によつて摩耗を生じやすいため、その摩
耗部分より腐食が生じやすいなどの欠点を持つて
いる。そこで皮膜の形成を種々の高分子化合物に
ついて行なつた。その結果、フツ素高分子化合物
が耐食性に効果があることがわかつた。しかしな
がら、ポリテトラフロオロエチレン(テフロン)
などフツ素置換したポリオレフイン化合物は、基
板との接着性が悪く、また、その低い表面張力の
ため、基板に均一に塗布することができないなど
の欠点を持つている。 本発明ではエステル側鎖にフツ素を含むアクリ
ル酸エステルまたは、メタクリル酸エステルの重
合体を用いることによつて、均一な塗布被膜を
得、耐食性および走行性を向上させたものであ
る。以下に本発明の説明を行なう。 ポリエステル、ポリイミドなどのプラスチツク
基体上に真空蒸着法、スパツタリング法、電気メ
ツキ法などで作成したコバルトなどの強磁性金属
よりなる磁気記録用薄膜上に含フツ素重合体の皮
膜を形成させる。含フツ素重合体としては、エス
テル側鎖にフツ素を含むアクリル酸エステル、ま
たはメタクリル酸エステルを用いる。ベースポリ
マーとしてアクリル酸エステルまたはメタクリル
酸エステルを用いることによつてポリオレフイン
をベースポリマーとするテフロンなどよりも接着
性の向上がはかれる。また、溶剤も一般的な有機
溶剤を使用できる。すなわち、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、酢
酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、酢酸エ
チルセロソルブなどのセロソルブ類を使用でき
る。 ポリマー濃度としては、1%〜0.01%が使用で
きる。1%以上の濃度の場合には、塗布膜厚は
1000Å以上となり、スペーシングロスが大きくな
り電磁変換特性の観点から不適当である。また
0.01%以下の濃度で塗布した皮膜では、不十分な
耐食性しか示さず、また、走行性も不安定であつ
た。 本発明における高分子樹脂皮膜は、ナイフコー
ターで塗布して得られる。塗布方式としては、そ
の他にバーコーター、スクイズコーター、グラビ
アコーター、リバールロールコーターなど一般的
なコーター方式が使用できる。 次に具体的に本発明の実施例および比較例を示
す。 比較例 ポリエステルフイルム上に真空蒸着法で作成し
たコバルト(80%)ニツケル(20%)の強磁性合
金薄膜に下記の組成の溶液をバーコーター方式で
塗布し、乾燥した。(試料A;比較試料) AG−Lub(旭硝子(株)社製、ポリ4−フツ化エチ
レンテレマー溶液) 1部 フロンソルブ(旭硝子(株)社製、フツ素系溶剤)
25部 実施例 1 比較例と同様にポリエステルフイルム上に真空
蒸着法で作成したコバルト(80%)ニツケル(20
%)の強磁性合金薄膜に下記の組成の溶液をバー
コーター方式で塗布し乾燥した。(試料B) FBM(ダイキン(株)社製フロオロレジスト溶液構
造式
【式】) 1部
メチルイソブチルケトン 40部
実施例 2
実施例1と同様にポリエステルフイルム上に真
空蒸着法で作成したコバルト(80%)ニツケル
(20%)の強磁性合金薄膜に下記の組成の溶液を
バーコーター方式で塗布し乾燥した。(試料C) FPM(ダイキン(株)社製、フロオロレジスト溶液
構造式
空蒸着法で作成したコバルト(80%)ニツケル
(20%)の強磁性合金薄膜に下記の組成の溶液を
バーコーター方式で塗布し乾燥した。(試料C) FPM(ダイキン(株)社製、フロオロレジスト溶液
構造式
【式】) 1部
メチルイソブチルケトン 40部
A〜Cの各試料および未塗布試料の接触角、環
境試験結果、スチル試験結果(市販の家庭用ビデ
オテープレコーダと同様の機能を有するスチルテ
スターにて測定)を下の表に示す。
境試験結果、スチル試験結果(市販の家庭用ビデ
オテープレコーダと同様の機能を有するスチルテ
スターにて測定)を下の表に示す。
【表】
上表から明らかなように比較例の試料Aおよび
実施例1、2の試料B、Cは未塗布試料に比較
し、撥水性の向上によつて耐食性が大幅に向上し
ている。更に比較例の試料Aに比較して、スチル
時間は大幅に向上し、耐摩耗性の向上を示してい
る。 比較例 実施例1と同様にポリエステルフイルム上に真
空蒸着法で作成したコバルト(80%)、ニツケル
(20%)の強磁性合金薄膜表面にアミノ変性シリ
コーンオイルの0.5%トルエン溶液をバーコータ
ー方式で塗布し乾燥した(試料D)。 試料Dの水に対する接触角は92゜であり、60℃、
90%RHでの環境試験に対し、2週間放置後錆の
発生は見られなかつた。スチル試験の結果、スチ
ル寿命は10分であつた。 試料Dは、未塗布試料に比較して、撥水性の向
上によつて、耐蝕性は向上しているものの、スチ
ル寿命の向上は見られなかつた。 以上のように本発明により、耐食ならびに耐摩
耗性の向上がはかれる。
実施例1、2の試料B、Cは未塗布試料に比較
し、撥水性の向上によつて耐食性が大幅に向上し
ている。更に比較例の試料Aに比較して、スチル
時間は大幅に向上し、耐摩耗性の向上を示してい
る。 比較例 実施例1と同様にポリエステルフイルム上に真
空蒸着法で作成したコバルト(80%)、ニツケル
(20%)の強磁性合金薄膜表面にアミノ変性シリ
コーンオイルの0.5%トルエン溶液をバーコータ
ー方式で塗布し乾燥した(試料D)。 試料Dの水に対する接触角は92゜であり、60℃、
90%RHでの環境試験に対し、2週間放置後錆の
発生は見られなかつた。スチル試験の結果、スチ
ル寿命は10分であつた。 試料Dは、未塗布試料に比較して、撥水性の向
上によつて、耐蝕性は向上しているものの、スチ
ル寿命の向上は見られなかつた。 以上のように本発明により、耐食ならびに耐摩
耗性の向上がはかれる。
Claims (1)
- 1 コバルト金属またはコバルト合金の強磁性金
属薄膜より成る磁性層の表面に、フツ素置換アル
キル基をエステル側鎖に持つアクリル酸エステル
またはメタクリル酸エステルの重合体からなる被
膜を形成したことを特徴とする金属薄膜型磁気記
録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56106798A JPS589216A (ja) | 1981-07-07 | 1981-07-07 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56106798A JPS589216A (ja) | 1981-07-07 | 1981-07-07 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS589216A JPS589216A (ja) | 1983-01-19 |
JPH0326454B2 true JPH0326454B2 (ja) | 1991-04-10 |
Family
ID=14442893
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56106798A Granted JPS589216A (ja) | 1981-07-07 | 1981-07-07 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS589216A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61129730A (ja) * | 1984-11-27 | 1986-06-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5613761A (en) * | 1979-07-16 | 1981-02-10 | Pioneer Electronic Corp | Preparation of semiconductor device |
JPS5625232A (en) * | 1979-08-06 | 1981-03-11 | Sony Corp | Magnetic recording medium |
-
1981
- 1981-07-07 JP JP56106798A patent/JPS589216A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5613761A (en) * | 1979-07-16 | 1981-02-10 | Pioneer Electronic Corp | Preparation of semiconductor device |
JPS5625232A (en) * | 1979-08-06 | 1981-03-11 | Sony Corp | Magnetic recording medium |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS589216A (ja) | 1983-01-19 |
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