JPS61129730A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は磁気記録媒体、特に非磁性支持体上に強磁性金
属薄膜を設けた磁気記録媒体の改良に関する。

従来の技術 近年ＣＯを主成分とする合金、例えば０ｏ−Ｏｒ・ｃｏ
−Ｎｉ等の合金を非磁性支持体に電子ビーム真空蒸着、
スパッタリング、イオンブレーティング等の方法で直接
付着させて強磁性金属薄膜を形成した磁気記録媒体は、
高密度性がすぐれていることから実用化かバ［られてい
る。特に近年は、オーディオ、ビデオ機器の普及に伴い
かかる機器の小型化あるいは記録容量の増大が強く望ま
れており、このため上述した強磁性金属薄膜を設けた磁
気記録媒体が有望視され、これらに対する用途の期待は
大きい。

しかしながら上述した如き強磁性金属薄膜は、記録特性
の優位性を有するにも拘らず、信号の記録再生、消失を
行なうとき、そのための機器の部品、例えは磁気ヘッド
・ガイドボール等との摺接時の摩擦抵抗か大きいこと、
および耐摩耗性か悪く、このためＳＮ比か悪化したり、
走行中に傷が発生する等の欠点を有している。

このため従来より強磁性金属薄膜上に保護膜を設けるこ
とが提案されている。例えば耐摩耗性向上の目的で、酸
化チタンまたは窒化物等の無機材料をスパッタリングし
たり、あるいはエポキシ樹脂または脂肪酸を含有するシ
リコーン樹脂を塗布する等の試みかなされたが、これは
何れも充分に摩擦係数か小さく、かつ強磁性金属薄膜に
対する密着性の良い保護膜が形成されない。

従って強磁性金属薄膜に対する保護膜として第一に強磁
性金属薄膜に対する密着性が良いこと、次に摩擦係数が
小さく耐久性にすぐれていることがなお要求されている
。

このため強磁性金属薄膜の保護膜として特定の活性基を
有する弗素化炭化水素を塗布することが提案された（特
開昭５８−２９１４７号）。

発明か解決しようとする間馳点 上記弗素化炭化水素の塗膜は確かに摩擦係数の低下を生
せしめるか、塗膜の強磁性金Ｊｉ４Ｍ膜に対する密着性
か充分とは言えず、このため耐久性が乏しいという欠点
を有している。

従って本発明の目的は弗素化炭化水素塗膜の摩擦係数の
低下効果を発挿させると共に、強磁性金属薄膜に対する
密着性のすぐれた保護膜を設けることにより、走行性に
すぐれると共に耐久性にすぐれた磁気記録媒体を提供す
ることにある。

問題点を解決するための手段 本発明は非磁性支持体上に強磁性金属薄膜を設けた磁気
記録媒体において、上記強磁性金属薄ＩｌＱ上に、末端
にビニル基を有する弗素化炭化水素とアクリル酸エステ
ル、メタクリル酸エステルまたはスチレンとの共重合体
を被覆してなる磁気記録媒体にある。

本発明で使用する非磁性支持体としては、ボ’）ｉ素化
ヒニル、ｌ！１１−Ｃ仰セルロース、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカー
ボネート、ポリイミド等の高分子材料；鋼、アルミニ１
クム、亜沿、酸化アルミニラム等の非磁性金属材料；ガ
ラス、Ｍｉ器等のセラミック材料等周知の材料からなる
フィルム１板等がある。

また本発明の磁気記録媒体に使用しうる仲磁性金属薄欣
をｊ伐成する強磁性材料としては周知の任意の材料か使
用でき１例えば鉄、コバルト、ニッケルの１種以上の合
金、またこれらと他の金属例えはマンガン、クロム、チ
タン、リン１イツトリウム、サマリウム１ビスマス等を
組合せた合金、または上記金属の酸化物等がある。

非磁性支持体上に強磁性金属薄膜を形成させるに当って
は真空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレーティン
グ法、メッキ法等任意の周知の方法で形成させることか
できる。

本発明によれば、上記強磁性金属薄膜上に、末端にビｒ
ル基を有する弗素化炭化水素と、アクリル酸エステル、
メタクリル酸エステルまたはスチレンとの共重合体を被
覆する。

上記末端にビニル基を有する弗素化炭化水素としては末
端ビニル基を含有する炭素数１〜１８の弗素化炭化水素
を使用しつる。かかる弗素化炭化水素は一般式 ％式％ （式中Ｒは炭素数１〜１８の弗素化炭化水素基を表わす
）で表わされる。Ｒで表わされる弗素化炭化水素基とし
てはＯＦｇ、０！Ｆ５．０ｓＦｒｓ　ＯＪ＠、０５Ｆｌ
ｌ　、−−−−−０ｎＦ２ｎ＋１の基かあり、なかでも
ＯａＪｌｒｌｔ基、０６Ｆ’ｘｓ基、ＯＩＯ７２１基か
好ましい。

アクリル酌エステルまたはメタクリル酸エステルとして
はアクリル酸またはメタクリル酸の低級アルキルエステ
ルを使用できる。かかるエステルは一般式 ％式％ （式中Ｒ１は低級アルキル基例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基等を表わしｓＲ
２は水素またはメチル基である）で表わすことができる
。

スチレンは一般式 ％式％ （Ｕ／は上述したとおりであり・ｎは０〜５の整数であ
る）で表わされる。

本発明で使用する上記共重合体は、一般式（１）で表わ
される単量体と、一般式（２）または（３）で表わされ
る単量体とを通常のビニル基の重合に用いられる重合法
、例えは良く知られている重合開始剤を用い、溶液重合
法１乳化重合法１更には放射線重合法、紫外線重合法で
重合させることによって作ることができる。

上述した共重合体は従って、一般式 ８式％ 上記共重合体中における一般式（→の単位は共重合体全
体に対し、５〜４０重量％、好ましくは５〜２０重世％
とするとよい〇−一般式４）の単位か５重針％より少な
くなると、即ち一般式（５）または（６）の単位が９５
重社％より多くなると、摩擦係数が上昇し傷か発生し易
くなるため好ましくない。また一般式（４）の単位が４
０重針％より多くなると、従って一般式（団または（６
）の単位が６０重量％より少なくなると金ＭＭ膜に対す
る接着性が弱くなり、塗膜のはがれなどが生ずるなど耐
久性が低下するため好ましくない。

本発明による共重合体の塗膜を強磁性今風薄膜に塗布す
るに当っては、共重合体を適当な溶媒例えばテトラクロ
ロジフルオロエタン、トリクロロトリフルオロエタン、
メタキシレンヘキサフルオライドな−とのフッ禦系溶媒
中に溶解させ、過酸化物やアゾ化合物の作用により溶液
重合したりあるいは、共重合しようとする化合物の混合
物を界面活性剤の存在下で水に乳化させ重合させて作成
し塗布する。

実施例 厚さ１２μｍのポリイミドフィルム上に、０Ｏ−Ｏｒ金
合金らなる強磁性金属薄膜を電子ビーム蒸着によって厚
さ０．４７μｍで形成し１これを超音波処理洗浄しくト
リクレン中７０°Ｃで４００ＷＸＩＡＸＩＯ分）、下表
１に示す共重合体を溶媒トリクロロトリフルオロエタン
の１．５％溶液から塗布し、溶媒を乾燥除去して、厚さ
約０．１μｍの塗膜を形成した。

得られた磁気記録媒体の接触角、摩擦係数、耐久性につ
いて試験した。その結果を表１に示す。

発明の効果 上記表１のデータより明らかな如く本発明による磁気記
録媒体は、比較例に比して接触角、摩擦係数共に大きく
改善され、走行性も改良されていることが判る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、非磁性支持体上に強磁性金属薄膜を設けた磁気記録
   媒体において、上記強磁性金属薄膜上に、末端にビニル
   基を有する弗素化炭化水素とアクリル酸エステル、メタ
   クリル酸エステルまたはスチレンとの共重合体を被覆し
   てなる磁気記録媒体。 ２、共重合体が下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼および▲数式、化学
   式、表等があります▼ （式中Ｒは炭素数１〜１８の弗素化炭化水素基を表わし
   、Ｒ＾１は低級アルキル基を表わし、ｎは０〜５を表わ
   す）の単位からなる特許請求の範囲第１項記載の磁気記
   録媒体。 ３、共重合体が下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼および▲数式、化学
   式、表等があります▼ の単位からなる特許請求の範囲第２項記載の磁気記録媒
   体。 ４、共重合体が下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼および▲数式、化学
   式、表等があります▼ の単位からなる特許請求の範囲第２項記載の磁気記録媒
   体。 ５、共重合体が ▲数式、化学式、表等があります▼および▲数式、化学
   式、表等があります▼ （式中Ｒは炭素数１〜１８の弗素化炭化水素基を表わし
   、Ｒ＾２は水素またはメチル基を表わし、Ｒ＾１は低級
   アルキル基を表わす）の単位からなる特許請求の範囲第
   １項記載の磁気記録媒体。 ６、共重合体が ▲数式、化学式、表等があります▼および▲数式、化学
   式、表等があります▼ の単位からなる特許請求の範囲第５項記載の磁気記録媒
   体。 ７、共重合体が下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼および▲数式、化学
   式、表等があります▼ の単位からなる特許請求の範囲第５項記載の磁気記録媒
   体。 ８、共重合体が末端にビニル基を有する弗素化炭化水素
   から誘導された単位５〜４０重量％を有する特許請求の
   範囲第１項〜第７項の何れか一つに記載の磁気記録媒体
   。