JPS62294635A - シクロヘキセン誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はシクロヘキセン誘導体、即ちラセミ体の（ｒａ
ｃｅｍｉｃ）及び光学的に活性なポリエン化合物、即ち
アスタキサンチンの製造に適したラセミ体の及び光学的
に活性な中間体、並びに本方法の工程中に生じるある種
の新規な中間体に関する。

本発明によって提供される方法は、式 のラセミ体のまたは光学的に活性なジオールをハロゲン
化し、そして得られるハライドをトリアリールホスフィ
ンと反応させて一般式 式中、Ｘはアリール基を表わし、そしてＹはハロゲンを
表わす、 のホスホニウム塩を生成させることからなる。

得られるホスホニウム塩は式 のジアルデヒドと縮合させてラセミ体のまたは光学的な
アスタキサンチンを生成させることができる。

本明細書において用いる［ハロゲン化］、［ハライド］
及び［ハロゲン］なる表現におけるハロゲンは塩素、臭
素及びヨウ素である。

上記の式及び以下の式において、常に全トランス配置を
示す、しかしながら、また本発明には可能なシス−配置
も含まれる。

式■のジオールのハロゲン化は、それ自体公知の方法に
おいて、ハロゲン化水素（塩化水素、臭化水素またはヨ
ウ化水素）を用いて、即ち水性溶液（例えば４８％また
は５７％）中で行うことができる。このハロゲン化は約
−１０℃乃至＋１０℃間の温度、好ましくは約Ｏ℃で行
うことができる。ハロゲン化を行う際の溶媒として、か
かるハロゲン化に適する溶媒、例えば塩化メチレンまた
はクロロホルムの如き塩素化された炭化水素を用いるこ
とができる。

かくして得られるハロゲニドとトリアリールホスフィン
、特にトリフェニルホスフィンとの反応による式■のホ
スホニウム塩の生成は、それ自体公知の方法において、
例えば酢酸エチル中で、好ましくは不活性雰囲気下で且
つ酸結合剤（例えば１．２−ブチレンオキシドの如きア
ルキレンオキシド）の存在下において、はぼ室温または
昇温下で行うことができる。

生じる式■のホスホニウム塩と式■のジアルデヒドとの
反応は、同様に適当な溶媒、例えば塩化メチレンまたは
クロロホルム中にて、酸結合剤、例えば１．２−ブチレ
ンオキシドまたはナトリウムメチレートの存在下におい
て行うことができる。

上記の方法で得られるアスタキサンチンは、うセミ体の
または光学的に活性な出発物質のいずれを用いたかによ
って、ラセミ体［（３ＲＳ、３’Ｒ３）−配置コまたは
光学的に活性な形［（３Ｓ。

３′Ｓ）−配置もしくは（３Ｒ，３’Ｒ）−配置］或い
はメソ形で存在する。

また、本発明はある種の中間体、即ちアスタキサンを製
造する際の上記方法に適するシクロヘキサノン化合物の
製造方法に関する。

これらシクロヘキサノン化合物の製造に対して本発明に
よって提供される方法は、式 の２−ヒドロキシケトイソホロンを還元して式のジオー
ルを生成させ、鎖式■のジオールにおける遊離のヒドロ
キシ基を保護されたヒドロキシ基に変え、得られる生成
物を適宜アルキニル化し、そして式 のラセミ体のまたは光学的に活性なアセチレンジオール
に転化し、該アセチレンジオールを適宜部分的に還元し
て式 のジオールを生成させることからなる。

本方法の第一工程において、式Ｖの２−ヒドロキシケト
イソホロンを選択的に還元する。この還元は有利には適
当な溶媒、即ち水性−アルカリ性溶液における式Ｖの２
−ヒドロキシケトイソホロンを、ラネーニッケルの存在
下において水素で処理することにより行われる。かくし
て最初にアルカリ金属塩が生じ、次にこのものを還元す
る。この還元は例えば室温で行うことができる。

得られる還元生成物は式 ％式％ のジオールからなる互変異性体混合物であり、式■のジ
オールが本方法の次の工程に用いるのに適した化合物で
ある。

式■のジオールにおける所望の互変異性体形をブロック
するため及びこれに含まれる２個のしドロキシ基を保護
するために、このヒドロキシ基を保護されたヒドロキシ
基に変える。これは有利には、好ましくはアセトンでア
セトン化（ａｃｅｔｏｎ　１ｓａｔｉｏｎ）によって行
われ、こうして式の化合物が得られ、ここで式■のジオ
ールに存在するしドロキシ基は保護された形で存在する
。

しかしながらまた、アセトン化は２，２−ジメトキシプ
ロパンまたはイソプロペニルメチルエーテルを用いて行
うこともできる。

アセトン化はそれ自体公知の方法において、酸−触媒条
件下で且つ水を分離しながら有利に行うことができる。

かくして先行する還元による互変異性体混合物に存在す
る式■ａのジオールは、アセトン化中に式■の互変異性
体に完全に転化され、最終的に全体の物質がアセトニド
■に固定される。

しかしながらまた、式■の還元生成物におけるヒドロキ
シ基の保護は式■のジオールの二量体化によって、即ち
有利には水の分離に伴う酸−触媒によって、例えば適当
な溶媒（例えばトルエン）中でＰ−）ルエンスルホン酸
または過塩素酸と沸騰させて行うことができる。この場
合には、式■のジオールに存在するしドロキシ基は分子
内エーテル生成及び二量体生成によって保護される。ま
たこの場合に式Ｖｉａの互変異性体ジオールの二量体へ
の完全な転化が起り、同時に所望の互変異性体形が固定
される。

本方法の次の工程、即ちアルキニル化は、アルキニル化
生成物の脱水及び保護基の離脱をもたらす条件下、即ち
アルキニル化生成物の酸加水分解条件下で有利に行われ
る。

アルキニル化は、随時保護されていてもよい３−メチル
ペンテニノールを用いて、例えば弐式中、＾１には低級
アルキル基、例えばメチル基を表わす、 の３−メチルベンテニン−（１または３）−オールのシ
゛Ｊルエーテルによって、或いはアセトン３−メチル−
２−ペンテン−４−インイルアセクールまたはｔｅｒｔ
−ブチル３−メチル−２−ペンテン−４−インイルエー
テルによって、即ち、かかるアルキニル化に対してそれ
自体公知の条件下で行うことができる。

アルキニル化、脱水及び保護基の離脱後に得られる式■
のアセチレンジオールを、次の工程で還元して式Ｉのジ
オールを生成させる。

この部分的還元は亜鉛及び氷酢酸を用いて有利に行われ
る。

部分的還元に対する溶媒として、適当な有機溶媒、例え
ば塩化メチレンの如き塩素化された炭化水素を用いるこ
とができるが、しかしながら或いは試薬として用いる氷
酢酸を用いることができる。

好ましくは塩化メチレン／氷酢酸中のアセチレンジオー
ルの約２％溶液を用い、前者は約１＝２〜１：２．５の
比で用いられる。亜鉛は出発物質１モル当り約１〜３ｇ
原子、好ましくは２．５ｇ原子の量で有利に用いられる
。

部分的還元は約−２０℃乃至はぼ室温間の温度で行うこ
とができる。この部分的還元は好ましくは約０℃で行わ
れる。

次に生じる式Ｉの化合物を前記の方法において、弐■の
ホスホニウム塩を経てアスタキサンチンに転化すること
ができる。

光学的に活性なポリエン化合物を製造するために、式■
のラセミ体のジオールを分割用塩基（ｒｅｓｏｌｖｉｎ
ｇ　ｂａｓｅ）によって光学的に活性な形に変え、この
光学的に活性な形を更に工程（■→■→■→Ｉ→■→ア
スタキサンチン）に付す。

分割用塩基として有利にはα−フェニルエチルアミン、
即ち（Ｓ）−（−）−α−フェニルエチルアミンまたは
（Ｒ）−（＋）−α−フェニルエチルアミンが用いられ
る。

しかしながらまた、サケに存在する天然のアスタキサン
チンを製造する際に必要な式 の光学的に活性な化合物は、式Ｖの化合物を酵母（例え
ば圧搾酵母）で発酵的に還元して得ることができ、式■
ａの化合物に対応して、光学的に活性な形における式■
及びＶｉａの２種の互変異性ジオールの混合物が得られ
る１次にこの混合物を、式■及びＶｉａのジオール混合
物のアセトン化に関してすでに述べた方法でアセトン化
し、式■ａの光学的に活性な化合物が得られ、次にこの
ものを対応する式■、■及び■の光学的活性形を経て、
サケに存在する天然の光学的に活性なアスタキサンチン
に転化する。

以下の実施例は本発明をさらに説明するものである。

実施例１ 塩化メチレン１５０ｍ１中の６−ヒドロキシ−３−（５
−ヒドロキシ−３−メチル−１，３−べンタジエニル）
−２，４，４−トリメチル−２−シクロヘキセン−１−
オン２５ｙの溶液を撹拌機、圧力バランスを備えた５０
ｍｊ！の滴下ロート、温度計及び不活性ガス導入装置を
備えた２００ｍｊ！のスルホン化用フラスコに導入した
。得られた溶液をアルゴン雰囲気下にて水浴により０°
〜５℃に冷却し、次に処理するまで、この温度範囲に保
持した。上記温度範囲に保持しながらできるだけ速かに
、臭化水素溶液（６３％水溶液）３０ｍｌを滴下しな、
この混合物を更に５分間撹拌し、１！の分液ロート中の
１０％塩化ナトリウム溶液１００ｍ１中に注いだ。更に
分液ロートに酢酸エチル４００ｍｆを加え、次にこの混
合物を十分に振盪した。底部の水相を分離し、そしてす
てた。有機相を総量２００ｍ１ｌの５％重炭酸ナトリウ
ム溶液で２回洗浄した。洗液はすてた。有機相を１゜２
−ブチレンオキシド１ｍｌで処理し、無水硫酸ナトリウ
ム５０ｇ上で乾燥し、そして濾過した。

ヂ紙上の乾燥剤を酢酸エチル１００ｍ１ですすぎ、この
ブロマイド溶液を浴温３０’Ｃで水流ポンプによる減圧
下で回転蒸発機中で約２５０ｍ１に濃縮しな。回転蒸発
機中の減圧を窒素によって保持し、得られた黄色の濃縮
物を直ちにホスホニウム塩の製造に用いた。

酢酸エチル２５０ｍＩ中のトリフェニルホスフィン３０
ｇ及び１．２−ブチレンオキシド１ｍｌの溶液を、撹拌
機、温度計、圧力バランスを備えた２５０ｍ１の滴下ロ
ート及び不活性ガス導入口を備えた１、５１のスルホン
化用フラスコに入れた。この容器を全体の反応中、アル
ゴン通気した。

上記節に従って製造したブロマイド溶液を約２時間にわ
たって室温で滴下しな。

混合物中に最初に濁りが現われた際に、種結晶を加えた
。その際に白色のホスホニウム塩が連続的に晶出し、混
合物の温度はやや上昇した（約２８℃まで）、臭素の添
加終了後、この混合物を更に２４時間撹拌し、次に生成
物を窒素下で戸別しな、白色の結晶を酢酸エチル２５０
ｍ１で洗浄し、水流ポンプによる減圧下にて、乾燥炉中
で４０℃で一定重量になるまで乾燥した。

融点１７２°〜１７４℃の［（４Ｅ）−５−（４−ヒド
ロキシ−２，６，６−ドリメチルー３−オキソ−１−シ
クロヘキセン−１−イル）−３−メチル−２，４−ペン
タシアエル］−トリフェニルホスホニウムブロマイド５
４．　、１　ｇが得られた。

上記のホスホニウムブロマイド６９ｇ及び２゜７−シメ
チルーオクタトリエンー＜２．４．６）−ジアール−（
１，８）８．２ｙを、撹拌機、圧力バランスを備えた５
０ｍ１の滴下ロート、温度計及び不活性ガス導入口を備
えた５ｏｏｍ１のスルホン化用フラスコ中で、撹拌し且
つアルゴンを通気しながら塩化メチレン２５０ｍ１に溶
解した。この溶液を連続的に撹拌しながら水浴によって
０゜〜５℃に冷却し、この温度で９０分間にわたり、ナ
トリウムメチレート溶液２７．６ｍｌ　　（ナトリウム
メチレート６．４８Ｉ？を含む）で滴下処理した。１時
間後、冷却浴を取り除き、この混合物を室温で更に１８
時間反応させた。

塩化メチレンで処理し、ヘプタン中で加熱して異性化し
、そして更に塩化メチレン及びメタノールで精製した後
、融点２２ｏ°〜２２２℃のラセミ性アスタキサンチン
２３．１ｇが得られた。

出発物質として用いた６−ヒドロキシ−３−（５−ヒド
ロキシ−３−メチル−１，３−ペンタジェニル）−２，
４，４−トリメチル−２−シクロヘキセン−１−オンは
次の如くして製造することができた。

撹拌機を備えた３１の水素添加装置中で、水酸化ナトリ
ウム４０．を水１．１１に溶解し、２０℃に冷却したこ
の溶液を２−ヒドロキシ−３，５゜５−トリメチル−２
−シクロヘキセン−１，４−ジオン（２−ヒドロキシ−
ケトイソホロン）１６８．２ｇ及びラネーニッケル２８
ｇで処理した。

装置内の空気を水素で置換し、はげしく撹拌しながら還
元を始めた。４時間後または約２５４の水素を吸収した
後、水素の吸収は止まり、更に１時間後、混合物から触
媒を戸別し、水ですすいだ。

全部のＦ液を３７％塩酸９０１で酸性にし、分液ロート
中で、飽和塩化ナトリウム溶液及び塩化メチレン間に分
配した０合液した塩化メチレン抽出液を硫酸ナトリウム
上で乾燥し、浴温的５０℃で水流ポンプによる減圧下に
て、回転蒸発機中で一定重量になるまで蒸発させた。残
渣、即ち式■及びＷａの２種の互変異性体形の混合物（
３，４−ジヒドロキシ−２，６，６−）ジメチル−２−
シクロヘキセン−１−オン及び３，６−シヒドロキシー
　２．４．４−　トリメチル−２−シクロヘキセン−１
−オン）は次のアセトン化工程に直接用いることができ
た。

アセトン化するために、アセトン１．５１中の上記の互
変異性体混合物２００ｇを、撹拌機及び水分離機を備え
、且つ分子ふるいＩＧ−２（４Ａ）を充填した乾燥塔に
導入し、室温で撹拌しながら７０％過塩素酸２ｍｌで滴
下処理した。３０℃で６〜７時間後、この有機性無色の
溶液に、粉末にした無水炭酸カリウム２５ｇを加えた。

次にこの懸濁液を、水分を排除しながら室温で１時間撹
拌し、ピリジン２ｍｌで処理した。固体物質をガラス吸
引濾過器を通して枦別し、この濾過器上をアセトン各５
０ｍ１で２回、即ち総量１００ｍＩｌのアセトンで洗浄
した１合液したｒ液を浴温３０℃で水流ポンプによる減
圧下にて回転蒸発機中で蒸発させた。残渣（黄色油）を
ｎ−ヘキサン６００ｍＮ及びＩＮ炭酸ナトリウム溶液１
００ｍ１で処理し、はげしく振盪して２相に溶解し・、
次に全体を分液ロート中で、ヘキサン並びにＩＮ炭酸ナ
トリウム溶液及び飽和塩化ナトリウム溶液からなる水相
に分配した。有機相を合液し、硫酸ナトリウム上で乾燥
し、浴温４０℃で水流ポンプによる減圧下にて回転蒸発
機中で約５０％溶液に濃縮した。淡黄色の溶液を、７５
０ｍ１スルホン化用フラスコ（撹拌機、温度計及び塩化
カルシウム管を備えた）中にて撹拌しながらアセトン／
ドライアイス浴仁よって一３０℃に冷却し、この温度で
５時間放置した。冷却した際に生成物は重い白色の結晶
状で分離し始めた。

この結晶を吸引枦別し、濾紙上でｎ−ヘキサン（−３５
℃に冷却したもの）１５０ｍｊ！で洗浄し、次に減圧下
（０，２ｍｍＨｇ）で乾燥炉中にて室温で、一定重量に
なるまで乾燥した。融点５８°〜５９℃の生成物２０２
ｇが得られた。母液から、蒸留及び留出物の結晶化によ
り、更に２９．６＃が得られ、従ってラセミ体の７．７
ａ−ジヒドロ−２，２，４，６，６−ベンタメチルー１
．３−ベンゾジオキソール−５（６Ｈ）−オン総収量は
２３１．６ｇであった。

撹拌機、温度計、塩化カルシウムを詰めた管を備えた冷
却器、圧力バランスを備えた１１の滴下ロート及びアル
ゴンガス導入口を備えた１０１のスルホン化用フラスコ
中に、マグネシウム細片６０．８ｇ及び無水テトラヒド
ロフラン５５０ｍＮを導入した６次に無水テトラヒドロ
フラン４２０ｍｅ中の臭化エチル２２６ｍ１の溶液を、
撹拌しながら５０分以内に滴下した。約１分後、強い発
熱的グリニアール反応が室温で自然に始まった。

水浴によって、５０°〜６０℃間の温度を保持できるよ
うに、滴下速度を調節した。

次にこの混合物を油浴（浴温８０℃）で加熱し、９０分
間撹拌した。

その後、混合物の温度を連続的に撹拌しながら４０℃に
調節し、次に無水テトラしドロフラン７５０ｍ１’中に
トリメチル−［（トランス−３−メチル−ベント−２−
エン−４−イン）−オキシコーシラン（１＃−ベントー
ルシリルエーテル）５００ｍｌの溶液を６５分間にわた
って滴下した。

上記の反応条件を保持しながら、この混合物を２．５時
間放置し、次に無水テトラヒドロフラン４２０ｍｊ！中
の前記の如くして製造したアセトニド［ラセミ体の７，
７ａ−ジヒドロ−２，２，４，６゜６−ベンタメチルー
１．３−ベンゾジオキソール−５（６Ｈ）−オン１２１
０．３ｇの溶液を３０分間にわたって滴下した。

反応条件（撹拌、４０℃、アルゴンガス通気）を更に１
６時間保持し、次に室温に冷却した溶液に、エーテル５
００ｍ１’を加えた。

この混合物を砕いた氷１０００ｙ及び９６％硫酸１１１
ｍｊ！の混合物に加え、そして１分間はげしく撹拌した
。

有機相をエーテル並びに飽和重炭酸ナトリウム溶液及び
飽和塩化ナトリウム溶液間に分配させた、有機相を合液
し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、浴温的５０℃で水流ポ
ンプによる減圧下で一定重量になるまで、回転蒸発機中
で蒸発させた。褐色油状物として租製の生成物４２０Ｆ
Ｉが得られ、このものをイソプロピルエール及びヘキサ
ンで精製した後、融点８４°〜８６℃の淡黄色結晶状で
、６−ヒドロキシ−３−（５−ヒドロキシ−３−メチル
−３−ペンテン−１−インイル）−２，４，４−トリメ
チル−２−シクロヘキセン−１−オン１８９ｇを得た。

次の工程において、１０１のスルホン化用フラスコ（撹
拌機、温度計、塩化カルシウム管及び不活性ガス導入装
置を備えた）中の上で得られたケトジオール（１５０ｇ
＞を、撹拌し且つアルゴンを通気しながら、塩化メチレ
ン４．５１及び米酢１０．９７５１に溶解した。この溶
液を０℃に冷却し、亜鉛末７５ｇで処理した。

アルゴン下にて０℃で撹拌しながら、３時間後に更に亜
鉛末２５ｙ、そして更に２時間後に２５ｇを加え、この
混合物を処理した。

ジンタート（ｓｉｎｔｅｒｅｄ）グラスフィルター上で
、冷時に混合物を濾過し、残渣をフィルター上で総ｊＬ
６００ｍｉ’の塩化メチレンで２回洗浄した。更に塩化
メチレンで処理し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し
、一定重量になるまで５０℃で蒸発させた後、褐色油１
５８．７ｙが得られ、このものをエーテル及びヘキサン
で精製した後、シス／トランス異性体混合物として、６
−ヒドロキシ−３−（５−ヒドロキシ−３−メチル−１
，３−ペンタジェニル）−２，４，４−トリメチル−２
−シクロヘキセン−１−オン１２０．６ｙを得た。

エーテルから結晶化させ、母液を蒸発させた後、融点９
２°〜９４℃の黄色結晶状でシス異性体８３ｇ並びに黄
色油状物としてシス及びトランス異性体（１：１）混合
物３５．’９ｇが得られた。

亜鉛及び氷酢酸で還元後に得られた異性体混合物を直接
前記の如くハロゲン化及びホスホニウム塩に転化するこ
とができた。

実施例２ 実施例１に述べた方法と同様にして、２５０ｍ１のスル
ホン化用フラスコ中で、６−ヒドロキシ−３−（５−ヒ
ドロキシ−３−メチル−１，３−ペンタジェニル）−２
，４，４−）リフチル−２−シクロヘキセン−１−オン
１０ｇを塩化メチレン６０ｍ１中で３７％塩酸１６ｍ１
と反応させて、対応するクロライドが得られ、このもの
をトリフェニルホスフィンと反応させて［（４Ｅ）−５
−（４−ヒドロキシ−２，６，６−ドリメチルー３−オ
キソ−１−シクロヘキセン−１−イル）−３−メチル−
２，４−ペンタジェニル］−トリフェニルホスホニウム
クロライド（融点１８４″′〜１８６℃）が得られ、後
者をまた実施例１に述べた方法と同様にして、２，７−
シスチルーオクタトリエンー＜２．４．６）−ジアール
−（１，８）と反応させてラセミ性アスタキサンチンを
生成させた。

実施例３ 実施例１及び２に述べた方法と同様にして、Ｃ（４Ｅ）
−５−（４−ヒドロキシ−２，６，６−トリメチル−３
−オキソ−１−シクロヘキセン−１−イル）−３−メチ
ル−２，４−ペンタジェニル］−トリフェニルホスホニ
ウムアイオダイド（融点１９６′″〜１９８℃）を経て
ラセミ体のアスタキサンチンが得られた。

実施例４ ７．７ａ−ジヒドロ−２，２，４，６，６ペンタメチル
ー１．３−ベンゾジオキソール−５−（６Ｈ）−オンの
アルキニル化に対して実施例１に用いなシリルエーテル
の代りに、またアセトンメチル−３−メチル−２−ペン
テン−４−インイルアセタール（１″−ベントール及び
−イソプロペニルメチルエーテルから製造）を用いるこ
とができた。

実施例５ また３、４−ジヒドロキシ−２，５，６−ドリメチルー
２−シクロヘキセン−１−オンにおけるヒドロキシ基の
保護は次の如く二量体化によって行うことができる： 式■及びＶＩａの互変異性体混合物１２０ｇをトルエン
１．４１に溶解し、撹拌機、温度計、水分離器及び不活
性ガス導入口を備えた２１の人ノシホン化用フラスコ中
にて、７０％通塩素酸７ｍｌで処理した。

撹拌し且つ窒素通気しながら、この混合物を、ガスクロ
マトグラフ分析によってもはや出発物質が検出できなく
なるまで、速流下（水分離器）で約５時間沸騰させた。

撹拌及び不活性ガスを通しながら、この混合物を室温に
冷却し、２８％水酸化ナトリウム１２ｍＮによってやや
アルカリ性にした。この混合物を３ｆｌの分液ロートに
入れ、総量６００ｍ１の水で２回洗浄し、最後に、浴温
６０℃で水流ポンプによる減圧下で一定重量になるまで
回転蒸発機中で蒸発させた。黄−褐色の粘性残渣を加温
しながらアセトン３００ｍ１に溶解し、次にこの溶液を
撹拌しながら水浴中で０℃に冷却した。これによって生
成物が速かに晶出し始めた。

これを冷蔵庫中に一夜放置し、次に結晶を吸引Ｐ別した
。結晶をフィルター上で総！５０ｍ１のアセトン（０℃
に冷却したもの）で２回洗浄し、次に水流ポンプによる
減圧下で５０℃で、一定重量になるまで乾燥炉中にて乾
燥した。母液を処理した後、融点２０６°〜２０９℃の
結晶状で出発物質の二量体エーテル８３．８ｙを得た。

このものをシリルエーテルでアルキニル化し、更に実施
例１に述べた方法と同様にして処理することができな。

実施例６ 光学的に活性なポリエン誘導体、特にアスタキサンチン
の２種の光学的対掌体を製造するために、−ラセミ体の
３．４−ジヒドロキシ−２，６，６−ドリメチルー２−
シクロヘキセン−１−オンを次の方法（ａ）及び（ｂ）
に従って分割した：（ａ）　　３．４−ジヒドロキシ−
２，６，６−）ジメチル−２−シクロヘキセン−１−オ
ン（実施例１に従って得られた互変異性体混合物形）４
０ｇを無水エーテル２５０ｍｆ及び無水メタノール５０
ｍ１に溶解した。無水エーテル２５ｍ１中の（Ｒ）−（
＋）−１−フェニルエチルアミン２８．７２の溶液を撹
拌しながら２０分以内に滴下した。

こうして油が徐々に分離し、温度が２６℃に上昇した。

この混合物を更に１６時間撹拌した。この間に分離した
油は消失し、黄色の軽い粉末の懸濁液を生じた。このも
のを無水エーテル各１５０ｍ１で４同士分に洗浄し、こ
れによって最初ねばつく濾過残渣は除々に固体になった
。濾過残渣を回転蒸発機中にて７０℃で酢酸エチル４０
０ｍ１に溶解し、種結晶を入れ、加熱浴を除去して回転
蒸発機中に一夜放置した。無色の晶出物をヂ別し、酢酸
エチル各１００ｍ１で３回洗浄した。濾過残渣を真空乾
燥炉中にて５０℃で一夜乾燥した６脱イオン水１００ｍ
１及び塩化メチレン１００ｍ１に溶解した上で得られた
ジアステレオマー塩１４．５７ｇを５００　ｍｌの分液
ロートに導入した。３Ｎ硫酸２０ｍ１の添加後、この混
合物を１分間はげしく撹拌した。分離した水相を塩化メ
チレン各１００ｍ１で２回逆抽出した０合液した塩化メ
チレン相を飽和塩化ナトリウム溶液２５ｍ１で洗浄し、
硫酸ナトリウム２０ｇ上で乾燥し、濾過し、乾燥剤をフ
ィルター上で塩化メチレン各５０ｍ１で２回すすいだ、
Ｐ液を浴温４０℃で回転蒸発機中にて一定重量になるま
で蒸発させた。

かくして得られた（３Ｓ）−ケトジオール［［α］。＝
−２７，２＠　（メタノール中０．５９％）］はラセミ
性ケトジオールに対して実施例１に述べた方法と同様に
して更に処理し、（３Ｓ。

３′Ｓ）−アスタキサンチン（サケに天然に存在する）
を得た。

（ｂ）　　３．４−ジヒドロ−２，６，６−ドリメチル
ー２−シクロヘキセン−１−オン（実施例１に従って得
られた互変異性体混合物状）４０ｇを無水エーテル２５
０ｍｆ及び無水メタノール５０ｍ１に溶解した。上記の
（ａ）部に述べた方法と同様にして更に処理し、（３Ｒ
）−ケトジオール［［αコ。＝＋２９．５°　（メタノ
ール中１％）］が得られ、このものを実施例１に述べた
方法と同様にして（３Ｒ，３’Ｒ）−アスタキサンチン
（酵母中に天然に存在する）に転化することができな。

実施例７ 脱イオン水４．５１’　、圧搾酵母５００ｇ、砂糖２５
０ｇ、２−ヒドロキシ−３，５，５−トリメチル−２−
シクロヘキセン−１，４−ジオン１０ｙ及び発泡防止剤
（ポリプロピレングリコールモノブチルエーテル）ｌｙ
からなる発酵液（ｆｅｒＩＩ＋ｅｎｔａｔｉｏｎ　ｂｒ
ｏｔｈ）も、表面に通気しく２４０１／時）且つ撹拌（
９００ｒｐｍ）Ｌながら、発酵器中にて３０℃で培養し
た１発酵を４日及び５日間行った後、それぞれ砂糖１０
０ｇを加えた。

７日間発酵を行った後、発酵液を塩化ナトリウムで飽和
し、ジエチルエーテルで連続的に抽出した。エーテルを
蒸発させた後、粗製の抽出物が得られ、このものは２種
の互変異性体発酵生成物、（−）−（Ｓ）−３，４−ジ
ヒドロキシ−２，６，６−ドリメチルー２−シクロヘキ
セン−１−オン及び（−）−（Ｓ）−３，６−シヒドロ
キシー２．４．４−トリメチル−２−シクロヘキセン−
１−オンを含んでいた。

実施例１に述べた方法と同様にしてアセトン化し、（７
ａＳ）−７，７ａ−ジヒドロ−２，２，４。

６．６−ベンタメチルー１，３−ベンゾジオキソール−
５（６Ｈ）−オンし融点７９°〜８０℃：［αコ。＝＋
１０５°　（ｃ＝０．１０２％、ジオキサン中）］が得
られ、このものを実施例１に述べた方法と同様にして（
３Ｓ、３’Ｓ）−アスタキサンチンに転化した。

特許出願人　エフ・ホフマン・う・ロシュ・ラント・コ
ンパニー・アクチェンゲゼル シャフト

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ I のラセミ体のまたは光学的に活性なジオールをハロゲン
   化し、そして得られるハライドをトリアリールホスフィ
   ンと反応させて一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼III 式中、Ｘはアリール基を表わし、そしてＹはハロゲンを
   表わす、 のホスホニウム塩を生成させることを特徴とするラセミ
   体のまたは光学的に活性なポリエン化合物の製造方法。 ２、式 I のジオールを臭素化またはヨウ素化する特許
   請求の範囲第１項記載の方法。 ３、式 ▲数式、化学式、表等があります▼Ｖ の２−ヒドロキシケトイソホロンを還元して式▲数式、
   化学式、表等があります▼VI のジオールを生成させ、該式VIのジオールにおける遊離
   のヒドロキシ基を適宜保護されたヒドロキシ基に変え、
   得られる生成物を適宜アルキニル化し、そして式 ▲数式、化学式、表等があります▼VI のラセミ体のまたは光学的に活性なアセチレンジオール
   に転化し、該アセチレンジオールを適宜部分的に還元し
   て式 ▲数式、化学式、表等があります▼ I のジオールを生成させることからなる特許請求の範囲第
   １項または第２項記載の方法の出発物質として適するシ
   クロヘキサノン化合物の製造方法。 ４、式Ｖの２−ヒドロキシケトイソボロンの還元を、対
   応するアルカリ金属塩をラネーニッケルで処理すること
   により行う特許請求の範囲第３項記載の方法。 ５、式VIのジオールにおける遊離のヒドロキシ基をアセ
   トン化によつて保護されたヒドロキシ基に転化する特許
   請求の範囲第３項または第４項記載の方法。 ６、該アセトン化を、アセトン、２，２−ジメトキシプ
   ロパンまたはイソプロペニルアルキルエーテルを用いて
   行う特許請求の範囲第５項記載の方法。 ７、該イソプロペニルアルキルエーテルとしてイソプロ
   ペニルメチルエーテルを用いる特許請求の範囲第６項記
   載の方法。 ８、式VIのジオールにおける遊離のヒドロキシ基をジオ
   ールの二量体化によつて保護されたヒドロキシ基に変え
   る特許請求の範囲第３項または４項記載の方法。 ９、該アルキニル化を、３−メチル−ペンテニン−（１
   または３）−オールのシリルエーテルを用いて、アセト
   ン３−メチル−２−ペンテン−４−インイルアセタール
   を用いて、或いはｔｅｒｔ−ブチル３−メチル−２−ペ
   ンテン−４−インイルエーテルを用いて行う特許請求の
   範囲第３〜８項のいずれかに記載の方法。 １０、式VIIのジオールの部分的還元を亜鉛及び氷酢酸
   を用いて行う特許請求の範囲第３〜７項のいずれかに記
   載の方法。 １１、式VIのラセミ体のジオールを分割用塩基によつて
   光学的に活性な形に分割し、そして更に本方法の工程に
   付すことからなる、光学的に活性なポリエン化合物を製
   造するための特許請求の範囲第１〜１０項のいずれかに
   記載の方法。 １２、該分割用塩基としてα−フェニルエチルアミンを
   用いる特許請求の範囲第１１項記載の方法。 １３、ラセミ体形及び光学的対掌体形における式 ▲数式、化学式、表等があります▼VI のジオール。 １４、ラセミ体形及び光学的対掌体形における式 ▲数式、化学式、表等があります▼VIII の化合物。 １５、ラセミ体形及び光学的対掌体形における式 ▲数式、化学式、表等があります▼VII のアセチレンジオール。 １６、ラセミ体形及び光学的対掌体形における式 ▲数式、化学式、表等があります▼ I のジオール。 １７、ラセミ体形及び光学的対掌体形における式 ▲数式、化学式、表等があります▼II 式中、Ｙはハロゲンを表わす、 の化合物。 １８、ラセミ体形及び光学的対掌体形における一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼III 式中、Ｘはアリール基を表わし、そしてＹはハロゲンを
   表わす、 のホスホニウム塩。 １９、Ｘがフェニル基を表わす、特許請求の範囲第１８
   項記載の式IIIのホスホニウム塩。