JPH0326380B2

JPH0326380B2 -

Info

Publication number: JPH0326380B2
Application number: JP57059477A
Authority: JP
Inventors: Datsudorei Kausuton Jon; Edowaado Betsukaa Juniaa Hooru
Original assignee: Shipley Co Inc
Current assignee: Shipley Co Inc
Priority date: 1981-04-10
Filing date: 1982-04-09
Publication date: 1991-04-10
Also published as: EP0062733B1; JPS589143A; EP0062733A1; DE3268203D1

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、新規な感光レジスト用水性アルカリ
現像液組成物およびその使用に関する。更に詳し
くは、金属イオンを含まない高速現像液組成物に
関する。集積路回、印刷回路ボード、印刷板等の製造に
おいて、例えば、エツチング、金属析出、および
拡散工程等のような次工程の際に、基質の一部を
保護するため、光工学的な像を基質上に形成する
レジスト法が用いられている。レジスト法では、
放射感応性有機組成物を使用し、これを基質表面
に塗布した後、光あるいは、例えばＸ線、ガンマ
ー線あるいは電子ビームのような適当な活性放射
線に模様を露光させる。ついで露光されたレジス
ト層を公知の方法により現像した後、現像により
露われた基質の部分を処理する。ポジとネガと両方に作用するフオートレジスト
は公知である。ポジ用レジストは主としてフエノ
ール−ホルムアルデヒドノボラツク樹脂のような
ベース溶解性バインダーと、ジアゾ化合物のよう
な光活性化合物である増感剤とから成る。このよ
うな増感剤およびレジストは例えばアメリカ特許
No.3046118；3041121；3106465；3201239；
3666473；4009003、および4039461に開示されて
おり、以下本文にも引用している。他のレジスト
としては例えばアクリルレジストおよびポリアミ
ドレジストがある。フオートレジストを用いる製造法において生産
速度を光工学的な像を形成するに要する時間に依
存するが、この時間は、レジストを必要量の活性
化放射線へ露光するに要する時間と潜像を生みだ
すレジストを現像するに要する時間とに依存す
る。従つて、４つの相関性のあるフアクターが生
産工程の速度を決定する。すなわち、放射線強
度、露光時間、現像液濃度および溶液の接触時間
である。主に、露光したレジストは所定濃度の現像液に
一定割合で溶解するだろう。このことは現像を浸
漬法、撹練法あるいはスプレー法のいづれの方法
によつても同じである。一般に、溶液接触時間は
あらかじめ決定される。ついでフオートレジスト
を完全に現像させるための露光最短所要時間を場
合によつてはトライアンドエラーにより決定す
る。一般にフオートレジストの露光不足を、現像
液の濃度を指定濃度以上にすることにより効率的
に相殺することはできない。これは、一般に選択
性が相当に損失されることになる理由によるもの
である。即ち、大部分の非露光レジスト部は、露
光部と共に溶解するであろう。その結果、光工学
的な像が溶解するというロスがあり、そのために
後処理される基質の特性がロスされることにな
る。このためある強度の活性放射線源を用いる代
表的な製造法では、適当な露光時間を生ず、必要
以上の時間に決定ついで、光工学的な像があらか
じめ決めた溶液接触時間中に丁度現像されるよう
になるまで徐々に短縮することにより決定され
る。従つて例えば現像が現像液中に60秒浸漬する
ことにより実施する場合、現像が60秒の浸漬時間
で丁度完結するようになる迄、露光時間を調整短
縮していく。公知の現像液における大きな欠点は加工ピー
ス、特に集積回路装置などの金属イオン夾雑物に
関連している。これらの装置で用いられる微細な
線や空間部では、装置の機能性に影響するため、
流動的な金属イオンによる夾雑物が存在しないよ
うにする必要がある。公知の現像液は金属イオンから成るために金属
イオン夾雑物の原因となる。光工学的な像を現像
後、洗浄が不充分の場合、金属イオン夾雑物が残
り、これが浸洗がない自動現像法では特に問題と
なる。IC装置の製造では金属イオン夾雑物が大
きな欠点となる。本発明によれば、上述の目的は、新規な金属イ
オンを含まない現像液組成物により達成される。
更に詳しくは、本発明は、金属イオンを含まない
アルカリと、以下で限定するような一つあるいは
それ以上の第四アンモニウム化合物から成る金属
イオンを含まない界面活性剤とから成る金属イオ
ンを含まない水性現像液組成物を提供するもので
ある。本発明の方法によつてフオートレジストを前述
の金属イオンを含まない水性現像液組成物と接触
させて現像する方法を提供する。本発明の現像液
組成物は光工学的なレジスト像をつくるに要する
露光エネルギーを40〜50％減少させるという、多
大な技術的な向上を提供するものである。さら
に、公知の現像液を使用した場合に比較し実質上
より以上の像特性および溶解性が向上する。本発明はフオートレジスト用の新規な水性アル
カリ現像液を提供する。処理温度は好ましくは約
10〜30℃、更に好ましくは、約20℃から室温かで
ある。本発明の現像液組成物は公知の現像液に適した
いかなる方法によつても使用できる。即ち浸漬、
スプレーおよび撹練の方法を使用できる。一般に
現像しようとするフオートレジストを基質へ処理
し、活性放射線へ像形成のため露光し、つづい
て、現像液と接触させる。主として、光工学的な
像を現像する時間は浸漬法では約60秒、スプレー
法あるいは撹練法では60秒以下、必要である。現
像後、処理ピースを洗浄し、ついで所望の工程へ
進む。本発明の新規な現像液組成物の使用に適する金
属イオンを含まないアルカリは、必しも必要では
ないが、通常水溶性であり、所望のアルカリ性を
示さなければならない。本発明の新規な現像液組
成物の処理PHは好しくは、約11〜12.7、より好ま
しくは約12.5である。現像液を12.7を越えるPHで
処理すると、レジストの非露光部がかなり攻撃さ
れ、光工学的な像の溶解特性が低下する。PHが11
を越えない場合には現像スピードがかなり落ちて
くる。適当なアルカリ源としては、例えば置換基が直
鎖、分岐、あるいは環状である。第一、第二およ
び第三置換アミンを含むアリールおよびアルキル
アミンである。適当なアミンは例えば１，３ジア
ミノプロパンのようなアルキレンジアミンおよび
例えば４，4′ジアミノジフエニルアミンのような
アリールアミンである。更に例えばビス−（ジア
ルキルアミノ）イミンのようなイミンが適当であ
る。アルキル置換体は炭素原子１〜12からなるも
のが好ましい。好ましいアリール置換体はフエニ
ルおよびフエナルキルである。アルカリ源として
更に適するものは、例えば環骨格に炭素原子が３
〜５、と窯素、酸素および硫黄から選ばれるヘテ
ロ原子が１あるいは２とを有するような複素環式
塩基、例えば、ピロール、ピロリジン、ピロリド
ン、ピリジン、モルホリン、ピラジン、ピペリジ
ン、オキサゾール、およびチアゾールである。他
の適当なアルカリ源は、例えば低級アルキル第四
アンモニウムヒドロオキシドのような第四アンモ
ニウム塩基である。好ましいアルカリは各アルキ
ル置換基が同じか異なるかでありかつ炭素原子が
１〜３であるテトラアルキルアンモニウムヒドロ
キシドである。テトラメチルアンモニウムヒドロ
キシドが最適である。本発明の現像液組成物である金属イオンを含ま
ない界面活性剤は、一般式；である第四アンモニウム化合物の一つあるいは好
ましくは混合物から成る。（）式中、R¹は６〜20の炭素と、各酸素が
少くとも一つの炭素により、他のものから分離さ
れうる条件の、０〜３の酸素とを有し、かつアル
コキシ置換か非置換である、飽和、もしくは不飽
和の、直鎖もしくは分枝炭化水素鎖から成り； R²およびR³は同じものか異なるものかであり、
かつそれぞれが、１〜３の炭素のアルキル；ある
いはR⁵が１〜３の炭素のアルキレンでありかつ
ｎが１〜20の整数である（R⁵O）_oＨから成るか；
R²およびR³が同様に、各ヘテロ原子が、少くと
も１つの炭素により、他のものおよび第四窯素か
ら分離される条件の、酸素、窯素、および硫黄か
ら選ばれる、０〜２のヘテロ原子をもつ２〜８の
炭素原子の環状脂肪族炭化水素から成るか；ある
いは、R²およびR³が、同様に、各窯素が少くと
も一つの炭素により他のものおよび第四窯素から
分離される条件の、０〜２の窯素ヘテロ原子をも
つ２〜８の炭素の環状芳香族炭化水素から成り； R⁴は、１〜10の炭素原子を有する、飽和ある
いは不飽和の、直鎖あるいは分枝炭化水素、前述
の（R⁵O）_oＨ、アルキルの半分が０〜３の炭素を
有するフエナルキル、あるいは、ｍが１〜４で、
R²およびR³が前述のものでありかつR⁶が１〜10
の炭素原子を有する飽和あるいは不飽和の、直鎖
あるいは分枝炭化水素か、もしくは、前述の
（R⁵O）_oＨか、もしくは０〜３の炭素原子のアル
キル基を有するフエノールアルキルである、

【式】から成り；かつＸがハロゲン、ヒドロキシ、又はシリケー
トあるいは、前記第四アンモニウム化合物の相当
するアミノオキシドから成る。 R²、R³、およびR⁴は合計でアルコキシ単位と
して15が好ましく（R⁵O）は２であるのが、更に
好ましい。本発明で使用する好ましいものとしては、一般
式；である第四アンモニウム化合物がある。（）式中、R¹およびＸは（）式で述べた
ものであり； R⁷およびR⁸は同じものか異なるものかであり、
かつそれぞれが１〜３の炭素のアルキルか、ｎが
１でかつR⁵が（）式で述べたものである
（R⁵O）_oＨから成り、かつR⁹が１〜10の炭素原子を有する飽和ある
いは不飽和の、直鎖あるいは分枝環状炭化水素、
ｎが１でかつR⁵が（）式で述べたものである
（R⁵O）_oＨ、アルキルの半分が０〜３の炭素を有
するフエナルキル、あるいは、ｍが１〜４で、
R⁶およびR⁷が前述のものであり、かつR¹⁰が１〜
10の炭素原子を有する飽和あるいは不飽和の、直
鎖あるいは分枝炭化水素か、もしくは前述の
（R⁵O）_oＨか、もしくは、０〜３の炭素原子のア
ルキル基を有するフエナルキルである、

【式】（）から成る。前述の式（）の一つあるいはそれ以上の界面
活性剤から成る、本発明の金属を含まない現像液
は、フオートレジストの露光部の現像で選択性が
よく、かつ、非露光フオートレジストを殆んど攻
撃しないことが見出されたのである。本発明によ
りつくられた金属イオンを含まない現像液は所望
の像をつくりだすための所望の露光時間を40〜50
％短縮することができる。比較として、公知の現像液を用いた場合、この
40〜50％の露光時間短縮は、たとえ浴濃度を増加
させたとしても、非露光フオートレジストが攻撃
されるために達成されない。従つて公知の現像液
は露光部と非露光部間の選択性が劣るのである。好ましい界面活性剤には、一般式；のエトキシル化第四アンモニウム化合物からなる
ものである。（）式中、ｍおよびｐはそれぞれ１もしくは
２であり、R¹は炭素原子が８〜18、割合がほぼ
つぎのアルキル基である。

【表】最も好適な界面活性剤はｍおよびｐがそれぞれ
１である、エトキシル化第四アンモニウム化合
物、すなわちメチルビス−（２−ヒドロキシエチ
ル）ヤシアンモニウムクロライドである。この界
面活性剤はヤシ油から誘導され、このものは商品
名“ETHOQUAD Ｃ／12”（Armak Co.，
Pasadena，Texas，有効分75％の溶液として販
売）で市販されている。更にR²、R³およびR⁴が１〜３の炭素原子のア
ルキル、最適には、メチルでありかつR¹が（）
式のものである、（）式の化合物が好ましい。
この界面活性剤の中で最適のものはトリメチルヤ
シアンモニウムクロライドである。これはヤシ油
から誘導され、商品名“ARQUAD Ｃ−50”
（Armak Company，Pasadena，Texas，有効
分50％溶液として販売）で市販されている。他の好ましい界面活性剤は、二つの化合物、す
なわち一つの化合物がR¹が炭素原子12を有しか
つｍおよびｐが合計15のものである（）式に相
当するものと、もう一つの化合物が、R¹が90％
のC₁₈および10％C₁₆である（）式に相当するも
の、との混合物である。この界面活性剤は商品名
“ETHOQUA18/25”（Armak，Company，
Pasadena，Texas，で有効分90％溶液で販売）
で市販されている。本発明の現像液組成物中の界面活性剤の使用濃
度は、選んだ第四アンモニウム化合物および使用
される個々の方法とに依存する。例えば、界面活
性剤が前述のETHOQUAD Ｃ／12で、アルカリ
がテトラメチルアンモニウムヒドロキシド
（“TMAH”）の場合、全使用量はTHAH1Kgにつ
き活性Ｃ／12が0.02〜45Kg、更に好ましくは、活
性Ｃ／12が約0.1〜7.5ｇである。最適のものは
THAH1Kgにつき、活性ETHOQUAD Ｃ／12、
約0.2〜10ｇと活性ETHOQUAD18/25、約１〜
４ｇとを配合したものである。第四アンモニウム化合物および現像液組成物中
の界面活性剤は、当関連分野の技術として公知の
方法により容易に合成することができる。従つ
て、多くの適当な化合物あるいは好適な化合物の
混合物が容易に入手可能である。理論的に保証しようとするものではないが、
（）式の化合物による新規に見出された効果は、
フオートレジストの界面における現像液浴の表面
張力を下げるという化合物の特性によつて生ずる
ものと現在考えられている。従つて、この改良点
は光工学的像を現像する間、絶えず、露光フオー
トレジストと現像液とを湿潤させておくところに
ある。この場合、現像液中のアルカリは、レジス
トの露光部の酸と、充分に接触するため、より効
果的に作用する。理論的には、表面張力を下げる能力が、フオー
トレジストの重合樹脂に対する親油性のR¹の一
部の親和性に大いに役立つている。この点に関し
て云えば、樹脂系が主に種々の長さの炭素原子か
ら成つているためにR¹の炭素の長さがいろいろ
である混合物が特に有効であることが更に理論づ
けされる。例えば、ノボラツク樹脂の場合、その
構造は数多い。従つて異つたR¹の鎖長が、異つ
た構造のそれぞれに大きな親和性を与へ、その結
果大きな湿潤作用を提供する。従つて異なつた
R¹の炭素鎖長の総合作用により、相乗効果が達
成されるのである。本発明の現像液組成物に、前述のアルカリおよ
び界面活性剤に加へて、更に一つあるいはそれ以
上の適当な多価の化合物を含んでもよい。水性ア
ルカリ現像液に使用するに適する多価の化合物、
関連分野の技術で公知であり、グリセリン、エチ
レングリコール、ポリグリセリンおよびグリコー
ルエーテル等である。グリセリンが好適である。
理論的に保証しようとするものではないが、グリ
セリン、あるいは、他の適する多価の化合物は、
湿潤剤および溶剤として作用し、かつ光工学的像
の特性を改良する。グリセリンの量は35ｇ／ま
でが特に適していることが見出された。約25〜30
ｇ／の使用が好ましく、特に約27ｇ／が好適
である。本発明は陽画タイプのフオートレジストの現像
に適する、新規の金属イオンを含まない、高速現
像液を提供する。これは二層工程において未増感
ポリアミドフイルムをエツチングするのに適する
と考えられる。これはノボラツク樹脂系におけ
る、１−オキソ−２−ジアジ−ナフタレン−５−
スルホネートのような、ジアゾ型増感剤を含む陽
タイプフオートレジストの現像に特に有効であ
る。このような陽タイプフオートレジストは例え
ばShipley Company Inc.（Newton，
Massachusetts）から市販されているAZ1300シ
リーズおよびAZ1400シリーズ・フオートレジス
トである。本発明の現像液は、当関連分野の技術
に公知である。例えば１−オキソ−２−ジアゾナ
フタレン−４−スルホネートエステルあるいは他
の光活性物質である、異なつた増感剤を含有する
フオートレジストの現像に非常に有効である。現像液は活性放射性へ露光したフオートレジス
トの部分を溶解し、その際の選択性を改良したも
のである。すなわち本発明の現像液組成物は露光
エネルギー量が少い場合でさえ、公知の現像液に
比較し、非露光部に損傷を与へずに、露光部を溶
解するであろう。従つて露光時間が短縮されるこ
とにより、生産速度が増大した場合にも、良好な
像溶解および像特性が得られる。本発明の現像液組成物に、前述の成分に、更に
他の成分を添加することもできる。他の成分とし
ては、例えば当関連分野の技術で公知の、染料、
湿潤剤、緩衝剤等である。しかし、これらの添加
成分に金属イオンを含有することもできるが、本
発明の好ましい態様は、金属イオンを含まないこ
とである。集積回路装置のような加エピースで
は、現像液組成物から金属イオンを入りこませな
いことが、好適な態様の大きな特徴となる。この
点に関して云えば、好適な態様による金属イオン
を含まない現像組成物は、光工学的像の現像後
に、装置の裏側を洗浄しないような、自動連続現
像法を用いる場合、特に有効である。このような
方法を実施する場合には、しばしば一部の現像液
が除去されず、装置にイオン夾雑物が残存する。
しかし、本発明の金属イオンが含まれない現像液
を使用すれば、現像液を洗浄しない場合にも、加
工ピースに金属イオン夾雑物が残存しないであろ
う。従つて、生産速度が増大しかつ特性が向上する
だけにとどまらず、金属イオン夾雑物がなく、そ
の結果装置の不良もないのである。以下の実施例により、本発明を説明するが、特
に本発明の請求範囲を限定するものではない。（実施例１）本発明によるフオートレジスト現像液組成物を
つぎのようにしてつくつた。脱イオン水、14706
mlに、テトラメチルアンモニウムヒドロオキシド
1000ｇを添加した。ついでグリセリン511ｇを加
へた。更に活性ETHOQUA Ｃ／12（Armak
Co）7.125ｇを加へた。最後に脱イオン水10000ml
を追加した。これら30分間撹拌混合し、所望の操
作条件に合わせるため稀釈用とした。（実施例２）つくつた現像液組成物の速度および選択性を公
知の現像液のそれと比較した。シリコーン紙（そ
れぞれ直径が３インチ）にAZ14700フオートレジ
スト（Shipley Company，Inc.，Newton，
Massachusetts）を1.4μの厚さで塗布した。塗布
紙を、目盛り付きデンシテイステツプフイルター
を通し、活性放射線源から45ミリジユールcm^-2の
エネルギーで露光した。３つの塗布紙をそれぞ
れ、４つの現像液のうちの１つに20秒、浸漬現像
した後、脱イオンで60秒、浸洗し、ついで窯素に
より、風乾した。最初の３つの溶液は、実施例１
の方法によりつくつた現像液の別々のものであ
る。第４番目の浴は現像液３部と脱イオン水２部
との混合によりつくつたMF−312現像液
（Shipley Company，Newton，MA）で、同様
に使用した。すべての溶液は22.5℃で使用した。
現像液、レジスト層の厚さを選択性、すなわち、
非露光レジストのロス量を調べるために再び測定
し、ついで完全な現像に必要な透過率を目視によ
り測定した。結果を第二表に示す；

【表】本発明の金属イオンを含まない現像液の３つの
バツチの結果は実験誤差範囲内で一致した。この
結果は金属イオンを含まない現像液が対照のMF
−312現像液に比較しおよそ2.1倍速い、すなわち
必要な露光エネルギーが2.1倍も少いことを示し
ている。更に、選択性に関して云えば、顕微鏡による処
理紙の目視組成物は、本発明の金属イオンを含ま
ない各バツチの現像液が、約18〜20％透過が少い
フオートレジストに事実影響がないことを示して
いる。従つて、フオートレジストは少くとも約
22.5％透過を受けずかつ完全に現像しないならば
現像液により、攻撃されることはない。対照的
に、完全な現像に必要な48％より少ないすなわち
１％程度低い透過を受けたMF−312で現像され
たフオートレジストは、相当な程度まで、現像液
により攻撃される。（実施例３）実施例１の金属イオンを含まない現像液（文中
“MIF”）を現像液５部に対し、脱イオン水１部
で希釈し、現像液３部に対し脱イオン水２部で希
釈した公知の現像液MF−312（標準のShipley製
品）と14〜26℃で比較した。選択性を非露光レジ
ストのロスとして測定した。 28枚のサンプル紙（それぞれの直径３インチ）
に、AZ1470（Shipley Company，Newton，
MA）を2500RMPで、厚さ1.50μにスピン塗布し
た。塗布紙をステツプマスを通し、活性放射線45
ミリジユールcm^-2に露光させた。露光後塗布紙を
20秒浸漬現像し、ついで脱イオン水で60秒、浸洗
した。結果をつぎに示す：

【表】

【表】結果は、溶液中に金属イオンを含まない現像液
が、MF−212現像液に比較し２倍以上の速い、
すなわち必要な露光エネルギーが半分以下である
ことを示している。更に、金属イオンを含まない
現像液の選択性が２倍より大きく、非露光レジス
トのロスが半分より少いことが示されている。更
に、金属イオンを含まない現像液が非常にすぐれ
た像溶解性を提供することが認められた。

Claims

【特許請求の範囲】１ (a)アルカリ源として金属イオンを含まない水
酸化アルカリおよび(b)金属イオンを含まない界面
活性剤の混合物を含む露光したフオトレジストに
おける画像を現像するための金属イオンを含まな
い水性現像液組成物において、前記アルカリ源(a)
は低級アルキル水酸化第四級アンモニウムであ
り、前記界面活性剤(b)は、前記水酸化アンモニウ
ムとは異なる１種又はそれ以上の第四級化合物で
あり、その第四級化合物は一般式；（式中、R¹は６〜20の炭素と、各酸素が少く
とも一つの炭素により、他のものから分離される
ことができるという条件で０〜３の酸素とを有
し、かつアルコキシ置換又は非置換であり、飽和
もしくは、不飽和の直鎖もしくは分枝炭化水素鎖
から成り； R²およびR³は、同じものか、異なるものかで
ありかつそれぞれが１〜３個の炭素のアルキル；
又は（R⁵O）_oＨ（式中R⁵が１〜３の炭素のアルキ
レンであり、かつｎが１〜20の整数である）；又
はR²およびR³が一緒になつて各ヘテロ原子が少
なくとも一つの炭素により、別のヘテロ原子およ
び第四級窒素から分離される条件で、酸素、窒素
および硫黄からなる群から選ばれる０〜２のヘテ
ロ原子を有する２〜８の炭素原子の環状脂肪族炭
化水素から成るか；又はR²およびR³が、一緒に
なつて、各窒素が少なくとも一つの炭素により他
のヘテロ原子および第四級窒素から分離される条
件でＯ、Ｎ及びＳからなる群から選ばれた０〜２
のヘテロ原子をもつ２〜８の炭素の環状芳香族炭
化水素から成り； R⁴は１〜10の炭素原子を有する飽和あるいは
不飽和の直鎖あるいは分枝炭化水素、前述の
（R⁵O）_oＨ、アルキル基が０〜３の炭素を有する
フエナルキル、又は（式中ｍが１〜４、R²およびR³は前述のもの
でありかつ、R⁶が１〜10の炭素原子を有する飽
和あるいは、不飽和の、直鎖あるいは分枝炭化水
素、もしくは、前述の（R⁵O）_oＨもしくは０〜３
の炭素原子のアルキル基を有するフエナルキルで
ある）からなり、かつ、Ｘはハロゲン、ヒドロキシまたはシリケ
ートあるいは前記第四アンモニウム化合物の相当
するアミノオキシドから成る）を有することを特
徴とする水性現像液組成物。２ R¹が６〜20の炭素原子を有する、飽和もし
くは不飽和の、直鎖もしくは分枝炭化水素から成
り； R²およびR³が、同じものか異なるものかであ
り、かつ、それぞれが１〜３の炭素のアルキル、
あるいは（R⁵O）_oＨ（式中R⁵が１〜３の炭素原子
のアルキレンであり、かつｎが１〜20の整数であ
る）から成り； R⁴が６〜20の炭素原子を有する、飽和あるい
は不飽和の、直鎖あるいは分枝の疎水性炭化水
素；前述の（R⁵O）_oＨ；アルキル基が０〜３の炭
素を有するフエナルキルから成り；かつＸがハロゲン、オキシド、ヒドロオキシド
あるいはシリケートから成る、特許請求範囲第１
項記載の現像液組成物。３ R⁴が式；（式中、R²およびR³が前述のものであり、ｍ
が１〜４の整数であり、かつR⁶が１〜10の炭素
原子を有する飽和あるいは不飽和の直鎖あるいは
分枝鎖炭化水素である。）である特許請求範囲第１項記載の現像液組成物。４アルカリが、各アルキル置換基が同じものか
あるいは異なるものかであり、かつ１〜３の炭素
を有する、テトラアルキルアンモニウムヒドロキ
シドから成る特許請求範囲第１項記載の現像液組
成物。５アルカリがテトラメチルアンモニウムヒドロ
キシドから成る、特許請求範囲第４項記載の現像
液組成物。６アルカリがテトラメチルアンモニウムシリケ
ートから成る、特許請求範囲第４項記載の現像液
組成物。７該界面活性剤が一般式；（式中、R¹がほぼつぎの割合の、８〜18の炭
素のアルキルであり、ｍおよびｐが１〜20の整数
であり、かつＸが特許請求範囲第１項記載のもの
である）を有する、ヒドロキシエチル化第四アンモニウム
塩から成る、特許請求範囲第１項記載の現像液組
成物。【表】８該界面活性剤が、メチルビス（２−ヒドロキ
シエチル）ココアンモニウムクロライドから成
る、特許請求範囲第７項記載の現像液組成物。９該界面活性剤が式；（式中、R¹がほぼつぎの割合の、８〜18の炭
素のアルキルである。）である、第四アンモニウム塩から成る、特許請求
範囲第１項記載の現像液組成物。【表】【表】１０該活面活性剤が、トリメチルココアンモニ
ウムクロライドから成る、特許請求範囲第９項記
載の現像液組成物。１１多価湿潤剤をさらに含む特許請求範囲第１
〜４項記載のうちのいずれか一つの現像液組成
物。１２該多価湿潤剤がグリセリンから成る、特許
請求範囲第１１項記載の現像液組成物。