JPH03259157A - 静電荷像現像用二成分系現像剤 - Google Patents
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Landscapes
- Developing Agents For Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、キャリアと、トナーとから構成される静電荷
像現像用二成分系現像剤に関する。3[従来の技術〕 t+写真法等に用いられる現像剤とし2ては、トナーと
キャリアとからなる二、成分系現像剤が知られている。
像現像用二成分系現像剤に関する。3[従来の技術〕 t+写真法等に用いられる現像剤とし2ては、トナーと
キャリアとからなる二、成分系現像剤が知られている。
キャリアとしては、耐久性等の向上を図る観点から、磁
性体粒子の表面に樹脂コーティング層を設けてなる=J
−ティングキャリ″γが有利に用いられている。
性体粒子の表面に樹脂コーティング層を設けてなる=J
−ティングキャリ″γが有利に用いられている。
樹脂コーティング層を構成する樹脂としては、従来、ト
ナー物質のキャリア表面への付着を防止し、てキャリア
の摩擦帯電性の安定化を図るために、低表面T−不ルギ
ー特性を有する含フッ素系樹脂を用いることが提案され
ている(特開昭58〜208754号公報、同60−1
76048号公報、同60−16617号公報、同59
−240758号公報等参照)、3しかし、含フッ素系
樹脂を用いたコーティングキャリアにおいては、含フッ
素系樹脂が絶縁性の高いものであるためにキヤIfアと
しての電気抵抗が高くなり、その結果トナーに付5され
る摩擦帯電量が過大になって現像性が悪化し、また現像
領域において感光体と現像器との間に印加されるバイア
ス電圧が十分に作用せず、得られる複写画像にカブリが
発生しやすい問題がある。特に、近年においては、レー
ザープリンターのように感光体の帯電電位を従来より低
くして現像プロセスを遂行する装置が普及しつつあるが
、上記コーティングキャリアをこのような現像プロセス
に適用する場合にはカブリの発生が顕著となる。
ナー物質のキャリア表面への付着を防止し、てキャリア
の摩擦帯電性の安定化を図るために、低表面T−不ルギ
ー特性を有する含フッ素系樹脂を用いることが提案され
ている(特開昭58〜208754号公報、同60−1
76048号公報、同60−16617号公報、同59
−240758号公報等参照)、3しかし、含フッ素系
樹脂を用いたコーティングキャリアにおいては、含フッ
素系樹脂が絶縁性の高いものであるためにキヤIfアと
しての電気抵抗が高くなり、その結果トナーに付5され
る摩擦帯電量が過大になって現像性が悪化し、また現像
領域において感光体と現像器との間に印加されるバイア
ス電圧が十分に作用せず、得られる複写画像にカブリが
発生しやすい問題がある。特に、近年においては、レー
ザープリンターのように感光体の帯電電位を従来より低
くして現像プロセスを遂行する装置が普及しつつあるが
、上記コーティングキャリアをこのような現像プロセス
に適用する場合にはカブリの発生が顕著となる。
すなわち、感光体の帯電電位が低い場合には、感光体の
帯電電位Vと画像濃度りとの相関関係を示すいわゆるV
−D曲線においてその傾きの大きな現像性の高い現像剤
が必要とされ、これを達成するためには、コーティング
キャリアの電気抵抗を小さくすることが必要となる。
帯電電位Vと画像濃度りとの相関関係を示すいわゆるV
−D曲線においてその傾きの大きな現像性の高い現像剤
が必要とされ、これを達成するためには、コーティング
キャリアの電気抵抗を小さくすることが必要となる。
しかるに、コーティングキャリアの電気抵抗を小さくす
る技術としては、従来、樹脂コーティング層に導電性微
粒子を含有させる技術が提案されている(特開昭58−
200245号公報、同57−40267号公報、同5
8−108549号公報、同55−163544号公報
、同59−223452号公報、同54−7343号公
報、同61−219055号公報、同63−28117
3号公報等参照)。
る技術としては、従来、樹脂コーティング層に導電性微
粒子を含有させる技術が提案されている(特開昭58−
200245号公報、同57−40267号公報、同5
8−108549号公報、同55−163544号公報
、同59−223452号公報、同54−7343号公
報、同61−219055号公報、同63−28117
3号公報等参照)。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかし、導電性微粒子が含有された樹脂コーティング層
を有するコーティングキャリアにおいては、樹脂コーテ
ィング層の表面に存在する導電性微粒子が脱離しやすく
、この脱離した導電性微粒子がトナーに付着してトナー
の摩擦帯電性を悪化させる問題がある。また、樹脂コー
ティング層の表面に導電性微粒子が存在するため、コー
ティング樹脂の低表面エネルギー特性が十分に発揮され
ないという問題がある。
を有するコーティングキャリアにおいては、樹脂コーテ
ィング層の表面に存在する導電性微粒子が脱離しやすく
、この脱離した導電性微粒子がトナーに付着してトナー
の摩擦帯電性を悪化させる問題がある。また、樹脂コー
ティング層の表面に導電性微粒子が存在するため、コー
ティング樹脂の低表面エネルギー特性が十分に発揮され
ないという問題がある。
このようにコーティングキャリアの摩擦帯電性が変化し
たり、低表面エネルギー特性が発揮されないと、結果と
してトナーに好適な摩擦帯電電荷を付与することが困難
となり、コーティングキャリアを早期に交換しなければ
ならない不都合が生ずる。
たり、低表面エネルギー特性が発揮されないと、結果と
してトナーに好適な摩擦帯電電荷を付与することが困難
となり、コーティングキャリアを早期に交換しなければ
ならない不都合が生ずる。
また、近年においては、二成分系現像剤を用いた電子写
真複写機において、特に、(1)細線再現性をさらに向
上させること、(2)コピー画像を原稿にしてさらにそ
のコピー画像を形成する世代コピーを形成する場合にお
いて、細線切れを生ぜずに高世代まで鮮明なコピー画像
を形成できること、等の高画質化が強く要求されている
。
真複写機において、特に、(1)細線再現性をさらに向
上させること、(2)コピー画像を原稿にしてさらにそ
のコピー画像を形成する世代コピーを形成する場合にお
いて、細線切れを生ぜずに高世代まで鮮明なコピー画像
を形成できること、等の高画質化が強く要求されている
。
しかるに、二成分系現像剤を用いた従来の磁気ブラシ現
像プロセスにおいては、感光体と現像スリーブとが対向
配置されて形成された現像ニップ部において、現像性を
満足させるために現像スリーブの周速度Vsを感光体の
周速度Vpに対して大きくすることが必要とされ、その
ため感光体上の静電荷像に付着して一旦現像に供された
トナーが、後続の磁気ブラシによりかき乱され、その結
果、ベタ画像に細かな白いスジが発生したり、文字等の
細線が忠実に再現されないという問題がある。
像プロセスにおいては、感光体と現像スリーブとが対向
配置されて形成された現像ニップ部において、現像性を
満足させるために現像スリーブの周速度Vsを感光体の
周速度Vpに対して大きくすることが必要とされ、その
ため感光体上の静電荷像に付着して一旦現像に供された
トナーが、後続の磁気ブラシによりかき乱され、その結
果、ベタ画像に細かな白いスジが発生したり、文字等の
細線が忠実に再現されないという問題がある。
従って、近年の要求に応える高画質化を十分に達成する
ためには、現像ニップ部における現像スリーブの周速度
Vsを感光体の周速度Vpと同程度にしても高い現像性
が発揮される二成分系現像剤が必要となる。
ためには、現像ニップ部における現像スリーブの周速度
Vsを感光体の周速度Vpと同程度にしても高い現像性
が発揮される二成分系現像剤が必要となる。
本発明は以上の如き事情に基づいてなされたものであっ
て、感光体の帯電電位が低電位であり、かつ、現像ニッ
プ部における現像スリーブの周速度Vsが感光体の周速
度Vpと同程度である現像プロセスに適用したときにも
、カブリ、トナー飛散を生ぜずに多数回にわたり安定に
画像を形成することができ、しかもベタ画像に白スジを
発生させず、細線を忠実に再現できる静電荷像現像用二
成分系現像剤を提供することにある。
て、感光体の帯電電位が低電位であり、かつ、現像ニッ
プ部における現像スリーブの周速度Vsが感光体の周速
度Vpと同程度である現像プロセスに適用したときにも
、カブリ、トナー飛散を生ぜずに多数回にわたり安定に
画像を形成することができ、しかもベタ画像に白スジを
発生させず、細線を忠実に再現できる静電荷像現像用二
成分系現像剤を提供することにある。
上言己目的を達成するため、本発明の静電荷像現像用二
成分系現像剤においては、磁性体粒子の表面に、導電性
高分子材料が含有された樹脂からなる内層と低表面エネ
ルギー樹脂からなる外層の2層からなる樹脂コーティン
グ層を設けてなるコーティングキャリアと、着色粒子と
アンモニウム塩変性ポリシロキサンにより処理された無
機微粒子とを含をしてなるトナーとからなる構成を採用
する。
成分系現像剤においては、磁性体粒子の表面に、導電性
高分子材料が含有された樹脂からなる内層と低表面エネ
ルギー樹脂からなる外層の2層からなる樹脂コーティン
グ層を設けてなるコーティングキャリアと、着色粒子と
アンモニウム塩変性ポリシロキサンにより処理された無
機微粒子とを含をしてなるトナーとからなる構成を採用
する。
斯かる構成によれば、コーティングキャリアにおいては
、樹脂コーティング層を内層と外層の2層構成としたう
え、特に内層に導電性高分子材料4含有さ仕、外層の樹
脂として低、表面ユ′z・ルギー樹脂を用いているだ狛
、導電性高分子材料を含イゴする内層jご、J′っこ電
気抵抗が減少117、外層によ−。
、樹脂コーティング層を内層と外層の2層構成としたう
え、特に内層に導電性高分子材料4含有さ仕、外層の樹
脂として低、表面ユ′z・ルギー樹脂を用いているだ狛
、導電性高分子材料を含イゴする内層jご、J′っこ電
気抵抗が減少117、外層によ−。
て導電性高分子材料の露出が防止されると共j、′″そ
の低表面Jネルギー特性が1分に発揮される0、二のだ
y)キヤI717の摩擦帯電、性の安定’Aが格段に向
、li、優れた現像性が発揮さ4する。
の低表面Jネルギー特性が1分に発揮される0、二のだ
y)キヤI717の摩擦帯電、性の安定’Aが格段に向
、li、優れた現像性が発揮さ4する。
そして、トナ・〜においては、着色粒子と共にアンモ−
゛ラム塩変性ボリンで′1−1−カンにより処理された
無機微粒子を用いているため、当該無機微粒子により優
れた#1湿性、正帯電性が発揮されるうえ、アンモ−ラ
ム塩という独特の構造により当該無機微粒子のコーディ
ングキャリ°γ表聞ぺの付着が抑制される3、このた釣
トナーの摩擦帯電性の安定性が格段に向りすると共にコ
ーティングキャリ“rの摩擦帯電性の安定性も向上する
。
゛ラム塩変性ボリンで′1−1−カンにより処理された
無機微粒子を用いているため、当該無機微粒子により優
れた#1湿性、正帯電性が発揮されるうえ、アンモ−ラ
ム塩という独特の構造により当該無機微粒子のコーディ
ングキャリ°γ表聞ぺの付着が抑制される3、このた釣
トナーの摩擦帯電性の安定性が格段に向りすると共にコ
ーティングキャリ“rの摩擦帯電性の安定性も向上する
。
従って、本発明の二成分系現像剤に、!f′Lば、感光
体の帯it電位が低W(rであり、か−)、現像ニップ
部にお[ブる現像スリーブの周速度Vsが感光体の周速
度Vρと同程度である現像プロセスに適用したときにも
、コーティングキャリてとトナーとの相乗作用によ/こ
、カブリ、トナー飛散を生ぜずに多数回にわたり安定に
画像を形成、むることができ、し、かもベタ画像に白ス
ジを発生さゼず、細線を忠実に再現することができ、ま
た世代」ビーを形成する場合に高世代まで細線切れのな
い高画質の画像を形成することができる。
体の帯it電位が低W(rであり、か−)、現像ニップ
部にお[ブる現像スリーブの周速度Vsが感光体の周速
度Vρと同程度である現像プロセスに適用したときにも
、コーティングキャリてとトナーとの相乗作用によ/こ
、カブリ、トナー飛散を生ぜずに多数回にわたり安定に
画像を形成、むることができ、し、かもベタ画像に白ス
ジを発生さゼず、細線を忠実に再現することができ、ま
た世代」ビーを形成する場合に高世代まで細線切れのな
い高画質の画像を形成することができる。
〔構成の具体的説明こ
以下、本発明の構成を具体的に説明する。
フープイングキャリアの芯材である磁性体粒子としては
、従来用いられているものを用いることができ、特に、
フェライト、マグネタイト等の粒頂を好゛ましく用いる
ことができる3、樹脂コーティング層の内層を構成する
樹脂(以下・:内層樹脂」という。)としては、膜強度
を高y)る観点から磁性体粒子との接着性の良好なもの
が好まし7く、かつ導電性高分子材料の分散性を高める
観点から当該導電性高分子材料との相溶性の高いものが
好ましい。具体的には、スチレン−ブタンエンI脂1の
スチレン系樹脂、スチエンーアグリル系樹脂、アクリル
系樹脂等を好ましく用いることができる、 この内層に含有される導電性高分子材料としては、異方
性の高い高分子材料にドーピングを行い、導電化[7た
ものを用いることができ、例えば、延伸し、たポリアセ
チレンにフッ化ヒ素(、へ5FS) をドーピングした
重合体、延伸したポリアセチレンに塩化鉄(Fe(Ja
)4ドーピングし、た重合体、ポリピロールに過塩素酸
イオン(劇○、)をドーピングした重合体、ポリカルバ
ゾールにヨウ素(I2)をドーピングした重合体、ポリ
ピリジンにテトランrノキノジメタン(TCNQ)をド
ーピングした重合体、ポリキノリンにナトリウム(Na
)をドーピングした重合体、ポリフランに過塩素酸イオ
ン(C,&04−)をドーピングし、た1合体、ポリバ
ラフェニレンにカリウl、(K>をドーピングした重合
体、ポリ=−2,6−1フチレンにフッ化アンイモン(
SbFs)をドーピングした重合体等を挙げることがで
きる6、 導電性高分子材料の含有割合は、内層樹脂100重量部
に対して2〜50重量部が好ましく、特に5〜30重量
部が好ましい。斯かる範囲にあれば導電性高分子材料に
よる電気抵抗の減少効果が十分に発揮される。
、従来用いられているものを用いることができ、特に、
フェライト、マグネタイト等の粒頂を好゛ましく用いる
ことができる3、樹脂コーティング層の内層を構成する
樹脂(以下・:内層樹脂」という。)としては、膜強度
を高y)る観点から磁性体粒子との接着性の良好なもの
が好まし7く、かつ導電性高分子材料の分散性を高める
観点から当該導電性高分子材料との相溶性の高いものが
好ましい。具体的には、スチレン−ブタンエンI脂1の
スチレン系樹脂、スチエンーアグリル系樹脂、アクリル
系樹脂等を好ましく用いることができる、 この内層に含有される導電性高分子材料としては、異方
性の高い高分子材料にドーピングを行い、導電化[7た
ものを用いることができ、例えば、延伸し、たポリアセ
チレンにフッ化ヒ素(、へ5FS) をドーピングした
重合体、延伸したポリアセチレンに塩化鉄(Fe(Ja
)4ドーピングし、た重合体、ポリピロールに過塩素酸
イオン(劇○、)をドーピングした重合体、ポリカルバ
ゾールにヨウ素(I2)をドーピングした重合体、ポリ
ピリジンにテトランrノキノジメタン(TCNQ)をド
ーピングした重合体、ポリキノリンにナトリウム(Na
)をドーピングした重合体、ポリフランに過塩素酸イオ
ン(C,&04−)をドーピングし、た1合体、ポリバ
ラフェニレンにカリウl、(K>をドーピングした重合
体、ポリ=−2,6−1フチレンにフッ化アンイモン(
SbFs)をドーピングした重合体等を挙げることがで
きる6、 導電性高分子材料の含有割合は、内層樹脂100重量部
に対して2〜50重量部が好ましく、特に5〜30重量
部が好ましい。斯かる範囲にあれば導電性高分子材料に
よる電気抵抗の減少効果が十分に発揮される。
樹脂コーティング層の外層を構成する樹脂(以下[外層
樹脂、jという。)としでは、トナー物質の付着を有効
に防止する観点から低表面エネルギー樹脂を用いるが、
具体的(ごは、臨界表面エネルギーrcが26以下であ
る樹脂が好ま(1,い。ここで1臨界表面エネルギーT
cjとは、その樹脂の固体面上で液化炭化水素その他の
有機液体化合物の同族列が示す接触角θを求約、それぞ
れの液体の表面張力Tとcosθとをグラフにした時、
そのグラフLでθ−〇に相当するTの値をいう。
樹脂、jという。)としでは、トナー物質の付着を有効
に防止する観点から低表面エネルギー樹脂を用いるが、
具体的(ごは、臨界表面エネルギーrcが26以下であ
る樹脂が好ま(1,い。ここで1臨界表面エネルギーT
cjとは、その樹脂の固体面上で液化炭化水素その他の
有機液体化合物の同族列が示す接触角θを求約、それぞ
れの液体の表面張力Tとcosθとをグラフにした時、
そのグラフLでθ−〇に相当するTの値をいう。
斯かる低表面エネルギー樹脂の具体例としては、ポリ四
フッ化エチレン、四フッ化エチエン/六フッ化エチレン
共重合体、ポリ三フフ化塩化エチレン、ポリフッ化ビニ
リデン、四フッ化エチレン/パーフルオロアルキルビニ
ルエーテル共重合体、フッ化ビニリデン−テトラフルオ
ロエチレン共重合体、側鎖にフッ素原子を置換してなる
基を有する含フッ素系樹脂、ジメチルンリコーン樹脂、
メチルフェニルシリコーン樹脂等のンリコーン樹脂等を
挙げることができる。前記含フッ素系樹脂の中でも特に
アクリル酸−1,1,3−)ジヒドロパーフルオロ−n
−プロピルとアクリル酸−1゜1−ジヒドロパーフルオ
ロ−n−プロピルとの共重合体、アクリル酸−1,1−
ジヒドロパーフルオロエチル重合体等が好ましい。
フッ化エチレン、四フッ化エチエン/六フッ化エチレン
共重合体、ポリ三フフ化塩化エチレン、ポリフッ化ビニ
リデン、四フッ化エチレン/パーフルオロアルキルビニ
ルエーテル共重合体、フッ化ビニリデン−テトラフルオ
ロエチレン共重合体、側鎖にフッ素原子を置換してなる
基を有する含フッ素系樹脂、ジメチルンリコーン樹脂、
メチルフェニルシリコーン樹脂等のンリコーン樹脂等を
挙げることができる。前記含フッ素系樹脂の中でも特に
アクリル酸−1,1,3−)ジヒドロパーフルオロ−n
−プロピルとアクリル酸−1゜1−ジヒドロパーフルオ
ロ−n−プロピルとの共重合体、アクリル酸−1,1−
ジヒドロパーフルオロエチル重合体等が好ましい。
樹脂コーティング層の内層の厚さは例えば0.01〜2
.9μmであり、外層の厚さは例えば0.1〜26μm
である。そして、樹脂コーティング層の全体の厚さは例
えば0.5〜3.0 μmである。
.9μmであり、外層の厚さは例えば0.1〜26μm
である。そして、樹脂コーティング層の全体の厚さは例
えば0.5〜3.0 μmである。
樹脂コーティング層の形成手段としては、湿式コーティ
ング法および乾式コーティング法のいずれをも採用する
ことができる。
ング法および乾式コーティング法のいずれをも採用する
ことができる。
トナーを構成する着色粒子は、バインダー樹脂中に着色
剤、ワックス等の内部添加剤が分散含有されて構成され
、その平均粒径は、例えば4〜15μmである。
剤、ワックス等の内部添加剤が分散含有されて構成され
、その平均粒径は、例えば4〜15μmである。
着色粒子のバインダー樹脂としては、従来公知の樹脂を
用いることができるが、特に、重合体成分中に存在する
カルボキシ基と多価金属化合物とを反応させて得られる
スチレン−アクリル共重合体樹脂(以下「特定の5t−
Ac共重合体樹脂」という。)を用いることが好ましい
。ここで、重合体成分中に存在するカルボキシ基は、多
価金属化合物と反応して架橋結合を形成する役割を果た
すものである。
用いることができるが、特に、重合体成分中に存在する
カルボキシ基と多価金属化合物とを反応させて得られる
スチレン−アクリル共重合体樹脂(以下「特定の5t−
Ac共重合体樹脂」という。)を用いることが好ましい
。ここで、重合体成分中に存在するカルボキシ基は、多
価金属化合物と反応して架橋結合を形成する役割を果た
すものである。
前記特定の5t−Ac共重合体樹脂は、例えばカルボキ
シ基を存するスチレン−アクリル系共重合体と多価金属
化合物を反応させて得られる。斯かるスチレン−アクリ
ル系共重合体は、スチレン系単量体の少なくとも1種と
、アクリル系単量体の少なくとも1種とを共重合させて
得ることができるが、少なくともカルボキン基を有する
単量体を用いることが必要である。単量体としては、特
に、アクリル酸もしくはメタクリル酸またはこれらの誘
導体が好ましい。
シ基を存するスチレン−アクリル系共重合体と多価金属
化合物を反応させて得られる。斯かるスチレン−アクリ
ル系共重合体は、スチレン系単量体の少なくとも1種と
、アクリル系単量体の少なくとも1種とを共重合させて
得ることができるが、少なくともカルボキン基を有する
単量体を用いることが必要である。単量体としては、特
に、アクリル酸もしくはメタクリル酸またはこれらの誘
導体が好ましい。
また、カルボキン基を有する単量体としては、特に、水
酸基を有するアクリル酸エステルもしくはメタクリル酸
エステルまたはこれらの誘導体と、ジカルボン酸化合物
とのエステル化反応によって得られる構造の半エステル
化合物を好ましく用いることができる。
酸基を有するアクリル酸エステルもしくはメタクリル酸
エステルまたはこれらの誘導体と、ジカルボン酸化合物
とのエステル化反応によって得られる構造の半エステル
化合物を好ましく用いることができる。
このような半エステル化合物によれば、主鎖構成に影響
の少ない位置にカルボキシ基が導入されているので、化
学構造の立体障害が小さくなり、その結果カルボキシ基
と後述する多価金属化合物との反応が効率よく進行して
イオン結合が形成され、良好な架橋構造の樹脂を得るこ
とができる。
の少ない位置にカルボキシ基が導入されているので、化
学構造の立体障害が小さくなり、その結果カルボキシ基
と後述する多価金属化合物との反応が効率よく進行して
イオン結合が形成され、良好な架橋構造の樹脂を得るこ
とができる。
多価金属化合物を構成する多価金属元素としては、Cu
、Ag、Be、Mg、Ca、Sr、BaZn、Cd、A
I 、T+ 、Ge、Sn、V、CrMo、Mn、Fe
、Ni 、Co、Zr、Se等を用いることができる。
、Ag、Be、Mg、Ca、Sr、BaZn、Cd、A
I 、T+ 、Ge、Sn、V、CrMo、Mn、Fe
、Ni 、Co、Zr、Se等を用いることができる。
これらの金属を含む多価金属化合物としては、例えば、
上記金属元素の、フッ化物、塩化物、塩素酸塩、臭化物
、ヨウ化物、酸化物、水酸化物、硫化物、亜硫酸塩、硫
酸塩等を用いることができる。これらのなかでも、特に
上記金属元素の酢酸塩、上記金属元素の酸化物が好まし
い。
上記金属元素の、フッ化物、塩化物、塩素酸塩、臭化物
、ヨウ化物、酸化物、水酸化物、硫化物、亜硫酸塩、硫
酸塩等を用いることができる。これらのなかでも、特に
上記金属元素の酢酸塩、上記金属元素の酸化物が好まし
い。
着色粒子と共にトナーを構成する無機微粒子は、その表
面が特にアンモニウム塩変性ポリシロキサンにより処理
されたものである。
面が特にアンモニウム塩変性ポリシロキサンにより処理
されたものである。
アンモニウム塩変件ポリンロキサンとしては、正帯電性
が高く、クリーニング不良が発生しにくいことから、ア
ンモニウム塩基を有するジメチルポリシロキサンを好ま
しく用いることができる。
が高く、クリーニング不良が発生しにくいことから、ア
ンモニウム塩基を有するジメチルポリシロキサンを好ま
しく用いることができる。
アンモニウム塩基を有するジメチルポリンロキサンは、
一般に、下記構造式Aて示される構成単位を含むジメチ
ルポリンロキサンであり、具体的には下記構造式Bで示
されるものを挙げることができる。
一般に、下記構造式Aて示される構成単位を含むジメチ
ルポリンロキサンであり、具体的には下記構造式Bで示
されるものを挙げることができる。
構造式A
5i−0−
2
R3l、J@ R5・Xe
4
上記構造式1へり、 JDいで、R1は、水素原子、ヒ
構X2i1式■3 1・′1−フキソ基、T’ )t−+月基、r″リール
基、アル:) 4−ン基、J、たは )マ3 k 2− N” −R4 R″″ ・Xo を表す。
構X2i1式■3 1・′1−フキソ基、T’ )t−+月基、r″リール
基、アル:) 4−ン基、J、たは )マ3 k 2− N” −R4 R″″ ・Xo を表す。
R2は、結合基であり、例えばアルキレン基、rリーレ
/゛基、アラルキレン基、−NH−−−−〜=NHC○
〜、あるいはこれらの基を組合せた基等を表゛4〜3゜ R’ 、R’ 、R′は、それぞれ水素原子、アルキル
基、アリール基を表す。
/゛基、アラルキレン基、−NH−−−−〜=NHC○
〜、あるいはこれらの基を組合せた基等を表゛4〜3゜ R’ 、R’ 、R′は、それぞれ水素原子、アルキル
基、アリール基を表す。
Xはハロゲン原子を表す5゜
なお、R1,、R2、lマ3 、R4、RS は、置換
基を有し、でいても誹い。
基を有し、でいても誹い。
」−5記構造弐Bにi)シ)て、R’、R″は、それぞ
れ水素原フ゛・、ヒドロ4゛ン基、゛アルキル基、アリ
ル基、rルーコキシ基を表112、置換基を有し2てし
ハでもよい R1172,1で3 、R1、R5および
Xは、前記構造式Aと同様である。m、T1は、(れぞ
れ1以−1−の整数を表す。
れ水素原フ゛・、ヒドロ4゛ン基、゛アルキル基、アリ
ル基、rルーコキシ基を表112、置換基を有し2てし
ハでもよい R1172,1で3 、R1、R5および
Xは、前記構造式Aと同様である。m、T1は、(れぞ
れ1以−1−の整数を表す。
゛まだ、
R″
l々2 N@ 、、、、、R3・χ1″4
としでは、次1ご掲げる構造式で示されるものを挙げろ
ことができるが、これら(5゛限定さtするものてはな
し)。
ことができるが、これら(5゛限定さtするものてはな
し)。
(1)
C)ia
(CHE)ZNΦ−−CHl・cp(うCH。
(2)
CH。
(CH2)3−N(!1−CH5−cpeCH3
(3)
Cl(。
−(CH,)、−NΦ−(CI−1,)、1−−〜−C
I(、・cpeCH。
I(、・cpeCH。
(4)
CH。
−(CH,)、−Nの−−(Cl”12)、、−−CH
,・cpeCH。
,・cpeCH。
(6)
CH。
(CI4.)、−N”−C1(3−(1”’CH。
(7)
■(
(CHz)i Nの一−H−cxe
I(
(8)
(CH,)、−□Nの−1(・CIO
(’: H。
(9)
CH。
(CHz)z NΦ−−H・C1○
CH。
(10) c+
(1−(CHz)i−N Iトー(CH,、)Z N
Φ−CH3cffθCH。
(1−(CHz)i−N Iトー(CH,、)Z N
Φ−CH3cffθCH。
(11)
1
(CH2):l NHC0−−Nの−−H−しNO(
12) (CH2)よ−N■〜−H−Cβ0 ■ CH2CHF−COOCzHs (13) Cz Hs (CR2)i−N’!’ −m−H・oeCl(。
12) (CH2)よ−N■〜−H−Cβ0 ■ CH2CHF−COOCzHs (13) Cz Hs (CR2)i−N’!’ −m−H・oeCl(。
(15)
H
(18) C、H、−OH(CH2
)3 N’ H−C1e C,H,−OH アンモニウム塩基を官能基として有するポリシロキサン
を得る方法としては、 (1) アンモニウム塩基を官能基として有するオルガ
ノハロゲン化シランと、特にアンモニウム塩基を有して
いないオルガノハロゲン化フランとを用いて共重合させ
る方法、 (2)オルガノハロゲン化フランを重合して得られたポ
リシロキサンを、アンモニウム塩基を官能基として有す
る有機基により変性する方法、等を適用することができ
る。
)3 N’ H−C1e C,H,−OH アンモニウム塩基を官能基として有するポリシロキサン
を得る方法としては、 (1) アンモニウム塩基を官能基として有するオルガ
ノハロゲン化シランと、特にアンモニウム塩基を有して
いないオルガノハロゲン化フランとを用いて共重合させ
る方法、 (2)オルガノハロゲン化フランを重合して得られたポ
リシロキサンを、アンモニウム塩基を官能基として有す
る有機基により変性する方法、等を適用することができ
る。
また、オルカリハロゲン化7ランの代わりにオルガノア
ルコキンシランを用いてもよい。
ルコキンシランを用いてもよい。
また、一部の化合物については市販品として人手するこ
ともできる。
ともできる。
無機微粒子の芯材としては、特にシリカ微粒子を好まし
く用いることができる。シリカ微粒子は5i−0−3i
結合を有する微粒子であり、乾式法および湿式法で製造
されたもののいずれであってもよいが、乾式法で製造さ
れたものが好ましく、特に、ケイ素ハロゲン化合物の蒸
気相酸化により生成されたシリカ微粒子が好ましい。ま
た、シリカ微粒子としては、二酸化ケイ素(シリカ)の
ほか、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸
カルシウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸亜鉛、ケイ酸マグ
ネシウム等のケイ酸塩よりなる微粒子てあってもよいが
、5102を85重量%以上含むものが好ましい。
く用いることができる。シリカ微粒子は5i−0−3i
結合を有する微粒子であり、乾式法および湿式法で製造
されたもののいずれであってもよいが、乾式法で製造さ
れたものが好ましく、特に、ケイ素ハロゲン化合物の蒸
気相酸化により生成されたシリカ微粒子が好ましい。ま
た、シリカ微粒子としては、二酸化ケイ素(シリカ)の
ほか、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸
カルシウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸亜鉛、ケイ酸マグ
ネシウム等のケイ酸塩よりなる微粒子てあってもよいが
、5102を85重量%以上含むものが好ましい。
無機微粒子の表面をアンモニウム塩変性ポリシロキサン
で処理する方法としては、従来公知の手段を用いること
ができ、具体的には、 (1)アンモニウム塩変性ポリシロキサンを溶剤に溶解
した溶液中に無機微粒子を分散した後、濾別もしくはス
プレードライ法により溶剤を除去し、次いで加熱により
表面の被膜を硬化させる方法、(2)アンモニウム塩変
性ポリシロキサンを溶剤に溶解した溶液を、流動床造粒
装置を用いて無機微粒子にスプレー塗布し、次いで加熱
乾燥させることにより溶剤を除去して表面の被膜を硬化
させる方法、 等を採用することができる。
で処理する方法としては、従来公知の手段を用いること
ができ、具体的には、 (1)アンモニウム塩変性ポリシロキサンを溶剤に溶解
した溶液中に無機微粒子を分散した後、濾別もしくはス
プレードライ法により溶剤を除去し、次いで加熱により
表面の被膜を硬化させる方法、(2)アンモニウム塩変
性ポリシロキサンを溶剤に溶解した溶液を、流動床造粒
装置を用いて無機微粒子にスプレー塗布し、次いで加熱
乾燥させることにより溶剤を除去して表面の被膜を硬化
させる方法、 等を採用することができる。
アンモニウム塩変性ボリア0手サンにより処理された無
機微粒子の1次粒子の平均粒径は、例えば3nm〜2μ
mである。
機微粒子の1次粒子の平均粒径は、例えば3nm〜2μ
mである。
また、アンモニウム塩変性ポリシロキサンにより表面処
理された無機微粒子は、着色粒子の粉末に外部から添加
混合して使用するが、当該無機微粒子の含有割合は、着
色粒子の例えば0.1〜5重量%であり、好ましくは0
.1〜2重量%である。
理された無機微粒子は、着色粒子の粉末に外部から添加
混合して使用するが、当該無機微粒子の含有割合は、着
色粒子の例えば0.1〜5重量%であり、好ましくは0
.1〜2重量%である。
斯かる範囲にあれば、当該無機微粒子による優れた作用
が十分に発揮される。
が十分に発揮される。
本発明の二成分系現像剤によれば、現像性が優れている
ため現像ニップ部における現像スリーブの周速度Vsを
感光体の周速度Vpと同程度にしたときにも高い現像性
が発揮される。ここで、両者の比の値Vs/V11は、
0.7〜2.2の範囲が好ましく、特に0,9〜1.5
の範囲が好ましい。
ため現像ニップ部における現像スリーブの周速度Vsを
感光体の周速度Vpと同程度にしたときにも高い現像性
が発揮される。ここで、両者の比の値Vs/V11は、
0.7〜2.2の範囲が好ましく、特に0,9〜1.5
の範囲が好ましい。
以下、本発明の実施例を比較例と共に説駄するが、本発
明はこれらの態様に限定されるものではない。なお、以
下において「部」は「重量部」を表す。
明はこれらの態様に限定されるものではない。なお、以
下において「部」は「重量部」を表す。
くキャリでの製造〉
(キャリアA(本発明用))
スチI/ン/メチルメタクリレート共重合体15gをメ
チルエチルケトン300 ml!に溶解した溶液(ご、
延伸したポリアセチレンに塩化鉄(ドCα、)をドーピ
ングした重合体(導電性高分子ヰ、、4料9 +均粒径
1μm)3gをホモ−・エンター4用〜1で分散し、内
層用被覆液を調製した。1 この内層用被覆液を用いて、スピラコーターにより球状
のフ□ライト粒子の表面に平均膜厚が1μmの内層を形
成し、−次キャリアを得た。
チルエチルケトン300 ml!に溶解した溶液(ご、
延伸したポリアセチレンに塩化鉄(ドCα、)をドーピ
ングした重合体(導電性高分子ヰ、、4料9 +均粒径
1μm)3gをホモ−・エンター4用〜1で分散し、内
層用被覆液を調製した。1 この内層用被覆液を用いて、スピラコーターにより球状
のフ□ライト粒子の表面に平均膜厚が1μmの内層を形
成し、−次キャリアを得た。
次いて、γクリル酸−]、、]、、3− トリヒドロパ
ーフルオロ−Tl −ブ[)ビル/′了クリル酸−11
−ジヒドロパーフルオ+1−n−ブrilビル共重合体
(低表面エネルギー樹脂)12gをrセトン500m1
に溶解して、外層用被覆液を調製した。
ーフルオロ−Tl −ブ[)ビル/′了クリル酸−11
−ジヒドロパーフルオ+1−n−ブrilビル共重合体
(低表面エネルギー樹脂)12gをrセトン500m1
に溶解して、外層用被覆液を調製した。
この外層用被覆液を用いで、スビラ」−夕−により前記
−次キャリアの内層の表面にlA層を形成し、もって合
計の平均膜7が約2μITIの樹脂−コーティング層を
4する平均粒径が1.00μr11のml −iイング
キャリrAを得た、 (キャリア13(本発明用)) キャリアAの製造j、コ、おい″こ、外層用被覆液を、
アクリル酸−1,1−ンヒドロバ・〜フルオτコニデル
重合体く低表面エネルギー樹脂)12gをアセトン50
0m1に溶解して調製した外層用被覆液に変更したほか
は同様(−シてコーディングキャ+J 73 を得たつ (キャリア(二(本発明用)) キャリアAの製造において、導電性高分子材料を、ポリ
ピロールに過塩素酸イ、t−:、−(Cj!0−)をド
ーピングした重合体(平均粒径1μm ) :: C釘
したほかは同様にして一コー〜ティングキ+’J7C4
得た。
−次キャリアの内層の表面にlA層を形成し、もって合
計の平均膜7が約2μITIの樹脂−コーティング層を
4する平均粒径が1.00μr11のml −iイング
キャリrAを得た、 (キャリア13(本発明用)) キャリアAの製造j、コ、おい″こ、外層用被覆液を、
アクリル酸−1,1−ンヒドロバ・〜フルオτコニデル
重合体く低表面エネルギー樹脂)12gをアセトン50
0m1に溶解して調製した外層用被覆液に変更したほか
は同様(−シてコーディングキャ+J 73 を得たつ (キャリア(二(本発明用)) キャリアAの製造において、導電性高分子材料を、ポリ
ピロールに過塩素酸イ、t−:、−(Cj!0−)をド
ーピングした重合体(平均粒径1μm ) :: C釘
したほかは同様にして一コー〜ティングキ+’J7C4
得た。
(キャリアa (比較用))
キャリアAの製造において、導電性高分F t4 $4
を食合させないて内層用液y、液を調製[、たほかば、
同様にして比較用の11−ディングキャリー7aを得た
0、 (キャリアb (比較用)) アクリル酸−1,1−ンヒドIJバ・−フル趨Tl −
Tエル重合体12gをアセトン500m1に溶解した溶
液に、延伸しまたポリアセチレンに塩化鉄(FeCi2
:+ )をドー ピングしまた重合体(平均粒径1μm
丁+)3gをホモジェッタ・−を用いて分散し5、被覆
液を調製した。
を食合させないて内層用液y、液を調製[、たほかば、
同様にして比較用の11−ディングキャリー7aを得た
0、 (キャリアb (比較用)) アクリル酸−1,1−ンヒドIJバ・−フル趨Tl −
Tエル重合体12gをアセトン500m1に溶解した溶
液に、延伸しまたポリアセチレンに塩化鉄(FeCi2
:+ )をドー ピングしまた重合体(平均粒径1μm
丁+)3gをホモジェッタ・−を用いて分散し5、被覆
液を調製した。
この被覆液を用いで、スビラ」−ターにJ′0球状の7
sライト粒子の表面に平均膜厚が2μ屑の樹脂コーティ
ング層を形成し2、樹脂二フーディ〉・グ層が1層から
なる平均粒tイが100μ贋へフ、)比較用の一フティ
ングキヤリrbを得た。
sライト粒子の表面に平均膜厚が2μ屑の樹脂コーティ
ング層を形成し2、樹脂二フーディ〉・グ層が1層から
なる平均粒tイが100μ贋へフ、)比較用の一フティ
ングキヤリrbを得た。
(キャリア(:(比較用))
キャリアaの製造におい−、外層用被覆液を、アクリル
酸−1,1−ジヒト′T:1パーフル完ロエチル1合体
12gを7セトン500mfに溶解し、た溶液:こ、延
伸し、たi、41Jアセチレンに塩化鉄(F e 01
3 )をドービンクした重合体(平均粒径1 )tm)
3gをホモジェンターを用いこ分散し、た外l−用
被覆液に変更(2,たほかば同様にしで比較用3二+〜
テイ゛・′りキャリア(・を得た。
酸−1,1−ジヒト′T:1パーフル完ロエチル1合体
12gを7セトン500mfに溶解し、た溶液:こ、延
伸し、たi、41Jアセチレンに塩化鉄(F e 01
3 )をドービンクした重合体(平均粒径1 )tm)
3gをホモジェンターを用いこ分散し、た外l−用
被覆液に変更(2,たほかば同様にしで比較用3二+〜
テイ゛・′りキャリア(・を得た。
(キ丁りrd (比較用))
キャリア、への製造にふいで、外層用被覆液を、アクリ
ル酸−1、1−ジヒドロバーフルオ【]1チル1合体]
、2gをrセミ・ン500dに溶解しまた溶液に、延伸
し、たポリでヤチL・ンに塩化鉄(F e (lハ)を
ドーピングした重合体(平均粒径1μm)3gをホモジ
ェッターを用いて分散した外層用被覆液;て変更したほ
かは同様:てし、1で比較用の二」−デインク半ヤ リ
ア d をj辱ゾ二つ く着色粒J″−の製造〕・ (着色粒F A ) メチ1/ン、/メチルメククリL/−)・/ブチルアゲ
IJI/−F共重合体樹脂 100部
カーボンシラツタ 10部ポリプロ
ピし・ンワックス 3部具ト、の材料を
、混りし、練肉し、粉砕し、分級し、て、平均粒径10
μI’nの着色粒−rノルを得た。
ル酸−1、1−ジヒドロバーフルオ【]1チル1合体]
、2gをrセミ・ン500dに溶解しまた溶液に、延伸
し、たポリでヤチL・ンに塩化鉄(F e (lハ)を
ドーピングした重合体(平均粒径1μm)3gをホモジ
ェッターを用いて分散した外層用被覆液;て変更したほ
かは同様:てし、1で比較用の二」−デインク半ヤ リ
ア d をj辱ゾ二つ く着色粒J″−の製造〕・ (着色粒F A ) メチ1/ン、/メチルメククリL/−)・/ブチルアゲ
IJI/−F共重合体樹脂 100部
カーボンシラツタ 10部ポリプロ
ピし・ンワックス 3部具ト、の材料を
、混りし、練肉し、粉砕し、分級し、て、平均粒径10
μI’nの着色粒−rノルを得た。
(着色粒子B)
着V!料、子へ〇)製造(ごおハで、バインダー楯H旨
を、多価金属酸化物として酸化亜鉛(ZnO)を用いて
得られた金属架橋構造のスチレン/メチルメタクリレー
ト/ブチルアクリレート共重合体樹脂に変更したほかは
同様にして着色粒子Bを得た。
を、多価金属酸化物として酸化亜鉛(ZnO)を用いて
得られた金属架橋構造のスチレン/メチルメタクリレー
ト/ブチルアクリレート共重合体樹脂に変更したほかは
同様にして着色粒子Bを得た。
〈無機微粒子の製造〉
(無機微粒子A(本発明用))
その構成単位として、下記構造式■で示されるアンモニ
ウム塩変性ポリシロキサンをキシレンに溶解して処理液
を調製した。
ウム塩変性ポリシロキサンをキシレンに溶解して処理液
を調製した。
たってキンエンを除去し、これにより、アンモニウム塩
変性ボリンロキサンにより処理してなる無機微粒子Aを
得た。
変性ボリンロキサンにより処理してなる無機微粒子Aを
得た。
(無機微粒子B(本発明用))
その構成単位として、下記構造式■て示されるアンモニ
ウム塩変性ポリシロキサンをキシレンに溶解して処理液
を調製した。
ウム塩変性ポリシロキサンをキシレンに溶解して処理液
を調製した。
構造式■
(Xは整数である。)
次に、日本アエロジル社製のシリカ微粒子「アエロジル
200」をミキサーに入れ、このンリカ微粒子に対して
上記ポリシロキサンが5重量%となるような割合で噴霧
した後、これらをフラスコに入れ、撹拌しながら、温度
200℃にて5時間にわ(yは整数である。) 次に、日本アエロジル社製のンリカ微粒子「アエロジル
300」をミキサーに入れ、このンリカ微粒子に対して
上記ポリシロキサンが7重量%となるような割合で噴霧
したほかは無機微粒子Aの製造と同様に処理して、アン
モニウム塩変性ポリシロキサンにより処理された無機微
粒子Bを得た。
200」をミキサーに入れ、このンリカ微粒子に対して
上記ポリシロキサンが5重量%となるような割合で噴霧
した後、これらをフラスコに入れ、撹拌しながら、温度
200℃にて5時間にわ(yは整数である。) 次に、日本アエロジル社製のンリカ微粒子「アエロジル
300」をミキサーに入れ、このンリカ微粒子に対して
上記ポリシロキサンが7重量%となるような割合で噴霧
したほかは無機微粒子Aの製造と同様に処理して、アン
モニウム塩変性ポリシロキサンにより処理された無機微
粒子Bを得た。
(無機微粒子C(本発明用))
その構成単位として、下記構造式■で示されるアンモニ
ウム塩変性ポリシロキサンをキンエンに溶解して処理液
を調製した。
ウム塩変性ポリシロキサンをキンエンに溶解して処理液
を調製した。
構造式■
(2は整数である。)
次に、日本アエロジル社製のシリカ微粒子1アエロジル
200」をミキサーに入れ、このシリカ微粒子に対して
上記ポリシロキサンが10重量%となるような割合で噴
霧したほかは無機微粒子Aの製造と同様に処理して、ア
ンモニウム塩変性ポリシロキサンにより処理された無機
微粒子Cを得た。
200」をミキサーに入れ、このシリカ微粒子に対して
上記ポリシロキサンが10重量%となるような割合で噴
霧したほかは無機微粒子Aの製造と同様に処理して、ア
ンモニウム塩変性ポリシロキサンにより処理された無機
微粒子Cを得た。
〈実施例および比較例〉
各実施例および比較例においては、後記第1表に示す組
合せの着色粒子、無機微粒子およびキャリアを用い、ま
ず、着色粒子に無機微粒子を添加してこれらをヘンンエ
ルミキサーにより混合して着色粒子の表面に無機微粒子
を付着させてトナーを製造し、さらに、これらとキャリ
アとをV型混合機により混合して各二成分系現像剤を製
造した。
合せの着色粒子、無機微粒子およびキャリアを用い、ま
ず、着色粒子に無機微粒子を添加してこれらをヘンンエ
ルミキサーにより混合して着色粒子の表面に無機微粒子
を付着させてトナーを製造し、さらに、これらとキャリ
アとをV型混合機により混合して各二成分系現像剤を製
造した。
なお、いずれの二成分系現像剤においても、着色粒子、
無機微粒子、キャリアの配合量(重11)ま、500
: 3 : 9500とした。
無機微粒子、キャリアの配合量(重11)ま、500
: 3 : 9500とした。
く評価〉
上記二成分系現像剤をそれぞれ用いて、コニカ■製の電
子写真複写機rU −Bix 1017」によりコピー
画像を形成する実写テストを行い、下記の項目について
評価した。結果を後記第1表に示す。
子写真複写機rU −Bix 1017」によりコピー
画像を形成する実写テストを行い、下記の項目について
評価した。結果を後記第1表に示す。
ただし、感光体の黒地部電位を一400v、白地部電位
を−50V1現像ニツプ部におけるバイアス電圧を一1
50vとした。
を−50V1現像ニツプ部におけるバイアス電圧を一1
50vとした。
(Vs /Vpの初期適正値)
初期コピー画像を形成したときに、トナー飛散、カブリ
が生ぜず、かつ:]ピー用紙の先端と後端との間に濃度
差が(1ミじないVs/Vρの初期適正値を求?l)た
3、なお、VsおよびVpは、それぞれ現像−ツブ部に
おける現像スリーブの周速度および感光体の周速度であ
る6、 (初期解像度) Vs/Vpの値を■で求めた初期適正値に設定した状態
で、初期−コピー画像を形成したときの解像度を求y〕
だ。ただし、解像度は、目視で明確に判断できるl+n
m当りの細線の本数で示した。
が生ぜず、かつ:]ピー用紙の先端と後端との間に濃度
差が(1ミじないVs/Vρの初期適正値を求?l)た
3、なお、VsおよびVpは、それぞれ現像−ツブ部に
おける現像スリーブの周速度および感光体の周速度であ
る6、 (初期解像度) Vs/Vpの値を■で求めた初期適正値に設定した状態
で、初期−コピー画像を形成したときの解像度を求y〕
だ。ただし、解像度は、目視で明確に判断できるl+n
m当りの細線の本数で示した。
(カブリ)
一二カ@製のサクラデンントメータを用いて、原稿濃度
が0.00の白地部分の相対濃度を測定しで判定した。
が0.00の白地部分の相対濃度を測定しで判定した。
相対濃度が0.01未満のどきを「○」、0.01以上
0.03未満のときを「△、 、0.03以l゛、のと
きを1゛×」とした。
0.03未満のときを「△、 、0.03以l゛、のと
きを1゛×」とした。
(トナー飛散)
複写機、の内部とコピー画像を目視により観察し、次の
6段階で評価した。
6段階で評価した。
A、全く飛散が認綽られない。
B :現像器周辺に若]ユの飛散は認められるが他の部
分への飛散は3.laaらねない、1C:現像器周辺に
飛散が認められ他の部分への飛散も若(−認められるが
コピー品質、メンラ゛ナビリティは共に支障は認められ
ない。
分への飛散は3.laaらねない、1C:現像器周辺に
飛散が認められ他の部分への飛散も若(−認められるが
コピー品質、メンラ゛ナビリティは共に支障は認められ
ない。
D、複写機内全体に飛散が認y〕られ光学系の;りれに
よる地力ブリが若十認釣られる。
よる地力ブリが若十認釣られる。
E:複写機内全体にかなりの飛散を14Eじ光学系の汚
れによる地力ブリが明らかに認釣られ、」ゴー搬送部の
汚染による“コピー汚れが生ずる。
れによる地力ブリが明らかに認釣られ、」ゴー搬送部の
汚染による“コピー汚れが生ずる。
F′:飛散したトナーが複写機外に排出され、周囲を汚
染する。
染する。
(現像剤の耐久性)
鮮明な画像が得られるコピー画像の形成回数て示した。
以上の実写テストにおいて、実施例1〜6の二成分系現
像剤によれば、感光体の帯電電位が低電位であり、かつ
、現像ニップ部にふける現像スリーブの周速度Vsが感
光体の周速度Vpと同程度である現像プロセスに適用し
た場合においても、優れた現像性が発揮され、カブリ、
トナー飛散を伴わず、解像度が高くて細線再現性の優れ
た高画質のコピー画像を多数回にわたり安定に形成する
ことができる。
像剤によれば、感光体の帯電電位が低電位であり、かつ
、現像ニップ部にふける現像スリーブの周速度Vsが感
光体の周速度Vpと同程度である現像プロセスに適用し
た場合においても、優れた現像性が発揮され、カブリ、
トナー飛散を伴わず、解像度が高くて細線再現性の優れ
た高画質のコピー画像を多数回にわたり安定に形成する
ことができる。
これに対して、比較例1の二成分系現像剤では、コーテ
ィングキャリアにおいて導電性高分子材料が含有されて
いないたtに、電気抵抗が高くて現像性が低く、そのた
め、現像スリーブの周速度Vsと感光体の周速度VpO
比Vs/Vllの値を大きくしなければならず、またカ
ブリやトナー飛散が発生しやすく、現像剤の耐久住が劣
っている。
ィングキャリアにおいて導電性高分子材料が含有されて
いないたtに、電気抵抗が高くて現像性が低く、そのた
め、現像スリーブの周速度Vsと感光体の周速度VpO
比Vs/Vllの値を大きくしなければならず、またカ
ブリやトナー飛散が発生しやすく、現像剤の耐久住が劣
っている。
比較例2.3.4の二成分系現像剤では、コーティング
キャリアの樹脂コーティング層の表面に導電性高分子材
料が存在することとなるため、摩擦帯電性の安定性が劣
り、カブリやトナー飛散が発生しやすく、現像剤の耐久
性が劣っている。
キャリアの樹脂コーティング層の表面に導電性高分子材
料が存在することとなるため、摩擦帯電性の安定性が劣
り、カブリやトナー飛散が発生しやすく、現像剤の耐久
性が劣っている。
本発明によれば、コーティングキャリアにおいては、樹
脂コーティング層を内層と外層の2層にし、かつ内層に
導電性高分子材料を含有させ、外層を低表面エネルギー
樹脂により構成し、トナーにおいては、着色粒子と共に
用いる無機微粒子としてアンモニウム塩変性ポリシロキ
サンにより処理された無機微粒子を選択したので、これ
らのコーティングキャリアとトナーとの相乗作用によっ
て、感光体の帯電電位が低電位であり、かつ、現像ニッ
プ部における現像スリーブの周速度Vsが感光体の周速
度Vpと同程度である現像プロセスに適用したときにも
、カブリ、トナー飛散を生ぜずに、細線再現性の優れた
高画質の画像を多数回にわたり安定に形成することがで
きる。
脂コーティング層を内層と外層の2層にし、かつ内層に
導電性高分子材料を含有させ、外層を低表面エネルギー
樹脂により構成し、トナーにおいては、着色粒子と共に
用いる無機微粒子としてアンモニウム塩変性ポリシロキ
サンにより処理された無機微粒子を選択したので、これ
らのコーティングキャリアとトナーとの相乗作用によっ
て、感光体の帯電電位が低電位であり、かつ、現像ニッ
プ部における現像スリーブの周速度Vsが感光体の周速
度Vpと同程度である現像プロセスに適用したときにも
、カブリ、トナー飛散を生ぜずに、細線再現性の優れた
高画質の画像を多数回にわたり安定に形成することがで
きる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 磁性体粒子の表面に、導電性高分子材料が含有された樹
脂からなる内層と低表面エネルギー樹脂からなる外層の
2層からなる樹脂コーティング層を設けてなるコーティ
ングキャリアと、 着色粒子とアンモニウム塩変性ポリシロキサンにより処
理された無機微粒子とを含有してなるトナーと からなることを特徴とする静電荷像現像用二成分系現像
剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2056639A JPH03259157A (ja) | 1990-03-09 | 1990-03-09 | 静電荷像現像用二成分系現像剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2056639A JPH03259157A (ja) | 1990-03-09 | 1990-03-09 | 静電荷像現像用二成分系現像剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03259157A true JPH03259157A (ja) | 1991-11-19 |
Family
ID=13032906
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2056639A Pending JPH03259157A (ja) | 1990-03-09 | 1990-03-09 | 静電荷像現像用二成分系現像剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03259157A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6387582B2 (en) | 2000-03-24 | 2002-05-14 | Powdertech Co., Ltd. | Carrier for electrophotographic developer and electrophotographic developer containing the same |
JP2009003146A (ja) * | 2007-06-21 | 2009-01-08 | Ricoh Co Ltd | 電子写真現像用キャリア及びキャリアの製造方法、並びに現像剤、及び画像形成方法 |
-
1990
- 1990-03-09 JP JP2056639A patent/JPH03259157A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6387582B2 (en) | 2000-03-24 | 2002-05-14 | Powdertech Co., Ltd. | Carrier for electrophotographic developer and electrophotographic developer containing the same |
JP2009003146A (ja) * | 2007-06-21 | 2009-01-08 | Ricoh Co Ltd | 電子写真現像用キャリア及びキャリアの製造方法、並びに現像剤、及び画像形成方法 |
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