JPH0325410B2 - - Google Patents

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JPH0325410B2
JPH0325410B2 JP1052167A JP5216789A JPH0325410B2 JP H0325410 B2 JPH0325410 B2 JP H0325410B2 JP 1052167 A JP1052167 A JP 1052167A JP 5216789 A JP5216789 A JP 5216789A JP H0325410 B2 JPH0325410 B2 JP H0325410B2
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diol
hydroxy
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Arubin Burogaa Emiru
Kurameri Ifuo
Georugu Biruherumu Roienberugaa Hansu
Bidomaa Eeritsuhi
Tsueru Rainharuto
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EFU HOFUMAN RA ROSHU AG
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Description

【発明の詳細な説明】
本発明は式 のジオール及びその製造方法に関する。上記式
のジオールはラセミ体の（racemic）及び光学的
に活性なポリエン化合物、例えばアスタキサンチ
ンの製造に適したラセミ体の及び光学的に活性な
式 のジオールの製造中間体として有用である。 式のラセミ体のまたは光学的に活性なジオー
ルをハロゲン化し、そして得られるハライドをト
リアリールホスフインと反応させて一般式 式中、Ｘはアリール基を表わし、そしてＹはハ
ロゲンを表わす、 のホスホニウム塩を生成させ、得られるホスホニ
ウム塩を式 のジアルデヒドと縮合させることなより、ラセミ
体のまたは光学的なアスタキサンチンを生成させ
ることができる。 本明細書において用いる［ハロゲン化］、［ハラ
イド］及び［ハロゲン］なる表現におけるハロゲ
ンは塩素、臭素及びヨウ素である。 上記の式及び以下の式において、常に全トラン
ス配置を示す。しかしながら、また本発明には可
能なシス−配置も含まれる。 式のジオールのハロゲン化は、それ自体公知
の方法において、ハロゲン化水素（塩化水素、臭
化水素またはヨウ化水素）を用いて、即ち水性溶
液（例えば48％または57％）中で行うことができ
る。このハロゲン化は約−10℃乃至＋10℃間の温
度、好ましくは約０℃で行うことができる。ハロ
ゲン化を行う際の溶媒として、かかるハロゲン化
に適する溶媒、例えば塩化メチレンまたはクロロ
ホルムの如き塩素化された炭化水素を用いること
ができる。 かくして得られるハロゲニドとトリアリールホ
スフイン、特にトリフエニルホスフインとの反応
による式のホスホニウム塩の生成は、それ自体
公知の方法において、例えば酢酸エチル中で、好
ましくは不活性雰囲気下で且つ酸結合剤（例えば
１，２−ブチレンオキシドの如きアルキレンオキ
シド）の存在下において、ほぼ室温または昇温下
で行うことができる。 生じる式のホスホニウム塩と式のジアルデ
ヒドとの反応は、同様に適当な溶媒、例えば塩化
メチレンまたはクロロホルム中にて、酸結合剤、
例えば１，２−ブチレンオキシドまたはナトリウ
ムメチレートの存在下において行うことができ
る。 上記の方法で得られるアスタキサンチンは、ラ
セミ体のまたは光学的に活性な出発物質のいずれ
を用いたかによつて、ラセミ体［（3RS，3′RS）
−配置］または光学的に活性な形［（3S，3′S）−
配置もしくは（3R，3′R）−配置］或いはメソ形
で存在する。 本発明の式のジオールの製造工程及びそれか
ら前記式のジオールを製造する工程は、式 の２−ヒドロキシケトイソホロンを還元して式 のジオールを生成させ、該式のジオールにおけ
る遊離のヒドロキシ基を保護されたヒドロキシ基
に変え、得られる生成物を適宜アルキニル化し、
そして式 のラセミ体のまたは光学的に活性なアセチレンジ
オールに転化し、該アセチレンジオールを適宜部
分的に還元して式 のジオールを生成させることからなる。 本方法の第一工程において、式の２−ヒドロ
キシケトイソホロンを選択的に還元する。この還
元は有利には適当な溶媒、即ち水性−アルカリ性
溶液における式の２−ヒドロキシケトイソホロ
ンを、ラネーニツケルの存在下において水素で処
理することにより行われる。かくして最初にアル
カリ金属塩が生じ、次にこのものを還元する。こ
の還元は例えば室温で行うことができる。 得られる還元生成物は式
【式】及 び
【式】 のジオールからなる互変異性体混合物であり、式
のジオールが本方法の次の工程に用いるのに適
した化合物である。 式のジオールにおける所望の互変異性体形を
ブロツクするため及びこれに含まれる２個のヒド
ロキシ基を保護するために、このヒドロキシ基を
保護されたヒドロキシ基に変える。これは有利に
は、好ましくはアセトンでアセトン化
（acetonisation）によつて行われ、こうして式 の化合物が得られ、ここで式のジオールに存在
するヒドロキシ基は保護された形で存在する。 しかしながらまた、アセトン化は２，２−ジメ
トキシプロパンまたはイソプロペニルメチルエー
テルを用いて行うこともできる。 アセトン化はそれ自体公知の方法において、酸
−触媒条件下で且つ水を分離しながら有利に行う
ことができる。かくして先行する還元による互変
異性体混合物に存在する式ａのジオールは、ア
セトン化中に式の互変異性体に完全に転化さ
れ、最終的に全体の物質がアセトニドに固定さ
れる。 しかしながらまた、式の還元生成物における
ヒドロキシ基の保護は式のジオールの二量体化
によつて、即ち有利には水の分離に伴う酸−触媒
によつて、例えば適当な溶媒（例えばトルエン）
中でｐ−トルエンスルホン酸または過塩素酸と沸
騰させて行うことができる。この場合には、式
のジオールに存在するヒドロキシ基は分子内エー
テル生成及び二量体生成によつて保護される。ま
たこの場合に式ａの互変異性体ジオールの二量
体への完全な転化が起り、同時に所望の互変異性
体形が固定される。 本方法の次の工程、即ちアルキニル化は、アル
キニル化生成物の脱水及び保護基の離脱をもたら
す条件下、即ちアルキニル化生成物の酸加水分解
条件下で有利に行われる。 アルキニル化は、随時保護されていてもよい３
−メチルペンテニノールを用いて、例えば式
【式】または
【式】 式中、Alkは低級アルキル基、例えばメチル基
を表わす、 の３−メチルペンテニン−（１または３）−オール
のシリルエーテルによつて、或いはアセトン３−
メチル−２−ペンテン−４−インイルアセタール
またはtert−ブチル３−メチル−２−ペンテン−
４−インイルエーテルによつて、即ち、かかるア
ルキニル化に対してそれ自体公知の条件下で行う
ことができる。 アルキニル化、脱水及び保護基の離脱後に得ら
れる式のアセチレンジオールを、次の工程で還
元して式のジオールを生成させる。 この部分的還元は亜鉛及び氷酢酸を用いて有利
に行われる。 部分的還元に対する溶媒として、適当な有機溶
媒、例えば塩化メチレンの如き塩素化された炭化
水素を用いることができるが、しかしながら或い
は試薬として用いる氷酢酸を用いることができ
る。 好ましくは塩化メチレン／氷酢酸中のアセチレ
ンジオールの約２％溶液を用い、前者は約１：２
〜１：2.5の比で用いられる。亜鉛は出発物質１
モル当り約１〜３ｇ原子、好ましくは2.5ｇ原子
の量で有利に用いられる。 部分的還元は約−20℃乃至ほぼ室温間の温度で
行うことができる。この部分的還元は好ましくは
約０℃で行われる。 次に生じる式の化合物を前記の方法におい
て、式のホスホニウム塩を経てアスタキサンチ
ンに転化することができる。 光学的に活性なポリエン化合物を製造するため
に、式のラセミ体のジオールを分割用塩基
（resolving base）によつて光学的に活性な形に
変え、この光学的に活性な形を更に工程（→
→→→→アスタキサンチン）に付す。 分割用塩基として有利にはα−フエニルエチル
アミン、即ち（Ｓ）−（−）−α−フエニルエチル
アミンまたは（Ｒ）−（＋）−α−フエニルエチル
アミンが用いられる。 しかしながらまた、サケに存在する天然のアス
タキサンチンを製造する際に必要な式 の光学的に活性な化合物は、式の化合物を酵母
（例えば圧搾酵母）で発酵的に還元して得ること
ができ、式ａの化合物に対応して、光学的に活
性な形における式及びａの２種の互変異性ジ
オールの混合物が得られる。次にこの混合物を、
式及びａのジオール混合物のアセトン化に関
してすでに述べた方法でアセトン化し、式ａの
光学的に活性な化合物が得られ、次にこのものを
対応する式、及びの光学的活性形を経て、
サケに存在する天然の光学的に活性なアスタキサ
ンチンに転化する。 以下の実施例は本発明をさらに説明するもので
ある。 実施例 １ 塩化メチレン150ml中の６−ヒドロキシ−３−
（５−ヒドロキシ−３−メチル−１，３−ペンタ
ジエニル）−２，４，４−トリメチル−２−シク
ロヘキセン−１−オン25ｇの溶液を撹拌機、圧力
バランスを備えた50mlの滴下ロート、温度計及び
不活性ガス導入装置を備えた200mlのスルホン化
用フラスコに導入した。得られた溶液をアルゴン
雰囲気下にて氷浴により0゜〜５℃に冷却し、次に
処理するまで、この温度範囲に保持した。上記温
度範囲に保持しながらできるだけ速かに、臭化水
素溶液（63％水溶液）30mlを滴下した。この混合
物を更に５分間撹拌し、１の分液ロート中の10
％塩化ナトリウム溶液100ml中に注いだ。更に分
液ロートに酢酸エチル400mlを加え、次にこの混
合物を十分に振盪した。底部の水相を分離し、そ
してすてた。有機相を総量200mlの５％重炭酸ナ
トリウム溶液で２回洗浄した。洗液はすてた。有
機相を１，２−ブチレンオキシド１mlで処理し、
無水硫酸ナトリウム50ｇ上で乾燥し、そして濾過
した。濾紙上の乾燥剤を酢酸エチル100mlですす
ぎ、このブロマイド溶液を浴温30℃で水流ポンプ
による減圧下で回転蒸発機中で約250mlに濃縮し
た。回転蒸発機中の減圧を窒素によつて保持し、
得られた黄色の濃縮物を直ちにホスホニウム塩の
製造に用いた。 酢酸エチル250ml中のトリフエニルホスフイン
30ｇ及び１，２−ブチレンオキシド１mlの溶液
を、撹拌機、温度計、圧力バランスを備えた250
mlの滴下ロート及び不活性ガス導入口を備えた
1.5のスルホン化用フラスコに入れた。この容
器を全体の反応中、アルゴン通気した。上記節に
従つて製造したブロマイド溶液を約２時間にわた
つて室温で滴下した。 混合物中に最初に濁りが現われた際に、種結晶
を加えた。その際に白色のホスホニウム塩が連続
的に晶出し、混合物の温度はやや上昇した（約28
℃まで）。臭素の添加終了後、この混合物を更に
24時間撹拌し、次に生成物を窒素下で濾別した。
白色の結晶を酢酸エチル250mlで洗浄し、水流ポ
ンプによる減圧下にて、乾燥炉中で40℃で一定重
量になるまで乾燥した。 融点172゜〜174℃の［（4E）−５−（４−ヒドロキ
シ−２，６−６−トリメチル−３−オキソ−１−
シクロヘキセン−１−イル）−３−メチル−２，
４−ペンタジアエル］−トリフエニルホスホニウ
ムブロマイド54.1ｇが得られた。 上記のホスホニウムブロマイド69ｇ及び２，７
−ジメチル−オクタトリエン−（２，４，６）−ジ
アール−（１，８）8.2ｇを、撹拌機、圧力バラン
スを備えた50mlの滴下ロート、温度計及び不活性
ガス導入口を備えた500mlのスルホン化用フラス
コ中で、撹拌し且つアルゴンを通気しながら塩化
メチレン250mlに溶解した。この溶液を連続的に
撹拌しながら氷浴によつて0゜〜５℃に冷却し、こ
の温度で90分間にわたり、ナトリウムメチレート
溶液27.6ml（ナトリウムメチレート6.48ｇを含
む）で滴下処理した。１時間後、冷却浴を取り除
き、この混合物を室温で更に18時間反応させた。 塩化メチレンで処理し、ヘプタン中で加熱して
異性化し、そして更に塩化メチレン及びメタノー
ルで精製した後、融点220゜〜222℃のラセミ性ア
スタキサンチン23.1ｇが得られた。 出発物質として用いた６−ヒドロキシ−３−
（５−ヒドロキシ−３−メチル−１，３−ペンタ
ジエニル）−２，４，４−トリメチル−２−シク
ロヘキセン−１−オンは次の如くして製造するこ
とができた。 撹拌機を備えた３の水素添加装置中で、水酸
化ナトリウム40ｇを水1.1に溶解し、20℃に冷
却したこの溶液を２−ヒドロキシ−３，５，５−
トリメチル−２−シクロヘキセン−１，４−ジオ
ン（２−ヒドロキシ−ケトイソホロン）168.2ｇ
及びラネーニツケル28ｇで処理した。 装置内の空気を水素で置換し、はげしく撹拌し
ながら還元を始めた。４時間後または約25の水
素を吸収した後、水素の吸収は止まり、更に１時
間後、混合物から触媒を濾別し、水ですすいだ。
全部の濾液を37％塩酸90で酸性にし、分液ロー
ト中で、飽和塩化ナトリウム溶液及び塩化メチレ
ン間に分配した。合液した塩化メチレン抽出液を
硫酸ナトリウム上で乾燥し、浴温約50℃で水流ポ
ンプによる減圧下にて、回転蒸発機中で一定重量
になるまで蒸発させた。残渣、即ち式及びａ
の２種の互変異性体形の混合物（３，４−ジヒド
ロキシ−２，６，６−トリメチル−２−シクロヘ
キセン−１−オン及び３，６−ジヒドロキシ−
２，４，４−トリメチル−２−シクロヘキセン−
１−オン）は次のアセトン化工程に直接用いるこ
とができた。 アセトン化するために、アセトン1.5中の上
記の互変異性体混合物200ｇを、撹拌機及び水分
離機を備え、且つ分子ふるいIG−２（4A）を充填
した乾燥塔に導入し、室温で撹拌しながら70％過
塩素酸２mlで滴下処理した。30℃で６〜７時間
後、この有機性無色の溶液に、粉末にした無水炭
酸カリウム25ｇを加えた。 次にこの懸濁液を、水分を排除しながら室温で
１時間撹拌し、ピリジン２mlで処理した。固体物
質をガラス吸引濾過器を通して濾別し、この濾過
器上をアセトン各50mlで２回、即ち総量100mlの
アセトンで洗浄した。合液した濾液を浴温30℃で
水流ポンプによる減圧下にて回転蒸発機中で蒸発
させた。残渣（黄色油）をｎ−ヘキサン600ml及
び1N炭酸ナトリウム溶液100mlで処理し、はげし
く振盪して２相に溶解し、次に全体を分液ロート
中で、ヘキサン並びに1N炭酸ナトリウム溶液及
び飽和塩化ナトリウム溶液からなる水相に分配し
た。有機相を合液し、硫酸ナトリウム上で乾燥
し、浴温40℃で水流ポンプによる減圧下にて回転
蒸発機中で約50％溶液に濃縮した。淡黄色の溶液
を、750mlスルホン化用フラスコ（撹拌機、温度
計及び塩化カルシウム管を備えた）中にて撹拌し
ながらアセトン／ドライアイス浴によつて−30℃
に冷却し、この温度で５時間放置した。冷却した
際に生成物は重い白色の結晶状で分離し始めた。 この結晶を吸引濾別し、濾紙上でｎ−ヘキサン
（−35℃に冷却したもの）150mlで洗浄し、次に減
圧下（0.2mmHg）で乾燥炉中にて室温で、一定重
量になるまで乾燥した。融点58゜〜59℃の生成物
202ｇが得られた。母液から、蒸留及び留出物の
結晶化により、更に29.6ｇが得られ、従つてラセ
ミ体の７，7a−ジヒドロ−２，２，４，６，６
−ペンタメチル−１，３−ベンゾジオキソール−
５（6H）−オン総収量は231.6ｇであつた。 撹拌機、温度計、塩化カルシウムを詰めた管を
備えた冷却器、圧力バランスを備えた１の滴下
ロート及びアルゴンガス導入口を備えた10のス
ルホン化用フラスコ中に、マグネシウム細片60.8
ｇ及び無水テトラヒドロフラン550mlを導入した。
次に無水テトラヒドロフラン420ml中の臭化エチ
ル226mlの溶液を、撹拌しながら50分以内に滴下
した。約１分後、強い発熱的グリニアール反応が
室温で自然に始まつた。氷浴によつて、50゜〜60
℃間の温度を保持できるように、滴下速度を調節
した。 次にこの混合物を油浴（浴温80℃）で加熱し、
90分間撹拌した。 その後、混合物の温度を連続的に撹拌しながら
40℃に調節し、次に無水テトラヒドロフラン750
ml中にトリメチル−［（トランス−３−メチル−ペ
ント−２−エン−４−イン）−オキシ］−シラン
（1″−ペントールシリルエーテル）500mlの溶液を
65分間にわたつて滴下した。 上記の反応条件を保持しながら、この混合物を
2.5時間放置し、次に無水テトラヒドロフラン420
ml中の前記の如くして製造したアセトニド［ラセ
ミ体の７，7a−ジヒドロ−２，２，４，６，６
−ペンタメチル−１，３−ベンゾジオキソール−
５（6H）−オン］210.3ｇの溶液を30分間にわたつ
て滴下した。 反応条件（撹拌、40℃、アルゴンガス通気）を
更に16時間保持し、次に室温に冷却した溶液に、
エーテル500mlを加えた。 この混合物を砕いた氷1000ｇ及び96％硫酸111
mlの混合物に加え、そして１分間はげしく撹拌し
た。 有機相をエーテル並びに飽和重炭酸ナトリウム
溶液及び飽和塩化ナトリウム溶液間に分配させ
た。有機相を合液し、硫酸ナトリウム上で乾燥
し、浴温約50℃で水流ポンプによる減圧下で一定
重量になるまで、回転蒸発機中で蒸発させた。褐
色油状物として粗製の生成物420ｇが得られ、こ
のものをイソプロピルエール及びヘキサンで精製
した後、融点84゜〜86℃の淡黄色結晶状で、６−
ヒドロキシ−３−（５−ヒドロキシ−３−メチル
−３−ペンテン−１−インイル）−２，４，４−
トリメチル−２−シクロヘキセン−１−オン189
ｇを得た。 次の工程において、10のスルホン化用フラス
コ（撹拌機、温度計、塩化カルシウム管及び不活
性ガス導入装置を備えた）中の上で得られたケト
ジオール（150ｇ）を、撹拌し且つアルゴンを通
気しながら、塩化メチレン4.5及び氷酢酸0.975
に溶解した。この溶液を０℃に冷却し、亜鉛末
75ｇで処理した。 アルゴン下にて０℃で撹拌しながら、３時間後
に更に亜鉛末25ｇ、そして更に２時間後に25ｇを
加え、この混合物を処理した。 シンタート（sintered）グラスフイルター上
で、冷時に混合物を濾過し、残渣をフイルター上
で総量600mlの塩化メチレンで２回洗浄した。更
に塩化メチレンで処理し、硫酸ナトリウム上で乾
燥し、濾過し、一定重量になるまで50℃で蒸発さ
せた後、褐色油158.7ｇが得られ、このものをエ
ーテル及びヘキサンで精製した後、シス／トラン
ス異性体混合物として、６−ヒドロキシ−３−
（５−ヒドロキシ−３−メチル−１，３−ペンタ
ジエニル）−２，４，４−トリメチル−２−シク
ロヘキセン−１−オン120.6ｇを得た。 エーテルから結晶化させ、母液を蒸発させた
後、融点92゜〜94℃の黄色結晶状でシス異性体83
ｇ並びに黄色油状物としてシス及びトランス異性
体（１：１）混合物35.9ｇが得られた。 亜鉛及び氷酢酸で還元後に得られた異性体混合
物を直接前記の如くハロゲン化及びホスホニウム
塩に転化することができた。 参考例 １ 実施例１に述べた方法と同様にして、250mlの
スルホン化用フラスコ中で、６−ヒドロキシ−３
−（５−ヒドロキシ−３−メチル−１，３−ペン
タジエニル）−２，４，４−トリメチル−２−シ
クロヘキセン−１−オン10ｇを塩化メチレン60ml
中で37％塩酸16mlと反応させて、対応するクロラ
イドが得られ、このものをトリフエニルホスフイ
ンと反応させて［（4E）−５−（４−ヒドロキシ−
２，６，６−トリメチル−３−オキソ−１−シク
ロヘキセン−１−イル）−３−メチル−２，４−
ペンタジエニル］−トリフエニルホスホニウムク
ロライド（融点184゜〜186℃）が得られ、後者を
また実施例１に述べた方法と同様にして、２，７
−ジメチル−オクタトリエン−（２，４，６）−ジ
アール−（１，８）と反応させてラセミ性アスタ
キサンチンを生成させた。 参考例 ２ 実施例１及び参考例１に述べた方法と同様にし
て、［（4E）−５−（４−ヒドロキシ−２，６，６
−トリメチル−３−オキソ−１−シクロヘキセン
−１−イル）−３−メチル−２，４−ペンタジエ
ニル］−トリフエニルホスホニウムアイオダイド
（融点196゜〜198℃）を経てラセミ体のアスタキサ
ンチンが得られた。 参考例 ３ ７，7a−ジヒドロ−２，２，４，６，６ペン
タメチル−１，３−ベンゾジオキソール−５−
（6H）−オンのアルキニル化に対して実施例１に
用いたシリルエーテルの代りに、またアセトンメ
チル−３−メチル−２−ペンテン−４−インイル
アセタール（1″−ペントール及び−イソプロペニ
ルメチルエーテルから製造）を用いることができ
た。 参考例 ４ また３，４−ジヒドロキシ−２，６，６−トリ
メチル−２−シクロヘキセン−１−オンにおける
ヒドロキシ基の保護は次の如く二量体化によつて
行うことができる： 式及びａの互変異性体混合物120ｇをトル
エン1.4に溶解し、撹拌機、温度計、水分離器
及び不活性ガス導入口を備えた２のホスホン化
用フラスコ中にて、70％過塩素酸７mlで処理し
た。 撹拌し且つ窒素通気しながら、この混合物を、
ガスクロマトグラフ分析によつてもはや出発物質
が検出できなくなるまで、遠流下（水分離器）で
約５時間沸騰させた。撹拌及び不活性ガスを通し
ながら、この混合物を室温に冷却し、28％水酸化
ナトリウム12mlによつてややアルカリ性にした。
この混合物を３の分液ロートに入れ、総量600
mlの水で２回洗浄し、最後に、浴温60℃で水流ポ
ンプによる減圧下で一定重量になるまで回転蒸発
機中で蒸発させた。黄−褐色の粘性残渣を加温し
ながらアセトン300mlに溶解し、次にこの溶液を
撹拌しながら氷浴中で０℃に冷却した。これによ
つて生成物が速かに晶出し始めた。これを冷蔵庫
中に一夜放置し、次に結晶を吸引濾別した。結晶
をフイルター上で総量50mlのアセトン（０℃に冷
却したもの）で２回洗浄し、次に水流ポンプによ
る減圧下で50℃で、一定重量になるまで乾燥炉中
にて乾燥した。母液を処理した後、融点206゜〜
209℃の結晶状で出発物質の二量体エーテル83.8
ｇを得た。 このものをシリルエーテルでアルキニル化し、
更に実施例１に述べた方法と同様にして処理する
ことができた。 実施例 ２ 光学的に活性なポリエン誘導体、特にアスタキ
サンチンの２種の光学的対掌体を製造するため
に、ラセミ体の３，４−ジヒドロキシ−２，６，
６−トリメチル−２−シクロヘキセン−１−オン
を次の方法(a)及び(b)に従つて分割した： (a) ３，４−ジヒドロキシ−２，６，６−トリメ
チル−２−シクロヘキセン−１−オン（実施例
１に従つて得られた互変異性体混合物形）40ｇ
を無水エーテル250ml及び無水メタノール50ml
に溶解した。無水エーテル25ml中の（Ｒ）−
（＋）−１−フエニルエチルアミン28.7ｇの溶液
を撹拌しながら20分以内に滴下した。こうして
油が徐々に分離し、温度が26℃に上昇した。 この混合物を更に16時間撹拌した。この間に
分離した油は消失し、黄色の軽い粉末の懸濁液
を生じた。このものを無水エーテル各150mlで
４回十分に洗浄し、これによつて最初ねばつく
濾過残渣は除々に固体になつた。濾過残渣を回
転蒸発機中にて70℃で酢酸エチル400mlに溶解
し、種結晶を入れ、加熱浴を除去して回転蒸発
機中に一夜放置した。無色の晶出物を濾別し、
酢酸エチル各100mlで３回洗浄した。濾過残渣
を真空乾燥炉中にて50℃で一夜乾燥した。脱イ
オン水100ml及び塩化メチレン100mlに溶解した
上で得られたジアステレオマー塩14.57ｇを500
mlの分液ロートに導入した。3N硫酸20mlの添
加後、この混合物を１分間はげしく撹拌した。
分離した水相を塩化メチレン各100mlで２回逆
抽出した。合液した塩化メチレン相を飽和塩化
ナトリウム溶液25mlで洗浄し、硫酸ナトリウム
20ｇ上で乾燥し、濾過し、乾燥剤をフイルター
上で塩化メチレン各50mlで２回すすいだ。濾液
を浴温40℃で回転蒸発機中にて一定重量になる
まで蒸発させた。 かくして得られた（3S）−ケトジオール
［［α］D＝−27.2゜（メタノール中0.59％）］はラセ
ミ性ケトジオールに対して実施例１に述べた方
法と同様にして更に処理し、（3S，3′S）−アス
タキサンチン（サケに天然に存在する）を得
た。 (b) ３，４−ジヒドロ−２，６，６−トリメチル
−２−シクロヘキセン−１−オン（実施例１に
従つて得られた互変異性体混合物状）40ｇを無
水エーテル250ml及び無水メタノール50mlに溶
解した。上記の(a)部に述べた方法と同様にして
更に処理し、（3R）−ケトジオール［［α］D＝＋
29.5゜（メタノール中１％）］が得られ、このも
のを実施例１に述べた方法と同様にして（3R，
3′R）−アスタキサンチン（酵母中に天然に存
在する）に転化することができた。 参考例 ５ 脱イオン水4.5、圧搾酵母500ｇ、砂糖250ｇ、
２−ヒドロキシ−３，５，５−トリメチル−２−
シクロヘキセン−１，４−ジオン10ｇ及び発泡防
止剤（ポリプロピレングリコールモノブチルエー
テル）１ｇからなる発酵液（fermentation
broth）も、表面に通気し（240／時）且つ撹拌
（900rpm）しながら、発酵器中にて30℃で培養し
た。発酵を４日及び５日間行つた後、それぞれ砂
糖100ｇを加えた。 ７日間発酵を行つた後、発酵液を塩化ナトリウ
ムで飽和し、ジエチルエーテルで連続的に抽出し
た。エーテルを蒸発させた後、粗製の抽出物が得
られ、このものは２種の互変異性体発酵生成物、
（−）−（Ｓ）−３，４−ジヒドロキシ−２，６，６
−トリメチル−２−シクロヘキセン−１−オン及
び（−）−（Ｓ）−３，６−ジヒドロキシ−２，４，
４−トリメチル−２−シクロヘキセン−１−オン
を含んでいた。 実施例１に述べた方法と同様にしてアセトン化
し、（7aS）−７，7a−ジヒドロ−２，２，４，
６，６−ペンタメチル−１，３−ベンゾジオキソ
ール−５（6H）−オン［融点79゜〜80℃；［α］D＝
＋105゜（ｃ＝0.102％、ジオキサン中）］が得られ、
このものを実施例１に述べた方法と同様にして
（3S，3′S）−アスタキサンチンに転化した。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ ラセミ体形及び光学的対掌体形における式 のジオール。 ２ 式 の２−ヒドロキシケトイソホロンを還元すること
    を特徴とする式 のジオールの製造方法。 ３ 式の２−ヒドロキシケトイソホロンの還元
    を、対応するアルカリ金属塩をラネーニツケルで
    処理することにより行う特許請求の範囲第２項記
    載の方法。 ４ 式のラセミ体のジオールを分割用塩基によ
    つて光学的に活性な形に分割する特許請求の範囲
    第２項記載の方法。
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