JPS5962850A - フオトレジストの現像組成物および現像法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、フォトレジストの現像組成物に［シ１しさら
に詳しくば、ここに開元する種類の第四アンモニウム界
面活性剤の１粁またはそれ以上と金ｒヘイオンのアルカ
リ化合物の１睡またはそれ以上を含有する。新規な高速
現像剤に関すイ、。

集積回路装置、印刷回路板、印刷版の製造オ・ｉよび関
連する技術に：ｌｄいて、レジスト法が使用され。

これにより画像を支持体上へ形成して、引き続（製造過
程、たとえば、エツチング、金屑析出および拡散の過程
の間、支持体の選定された部分を保護する。レジスト法
は、放射感受性有機組成物を使用し、この組成物は支持
体表面上へ被覆され、次いで光や他の適当な化学線、た
とえば、Ｘ線。

ガンマ線または電子線にパターン法（ｐａｔ、ｔｅｒｎ
ｗｉ　ｓｅ　）で露出される。次いで露出されたレジス
ト層は、この分野で既知の方法により現像され、次いで
現像により裸にされた支持体の部分ン処理することがで
きろ。

ポジおよびネガに作用するフォトレジストが知られてい
る。、ｄ！ジのレジストは、典型的には、塩基可溶性の
バインダー、たとえば、フェノールホルムアルデヒド８
ノボラツクまたはポリビニルフェノール樹脂と増感剤、
すなわち、光活性化合物。

たとえば、ジアゾ化合物とから構成される。このような
増感剤およびレジストは、たとえば、米国特許第３，０
４６．’１１８号、同第６，０４６，１２１号、同第３
．１０６，４６５号、同第３，２０１，２３９号、同第
３．６６６，１１７６号、同第４，００９，０３３号お
よび同第４．０９６，４５１号に記載されている。

本出願人による１９８６年４月１５日付けの同時係属米
国特許出願２１Ｓ４８５，４０９号には、ポジに作用゛
するフォトレジストのための新規な現像組成物が開示さ
れている。この現像剤は、アルカリの金属イオン不含源
と’４￥ｉ一定のクラスの第四アンモニウム界面活性剤
との組み合わせからなる。この現像剤は、集積回路の製
造（Ｃおいて望ましい配合物から、金属イオンを排除す
る。また、この現像剤は現像速度を高め、きわめてすぐ
れた解像および品質の現像画像を提供オろ。

前述の金属イオン不合現像剤は、アルカリ土類金属イオ
ン不含源が金属アルノ１１−たとえば、水酸化ナトリウ
ムまたは水酸化力１１ウドよりもコストが高いというこ
とＫおいＣ−７％１ｉＴ４の現像剤よりも高価である。

価格の増大は印刷回路板の製造および他の関連する用途
のための現像剤の使用を魅力的でないものにする。なぜ
ブ（ら金Ｊ・１イオンの汚染はこのような製造において
問題とｔ［ら−ｒ、そして増大したコストは正当化され
ないからでカ）ろ。

したがって、製造、使用および廃棄物の処置のコストを
低下させる前述の現像剤の性質ケイｊゴる視、像配合物
を提供することは、望ましい。

本発明は、印刷回路板、化学的シリングーオ、；、Ｌび
金属イオンの汚染か間５・［１とならゾ、（い仙の川Ａ
において便用するフォトレジストの現像に、と（に有用
である現像剤に関寸ろ。この現像剤は、前述の特許出願
に記載されている第四アンモニウム界面活性剤と全屈イ
メン含有アルカリとからな′／１）。

この現像剤は、その使用において、改良されたレジスト
画像、ことに改良されたエツジ尖鋭さく○ｄｇｅ　ａｃ
ｕｉｔい、および改良された速度を提供するということ
において、金属イオン不含現像剤の利点２有する。

上に加えて、本発明の現像剤は１次の追加の利点を有す
る： １、利料のコストが低い、 ２、　コストが低いために、印刷回路の用途における使
用可能性、および 、５．　　ｆｆ１ｌ素化された廃棄物の処置。

本発明は、アルカリ現像可能なフォトレジストの現像用
の新規なアルカリ性現像剤を保供寸ろ。

それは好ましくはほぼ１０〜６０℃の鈷１１度、より好
ましくは約２０℃もしくは学習ｊにおいてはだら（。

本発明の現像組成物は一既知の現像剤について適当な方
法で使用できる。こうして、浸漬、噴霧および）３ドル
技術ケ使用できる。現像すべきフォトレジストナ一般に
支持体へ適用し、活性線に画像法（ｊｍａバｅ−ｗｉｓ
ａ’）で露出し、引き絹；いて現像剤と接触させる。光
機械的画像の現像は、典型的には、浸漬によるとき６０
秒、噴ｇまたはパドル技術によるとき、これより短かい
時間を要し９次いで加工片を洗浄し、必要に応じてさら
に処理する。

本発明の新規な現像組成物において使用″１−′７．）
のに適当なイオン含有化合物は、水溶性であり、必要な
アルカリ性を提供しな（てはならない。本発明の新規な
現像組成物は、約ｐｉ（１１〜１４．最も好ましくは約
ｐＨ１２，５〜１３においてはたらく。約ｐＨ１１より
低いと、現像速度は有ｘ４に減少する。

本発明の功、像剤のアルカリ成分は、フォトレジスト現
像剤の分野において知られているもσ）のいずれであっ
てもよい。適当なアルカリ化合物は、たとえば、アルカ
リ金属水酸化物、たとえば、力性ソーダ（水酸化ナトリ
ウム）、これは一般に好ましい、または水酸化ナトリウ
ムである、また。

たとえば、アルカリ金属リン１習塩、たとえば、モー、
ジーまたはトリー塩基性すン酸ナトリウノ・およびアル
カリ金属ホウ酸塩、たとえば、ホウ酸す。

トリウム、オ（Ｓよびアルカリ金属ケイ酸塩である。

本発明の現イ￥：組成物の界面活性剤は、各々が一般式 式中 Ｒは６〜２０個σ）炭素原子と０〜６個の酸素原子火有
１ろ、飽和または不飽和の、直鎖または分枝鎖の炭化水
素鎖からなり、ただし各酸素層イは少なくとも１個の炭
素原子Ｕこより互いに分離されており、かつ必要に応じ
て前記鎖は１またはそれ以上のアルコキシ基で置換され
ている； ＲおよびＲは同一であるかあるいは異フ、Ｃす、各々は
１〜６個の炭素原子のアルキルまたは（ＲＯ）Ｈからな
り、ここでＲは１〜１’１ ３個の炭素原子のアルキレンでありそしてｐは１〜２０
であろ；あろい（戊 Ｒ２およびＲは−緒に２〜８個の炭素原子と０、トＩお
よびＳから選ばれた０〜２個の異種原子とを有する環式
脂肪族炭化水素からなり、ただし各異種原子は互いから
かつ第四窒素原子から少ブ、ｃくとも１個の炭素原子に
より分離されている；あるいは ＲおよびＲは−緒に２〜８個の炭素原子と０〜２個の窒
素の異種原子とを有する環式芳香族炭素水素からなり−
ただし各窒素原子は互いからかつ第四窒素原子から少）
：Ｃ＜とイ）１個の炭素原子により分Ｉｄｌｅされてい
る；Ｒは１〜１０個の炭素原子を有する飽和または不飽
和の、直鎖または分枝鎖の炭化水２く一トに定義した（
Ｒ５０）　Ｈ；フェナルキル、こＴ〕 こでアルキル部分はＯ−ろ個の炭素原子を有する：また
は ３ （ここでｍは１〜４の整数であり、ＲおよびＲは上に定
義したとおりであり、セしてＲは１〜１０個σ）、炭素
原子を有する飽和または不飽和の、直鎖または分枝鎖の
炭化水素または上に定義した（ｒｌ　０）Ｈ−またはツ
ェナ１］ ルキシ、ここでアルキルばＯ−３個の炭素原子を有する
、である） かもなる；そして Ｘはハロ、ヒドロキシ、またはシリケートまたは）１へ
四アン（７ニウノ、化合物の対応するアミノ酸から７７
（ろ： に相当−ζろ、１秤の第四アンモニウム化合物または第
四アンモニウム化合物（ハ混合物かｌ’）　ｉ’ｌる。

Ｕ’ま［２（υ１．１１１．ＨおよびＲ中に１合田、１
５より大き（ブエい最も好ましくば２より大きくないア
ルコキシ即位（ＲＯ’）が存イ１ドＡ−る。

式中 Ｒ１およびＸは式■について定義したとおりであろ； ＲおよびＲは同一であるかあるいは異なり、そして各々
は１〜３個の炭素原子のアルキル；または（Ｒ５０）　
）Ｉ　　（ここでｎは１でありそしてＲは式■について
定義したとおりである）からなる；そして Ｒは１〜１０個の炭素原子の飽和または不飽和の、直鎖
、分枝鎖または環式の炭化水素；（Ｉ’ｔＯ）ｎＨ（こ
こでｎは１でありそしてＲ５は式Ｉについて定義したと
おりである）；フェｆ−／−ル（アルキル部分は０〜３
個の炭素原子を有する）：または ７ （式中ｍは１〜４でｋ）す、ＲおよびＲは上に定義した
とおりであり、そしてＲは１〜１０個の炭素原子の飽和
または不飽和の。

直鎖十たは分枝鎖の炭化水素；または上に定義した（Ｒ
Ｏ）Ｈ；または０〜６個の炭素Ｉ９子のアルキル２有す
るフェナルキルである）からなる； を有する第四アンモニウム化合物は１本発明における使
用に好ヤしい。

本発明による現像剤は、前述の界面活性剤の１種または
それり上からなり、フォトレジストの露光区域において
より選択的であり、そして未露光のフォトレジストをほ
とんどまたはまったく攻＊しないことがわかった。本発
明に従ってつくられた、金属イオン含有現像剤は、要求
する画像ｔつ（ろために要する露光時間、少なくとも２
０％だけ、しげしげ４０〜５０％だけ、著しく減少（２
、こうして印刷回路板の生産量を増大する。

比較すると、既知の現像剤を用いろとき、濃度を増大し
た浴を用いてさえ４０〜５０％の露光時間の短縮を達成
できない。なぜなら、床置区域が攻撃されるからである
。こうして−既知の現像剤は、露光区域と未露光区域と
の間の選択性に非常に劣る。

一般式 式中 １ｎおよびＤは各々１＋たは２であり、そしてＲは？・
よぼ次の比率の８〜１８個の炭素原子のアルキルである
： 表　１ を有するエトキシル化第四アンモニウム化介物からなる
ものは、好ましい界面活性剤で訊ろ６最も好ましくは、
このよ５１工界面活性剤は、ｍおよびＤの各々が１であ
ろエトキシル化第四アンモニウノ、化合物、すなわち、
塩化メチルビス（２−ヒドロキシエチル）ココアンモニ
ウムである。このような界面活性剤はココナツ油から誘
導することができ、そしてこのようなものの１種は商標
″ＥＴＨＯＱＵＡＤ　Ｃ／１２”（ＡｒｍＦｌｋ　Ｇｏ
−、Ｐａ５ａｄｅｎａ。

Ｔｅｘａｓ、７５％活性溶液として販売されている）で
商業的に入手できろ。

また、好ましいものは、Ｒ，Ｆｌ　　およびＲが１〜６
個の炭素原子のアルキル、＃も好ましくはメチルであり
、そしてＲが式■において定義したとおりである、式Ｉ
の化合物である。このような界面活性剤のうちで最も好
ましいものは、塩化トリメチルココアンモニウムであり
−この界面活性剤はココナツ油から誘導することができ
、商標”　ＡＲＱＵＡＤ　Ｃ−５０″（Ａｒｍｒｌｋ　
Ｇｏ　、　、　Ｐａ＋ｑａ、ｄｅｎａ、。

Ｔｅｘａｓ、５０％活性溶液として）商業的に入手でき
ろ。

仙の好ヤしい界面活性剤は、２秤の混合物からブ、仁り
、一方はＲが１２　ｇｔ、＋の炭素原子を゛有Ｉ７かつ
ｍｔ５よびＤが合泪１５である式■の化合物であり、そ
して使方はＲが９０％のＣ１８と１０％の０１６で友、
λ）。この界面活性剤（ま、商標′″ＥＴＨＯＱＵＡＤ
１８／２５”（Ａｒｍａｋ　ＣＦＩ　＋Ｊ　　Ｒ＋５ｑ
ｄｒ・ｎｑ　、　Ｔ＋：ｙａＳ、　５ｏｂＴ９０％活性
溶液として）で入手できる。

現像組成物中に使用さ才１．ろ界面活性１１１１の）Ｒ
シ上、一部分、４テ択した第四アンモニウム化合物にお
よびそ枕ｋ・［車用する特定の用途に依存償るが、一般
に、前記界面活性剤を合まない現［“セパ１］に比べて
少な（とも２０％だげ露ン′ＣエネルギーをＩ威少する
ブこめに十分な開で使用される、こうして−たとえば界
面活性剤がｔＭｉ述の別上美ＵＡＤヴ１２からｌＫりが
つアルカリが水・“＋２化ナトリラムであるとき、４計
の使用量は、現像剤の１６当り０．０２〜４５ｇ、より
好ましくは０，１〜Ｚ５，９の活性Ｃ／１２である。

１つのＪゆも好・Ｆしい実ｈｆ！ｉ態様において−１０
２〜１０．９／ｄの活性ＥＴＨＯＱＵＡＤ　Ｃ／１２ケ
六町１〜４Ｉ／ｌの活性ＥＴｆ（ＯＱ、ＵＡＤ　１８／
２５と組み合わせて使用寸ろ、。

現像、ｔｌｌ成物酸物面活性剤を構成する炉四アンモニ
ウム化合物は、より知られている方法により容易に製造
できろ。あるいは、多くの］肖当な化合Ｉ吻あるいはグ
ｆましくけ、化合物の混合物はｅ（傑的に入手容易であ
７．、。

理論的に拘束されたくないが、式■の化合物の新らしく
発９された効果は、フォトレジストの界面において現像
剤の浴の表面張力欠減少する能力から生ずると信じられ
る。こうして、光画像の現像ヲ通じてｊ、［，１ｊ、、
、的に露光されたフォトレジストが切、像剤によりぬれ
ることが改良されろ。このようにして、現像剤のアルカ
リは、シジストの露光部分の＋”Ｐ）−へ、より良好に
接触し、こうして、より効果的に作用寸ろ。

このような表面張力を減少させろ能力は、フォトレジス
トのス１？リマ一の樹脂への界面活性剤の１ｒΦ水性Ｒ
１部分の親和性から大部分由来すると、理論ずげられる
ーこれに関して、Ｒ炭素儲の長さが変化する。このよち
な化合物の混合物からなる界面活性剤は、樹脂系が典型
的には変化する長さの炭素鎖からなるため、ことに効能
があると、さらに理論ずけられる。たとえば、ノボラッ
ク樹脂の場合において、ｐへなるノボラック樹脂構造が
存在する。こ）して異なるＨ　の炭素鎖ば、それらの！
−−なる構造の各々について最大の親和性ヶ提供し、こ
うして−最大のぬれ作用を提供−オる。こうして、異な
る長さのＨの炭素ψｉ′１の結合された作用により、相
剰効来が達成される。

前述のアルカリおよび界面活性剤に加えて、本発明の現
像組成物は１種またはそれ以」二のポリヒドロキシ化合
物を含むことかできろ。水性アルカリ現像剤中に使用す
るのに適当なポリヒドロキシ化合物は、この分野におい
て’＋３１られており、グリセロール、エチレンクリコ
ール、ン）ソリクリコールおよびグリコールエーテルを
包含寸ろ。グリセロールは好才しい。約６０９７Ａまで
の（］１はとくに適当であることがわかった。好ましく
け、約２５〜３０　Ｍ／Ｉｔの量を用いろ。

木ｇ　明は、ポジ型フォトレジストオｄよびアルカリ可
溶性のネガ型フォトレジストの現像に適する。

新規なアルカリ金属含有高速現像剤ケ折供する。

そ才■は２層処理においてポリアミドフィルムのエツチ
ングに７滴スると信じられろ、それはノボラックまたは
７１？リビニルフエノール系中にジアゾ型増感剤たとえ
ｖ＋ニー　１−オキソ−２−ジアゾ−ナフタレン−５−
スルホネートエステル７含有するポジのフォトレジスト
の１１１画像１！二と（ｆｃ有効であそ）。この」二う
なポ・ジ型フォトレジストは、１ことえｔｌ：−シプレ
ー・カンノミニー・インコーホレーテッド（Ｓｈｊｐｌ
、ｅｙ　　Ｃｏ＋ｎｐａｎｙ　　Ｉｎｃ　、　　、　　
Ｎｒ；ｗｔ、＋）ｎ　　、　　Ｍｑｓ３ａｃ１ｍｓａｊ
−、ｔｓ）から市１仮さ才ｔているＭｉＣｒｏｔ）ｏＸ
＋ｉ士、　　１３００　、ｔｎ；よひて１４　［］　０
系列を包含する。また１本発明の現［′！絹・目酸物は
、異ｌ、（る増感剤、たどえば、１−オ六−ソー２−）
アゾ−ナフタレン−４−スジボネートエステルまたはこ
の分野で知ら身１ている他の光活性物質を含有するよう
なフォトレジストの現ｒ象［高度に有効である。

この現像剤は、活性線に露出されたフォトレジストの７
′１１〜分ヶ、改良された選択性をもって、溶解寸ろ。

すなわち、露光エネルギー暑減少したときでさえ、本発
明の覗１１象組成物は、既知のＪＴ、ｌ、像剤よりも未
露光区域への攻系を少なくして、露光部分ケ溶解するで
あろう。こうして、よりすぐれた画像の解像および品質
が提供されると同１時に、生産速度は露光時間の短縮の
ため増大する。

本発明の現像組成物は、前述の成分に加えて他の成分を
含むことができる。このような他の成分は、たとえば、
染料、追加の湿憫剤、Ａ、妥征団１１．オ６よびこの分
野で知られている他の成分である。

本発明の新規な現像剤は、各成分を適当な方法で混合し
て均質な分布を達成することからなる、この分野で知ら
れている方法に従ってつくることができる。アルカリ成
分を用いて出発し、そして使用するとき緩衝剤、第四ア
ンモニウム界面活性剤および、使用するときポリヒドロ
キシ化合物。

を混合することが好ましい６ 上に加えて、この現像剤は１選択性、才１．ＣＪ）ちレ
ジストの露光区域と未露光区域と火区別しかつ未露光区
域を有意に攻撃しないで露光区域ケ溶解する能力、乞有
意に損失しないで、より少ない程度に露光されたフォト
レジストを現像するであろう。したがって、ある強度の
活性線源が与えられたとき、潜像をイイする得られたフ
ォトレジストを７１・発明の現ｒ象剤Ｃ′ｒ−より塩１
象吋ろと式、レジストで被電された支１４体はより短か
い時間で十分な活性、１４ｉ）　ｙ、二画作法で露ン′
自することができる。結局、ことに画＋−を方法のｐ４
丸か製作法１Ｆニオεける制限工程であろ場Ｊ、−１生
産・二（１度は不発明火採用することによりイーｉＡに
増加臂ることかできろ。

本発明の新Ｊ、Ｏｌな現像組成′吻によりＩＩ＾供され
る他の徂１点は２．現像された画像の改良された改良で
ｋ）イ）。ｉＡ“！去におい（、既知σ）現（尿剤乞低
いハ度で用−・ろことにより＋　１＋ｉｔｉ像の解像ヶ
改良する試みがたさＡじ（き゛た。しかしなから、これ
は現像時間２長くシ、こうして両像σ）へりにおｋｊる
レジストのアンダーカットア化じさぜうろ。その結果、
支持体の保、ｉｉは不鞘確かつ不適切となる。これと対
照的に１本発明の新規な現像組成物は、アンダーカット
５“不１フク１、に生じさせないで、広い濃度範囲にわ
たつ′℃改良された解像ケ提供する。

本発明による現像組成物は、先行技術の現像剤と同じ方
法および技術に従って、フォトレジストの現像に使用さ
れる。フォトレジスト火普通光源に普通の条件下に露出
し１次いで露→′ｒ：さ才１．たフォトレジスト層を本
発明の硯像組成Ｉ吻ど、Ｙそ漬、噴霧またはパドル技術
により、適当な時間接触させる。

有意な利点は１本発明の現像剤を用いて現像される画像
な形成するとき、提供されろ。レジスト被覆支持体は１
通常要求されるより少１！い量の活性線に露出すること
ができン）。すなわち、本発明の現像剤は１通常要求さ
れるよりも少ない昂の活性線へレジスト’ａｊ露出した
とλ１画像ケ現像してすぐれた結果を与えるが、換言す
れば、現像時間を短かくして普通の露光条件７用いろこ
とかできる。

本発明の現像剤の他の有意の利点は、より高い濃度火許
容する能力である。すなわち、より高い濃度で使用する
ときでさせ、本発明の現像組成物は、未露光部分７はと
んどキたばまったく攻撃しないで、フォトレジストの露
光部分な選択的に溶解する。これと対照的に、より高い
濃度において既知の現像剤は１選４Ｒ性を有意に損失し
、こうして、レジスト画像の解像を低下させる。この理
由で、既知の現像剤はより低い濃度でより長い現像時間
にわたって使用しな（てはならない、しかしながら、前
述のように、このような長い現像時間は現像されたレジ
スト画像のアンダーカッＩ％７生じさせ、こうしてフォ
トレジスト画像をゆがめさせ、その結果引き続く処理工
程において支持体の品質によ（知られた悪影響を及ぼす
。より高い濃度でより大きい選択性をもって作用するこ
とにより、本発明の現像剤は、レジスト画像なアンダー
カットせずに解像を良好にすると同時に、現像時間ケ短
縮する。

本発明の新規な現像剤の最も有意な利点は、現像条件が
浴の寿命にわたって事実上一定であるということである
。現像速度、および処理条件、最も顕著には露光時間お
よび現像時間は、事実上一定にとどまるであろう。これ
と対照的に、既知の現像剤の効能および速度は＋　ｆ、
ＩＩ、保温の初期の使用の間に変化する。こうして、−
例として印刷回路板の製造について見ると、ＩＱ・初σ
）処理された回路板について手探り法により露光時間を
調整することは、現在の方法に従うと、典型的である。

なぜなら、必要な現像時間は一定ではなく、このような
初期の使用の間にむしろ減少し１回路板は、１八′ろ度
に現像されることがしばしばｋ）す、そして全体の過程
を絶えず監視しな（てば１．仁らない。その結果印刷回
路板は有意に損失され、追加のコストはかなり増大する
。

次の実施例により１本発明をさらに説、明する・実施例
１ 本発明の最も好ましい実施態様に従う現像組成物７１次
の成分火記載する順序で混合することによってつくった
。

グリセロール　　　　　　　５１１ｇ ＮａＯＨ４００ｇ ホウ酸　　　　　　　　　　　２２７ＩＥＴＨＯＱＵＡ
Ｄ　Ｃ／１２　　　　　　０．８．９ＥＴＨＯＱｔＪＡ
Ｄ１８７”；’！５　　　　　　　１．［］　］９　　
　　　　　　　　　　　　　　９１とする問規定度［］
、５Ｎの□秀明無色の溶液が、得られた。

本発明の現像組成物の速１ｙど選択性欠、帷知の現像剤
のそれらと比較した。ケイ素のウェーファー、各直径６
インチ（７，６２ｃｍ、’）　ＹＡＺ　　１４７０フオ
トレジスト（Ｓ１］１ｐｌｅｙＣＯｍｐａＴ’ｌＹ＊　
ＩｎＣ−ｇＮｅｗｔ、Ｏｎ　、　Ｍ＊５５ａＣ＋〕υ５
Ｏｔｔｓ）で１．４μの１ｔｉｌさニ被覆した。被覆さ
れたウェーファーを、活性線７１仝からの６０ミリジュ
ール／ｒπＩの工オルギ・−心て＋　ｉｒ’Ｊ　度目盛
りの段階フィルター火桶して露＞Ｙ：　した。各々の６
枚のウェーファーうで４つの現像溶液の１／中で２０秒
間浸漬現像し、脱−ｆ　７１ン水中で６０秒間浸沼洗浄
Ｌ−次いでＮ２ｙ）吹き伺けて乾燥した。ｊＷ初のろつ
σ）溶液は、［１，１２Ｎに希釈しまた実施例１に従っ
て調製した現１象溶液の別々のバッチであったー第４の
浴は１部の現像剤２３５部の脱イオン水と渭１合″ｆろ
ことによって調製Ｖ７たｌ／］ｃｒｏｎｏ＊ｊ　ｔＤ［
）ＶＱ　１．ｏｎ＜）ｒ　ろ５１　Ｓ　　（Ｓｈｊ　ｎ
１ｅｙ　ＣｏｒｎＤａｎｙ　、　Ｎｅｗｔ、ｒｌＢ　。

トＡΔ）（０，０８９Ｎ）であり、指示に従って使用し
た。

すべての溶液しま２２，５℃において使用した、現像後
、レジスト層ケ再び厚さについて測定して撰４Ｒ性、す
なわち、未露光区域の損失量を決定し１次いで視的に検
査して、完全な現像に要する透過率（％）を決定した。

結果欠、下表に記ｉｔ＋Ｊする。

表　Ｉ Ｎ’；Ａ　像剤の６ツのバッチについての結果は、実験
誤差の範囲内で一致している。試験結果が示すようＬで
、金属イオンの現像剤は一対照として使用したトノｉ’
ｉｒ：ｒｎｐｎ、ｑｉｔ　３５１　Ｓ　現像剤よりも、
はぼ３５．７％だけ速い、すｌ【わち、３５７％だけ露
光エネルギーケ少なくすることができり。

その上、選択性に関すると１本発明の現像剤の各パッチ
はほぼ１８〜２０％の透過率より低いエネルギー火受容
したフォトレジストについて牢実上の効果火もだブエい
ことが、つ玉−ファーの顕微鏡検査で明らかにされた。

こうして、少なくとも１８％の透過率を受容しかつ完全
に現像されないかぎり、フォトレジストはこの現像剤に
より攻死されなかった。これと対照的に、３５０％の透
過率より少ないエネルギー火受容した、Ｍｉｃｒｏｐｏ
ｓｉｔ３５１Ｓ　″′ｃ現像されたフォトレジストは、
完全に現像を必要とし、５％までの小さい広い範囲にわ
たって、この現像剤により有意な程度に攻撃された。

ケイｊｉ：ｑ−ｔトリウｌ、・・・・・・・・・・・・
・・・−・ｉ　ｎ、ｏ　ｏ　ｇＥＴ＋１０ＱＵＡＤ　Ｃ
／１２・−・・・・・・・・・・・・・・・・　００４
Ｉ水醇化カリウム　・・・・・・・・・・・・・・・・
１５．００．９水　・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・−・・・・・・・・・・・・１１とする
腓透明無色の溶液が得られ、そしてこの溶液の却。

示度はほぼ０２８〜０６２Ｎであった。この現像剤は、
使用のため希釈し、実施例１の規１′ｚ！剤と口じ方法
で使用できる。

特許出願人　シラプレ〒・カンパニー・インコー木〜−
テソＦ。

（外４名）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １１種またはそれ以上の金属イオンのアルカリ化合物と
   、１種またはそれ以上の式 式中 Ｒは６〜２０個の炭素原子と０〜３個の酸素原子を有す
   る。飽和または不飽和の直鎖または分枝鎖の炭化水素鎖
   からなり、ただし各酸素原子は少なくとも１個の炭素原
   子により互いに分離されており、かつ必要に応じて。 前記録は１また番′よそれ以−ヒのアルコキシ基で置換
   されており、ここで各アルコキシ基は１〜５個の１．（
   素原子な有する； Ｒ２およびＲ３は同一であるソフ鳴るいは異なり、各々
   は１〜３個の炭素原子のアルギルまたは（ＲＯ）Ｈから
   なり、ここでＲは１〜Ｉ ６個の炭素原子の゛アルキレンでありそして１１は１〜
   ２０である； あるいは Ｒ２およびＲ３は−緒に２〜８個の炭素原子とＯ，Ｎお
   よびＳかも選ばれた０〜２個の異種原子とを有する環式
   脂肪族炭化水素からなり、ただし各異種原子は互いから
   かつ第四窒素原子から少なくとも１個の炭素原子により
   分離されてぃろ：あるいは Ｒ２およびＲ３は一緒に２〜８個の１３ソ素原子と０〜
   ２個の窒素の異種原子とを有する環式芳香原炭イＬ水素
   からなり、ただし各窒素原子は互いからかつ第四窒素原
   子から少な（とも１個の炭素原子により分離されている
   ；Ｒは１〜１０個の炭素原子を有する飽和または不飽和
   の、直鎖または分枝鎖の炭化水素。 上Ｖｃ定ｔＡした（ＲＯ）ｎＨ；　　フェナルキル、こ
   こでアルキル部分はＯ−６個の炭素原子ケ有する；また
   は Ｒ３ （ここでｍは１〜４の整数であり、ＲおよびＲは土に定
   義したとおりであり、そしてＲ６は１〜１０個の炭素原
   子を有する飽和または不飽和の直鎖または分枝鎖の炭化
   水素。 または上に定義した（ＲＯ）Ｈ−−１：たはツェナルキ
   シ、ここでアルキルは０〜６個の炭素原子を有する、で
   ある） からなる；そして Ｘはハロ、ヒドロキシ、またはシリケート。 または第四アンモニウム化合物の対応するアミノオキシ
   ドからなる； を有する第四界面化合物とがらノｒす、前記アルカリ化
   合物と界面界性剤け５露光されたフォトレジストを有効
   に現像するために十分な量である、ことを特徴とする、
   水性金属イオン含有現像組成物。 ２、アルカリ金属化合物はアルカリ水酸化物。 アルカリ金属またはアルカリ土類金属のホウ酸塩、リン
   酸塩またはケイ酸塩である、ノ１ゾ「請求の範囲第１項
   記載の組成物。 ６、露光されたンＦジ作用のジアゾ型フォトレジスト組
   成物を、前記露う′ｒ：されたフォトレジストを現像す
   るため（Ｃ十分な閏の／ｉ”１［飲請求の範囲第１また
   は２項記載の組成物と、接触させろ、ことを４！？徴と
   する１Ｍ光されたポジ作用のジアゾ型フォトレジスト組
   成物夕露光する方法。 ４．１種またはそれ１反上の金属イオンのアルカリ化合
   物と１（ルまたはそ才１以上の式式中Ｒはｔよぼ次のト
   １１率の８〜１８１ｊ１１の炭素原子のアルギルである
   ： Ｘはハロ、オキシド、水酸化物またはシリケートであり
   、そしてｍす６」二びｐの各々は１〜２０の整数である
   、 の界面活性剤とからなり、前記アルカリ化合物および界
   面活性剤は露光されたフォトレジストを効果的に現イ９
   ：するために十分な量で存在する、ことを特徴とする。 水性現像組成物。 ５　Ｘはクロライド９であり、そしてｍおよびＤは１で
   あろ、Ｉ！′１１許請求の範囲第４項記載の組成物。 ６　腹数の界ブ、ｃろ陽イオンが存在し、陽イオンは主
   とし、てＲ１がＣ１２−Ｃ１４であるものである、特許
   請求の範囲第５項記載の組成物。 ７　露光されたポ：）に作用するジアゾ型フォトレジス
   ト組成物を、特許請求の範囲第４．５または６の組成物
   と、前記露光された部分を現像するために十分な量で、
   接触させる、ことを／１に徴とする露光されたポジに作
   用するジアゾ型フォトレジスト組成物の現像法。 ８１種またはそれ以上の金属イオンのアルカリ化合物と
   、１種またはそれ以上の式 式中Ｒ１は８〜１８個の炭素原子のアルキルであり、そ
   してＸはハロ、オキシド、水酸化物またはシリケートで
   あり、ｍおよびｐは１〜２０の整数である。 の界面活性剤とからなり、前記アルカリ化合物と界面活
   性剤は露光されたフォトレジストを効果的に現像するた
   めに十分な量で存在する、ことを特徴とする。水性現像
   組成物。 ９　ｘは塩素イオンでありそしてｍおよびｐは１である
   。特３′Ｆ請求の範囲第８項記載の組成物。 １０．複１９の異フ、（る陽イオンが存在し、陽イオン
   は主としてＲがＣ１２−Ｃ１４であるものである、１１
   ■′［請求の範囲第９項記載の組成物。 １１、　　露ゲ自されたポジに作用するジアゾ型フォト
   レジスト組成物を、特許請求の範囲第８，９まブこは１
   ０項記載のと、前記露光されたフォトレジストを現像す
   るために十分な月で、接触させろ、ことを！侍徴とする
   一露光されたポジに作用するジアゾ型フォトレジスト組
   成物の現像法。 １２、塩化メチルビス（２−ヒドロキシエチル）ココア
   ンモニウムとアルカリとからなる水性現像組成物。 １６、アルカリはＮａ０ＩＴである。　ｆ１踵′Ｆ請求
   の範囲第１２項記載の組成物。 １４、組、酸物のｐＨは約１２．０〜１６．２である。 １ｉ４ｉ許請求の範囲第１２項記載の組成物。 １５、露光されたポジに作用するジアゾ型フオトレジス
   １ｔ−１成物を、特許請求の範囲第１２゜１ろまたは１
   ４項記載の組成物と接触させることからなる。露光され
   た；１？ジに作用するジアゾ型フォトレジストｉ１１成
   物の塑、伝法。