JPH03252466A - グラファイトインキ、蛍光体インキならびに陰極線管アノードの形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は陰極線管やプラズマデイスプレィ中に用いられ
る蛍光体をガラス面に塗布するためのグラファイトイン
キ、蛍光体インキ、ならびに陰極線管アノードの形成方
法に関するものである。

従来の技術 従来のカラーテレビの陰極線管アノード工程は蛍光面を
構成するガラス基板に適当な表面処理を施した後、ＰＶ
Ａ−重クロム酸アンモニウム感光液でパターン露光・現
像し、現像パターン上にグラファイト等の黒色物質を流
転し、剥離処理をして光吸収層を形成していた。蛍光体
パターンはＰＶＡ−重クロム酸アンモニウム感光液中に
蛍光体顔料を分散したスラリーを塗布・乾燥・露光・現
像・乾燥という工程を３回繰り返し、ＲＧＢの各層を形
成するという複雑なプロセスを用いていた。

さらにメタルバック層を形成する前に中間膜として有機
フィルム層を蛍光膜上に形成しメタルバック層を真空蒸
着している。その後前記ガラス基板を約４５０℃で焼成
して形成している。メタルバンク層は蛍光面で発した光
をメタル膜の鏡面作用により反射させ輝度の向上を図る
ためのものである。

一方、スクリーン印刷、オフセット印刷を用いた陰極線
管アノード形成用インキ組成物として特公昭５５−４１
６７１号公報に示されるようにアクリル樹脂を用いたも
のもみられるが、従来と同様メタルバック層を真空蒸着
している。

発明が解決しようとする課題 上記した陰極線管アノード形成プロセスは工程が非常に
長くかつ複雑であり、しかも湿式であるため多量の水が
必要となり、公害物質を含有した排水も多量に発生する
。また、湿式方式で形成されたパターンの精度に関して
も、露光−現像を繰り返すためエツジの直線性、スケ、
欠は等が発生し高品質のパターンを得ることが難しがっ
た。また、メタルバック層を真空蒸着で行うため多大な
設備投資を必要としていた。

さらに単にアクリル樹脂を用いた黒色印刷用グラファイ
トペーストでは、ガラス面との接着強度が弱く、光吸収
層、蛍光体層の剥落が発生していた。

本発明は上記課題を解決するもので、エツジの直線性に
優れ、スケ、欠は等の発生が少ない高品質のパターンを
得るためオフセット印刷を用い、この印刷法に適し、か
う印刷後にメタルバック層として多数の孔を有するアル
ミ薄膜で光吸収層、蛍光体層を覆った場合においても飛
散性が優れ、飛散性の劣化から生じる真空度低下を防ぎ
、かつ、ガラス面との接着強度が強く、光吸収層、蛍光
体層の剥落の発生を防止するグラファイトインキ、蛍光
体インキならびにこれらインキを用いた陰極線管を量産
するための陰極線管アノードの形成方法を捉供すること
を目的としている。

ＩＩ！！を解決するための手段 上記課題を解決するために本発明のグラファイトインキ
は、グラファイト粉末と解重合型有機バインダを含むビ
ヒクルと有機酸金属塩から構成されるものである。前記
グラファイトインキの有機バインダとしては少な（とも
ポリ−α−メチルスチレンと、ポリｉｓｏ−ブチルメタ
クリレート、ポリメチルメタクリレート、またはポリテ
トラフルオロエチレンのうち１種以上から構成される樹
脂を用い、前記有機バインダの重量平均分子量は１０万
〜１０００、好ましくは１万〜１０００の値を有するも
のである。また、有機酸金属塩としては、オクチル酸珪
素、オクチル酸アルミニウム、オクチル酸錫、オクチル
酸亜鉛のうち少なくとも１種以上、またはネオデカン酸
珪素、ネオデカン酸アルミニウム、ネオデカン酸銀、ネ
オデカン酸亜鉛のうち少なくとも１種以上から構成され
、前記有機酸金属塩の量は１０〜２重量％が好ましく、
最も好ましい有機酸金属塩量は６〜２重量％である。

さらに本発明の蛍光体インキは蛍光体粉末と解重合型有
機バインダを含むビヒクルとから構成されるものであり
、前記蛍光体インクの有機バインダとしては少なくとも
ポリ−α−メチルスチレンと、ポリｉｓｏ−ブチルメタ
クリレート、ポリメチルメタクリレート、またはポリテ
トラフルオロエチレンのうち１種以上から構成される樹
脂を用い、前記有機バインダの重量平均分子量は１０万
〜１０００、好ましくは４万〜１０００の値を有するも
のである。

また、前記インキ中の有機溶媒としては、α−テルピネ
オール、ブチルカルビトール、ブチルカルビトールアセ
テート、２．２．４−　）ジメチル１−３−ヒドロキシ
ペンチルイソブチレート、アマニ油、エチレングリコー
ルフェニールエーテルのうち少なくとも１種以上から構
成されるものであり、印刷パターンの直線性を考慮した
場合、この有機溶媒量がグラファイトインキではグラフ
ァイト粉末量に対して重量比で１２　：　１０〜１６　
：　１０が好ましく、蛍光体インキでは蛍光体粉末量に
対して重量比で１．５＝１０〜３．０：１０が好ましい
ものである。

さらに、本発明の陰極線管アノードの形成方法はグラフ
ァイトインキを凹版の凹部に充填する工程、凹版の凹部
中のグラファイトインキをシリコーン樹脂を主体とする
弾性体にて表面被覆したブランケット上に転写する工程
、前記ブランケット上に転写されたパターンを基板上に
転写印刷する工程と、蛍光体インキを凹版の凹部に充填
する工程、凹版の凹部中のインキをシリコーン樹脂を主
体とする弾性体にて表面被覆したブランケット上に転写
する工程、前記ブランケット上に転写されたパターンを
グラファイトパターンの形成された基板上に転写印刷す
る工程と、メタルパンク層として多数の孔を有するアル
ミ薄膜を光吸収層、蛍光体層を覆うように転写する工程
、前記アルミ薄膜で覆われた基板を焼成する工程より構
成されるものである。

作用 本発明は上記した構成Ｇこよって、高精細のグラファイ
トパターンと蛍光体パターンを基板上に簡単に形成でき
、ＣＲＴ・プラズマデイスフライ等の蛍光面形成にこの
方法を用いると、従来の湿式方法で問題となった大量の
水の使用、及び公害物質を含む排水等の問題が発生しな
いばかりが、真空蒸着を行う必要もないため大幅な製造
コストの低減が図れ、かつ精度の点からも高品質のパタ
ーンが得られ、さらには、ガラス面との接着強度が強い
光吸収層、蛍光体層が形成でき高信顧性の陰極線管を従
供することができるものである。

実施例 以下本発明のグラファイトインキ、蛍光体インキ、なら
びに陰極線管アノードの形成方法の−実施例を図面を参
照しながら説明する。

第１図はカラー陰極線管アノードの断面図を示したもの
であり、ガラス製のフェースプレート１０１の内面に黒
色物質からなる光吸収層１０２及び蛍光体層１０３を形
成し、メタルハック層１０４は、真空蒸着の替わりに、
多数の孔を有するアルミ薄膜を焼成以前に転写形成した
構成となっている。この後この基板を４３０〜４５０℃
で焼成し形成したものである。

実施例１ ３本ロールを用い、下記組成のミルベースを６回通して
練肉し、ブラックストライプ用のグラファイトインキを
作成した。このとき、樹脂は事前に溶剤中に撹拌溶解し
た。

この作成したインキの平行板粘度計における１分間フロ
ー値は１３ｍｎであり、このグラファイトインキを用い
てガラス板上に幅６５μｍ高さ４μｍのストライプを印
刷した。以下に印刷方法を示す。

凹版は幅７Ｏｕｍ版の深さ１５μｍのストライプ状にス
テンレスをエツチングしたものを用い、上記グラファイ
トインキを凹版上に滴下し、セラミック製のスクレーバ
ーにて凹版の全面をかきとり、版の凹部のみにグラファ
イトインキを残し、シリコーンゴム（ＪＩＳゴム硬度で
３５度）で５＋＋ｕｎの肉厚で表面被覆されたブランケ
ットを圧着し回転させて前記ブランケット上にストライ
プを転写した。

このときの印圧は３　ｋｇ／ｃｉｌｌで行った。さらに
、前記パターンを形成したブランケットを被転写体に圧
着し回転させて被転写体上にパターンを転写した。得ら
れたパターンは、直線性が良好で、スケや欠は等の無い
高品質のものであった。

ブランケットを表面被覆しているシリコーンゴムの硬度
がタンポ印刷の様に非常に低い場合は（１０度以下）、
ゴム状弾性体の変形量が大きくなり凹版パターンの忠実
な再現ができなくなり、あまりに硬いとブランケットと
インキとの接触が悪くなり忠実なパターンの再現が出来
なくなった。表面被覆用の弾性体の硬度としてＪＩＳゴ
ム硬度の３０度以上望ましくは、３５〜６０度の範囲の
ゴム硬度が、最適であった。

次にセラミック３本ロールを用いて、下記組成のミルベ
ースを６回通して練肉し蛍光体インキを作成した。樹脂
はグラファイトインキと同様に事前に溶剤中に攪拌溶解
した。

同様にして、赤色発光蛍光体としてＹｚＯｚＳ：Ｅｕ、
青色発光蛍光体として、ＺｎＳ：Ａｇを用いて、それぞ
れ赤色蛍光体インキ、青色蛍光体インキを作成した。凹
版として、幅１４５μｍ、深さ４０μｍのステンレスエ
ツチング版を用いて、実施例１と同様のグラビアオフセ
ット方式により、ガラス板上に緑色蛍光体パターンを印
刷した。順次赤色蛍光体インキ、青色蛍光体インキを所
定の位置に印刷し、ＲＧＢ３色の蛍光体パターンを得た
。

印刷されたパターンは、ストライプの均一性、直線性、
膜厚精度共に満足するものであった。

次にメタルハ・ツク層として、ＰＥＴフィルム上に蒸着
した厚さ１５００オングストロームのアルミ薄膜に多数
の微少な孔をあけ、圧力３ｋｇ／ｗ２で押圧し、光吸収
層、蛍光体パターン上に転写し用いた。この基板を４５
０℃で焼成すると有機物は焼失し、カラー陰極線管アノ
ードとして充分な光学特性のものが得られた。

実施例２ ３本ロールを用いて下記組成のミルベースを６回通して
練肉し、実施例１と同様にブラックストライプ用のグラ
ファイトインキを作成した。

上記組成のブラックストライプ用インキを用い、凹版（
幅６０μｍ、深さ２０μｍ）、ブランケット（ゴム強度
４５度シリコーンゴム、ゴム厚６閣）という印刷条件で
、ガラス基板にブラックストライプパターンを印刷した
。印刷されたブラックストライプパターンは、幅５５μ
ｍ、厚み５μｍで有り、良好な直線性を有していた。

次に実施例１と同様にセラミック３本ロールを用いて、
下記組成のミルベースを６回通して練肉し蛍光体インキ
を作成した。

同様にして、赤色発光蛍光体としてＹ、Ｏ□Ｓ：Ｅｕ蛍
光体を使用して赤色蛍光体インキ、青色発光蛍光体とし
てＺｎＳ：Ａｇを使用して青色発光体インキを作成した
。凹版として、実施例と同様ニ幅１４５μＴｎ、Ｎさ４
０ｕｍのステンレスエツチング版を用い、実施例１と同
様のグラビアオフセット方式によりガラス板上に緑色蛍
光体パターンを印刷した。順次赤色蛍光体インキ、青色
蛍光体インキを所定の位置に印刷し、ＲＧＢａ色の蛍光
体パターンを得た。印刷されたパターンは、ストライプ
の均一性、直線性、膜厚精度共に満足するものであった
。

次にメタルバック層として、ＰＥＴフィルム上に蒸着し
た厚さ１５００オングストロームのアルミ薄膜に多数の
微少な孔をあけ、圧力３　ｋｇ　／　ｍｍ　”で押圧し
、光吸収層、蛍光体パターン上に転写し用いた。この基
板を４５０℃で焼成すると有機物は焼失し、カラー陰極
線管アノードとして充分な光学特性のものが得られた。

この様器こして得られた蛍光面は、従来の湿式方式のよ
うに露光・現像を繰り返さないので蛍光体の脱落や、ス
ケ・欠は等の不良がなく高品質の蛍光面が得られた。ま
た、光吸収層、蛍光体パターンの連続印刷で蛍光面を形
成すると共に、メタルバック層として真空蒸着膜を形成
する替わりに、焼成以前に多数の孔を有するアルミ薄膜
を転写するため、工程の簡略化、工数の低減が図れる。

更に、重クロム酸アンモニウム等のクロムイオンによる
蛍光体の劣化もなくなり、蛍光体の最適膜厚と言われる
１０〜１２μｍの均一な厚みのパターンが得られるため
、従来工法と比較して１０％程度明るい陰極線管が得ら
れる。この様にして得られた蛍光面は、陰極線管やプラ
ズマデイスプレィ用のアノードとして供し得るものであ
った。

さらなる本発明のインキの特徴は、インキ印刷・焼成後
にメタルバック層として真空蒸着膜を形成する替わりに
、焼成以前に多数の孔を有するアルミ薄膜等で光吸収層
、蛍光体層を覆って焼成した場合にも飛散性の悪化によ
る真空度劣化を防ぐことが可能であり、より一層の工程
の簡略化が図れる。

第２図には実施例１で用いたｉｓｏ−ブチルメタクリレ
ートとα−メチルスチレンとの重合比に対する形成され
た陰極線管アノード部からの総出ガス量（４００℃５１
時間）曲線２０１を示す。一般に陰極線管アノードとし
て使用可能な真空度は１０−７〜１０−６オーダーであ
り、図から分かるように総出ガス量が１０−６オーダー
となる領域がα−メチルスチレン５〜２０重量％の時で
あった。

第３図には実施例２で用いた蛍光体粉末と有機溶媒を用
いたときの有機溶媒量／蛍光体粉末量（重量比）と蛍光
体インキの被転写体へ転写量曲線３０１を現す転写量曲
線図を示す。このとき、最も転写量の多い領域が有機溶
媒量／蛍光体粉末量（重量比）が０．１５〜０．３０の
領域であった。同様にグラファイトインキの有機溶媒量
／グラファイト粉末！（重量比）は１．２〜１．６であ
った。

第４図には、水圧０．１　ｋｇ／ｄ、水量１２０（ｌｄ
／分の流水で陰極線管アノード部（２５ｃＩＩｌ）を洗
浄乾燥した場合における焼成直後に対する重量減少と、
グラファイトインキ中のオクチル酸珪素含有量との関係
を示す重量減少曲線４０１を示す。第４図からも分かる
ようにオクチル酸珪素１０〜２重量％が重量減少が少な
く、密着強度が顕著に増加したことが分かる。最も好ま
しいオクチル酸珪素の含有量は６〜２重量％であった。

なお、樹脂として実施例１、実施例２においてポリｉｓ
ｏ−ブチルメタクリレート（ｉＢＭＡ）とポリ−αメチ
ルスチレン（α−ＭｅＳ　ｔ）の共重合体と、ポリｉｓ
ｏ−ブチルメタクリレート（ｉＢＭＡ）とポリメチルメ
タクリレートとポリ−α−メチルスチレン（αＭｅＳｔ
）の共重合体を用いたが、それぞれ単体で用いてもよい
。

しかし、通常の一般的なアクリル樹脂（例えばｎ−ブチ
ルメタクリレート）では飛散性が悪く使用に耐えなかっ
た。加えてポリテトラフルオロエチレン、ポリブテンを
用いることも可能である。もちろん樹脂相互の相溶性、
溶媒中への溶解量を考慮しての上でである。さらに顔料
分散を良好にするためグリシジルメタクリレート等を５
％以内で共重合したものも用いることが可能である。し
かし、前記樹脂中には少なくとも５〜２０重量％のα−
メチルスチレンを含むことが必要であり、この範囲を越
える領域、あるいはアクリル樹脂だけでは樹脂の飛散性
が悪く、形成した陰極線管の真空度劣化が生じた。また
、前記樹脂の平均分子量は１０万以上の分子量ではイン
キ粘度が高くなり印刷に不適となり、１０００未満では
焼成時における飛散性が悪化する。つまり、前記樹脂の
平均分子量は１０万〜１０００が好ましく、最も好まし
い平均分子量は１万〜１０００であった。

また、有機溶媒として実施例１、実施例３においてはブ
チルカルビトールアセテートを用い、実施例２において
α−テルピネオールを用いたが、これらに限定されるも
のではなく、ブチルカルビトール、２．２．４−　トリ
メチル１−３−ヒドロキシペンチルイソブチレート、エ
チレングリコールフェニールエーテルをそれぞれ単体あ
るいは混合して用いてもよく印刷条件、乾燥条件にあわ
せ用いることが可能である。

また、グラファイトインク中の有機酸金属塩としては実
施例１、実施例２中でオクチル酸珪素を用いたが、有機
酸金属塩はオクチル酸珪素、オクチル酸アルミニウム、
オクチル酸錫、オクチル酸亜鉛の少なくとも１種以上、
またはネオデカン酸珪素、ネオデカン酸アルミニウム、
ネオデカン酸銀、ネオデカン酸亜鉛のうち少なくとも１
種以上を用いれば良く、これら有機酸金属塩の含有量は
樹脂の飛散性から１０〜２重量％が好ましく、最も好ま
しい含有量は６〜２重量％である。また、グラファイト
粉末として実施例１、実施例２において平均粒径０．４
μｍの粉体を用いたが、平均粒径としては、０．２〜１
．０μｍの大きさであれば良い。

蛍光体粉末として実施例１、実施例２において、平均粒
径５．２μｍのものを用いたがこの値に規定されるもの
ではなく、平均粒径２．ｏ〜１５．０　ｐ　ｍのものが
使用可能である。さらに、本実施例２では、赤、緑、青
の蛍光体粉を用いたが、青色発光蛍光体には、青色顔料
、例えば、コバルトブルー顔料を付着させた顔料付き蛍
光体でも、蛍光体単独でも使用可能である。また、緑色
発光蛍光体には、緑色顔料、例えば、酸化クロム顔料を
付着させた顔料付き蛍光体でも、蛍光体単独でも使用可
能である。また、蛍光体粉末としては、テレビ用、デイ
スプレィ用、投写管用、特殊管用等の蛍光体に適用でき
、例えば、赤色発光蛍光体としては、上記Ｙ２０□Ｓ：
Ｅｕ蛍光体だけでなく、Ｙ　ｚ　Ｏｙ　：　Ｅ　ｕ、Ｙ
ＶＯ，：Ｅｕ５ＣａＳ：Ｅｕ等を使用してもよく、緑色
発光蛍光体としてはＺｎ、５ｉＯａ：ＭｎＡｓ、（Ｙ、
Ｇｄ）ｚｏｚｓ　：　Ｔｂ、Ｉ　ｎＢＯ：ｌ：Ｔｂ。

Ｙ２ＳｉＯ５：Ｔｂ、Ｌａ０ＣＩ　：Ｔｂ等を、青色発
光蛍光体としてはＹ２Ｓ　ｉ　Ｏ，：Ｃｅ、（ＳｒＣａ
Ｂａ）ｓ（Ｐｏ４）ｚＣＩ　：　Ｅｕ等を、そして、橙
色発光蛍光体としてＩｎＢＯ３：Ｅｕ等を使用してもよ
い。

発明の効果 以上のように本発明は、グラファイト粉末と解重合型有
機バインダを含むビヒクルと有機酸金属塩から構成され
るグラファイトインキと、蛍光体粉末と解重合型有機バ
インダを含むビヒクルから構成される蛍光体インキと、
前記グラファイトインキと蛍光体インキをオフセット印
刷を用いて印刷パターンを形成することを特徴としてお
り、さらには、前記グラファイトインキと蛍光体インキ
を用いることにより、メタルバック層の真空蒸着工程の
替わりに、多数の孔を有するアルミ薄膜を焼成以前に転
写形成後焼成する事も可能となり、より一層の工程の簡
略化が図れるものである。このときのコスト削減率は１
／１０にも達するものであり、陰極線管やプラズマデイ
スプレィ等の蛍光体製品等のパターン製品に応用すると
、大きな製造設備を必要とすることなく高品質で安価な
製品が得られるものである。また、ガラス面との接着強
度が強い光吸収層、蛍光体層が形成でき高信顛性の陰極
線管を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のカラー陰極線管アノードの断面図、第
２図はｉｓｏ−ブチルメタクリレートとα−メチルスチ
レンとの重合比に対する形成された陰極線管アノード部
からの総出ガス量曲線を現す総出ガス量曲線図、第３図
は有機溶媒量／蛍光体粉末量（重量比）と蛍光体インキ
の被転写体への転写量曲線を現す転写量曲線図、第４図
は陰極線管アノード部（２５ｃｉｉｌ）を洗浄乾燥した
場合における焼成直後に対する重量減少と、グラファイ
トインキ中のオクチル酸珪素含有量との関係を示す重量
減少曲線を示す重量減少曲線図である。 １０１・・・・・・フェースプレート、１０２・・・・
・・光吸収層、１０３・・・・・・蛍光体層、１０４・
・・・・・メタルバック層、２０１・・・・・・層比ガ
ス量曲線、３０１−・・・・・転写量曲線、４０１・・
・・・・重量減少曲線。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）グラファイトインキ粉末と解重合型有機バインダ
   を含むビヒクルと有機酸金属塩から構成されることを特
   徴とするグラファイトインキ。 （２）有機バインダが少なくともポリ−α−メチルスチ
   レンと、ポリｉｓｏ−ブチルメタクリレート、ポリメチ
   ルメタクリレートまたはポリテトラフルオロエチレンの
   内１種以上から構成されることを特徴とする請求項（１
   ）記載のグラファイトインキ。 （３）有機バインダがα−メチルスチレンとｉｓｏ−ブ
   チルメタクリレートの共重合体から構成されることを特
   徴とする請求項（１）記載のグラファイトインキ。 （４）有機バインダがｉｓｏ−ブチルメタクリレート８
   ０〜９５重量％、α−メチルスチレン２０〜５重量％の
   比からなる共重合体で構成されることを特徴とする請求
   項（１）または（３）のいずれかに記載のグラファイト
   インキ。 （５）有機バインダの重量平均分子量が１０万〜１００
   ０から構成されることを特徴とする請求項（１）または
   （４）のいずれかに記載のグラファイトインキ。 （６）有機バインダの重量平均分子量が１万〜１０００
   から構成されることを特徴とする請求項（１）または（
   ４）のいずれかに記載のグラファイトインキ。 （７）有機バインダが３０〜４５重量％、有機溶媒量が
   ２５〜４０重量％、グラファイト粉末が１２〜３０重量
   ％、有機酸金属塩が２〜６重量％から構成されることを
   特徴とする請求項（１）または（４）のいずれかに記載
   のグラファイトインキ。 （８）有機バインダとして、平均分子量３５０〜２００
   ０のポリブテンを含むことを特徴とする請求項（１）ま
   たは（４）のいずれかに記載のグラファイトインキ。 （９）平行板粘度計による１分間フロー値が１５ｍｍ未
   満であることを特徴とする請求項（１）または（４）の
   いずれかに記載のグラファイトインキ。 （１０）有機溶媒量がグラファイト粉末量に対して重量
   比で１２：１０〜１６：１０であることを特徴とする請
   求項（１）または（４）のいずれかに記載のグラファイ
   トインキ。（１１）平均粒径が０．２〜１．０μｍのグ
   ラファイト粉末から構成されることを特徴とする請求項
   （１）または（４）のいずれかに記載のグラファイトイ
   ンキ。 （１２）有機溶媒がα−テルピネオール、ブチルカルビ
   トール、ブチルカルビトールアセテート、２，２，４−
   トリメチル１−３−ヒドロキシペンチルイソブチレート
   、アマニ油、エチレングリコールフェニールエーテルの
   うち少なくとも１種以上から構成されることを特徴とす
   る請求項（１）または（４）のいずれかに記載のグラフ
   ァイトインキ。 （１３）有機酸金属塩が、オクチル酸珪素、オクチル酸
   アルミニウム、オクチル酸錫、オクチル酸亜鉛、オクチ
   ル酸チタンのうち少なくとも１種以上から構成されるこ
   とを特徴とする請求項（１）または（４）のいずれかに
   記載のグラファイトインキ。 （１４）有機酸金属塩１０〜２重量％から構成されるこ
   とを特徴とする請求項（１）または（１３）のいずれか
   に記載のグラファイトインキ。 （１５）有機酸金属塩６〜２重量％から構成されること
   を特徴とする請求項（１）または（１３）のいずれかに
   記載のグラファイトインキ。 （１６）有機酸金属塩が、ネオデカン酸珪素、ネオデカ
   ン酸アルミニウム、ネオデカン酸錫、ネオデカン酸亜鉛
   、ネオデカン酸チタンのうち少なくとも１種以上から構
   成されることを特徴とする請求項（１）または（４）の
   いずれかに記載のグラファイトインキ。 （１７）有機酸金属塩１０〜２重量％から構成されるこ
   とを特徴とする請求項（１）または（１６）のいずれか
   に記載のグラファイトインキ。 （１８）有機酸金属塩６〜２重量％から構成されること
   を特徴とする請求項（１）または（１６）のいずれかに
   記載のグラファイトインキ。 （１９）蛍光体粉末と、解重合型有機バインダを含むビ
   ヒクルから構成されることを特徴とする蛍光体インキ。 （２０）有機バインダから少なくともポリ−α−メチル
   スチレンと、ポリｉｓｏ−ブチルメタクリレート、ポリ
   メチルメタクリレートまたはポリテトラフルオロエチレ
   ンのうち１種以上から構成されることを特徴とする請求
   項（１９）記載の蛍光体インキ。 （２１）有機バインダがα−メチルスチレンとｉｓｏ−
   ブチルメタクリレートの共重合体から構成されることを
   特徴とする請求項（１９）記載の蛍光体インキ。 （２２）有機バインダがα−メチルスチレン５〜２０重
   量％、ｉｓｏ−ブチルメタクリレート６０〜９５重量％
   、メチルメタクリレート２０〜２５重量％の比からなる
   共重合体で構成されることを特徴とする請求項（１９）
   または（２１）記載の蛍光体インキ。 （２３）有機バインダの重量平均分子量が１０万〜１０
   ００から構成されることを特徴とする請求項（１９）ま
   たは（２２）のいずれかに記載の蛍光体インキ。 （２４）有機バインダの重量平均分子量が４万〜１００
   ０から構成されることを特徴とする請求項（１９）また
   は（２２）のいずれかに記載の蛍光体インキ。 （２５）有機バインダとして、平均分子量３５０〜２０
   ００のポリブテンを含むことを特徴とする請求項（１９
   ）または（２２）のいずれかに記載の蛍光体インキ。 （２６）有機バインダが５〜１３重量％、有機溶媒量が
   １５〜２２重量％、蛍光体粉末が７０〜８０重量％から
   構成されることを特徴とする請求項（１９）または（２
   ２）のいずれかに記載の蛍光体インキ。 （２７）有機溶媒量が蛍光体粉末量に対して重量比で１
   ．５：１０〜３．０：１０であることを特徴とする請求
   項（１９）または（２２）のいずれかに記載の蛍光体イ
   ンキ。 （２８）平均粒径が２．０〜１５．０μｍの蛍光体粉末
   から構成されることを特徴とする請求項（１９）または
   （２２）のいずれかに記載の蛍光体インキ。 （２９）有機溶媒がα−テルピネオール、ブチルカルビ
   トール、ブチルカルビトールアセテート、２，２，４−
   トリメチル１−３−ヒドロキシペンチルイソブチレート
   、アマニ油、エチレングリコールフェニールエーテルの
   うち少なくとも１種以上から構成されることを特徴とす
   る請求項（１９）または（２２）のいずれかに記載の蛍
   光体インキ。 （３０）蛍光体粉末が下記の条件から構成されることを
   特徴とする請求項（１９）または（２２）のいずれかに
   記載の蛍光体インキ。 赤色発光蛍光体、Ｙ＿２Ｏ＿２Ｓ：Ｅｕ、 緑色発光蛍光体、ＺｎＳ：Ｃｕ、Ａｌ、 青色発光蛍光体、ＺｎＳ：Ａｇ （３１）グラファイトインキを凹版の凹部に充填する工
   程、凹版の凹部中のグラファイトインキをシリコーン樹
   脂を主体とする弾性体にて表面被覆したブランケット上
   に転写する工程、前記ブランケット上に転写されたパタ
   ーンを基板上に転写印刷する工程と、蛍光体インキを凹
   版の凹部に充填する工程、凹版の凹部中のインキをシリ
   コーン樹脂を主体とする弾性体にて表面被覆したブラン
   ケット上に転写する工程、前記ブランケット上に転写さ
   れたパターンをグラファイトパターンの形成された基板
   上に転写印刷する工程と、メタルバック層として多数の
   孔を有するアルミ薄膜を光吸収層、蛍光体層を覆うよう
   に転写する工程、前記アルミ薄膜で覆われた基板を焼成
   する工程より構成されることを特徴とする陰極線管アノ
   ードの形成方法。 （３２）シリコーン樹脂を主体とする弾性体の硬度が３
   ０〜６０度であることを特徴とする請求項（３１）記載
   の陰極線管アノードの形成方法。 （３３）凹版の凹部中のインキをシリコーン樹脂を主体
   とする弾性体にて表面被覆したブランケット上に転写す
   る工程における転写圧力と、前記ブランケット上に転写
   されたパターンを基板上に転写印刷する工程における印
   刷圧力が２〜１０ｋｇ／ｃｍ＾２であることを特徴とす
   る請求項（３１）記載の陰極線管アノードの形成方法。 （３４）焼成温度が４３０〜４８０℃で行うことを特徴
   とする請求項（３１）の陰極線管アノードの形成方法。 （３５）アルミ薄膜の中の開孔率が２０〜４０％である
   ことを特徴とする請求項（３１）の陰極線管アノードの
   形成方法。