JPH03252395A - 高解離圧単結晶の製造方法 - Google Patents
高解離圧単結晶の製造方法Info
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
等の■−■族化合物半導体、並びに、CdTe、 Hg
CdTe、 Zn5e、 ZnSSe等のIt−Vl族
化合物半導体などの高解離圧単結晶を、高解離圧成分元
素ガスを封入した気密容器中でチョクラルスキー法によ
り製造する方法に関する。
は、従来のチョクラルスキー法やLEC法とは異なり、
成長した高解離圧単結晶表面で分解反応が生じて結晶の
品質を悪化することもなく、低い欠陥密度の高均一性を
有する単結晶を製造することができるという特徴がある
。
で高解離圧単結晶をチョクラルスキー法で製造する従来
装置の断面図である。チャンバー1内には、高解離圧成
分元素ガスを密閉するための気密容器10が配置されて
おり、種結晶9を下端に取り付けて単結晶8を引き上げ
る上軸2、及び、サセプタ4で支持されたるっぽ5をそ
の上端で支持する下軸3は、チャンバー1及び気密容器
10を貫通し、該るつぼ5内には原料融液6と液体封止
剤7を収容し、気密容器10の貫通部分に液体封止剤1
3並びに14を収容する受皿11並びに12を設け、該
受皿11並びに12の中央開口部は上軸2並びに下軸3
とそれぞれ摺動して、該軸を回転昇降可能として、かつ
、液体封止剤の流下を防止する構造を有している。気密
容器10の上方には、高解離圧成分元素17を収容する
アンプル18を導管22を介して気密容器10と接続し
、気密容器10内に所定の高解離圧成分元素ガス分圧を
確保するためのヒータ21をアンプル18の周囲に配置
し、下軸貫通部の液体封止剤13並びに下軸貫通部の液
体封止剤14を溶融させるためのヒータ19並びに20
を配置し、るつぼ5の周囲にはヒータ15及び16を配
置する。
器10内に直接置くことも可能であり、その場合はアン
プル18を省略することができる。
体封止剤及び高解離圧成分元素を所定の場所に挿入し、
チャンバー1内を一旦真空に排気した後、ヒータ19及
び20を加熱して液体封止剤13及び14を溶融し、気
密容器10を密封し、次いで、ヒータ21を加熱して、
単結晶8及び原料融液6の分解反応を抑制するように、
気密容器10内の高解離圧成分元素ガスの分圧を調整し
、同時に、これに見合う窒素、アルコ゛ン等の不活性ガ
スをチャンバー1内に満たす。また、必要に応じて、気
密容器10を封止する前に、上記の不活性ガスを導入し
て、不活性ガスの一部を気密容器10内に導入して、高
解離圧成分元素ガスと不活性ガスにより気密容器内を所
定の圧力を確保することも可能である。次いで、ヒータ
15及び16を加熱して原料融液6及び液体封止剤7の
温度を調整し、かつ、気密容器10の壁面を加熱して高
解離圧成分元素の析出を防止することにより高解離圧成
分元素ガスの分圧を維持した状態で、上軸2を降下して
種結晶9を原料融液6に十分になじませて種付けし、直
径を制御しながら単結晶8を引き上げる。なお、気密容
器10内に十分高い高解離圧成分元素ガス分圧が得られ
る場合は、るつぼ5内の液体封止剤7を省略してもよい
。
22及び受皿13は、石英、カーボン、pBNs si
c、気密質のカーボン、カーボンにpBNをコーティン
グしたもの、カーボンに気密質カーボンをコーティング
したもの、カーボンにSiCをコーティングしたものな
どにより作られる。また、液体封止剤I3.14として
は、B t O−が使用される。
ーパワーを徐々に下げて室温まで冷却する方法が採用さ
れていた。その結果、気密容器を上下軸が貫通する受皿
内の液体封止剤は、硬くガラス状に固化して収縮するた
め、収縮の過程で、石英、カーボン、pBN、気密質の
カーボン、SiC等の脆い材料で作られた受皿に割れを
生じさせたり、pBN、気密質カーボン、SIC等の受
皿のコーティング層が剥離する不都合がしばしば発生し
た。そのため、気密容器の寿命は一般に著しく短く、大
変高価な気密容器を頻繁に交換する必要があり、コスト
増の大きな要因になっていた。
、その寿命を長くすることにより、単結晶の製造コスト
を低減させることを可能にした高解離圧単結晶の製造方
法を提供しようとするものである。
つぼの回転軸が気密容器を貫通する部分に受皿を設け、
該受皿に収容する液体封止剤により、上記貫通部分をシ
ールした気密容器に高解離圧成分元素ガスを封入し、該
気密容器内でチョクラルスキー法により高解離圧単結晶
を製造する方法において、単結晶育成終了後、気密容器
を収容するチャンバー内を1気圧以下に減圧した状態で
450℃以下の温度まで冷却し、その後、通常の方法で
、育成単結晶の取り出しと次の単結晶育成の準備を行う
ことを特徴とする高解離圧単結晶の製造方法である。
器の上端に環状の受皿を設け、該受皿に収容する液体封
止剤中に上部容器の下端を浸漬することにより、上下に
分離可能とすることも可能であり、また、高解離圧成分
を気密容器に供給するためのアンプルについては、高解
離圧成分を収容するアンプルと気密容器を接続する導管
を途中で分離し、下部導管の上端に環状の受皿を設け、
該受皿に収容する液体封止剤中に上部導管の下端を浸漬
することにより、上記アンプルの取り出しを容易にする
ことも可能である。これらのシール部についても、上下
軸シール部と同様に本発明の方法が有効に機能する。
封止剤が、高温で軟化した状態において1気圧以下に減
圧するもので、単結晶育成時の高圧で液体封止剤中に溶
は込んだ高解離圧成分、C01Fl、O等が、上記減圧
により気化し、液体封止剤中に気泡を形成する。そして
、液体封止剤の硬化温度である450℃以下の温度まで
冷却し、多量の気泡を取り込んだ状態のまま液体封止剤
を固化する。
収縮力は多量の気泡により吸収されて相当に小さなもの
となり、もはや受皿に割れをもたらしたり、コーティン
グ層を剥離することもなくなる。本発明は、このように
単結晶育成後の簡単な操作方法を採用することにより、
気密容器の寿命を著しく長くすることができ、単結晶の
製造コストを大幅に低減することを可能にした。
成した。モリブデン製の上下軸を用い、気密容器、アン
プル、導管及び受皿は材質pBNコーティングのカーボ
ンで作り、受皿の中央の開口部分も同じ材質で作った。
結晶原料4.0Kg及びB、03液体封止剤300gを
チャージした。上下軸の受皿にもB2O3液体封止剤を
収容した。また、アンプルにはヒ素500gを収容した
。単結晶育成時には、アンプルは615℃以上に加熱し
て、気密容器にヒ素ガスを供給してヒ素と窒素の混合ガ
スで気密容器内を15Kg/am”に加圧した。そして
、上軸の回転速度を5rp111.下軸の回転速度を2
0 r p m s引上速度を6+nm/hrとして、
重さ3.5Kg、直径80IIII111長さ150m
mの単結晶を育成した。
で冷却し、冷却の途中で800〜900 ℃において、
チャンバー内を0.05Torrまで減圧してそのまま
室温に戻した。このような単結晶の育成を繰り返したと
ころ、従来法では、平均して1〜3回で気密容器が損傷
したが、本実施例では、20〜30回まで繰り返して使
用することができた。
密容器の寿命を大幅に延長することができ、単結晶の製
造コストの低減に大きく寄与するものである。
Claims (3)
- (1)単結晶の引上軸並びに原料融液を収容するるつぼ
の回転軸が気密容器を貫通する部分に受皿を設け、該受
皿に収容する液体封止剤により、上記貫通部分をシール
した気密容器に高解離圧成分元素ガスを封入し、該気密
容器内でチョクラルスキー法により高解離圧単結晶を製
造する方法において、単結晶育成終了後、気密容器を収
容するチャンバー内を1気圧以下に減圧した状態で45
0℃以下の温度まで冷却し、その後、通常の方法で、育
成単結晶の取り出しと次の単結晶育成の準備を行うこと
を特徴とする高解離圧単結晶の製造方法。 - (2)上記の気密容器を上下に分割し、下部容器の上端
に環状の受皿を設け、該受皿に収容する液体封止剤中に
上部容器の下端を浸漬して形成した気密容器を用いるこ
とを特徴とする請求項(1)記載の高解離圧単結晶の製
造方法。 - (3)高解離圧成分を収容するアンプルを、上記の気密
容器に導管を介して接続して、高解離圧成分を気密容器
に供給するときに、上記導管を途中で分離し、下部導管
の上端に環状の受皿を設け、該受皿に収容する液体封止
剤中に上部導管の下端を浸漬して形成してシールした、
高解離圧成分供給手段付設の気密容器を用いることを特
徴とする請求項(1)又は(2)記載の高解離圧単結晶
の製造方法。
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JPH03252395A true JPH03252395A (ja) | 1991-11-11 |
JP2830307B2 JP2830307B2 (ja) | 1998-12-02 |
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- 1990-02-28 JP JP4586490A patent/JP2830307B2/ja not_active Expired - Lifetime
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