JPH03257452A - 感光材料処理方法 - Google Patents
感光材料処理方法Info
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- JPH03257452A JPH03257452A JP5502190A JP5502190A JPH03257452A JP H03257452 A JPH03257452 A JP H03257452A JP 5502190 A JP5502190 A JP 5502190A JP 5502190 A JP5502190 A JP 5502190A JP H03257452 A JPH03257452 A JP H03257452A
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Landscapes
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、露光後の感光材料を処理液に浸漬して、現像
、漂白、定着、漂白定着、安定化等の処理を行う感光材
料処理方法に関する。
、漂白、定着、漂白定着、安定化等の処理を行う感光材
料処理方法に関する。
一般に、露光後のハロゲン化銀写真感光材料(以下、感
光材料という)は、カラー感光材料にあっては、現像、
漂白定着(漂白及び定着)、水洗、乾燥の工程が施され
、また黒白感光材料にあっては、現像、定着、水洗、乾
燥の工程が施されて、感光材料上に画像が形成されるよ
うになっている。
光材料という)は、カラー感光材料にあっては、現像、
漂白定着(漂白及び定着)、水洗、乾燥の工程が施され
、また黒白感光材料にあっては、現像、定着、水洗、乾
燥の工程が施されて、感光材料上に画像が形成されるよ
うになっている。
感光材料の処理に用いられる処理機としては、例えばカ
ラー感光材料の場合、現像液を収容する現像槽、漂白定
着液を収容する漂白定着槽、水洗水を収容する水洗槽を
備え、露光後の感光材料はこれらの処理槽内を順次搬送
され、各処理液中に浸漬されて各処理が行われる。そし
て、各処理液は処理工程に従って隣接配置されることに
より、感光材料の搬送及び処理が容易になるとともに、
処理機の小型化が図れる。
ラー感光材料の場合、現像液を収容する現像槽、漂白定
着液を収容する漂白定着槽、水洗水を収容する水洗槽を
備え、露光後の感光材料はこれらの処理槽内を順次搬送
され、各処理液中に浸漬されて各処理が行われる。そし
て、各処理液は処理工程に従って隣接配置されることに
より、感光材料の搬送及び処理が容易になるとともに、
処理機の小型化が図れる。
感光材料の処理状態、すなわち画像状態は処理液の温度
により左右され、一般に処理液の温度が高い程、処理が
促進される。また、処理液の温度が高すぎると、感光材
料又は処理液自身に悪影響を及ぼすので、処理液の温度
は常にある範囲内にあるように制御される。
により左右され、一般に処理液の温度が高い程、処理が
促進される。また、処理液の温度が高すぎると、感光材
料又は処理液自身に悪影響を及ぼすので、処理液の温度
は常にある範囲内にあるように制御される。
処理槽内に多量の処理液を収容する処理装置においては
、処理液の熱容量が大きいので処理装置の稼働開始時に
処理液が設定温度に達するまでに長時間を要する。また
、処理液の熱容量が大きいので、処理液の温度をわずか
に上昇又は下降させる制御は困難である。したがって、
処理性能が処理液の温度により左右され、感光材料上に
一定品質の画像が得られない。
、処理液の熱容量が大きいので処理装置の稼働開始時に
処理液が設定温度に達するまでに長時間を要する。また
、処理液の熱容量が大きいので、処理液の温度をわずか
に上昇又は下降させる制御は困難である。したがって、
処理性能が処理液の温度により左右され、感光材料上に
一定品質の画像が得られない。
本発明の目的は上記問題点を解消することにあり、処理
液の温度が変動しても感光材料上に常に一定品質の画像
を得ることのできる感光材料処理方法を提供することに
ある。
液の温度が変動しても感光材料上に常に一定品質の画像
を得ることのできる感光材料処理方法を提供することに
ある。
〔課題を解決するための手段及び作用〕本発明に係る上
記目的は、露光後の感光材料を処理液に浸漬して画像形
成処理を行う感光材料処理方法において、処理液の温度
を検出し、温度と搬送速度との対応テーブルから検出温
度に対応した搬送速度を決定し、決定した搬送速度で感
光材料を搬送する感光材料処理方法によって達成される
。
記目的は、露光後の感光材料を処理液に浸漬して画像形
成処理を行う感光材料処理方法において、処理液の温度
を検出し、温度と搬送速度との対応テーブルから検出温
度に対応した搬送速度を決定し、決定した搬送速度で感
光材料を搬送する感光材料処理方法によって達成される
。
すなわち、処理液の温度と、該温度における適正な感光
材料浸漬時間を得る感光材料搬送速度とをあらかじめテ
ーブル化しておき、処理液の温度を検出した後、検出温
度に対応した感光材料搬送速度をテーブルから選択し、
感光材料が選択した搬送速度で搬送されるように搬送手
段の作動を制御することにより、感光材料は適正な時間
処理液に浸漬処理されるので、処理液に温度変動があっ
ても、適正な処理が行われる。更に、処理槽内の処理液
収容部が断面スリット状であることにより処理液の収容
量が少なくなり、感光材料搬送速度の制御とともに処理
液の温度調整も容易に行うことができ、処理液を設定温
度まで加熱する時間も短縮される。
材料浸漬時間を得る感光材料搬送速度とをあらかじめテ
ーブル化しておき、処理液の温度を検出した後、検出温
度に対応した感光材料搬送速度をテーブルから選択し、
感光材料が選択した搬送速度で搬送されるように搬送手
段の作動を制御することにより、感光材料は適正な時間
処理液に浸漬処理されるので、処理液に温度変動があっ
ても、適正な処理が行われる。更に、処理槽内の処理液
収容部が断面スリット状であることにより処理液の収容
量が少なくなり、感光材料搬送速度の制御とともに処理
液の温度調整も容易に行うことができ、処理液を設定温
度まで加熱する時間も短縮される。
また本発明に係る上記目的は、露光後の感光材料を処理
液に浸漬して画像形成処理を行う感光材料処理方法にお
いて、処理液の温度を検出し、温度と水位との対応テー
ブルから検出温度に対応した水位を決定し、決定した水
位に処理液量を制御して感光材料の浸漬路長を制御する
感光材料処理方法によって達成される。
液に浸漬して画像形成処理を行う感光材料処理方法にお
いて、処理液の温度を検出し、温度と水位との対応テー
ブルから検出温度に対応した水位を決定し、決定した水
位に処理液量を制御して感光材料の浸漬路長を制御する
感光材料処理方法によって達成される。
すなわち、処理液の温度と、該温度における適正な感光
材料浸漬時間を得る処理液浸漬路長に対応した処理液の
水位とをあらかしめテーブル化しておき、処理液の温度
を検出した後、検出温度に対応した処理液の水位を選択
し、処理液が選択した水位になるように、処理槽内の処
理液の量を制御することにより、感光材料は適正な時間
処理液に浸漬処理されるので、処理液に温度変動があっ
ても、適正な処理が行われる。
材料浸漬時間を得る処理液浸漬路長に対応した処理液の
水位とをあらかしめテーブル化しておき、処理液の温度
を検出した後、検出温度に対応した処理液の水位を選択
し、処理液が選択した水位になるように、処理槽内の処
理液の量を制御することにより、感光材料は適正な時間
処理液に浸漬処理されるので、処理液に温度変動があっ
ても、適正な処理が行われる。
処理液の水位を制御するには、処理槽と連結して補助槽
を設け、補助槽内の処理液を処理槽に供給したり、処理
槽内の処理液を補助槽に一部回収することによる。この
場合、処理槽内の処理液収容部が断面スリット状である
ことにより処理液の収容量が少なくなり、水位の制御も
少量の処理液の移動でよく、更に処理液の温度調整も容
易に行うことができ、処理液を設定温度まで加熱する時
間も短縮される。
を設け、補助槽内の処理液を処理槽に供給したり、処理
槽内の処理液を補助槽に一部回収することによる。この
場合、処理槽内の処理液収容部が断面スリット状である
ことにより処理液の収容量が少なくなり、水位の制御も
少量の処理液の移動でよく、更に処理液の温度調整も容
易に行うことができ、処理液を設定温度まで加熱する時
間も短縮される。
したがって本発明によれば、処理液の温度が変動しても
、温度に対応した適正な浸漬処理時間が得られるので、
感光材料は適正に処理され、一定品質の良好な画像が形
成される。
、温度に対応した適正な浸漬処理時間が得られるので、
感光材料は適正に処理され、一定品質の良好な画像が形
成される。
本発明における処理液とは、画像形成のための処理液で
あり、現像液、漂白液、定着液、漂白定着液、洗浄液、
安定化液等がある。
あり、現像液、漂白液、定着液、漂白定着液、洗浄液、
安定化液等がある。
本発明に用いる感光材料の種類としては、ネガ感光材料
、ポジ感光材料、直接ポジ感光材料のいずれであっても
よ(、例えば銀塩写真式フィルム、銀塩写真式印画紙、
X線用フィルム等がある。
、ポジ感光材料、直接ポジ感光材料のいずれであっても
よ(、例えば銀塩写真式フィルム、銀塩写真式印画紙、
X線用フィルム等がある。
以下、添付図面を参照して本発明の一実施態様を説明す
る。ただし本発明は本実施態様のみに限定されない。
る。ただし本発明は本実施態様のみに限定されない。
第1図は本発明が適用される銀塩写真式カラーペーパー
処理装置の概略図である。本処理装置はポジ原稿に基づ
いて露光されたウェブ状カラーペーパーを現像、漂白定
着、水洗した後に乾燥して、カラーペーパー上に画像を
形成するものである。
処理装置の概略図である。本処理装置はポジ原稿に基づ
いて露光されたウェブ状カラーペーパーを現像、漂白定
着、水洗した後に乾燥して、カラーペーパー上に画像を
形成するものである。
なお以下の説明において、上流及び下流とはそれぞれ感
光材料搬送方向に対する上流及び下流をいう。
光材料搬送方向に対する上流及び下流をいう。
処理装置本体lOには現像槽12、漂白定着槽14、水
洗部16、乾燥部18が連続して設けられ、露光後のカ
ラーペーパー(以下、感光材料という)20は、現像、
漂白定着、水洗後に乾燥されて本体10から搬出される
。本体10内には、現像槽12、漂白定着槽14、水洗
槽16内にそれぞれ現像補充液、漂白定着補充液、水洗
水を補充するための補充タンクが設けられており、補充
タンク内の各補充液は通宜各槽に補充される。
洗部16、乾燥部18が連続して設けられ、露光後のカ
ラーペーパー(以下、感光材料という)20は、現像、
漂白定着、水洗後に乾燥されて本体10から搬出される
。本体10内には、現像槽12、漂白定着槽14、水洗
槽16内にそれぞれ現像補充液、漂白定着補充液、水洗
水を補充するための補充タンクが設けられており、補充
タンク内の各補充液は通宜各槽に補充される。
第2図は本発明の実施態様である処理槽22の断面図で
ある。本処理槽22は、現像、漂白定着、水洗のいずれ
の処理にも適用することができる。
ある。本処理槽22は、現像、漂白定着、水洗のいずれ
の処理にも適用することができる。
処理槽22は処理液収容部が断面スリット状であり、感
光材料20はスリット状の処理液収容部に収容された処
理液に浸漬されながら、処理槽22の上部又は必要に応
じて内部に設けた搬送ローラ24により搬送される。搬
送ローラ24ばモータ等の駆動手段26と接続され、駆
動手段26により矢印方向に回転駆動される。
光材料20はスリット状の処理液収容部に収容された処
理液に浸漬されながら、処理槽22の上部又は必要に応
じて内部に設けた搬送ローラ24により搬送される。搬
送ローラ24ばモータ等の駆動手段26と接続され、駆
動手段26により矢印方向に回転駆動される。
処理槽22は最上流部近傍と最下流部とがi環路2Bに
より連結され、この循環路28にはポンプ30が設けら
れている。そして、ポンプ30の作動により処理液はス
リット部においては感光材料搬送方向下流に向かって流
れ、循環路28内においては上流に向かって流れ、処理
槽22内を循環するようになっている。また、処理槽2
2には処理液の温度を検出する温度センサ32と、処理
液を加熱するヒータ34が設けられており、処理液の温
度を所定温度に維持している。本実施態様においては、
温度センサ32とヒータ34は循環路28内に設けられ
ている。温度センサ32とヒータ34を設ける位置は図
示に限定されないが、温度センサ32はヒータ34より
上流側に配置され、温度センサ32は最低温状態の処理
液の温度を検出するようになっている。
より連結され、この循環路28にはポンプ30が設けら
れている。そして、ポンプ30の作動により処理液はス
リット部においては感光材料搬送方向下流に向かって流
れ、循環路28内においては上流に向かって流れ、処理
槽22内を循環するようになっている。また、処理槽2
2には処理液の温度を検出する温度センサ32と、処理
液を加熱するヒータ34が設けられており、処理液の温
度を所定温度に維持している。本実施態様においては、
温度センサ32とヒータ34は循環路28内に設けられ
ている。温度センサ32とヒータ34を設ける位置は図
示に限定されないが、温度センサ32はヒータ34より
上流側に配置され、温度センサ32は最低温状態の処理
液の温度を検出するようになっている。
また、処理槽22には処理液補充口36及びオーバーフ
ロー口38が設けられており、補充口36からは処理液
の新液が補充され、オーバーフロー口38からは余剰の
処理液が排出されるようになっている。したがって、処
理槽22内での処理液水位は一定であり、しかも処理槽
22内での処理液の性能が一定に維持されている。
ロー口38が設けられており、補充口36からは処理液
の新液が補充され、オーバーフロー口38からは余剰の
処理液が排出されるようになっている。したがって、処
理槽22内での処理液水位は一定であり、しかも処理槽
22内での処理液の性能が一定に維持されている。
感光材料20は処理液に浸漬されている時間に応じて処
理状態が変わるが、処理液の水位は一定であり感光材料
浸漬路長は変わらないので、感光材料20を搬送する速
度を制御することにより、感光材料20の浸漬時間を制
御することができる。
理状態が変わるが、処理液の水位は一定であり感光材料
浸漬路長は変わらないので、感光材料20を搬送する速
度を制御することにより、感光材料20の浸漬時間を制
御することができる。
第3回は本発明の他の実施態様である処理槽22の断面
図である。なお、第2図と第3図において、同符号は同
しものを示す。
図である。なお、第2図と第3図において、同符号は同
しものを示す。
この処理槽22は処理槽22と連通した補助槽40が例
えば処理槽22の下部に設けられている。
えば処理槽22の下部に設けられている。
補助槽40は例えば可撓性プラスチック樹脂等により蛇
腹状に形成されその容積が変更可能になっている。補助
槽40には昇降台42が固定されており、昇降台42を
昇降することにより、補助槽40の蛇腹部が伸縮変形し
容積が変わるようになっている。昇降台42は補助槽変
位手段44の作用で昇降する。補助槽変位手段44の構
成は図示に限らず、補助槽40を変位可能な多種の昇降
手段を適用することができる。また、補助槽40を連結
する位置も処理槽22の下部に限らない。
腹状に形成されその容積が変更可能になっている。補助
槽40には昇降台42が固定されており、昇降台42を
昇降することにより、補助槽40の蛇腹部が伸縮変形し
容積が変わるようになっている。昇降台42は補助槽変
位手段44の作用で昇降する。補助槽変位手段44の構
成は図示に限らず、補助槽40を変位可能な多種の昇降
手段を適用することができる。また、補助槽40を連結
する位置も処理槽22の下部に限らない。
昇降台44が上界すると補助槽40の容積が減少するの
で、補助槽40内の処理液が一部処理槽22内に流入し
、処理槽22内の処理液水位が上昇する。また、昇降台
40が下降すると補助槽40の容積が増加するので、処
理槽22内の処理液が一部補助槽40内に流入し、処理
槽22内の処理液水位が下降する。このように、昇降台
42の上下移動により補助槽40を変形させることによ
り、処理槽22内の処理液の水位を変更することができ
る。処理槽22内の水位が変わると、処理槽22内にお
ける感光材料搬送路長が変化するので、処理液の水位調
整により感光材料処理時間を制御することができる。
で、補助槽40内の処理液が一部処理槽22内に流入し
、処理槽22内の処理液水位が上昇する。また、昇降台
40が下降すると補助槽40の容積が増加するので、処
理槽22内の処理液が一部補助槽40内に流入し、処理
槽22内の処理液水位が下降する。このように、昇降台
42の上下移動により補助槽40を変形させることによ
り、処理槽22内の処理液の水位を変更することができ
る。処理槽22内の水位が変わると、処理槽22内にお
ける感光材料搬送路長が変化するので、処理液の水位調
整により感光材料処理時間を制御することができる。
なお、オーバーフロー口3日の位置は水位の上限を決定
するので、補助槽40の変形に連動してオーバーフロー
口38の位置も上下するように構成することが好ましい
。また、感光材料2oの浸漬時にはオーバーフロー口3
8を閉塞する構成であってもよい。
するので、補助槽40の変形に連動してオーバーフロー
口38の位置も上下するように構成することが好ましい
。また、感光材料2oの浸漬時にはオーバーフロー口3
8を閉塞する構成であってもよい。
第4図は補助槽40の変形例の断面図である。
補助槽40はピストン46を内包したシリンダ形状であ
り、補助槽変位手段44により補助槽40を昇降してシ
リンダ内の容積を変えることにより、中空ピストン軸4
8内を処理液が流れ、処理槽22内の処理液水位を調整
することができる。
り、補助槽変位手段44により補助槽40を昇降してシ
リンダ内の容積を変えることにより、中空ピストン軸4
8内を処理液が流れ、処理槽22内の処理液水位を調整
することができる。
次に、本発明を実施する方法について説明する。
第5図は本発明の方法を実施する制御装置のブロック構
成図である。
成図である。
制御装置は温度センサ32と、CPU50と、LUT
(ルックアップテーブル)を記憶したメモリ52と、搬
送ローラ駆動手段26と、補助槽変位手段56とからな
り、メモリ52内のLUTには、処理液の温度に対応し
た好適な感光材料搬送速度及び処理液の水位が記憶され
ている。なお、LUTに記憶される感光材料搬送速度及
び処理液の水位は、搬送ローラ駆動手段26又は補助槽
変位手段44へ供給する電圧、パルス等に変換されて記
憶されていてもよい。更に、制御装置は演算回路を付加
した構成であってもよい。CPU50は温度センサ32
、メモリ52、搬送ローラ駆動手段26、及び補助槽変
位手段44と接続されている。そして、CPU50は温
度センナ32による検出温度に基づき、メモリ52内の
LUTの検出温度に対応した感光材料搬送速度又は処理
液の水位を読み出し、搬送ローラ駆動手段26又は補助
槽変位手段44の作動を制御する。
(ルックアップテーブル)を記憶したメモリ52と、搬
送ローラ駆動手段26と、補助槽変位手段56とからな
り、メモリ52内のLUTには、処理液の温度に対応し
た好適な感光材料搬送速度及び処理液の水位が記憶され
ている。なお、LUTに記憶される感光材料搬送速度及
び処理液の水位は、搬送ローラ駆動手段26又は補助槽
変位手段44へ供給する電圧、パルス等に変換されて記
憶されていてもよい。更に、制御装置は演算回路を付加
した構成であってもよい。CPU50は温度センサ32
、メモリ52、搬送ローラ駆動手段26、及び補助槽変
位手段44と接続されている。そして、CPU50は温
度センナ32による検出温度に基づき、メモリ52内の
LUTの検出温度に対応した感光材料搬送速度又は処理
液の水位を読み出し、搬送ローラ駆動手段26又は補助
槽変位手段44の作動を制御する。
第6図はメモリ52内のLUTに記憶されている処理液
温度と感光材料搬送速度の対応テーブルを表すグラフで
ある。このグラフは、処理液の温度が10°C〜30゛
Cの範囲のときに必要とする浸漬処理時間に対応した、
感光材料の搬送速度を表1 ず。
温度と感光材料搬送速度の対応テーブルを表すグラフで
ある。このグラフは、処理液の温度が10°C〜30゛
Cの範囲のときに必要とする浸漬処理時間に対応した、
感光材料の搬送速度を表1 ず。
第7図はメモリ52内のLUTに記憶されている処理液
温度と処理液水位の対応テーブルを表すグラフである。
温度と処理液水位の対応テーブルを表すグラフである。
このグラフは、処理液の温度が10〜30°Cの範囲の
ときに必要とする浸漬処理時間に対応した、浸漬路長の
基準水位に対する増減量を表す。
ときに必要とする浸漬処理時間に対応した、浸漬路長の
基準水位に対する増減量を表す。
第2図に示す処理槽22における処理の制御は、処理液
の温度に基づき感光材料搬送速度を制御することによる
。まず、温度センサ32により検出した処理液温度は温
度信号としてCPU50に供給される。CPU50にお
いては、この温度信号に基づいて、メモリ52内のLU
Tに記憶された第6図に示す内容のテーブルから検出温
度に対応した好適な感光材料搬送速度を読み出す。次い
で、読み出した搬送速度に基づき、搬送ローラ駆動手段
26の作動を制御し、搬送ローラ24の回転速度を調整
する。搬送ローラ24の回転速度を調整することにより
、感光材料搬送速度が変わり、処理液中に感光材料20
浸漬される浸漬時、間が変わ2 るので、処理液の温度が変動しても処理液温度を調整す
ることなく感光材料20を適正に処理することができる
。したがって、処理液の温度が変動しても、良好に感光
材料20を処理することができる。
の温度に基づき感光材料搬送速度を制御することによる
。まず、温度センサ32により検出した処理液温度は温
度信号としてCPU50に供給される。CPU50にお
いては、この温度信号に基づいて、メモリ52内のLU
Tに記憶された第6図に示す内容のテーブルから検出温
度に対応した好適な感光材料搬送速度を読み出す。次い
で、読み出した搬送速度に基づき、搬送ローラ駆動手段
26の作動を制御し、搬送ローラ24の回転速度を調整
する。搬送ローラ24の回転速度を調整することにより
、感光材料搬送速度が変わり、処理液中に感光材料20
浸漬される浸漬時、間が変わ2 るので、処理液の温度が変動しても処理液温度を調整す
ることなく感光材料20を適正に処理することができる
。したがって、処理液の温度が変動しても、良好に感光
材料20を処理することができる。
一方、第3図に示す処理槽22における処理の制御は、
処理液の温度に基づき処理液の水位を制御することによ
る。まず、温度センサ32により検出した処理液温度は
温度信号としてCPU50に供給される。CPU50に
おいては、この温度信号に基づいて、メモリ52内のL
U’Tに記憶された第7図に示す内容のテーブルから
検出温度に対応した好適な処理液の水位を読み出す。次
いで、読み出した水位に基づき、補助槽変位手段44の
作動を制御し、処理槽22内の処理液量を調整する。処
理槽22内の処理液量を調整することにより、処理槽2
2内の処理液水位が変わり、処理液中に感光材料20が
浸漬される浸漬時間が変わるので、処理液の温度が変動
しても処理液温度を調整することなく感光材料20を適
正に処理することができる。したがって、処理液の温度
が変動しても、良好に感光材料20を処理することがで
きる。また、処理槽22内の処理液収容部は断面スリッ
ト状であるので、補助槽40の少量の変形でも水位を大
幅に増減することができ、水位の調整が極めて容易であ
る。
処理液の温度に基づき処理液の水位を制御することによ
る。まず、温度センサ32により検出した処理液温度は
温度信号としてCPU50に供給される。CPU50に
おいては、この温度信号に基づいて、メモリ52内のL
U’Tに記憶された第7図に示す内容のテーブルから
検出温度に対応した好適な処理液の水位を読み出す。次
いで、読み出した水位に基づき、補助槽変位手段44の
作動を制御し、処理槽22内の処理液量を調整する。処
理槽22内の処理液量を調整することにより、処理槽2
2内の処理液水位が変わり、処理液中に感光材料20が
浸漬される浸漬時間が変わるので、処理液の温度が変動
しても処理液温度を調整することなく感光材料20を適
正に処理することができる。したがって、処理液の温度
が変動しても、良好に感光材料20を処理することがで
きる。また、処理槽22内の処理液収容部は断面スリッ
ト状であるので、補助槽40の少量の変形でも水位を大
幅に増減することができ、水位の調整が極めて容易であ
る。
〔発明の効果]
本発明によれば、処理液の温度と、該温度における適正
な感光材料浸漬時間を得る感光材料搬送速度とをあらか
しめテーブル化しておき、処理液の温度を検出した後、
検出温度に対応した感光材料搬送速度をテーブルから選
択し、感光材料が選択した搬送速度で搬送されるように
搬送手段の作動を制御することにより、感光材料は適正
な時間処理液に浸漬処理されるので、処理液に温度変動
があっても、適正な処理が行われる。更に、処理槽内の
処理液収容部が断面スリット状であることにより処理液
の収容量が少なくなり、感光材料搬送速度の制御ととも
に処理液の温度調整も容易に行うことができ、処理液を
設定温度まで加熱する時間も短縮されるる。
な感光材料浸漬時間を得る感光材料搬送速度とをあらか
しめテーブル化しておき、処理液の温度を検出した後、
検出温度に対応した感光材料搬送速度をテーブルから選
択し、感光材料が選択した搬送速度で搬送されるように
搬送手段の作動を制御することにより、感光材料は適正
な時間処理液に浸漬処理されるので、処理液に温度変動
があっても、適正な処理が行われる。更に、処理槽内の
処理液収容部が断面スリット状であることにより処理液
の収容量が少なくなり、感光材料搬送速度の制御ととも
に処理液の温度調整も容易に行うことができ、処理液を
設定温度まで加熱する時間も短縮されるる。
処理液の温度と、該温度における適正な感光材料浸漬時
間を得る処理液浸漬路長に対応した処理液の水位とをあ
らかじめテーブル化しておき、処理液の温度を検出した
後、検出温度に対応した処理液の水位を選択し、処理液
が選択した水位になるように、処理槽内の処理液の量を
制御することにより、感光材料は適正な時間処理液に浸
漬処理されるので、処理液に温度変動があっても、適正
な処理が行われる。
間を得る処理液浸漬路長に対応した処理液の水位とをあ
らかじめテーブル化しておき、処理液の温度を検出した
後、検出温度に対応した処理液の水位を選択し、処理液
が選択した水位になるように、処理槽内の処理液の量を
制御することにより、感光材料は適正な時間処理液に浸
漬処理されるので、処理液に温度変動があっても、適正
な処理が行われる。
処理液の水位を制御するには、処理槽と連結して補助槽
を設け、補助槽内の処理液を処理槽に供給したり、処理
槽内の処理液を補助槽に一部回収することによる。この
場合、処理槽内の処理液収容部が断面スリット状である
ことにより処理液の収容量が少なくなり、水位の制御も
少量の処理液の移動でよく、更に処理液の温度調整も容
易に行うことができ、処理液を設定温度まで加熱する時
間も短縮されるる。
を設け、補助槽内の処理液を処理槽に供給したり、処理
槽内の処理液を補助槽に一部回収することによる。この
場合、処理槽内の処理液収容部が断面スリット状である
ことにより処理液の収容量が少なくなり、水位の制御も
少量の処理液の移動でよく、更に処理液の温度調整も容
易に行うことができ、処理液を設定温度まで加熱する時
間も短縮されるる。
したがって本発明によれば、処理液の温度が変5
動しても、温度に対応した適正な浸漬処理時間が得られ
るので、感光材料は適正に処理され、一定品質の良好な
画像が形成される。
るので、感光材料は適正に処理され、一定品質の良好な
画像が形成される。
第1図は本発明の実施態様を備えた感光材料処理装置の
概略構成図、 第2図及び第3図は本発明の実施態様である処理槽の断
面図、 第4図は補助槽の変形例の断面図、 第5図は本発明方法を実施する制御装置のブロック構成
国、 第6図は処理液温度と感光材料搬送速度の関係を表すグ
ラフ、 第7図は処理温度と処理水位の関係を表すグラフである
。 図中符号: 10−本体 12−現像槽 14−漂白定着槽 16−水洗槽 18−乾燥部 2〇−感光材料22−処理槽
24−搬送ローラ6 搬送ローラ駆動手段 循環路 3 温度センサ 3 処理液補充口 3 補助槽 4 補助槽変位手段 4 中空ピストン軸 ポンプ ヒータ オーバーフロー口 昇降台 ピストン
概略構成図、 第2図及び第3図は本発明の実施態様である処理槽の断
面図、 第4図は補助槽の変形例の断面図、 第5図は本発明方法を実施する制御装置のブロック構成
国、 第6図は処理液温度と感光材料搬送速度の関係を表すグ
ラフ、 第7図は処理温度と処理水位の関係を表すグラフである
。 図中符号: 10−本体 12−現像槽 14−漂白定着槽 16−水洗槽 18−乾燥部 2〇−感光材料22−処理槽
24−搬送ローラ6 搬送ローラ駆動手段 循環路 3 温度センサ 3 処理液補充口 3 補助槽 4 補助槽変位手段 4 中空ピストン軸 ポンプ ヒータ オーバーフロー口 昇降台 ピストン
Claims (2)
- (1)露光後の感光材料を処理液に浸漬して画像形成処
理を行う感光材料処理方法において、処理液の温度を検
出し、温度と搬送速度との対応テーブルから検出温度に
対応した搬送速度を決定し、決定した搬送速度で感光材
料を搬送する感光材料処理方法。 - (2)露光後の感光材料を処理液に浸漬して画像形成処
理を行う感光材料処理方法において、処理液の温度を検
出し、温度と水位との対応テーブルから検出温度に対応
した水位を決定し、決定した水位に処理液量を制御して
感光材料の浸漬路長を制御する感光材料処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5502190A JPH03257452A (ja) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | 感光材料処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5502190A JPH03257452A (ja) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | 感光材料処理方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03257452A true JPH03257452A (ja) | 1991-11-15 |
Family
ID=12987015
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5502190A Pending JPH03257452A (ja) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | 感光材料処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03257452A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08320576A (ja) * | 1995-04-07 | 1996-12-03 | Agfa Gevaert Nv | リソグラフイツク印刷版プロセツサーの動作を遠隔的に監視するための方法 |
US6203627B1 (en) * | 1998-04-16 | 2001-03-20 | Tokyo Electron Limited | Cleaning method |
-
1990
- 1990-03-08 JP JP5502190A patent/JPH03257452A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08320576A (ja) * | 1995-04-07 | 1996-12-03 | Agfa Gevaert Nv | リソグラフイツク印刷版プロセツサーの動作を遠隔的に監視するための方法 |
US6203627B1 (en) * | 1998-04-16 | 2001-03-20 | Tokyo Electron Limited | Cleaning method |
US6293288B2 (en) | 1998-04-16 | 2001-09-25 | Tokyo Electron Limited | Cleaning method and apparatus |
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