JP3551607B2

JP3551607B2 - ＧａＡｓ単結晶の製造方法

Info

Publication number: JP3551607B2
Application number: JP05196396A
Authority: JP
Inventors: 隆鈴木
Original assignee: Hitachi Cable Ltd
Current assignee: Hitachi Cable Ltd
Priority date: 1996-03-08
Filing date: 1996-03-08
Publication date: 2004-08-11
Anticipated expiration: 2016-03-08
Also published as: JPH09241096A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＧａＡｓ単結晶の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＧａＡｓ（ガリウム砒素）の単結晶は、磁電変換素子、ＦＥＴ（電界効果トランジスタ）、ＩＣ、ＬＳＩ、ＨＥＭＴ（ＨｉｇｈＥｌｅｃｔｒｏｎＭｏｂｉｌｉｔｙＴｒａｎｓｉｓｔｏｒ）等の高速高周波素子等の基板として広い用途で使用されている。これらの素子に用いられる基板材料の単結晶は主にＬＥＣ法（ＬｉｑｕｉｄＥｎｃａｐｓｕｌａｔｅｄＣｚｏｃｈｒａｌｓｋｉ：液体封止引上法）によって製造される。ＬＥＣ法では、以下のように単結晶を製造する。圧力容器内に設置したｐＢＮルツボに原料及び原料元素と反応性の低い液体封止剤を収容して、容器内部に不活性ガス（例えばＡｒガス）を所定の圧力だけ封入する。ルツボの外周部に位置するヒータで加熱して、ＧａＡｓ融液をつくる。ＧａＡｓ融液に種結晶を付け、徐々に種結晶を引上げ、所定の径に制御しながら引き上げていくことによりＧａＡｓの種結晶が得られる。
【０００３】
このＬＥＣ法による単結晶の製造では、炭素が結晶中に不純物として混入する。ＧａＡｓ結晶中の炭素は浅いアクセプタとなり、その濃度の高低で結晶の電気的特性が変化する。ＧａＡｓウェハに求められる電気特性は、ウェハが基板として使われる素子の種類によって異なる。このため、結晶中に含まれる炭素濃度は、結晶の先端から後端にわたって均一であることが望ましい。また、このような単結晶を再現性よく成長する方法が必要とされている。
【０００４】
ＬＥＣ法によるＧａＡｓ単結晶に混入する炭素は、結晶成長中に、圧力容器内の雰囲気ガス中の一酸化炭素から供給される。このため結晶成長中の容器内の一酸化炭素濃度を所定の値に制御することで、単結晶に含まれる炭素濃度を希望する値にする方法が行われている。
【０００５】
一酸化炭素濃度を制御する方法としては、図６に示すような結晶成長炉を用いて行われている。図６は従来のＧａＡｓ単結晶の製造方法を適用した結晶成長炉の概念図であり、ＧａＡｓ単結晶の製造途中を示している。
【０００６】
同図に示すように、圧力容器１内には圧力容器１の底部を貫通したルツボ支持軸２によって有底無蓋の筒状のルツボ３が支持されている。ルツボ３の周囲には筒状のヒータ４が配置されている。ルツボ３内にはヒータ４の熱で溶融したＧａＡｓ（ＧａＡｓ融液）５が収容され、ＧａＡｓ融液５の表面は液体封止剤６で封止されている。ルツボ３の上方には、圧力容器１の蓋部を貫通すると共に鉛直方向に移動自在な結晶引上げ軸７が設けられている。結晶引上げ軸７の下端にはＧａＡｓの種結晶８が取り付けられている。圧力容器１の下方の側壁には略Ｆ字状の配管９の一端が接続されている。この配管９の一方の他端にはバルブ１０を介してＣＯ（一酸化炭素）ガス混入Ａｒガスボンベ１１が接続され、配管９の他方の他端にはバルブ１２を介して純Ａｒ（アルゴン）ガスボンベ１３が接続されている。
【０００７】
圧力容器１の上方の側壁には余分なガスを排出するためのバルブ１４付きの配管１５が接続されている。圧力容器１の蓋部にはバルブ１６付きの配管１７を介してＣＯ濃度計１８が接続されている。尚、１９はガス排出用の配管である。
【０００８】
結晶成長炉２１は、主に圧力容器１、ルツボ３、ヒータ４及び結晶引上げ軸７で構成されている。
【０００９】
このような結晶成長炉２１を用いてＧａＡｓ単結晶２０を製造するには、ヒータ４でルツボ３内のＧａＡｓ融液５を加熱すると共に、バルブ１０，１２，１４を開いてＡｒガスとＣＯガス混入Ａｒガスとを圧力容器１内に導入し、余分なガスを排出すると共に、結晶引上げ軸７を降下させ、種結晶８をＧａＡｓ融液５に付けた後、結晶引上げ軸７を回転させながら徐々に引き上げると炭素を含むＧａＡｓ単結晶２０が得られる。
【００１０】
このとき結晶成長炉２１内のガス中の一酸化炭素ガス濃度（以下「ＣＯ濃度」という）は、ＣＯ濃度計１８でモニターされており、ＣＯ濃度が所定の値より高い場合には、ＣＯガスを含まない不活性なＡｒガスを結晶成長炉２１内に導入し、かつ、結晶成長炉２１内の余分なガスを排出することによりＣＯ濃度が下がる。また、ＣＯ濃度が所定の値より低い場合には、ＣＯガスが混じったガスを結晶成長炉２１内に導入し、かつ結晶成長炉２１内の余分なガスを排出することによりＣＯ濃度が上がる。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した従来の方法によって、ＧａＡｓ単結晶成長中のガス中のＣＯ濃度を所定の濃度に制御する場合、ＡｒガスとＣＯガス混入Ａｒガスとのガス封入、排出を１回だけで行おうとすると、結晶成長炉２１内のＣＯ濃度が所定の濃度を超えたり、所定の濃度に達しないことが多い。
【００１２】
このため、ＣＯ濃度を所定の濃度に制御するのに結晶成長炉２１内に何回もガスを封入したり、排出したりしなければならない。これは結晶成長炉２１内に封入するガスの濃度が、ＧａＡｓ単結晶成長中の結晶成長炉２１内のＣＯ濃度に比べて、かなり高かったり、低かったりするため、ガスの封入や排出による結晶成長炉２１内のガス置換を短時間で行わなければならないことが一因であると考えられる。このようなガスの封入、排出による結晶成長炉２１内のガス置換を行った場合、ヒータ４のパワー制御が不十分となりＧａＡｓ融液５の温度が変動することがある。ＧａＡｓ融液５の温度が変動すると、ＧａＡｓ単結晶２０の径が変動し、単結晶を成長することが困難となる。また、短時間ではあるが、結晶成長炉２１内のＣＯ濃度が所定の濃度より高くなったり低くなったりするため、成長したＧａＡｓ単結晶２０の軸方向の炭素濃度が、希望する炭素濃度に対して高くなったり低くなったりするという問題があった。
【００１３】
そこで、本発明の目的は、上記課題を解決し、先端から後端にわたって希望する炭素濃度に対して均一なＧａＡｓ単結晶の製造方法を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明は、液体封止引上げ法によってＧａＡｓ単結晶を製造すると共に、ＧａＡｓ単結晶に含まれる炭素濃度を、結晶成長炉内の雰囲気ガス中の一酸化炭素濃度を測定し、一酸化炭素ガスを適宜導入することにより制御するＧａＡｓ単結晶の製造方法において、結晶成長炉内に封入するガス中の一酸化炭素濃度Ｃ１を、結晶成長炉内の雰囲気ガス中の一酸化炭素濃度Ｃ２に対して、０．８×Ｃ２≦Ｃ１≦１．２×Ｃ２を満足させるよう調節するものである。
【００１６】
上記構成によって、結晶成長炉内に封入するガス中の一酸化炭素濃度を所定の範囲内になるように調節するので、一酸化炭素濃度調節後のガスを結晶成長炉内に導入しても結晶成長炉内の雰囲気ガス中の一酸化炭素の濃度が所定の範囲を上回ることがない。また、一酸化炭素濃度調節後のガスを結晶成長炉内に導入するときに結晶成長炉内の余分な雰囲気ガスを排出することにより結晶成長炉内の雰囲気ガス中の一酸化炭素の濃度が所定の範囲を下回ることがない。従って結晶成長炉内の雰囲気ガス中の一酸化炭素濃度が均一となり、先端から後端にわたって希望する炭素濃度に対して均一なＧａＡｓ単結晶が得られる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を添付図面に基づいて詳述する。
【００１８】
図１は本発明のＧａＡｓ単結晶の製造方法を適用した結晶成長炉の一実施の形態を示す概念図であり、ＧａＡｓ単結晶の製造途中を示している。
【００１９】
同図に示すように圧力容器３０内には圧力容器３０の底部を貫通したルツボ支持軸３１によって有底無蓋の筒状のｐＢＮルツボ３２が支持されている。ｐＢＮルツボ３２の周囲には筒状のヒータ３３が配置されている。ｐＢＮルツボ３２内にはヒータ３３の熱で溶融したＧａＡｓ融液３４が収容され、ＧａＡｓ融液３４の表面は液体封止剤３５で封止されている。ｐＢＮルツボ３２の上部には、圧力容器３０の蓋部を貫通すると共に鉛直方向に移動自在な結晶引上げ軸３６が設けられている。結晶引上げ軸３６の下端にはＧａＡｓの種結晶３７が取り付けられている。
【００２０】
圧力容器１の下方の一方（図では左側）の側壁にはバルブ３８付きの配管３９を介して高濃度ＣＯガス供給容器４０が接続されている。高濃度ＣＯガス供給容器４０の上方には配管４１を介してＣＯ濃度計４２が接続され、高濃度ＣＯガス供給容器４０の側壁には略Ｆ字形状の配管４３の一端が接続されている。配管４３の一方（図では左側）の他端にはバルブ４４を介してＣＯガスが混入したＡｒガスボンベ４５が接続され、配管４３の他方（図では右側）の他端にはバルブ４６を介して純Ａｒガスボンベ４７が接続されている。
【００２１】
圧力容器３０の下方の他方（図では右側）の側壁にはバルブ４８付きの配管４９を介して低濃度ＣＯガス供給容器５０が接続されている。低濃度ＣＯガス供給容器５０の上方には配管５１を介してＣＯ濃度計５２が接続され、低濃度ＣＯガス供給容器５０の側壁には略Ｆ字形状の配管５３の一端が接続されている。配管５３の一方（図では左側）の他端にはバルブ５４を介してＣＯガス混入Ａｒガスボンベ５５が接続され、配管５３の他方（図では右側）の他端にはバルブ５６を介して純Ａｒガスボンベ５７が接続されている。
【００２２】
圧力容器３０の上方の側壁には余分な雰囲気ガスを排出するためのバルブ５８付きの配管５９が接続されている。圧力容器３０の蓋部にはバルブ６０付きの配管６１を介してＣＯ濃度計６２が接続されている。尚、６３，６４，６５はＣＯ濃度測定時にガスを排出するための配管である。
【００２３】
結晶成長炉６６は、主に圧力容器３０、ｐＢＮルツボ３２、ヒータ３３及び結晶引上げ軸３６で構成されている。
【００２４】
このような結晶成長炉６６を用いてＧａＡｓ単結晶を製造するには、結晶成長炉６６の圧力容器３０内に封入する雰囲気ガス中のＣＯの濃度Ｃ１を、圧力容器３０内の雰囲気ガスのＣＯの濃度Ｃ２に対して式（１）
０．８×Ｃ２≦Ｃ１≦１．２×Ｃ２ …（１）
を満足させるように各バルブ３８，４４，４６，４８，５４，５６，５８を開閉すると共に、結晶引上げ軸３６を降下させ、種結晶３７をＧａＡｓ融液３４に付けた後、結晶引上げ軸３６を回転させながら徐々に引き上げると、先端から後端（図の上下方向）にわたって希望する炭素濃度に対して均一なＧａＡｓ単結晶６７が得られる。
【００２５】
【実施例】
（実施例１）
図１に示す結晶成長炉を用いてＧａＡｓ単結晶を１０本引き上げた。
【００２６】
まず、結晶成長炉６６のｐＢＮルツボ３２内に、２０Ｋｇ／ｃｍ^２の圧力下で、ｐＢＮルツボ３２にＡｓが過剰組成となるような約２０ＫｇのＧａＡｓ融液３４を収容し、バルブ３８，４４，４６の開閉により、圧力容器３０内のＣＯ濃度が約５００ｐｐｍになるようにする。また、高濃度ＣＯガス供給容器４０内のＣＯ濃度が約６００ｐｐｍになるようにバルブ４４，４６の開閉によって調節し、かつ高濃度ＣＯガス供給容器４０内の圧力が圧力容器３０内の圧力より高くなるようにする。同様にバルブ５４，５６の開閉により低濃度ＣＯガス供給容器５０内のＣＯ濃度が約４００ｐｐｍになるように調節し、かつ低濃度ＣＯガス供給容器５０内の圧力が圧力容器３０内の圧力より高くなるようにする。圧力容器３０内のガスの圧力調節の際、これらの両ＣＯガス供給容器４０，５０内のＣＯ濃度は、それぞれＣＯ濃度計４２，５２で測定した。
【００２７】
この後、結晶引上げ軸３６を降下させ、種結晶３７をＧａＡｓ融液３４に付けた後、結晶引上げ軸３６を回転させながら徐々に引き上げ、結晶径約１１０ｍｍのＧａＡｓ単結晶に成長させた。尚、単結晶成長中、圧力容器３０内の圧力は約２０Ｋｇ／ｃｍ^２になるように保持した。
【００２８】
本実施例１では結晶成長炉６６の圧力容器３０内のＣＯ濃度を約５００ｐｐｍになるように保持し、引き上げられるＧａＡｓ単結晶の炭素濃度を約２．０×１０^１５／ｃｍ^３とするため、結晶成長中は圧力容器３０内のＣＯ濃度をＣＯ濃度計６２で測定し、圧力容器３０内のＣＯ濃度が５００ｐｐｍより高い場合には、バルブ４８を開けて、低濃度ＣＯガス供給容器５０よりＣＯガスを圧力容器３０内に導入し、かつバルブ５８を開けて圧力容器３０内の余分なガスを排出することにより、圧力容器３０内のＣＯ濃度が５００ｐｐｍになるように調節した。
【００２９】
一方、ＣＯ濃度が５００ｐｐｍより低い場合には、バルブ３８を開けて、高濃度ＣＯガス供給容器４０よりＣＯガスを圧力容器３０内に導入し、かつバルブ５８を開けて圧力容器３０内の余分なガスを排出することにより、圧力容器３０内のＣＯ濃度が５００ｐｐｍになるように調節した。
【００３０】
このようにして直径約１１０ｍｍ、長さ約３５０ｍｍのＧａＡｓ単結晶を１０本引き上げた。
【００３１】
（実施例２）
図１に示す結晶成長炉６６のｐＢＮルツボ３２内に、２０Ｋｇ／ｃｍ^２の圧力下で、ｐＢＮルツボ３２にＡｓが過剰組成となるような約２０ＫｇのＧａＡｓ融液３４を収容し、バルブ３８，４４，４６の開閉により、圧力容器３０内のＣＯ濃度が約１２００ｐｐｍになるようにする。また、高濃度ＣＯガス供給容器内のＣＯ濃度が約１４００ｐｐｍになるようにバルブ４４，４６の開閉によって調節し、かつ高濃度ＣＯガス供給容器４０内の圧力が圧力容器３０内の圧力より高くなるようにする。同様にバルブ５４，５６の開閉により低濃度ＣＯガス供給容器５０内のＣＯ濃度が約１０００ｐｐｍになるように調節し、かつ低濃度ＣＯガス供給容器５０内の圧力が圧力容器３０内の圧力より高くなるようにする。圧力容器３０内の雰囲気ガスの圧力調節の際、これら両ＣＯガス供給容器４０，５０内のＣＯ濃度は、それぞれＣＯ濃度計４２，５２で測定した。
【００３２】
この後、結晶引上げ軸３６を降下させ、種結晶３７をＧａＡｓ融液３４に付けた後、結晶引上げ軸３６を回転させながら徐々に引き上げ、結晶径約１１０ｍｍのＧａＡｓ単結晶に成長させた。成長中、圧力容器３０内の圧力を約２０Ｋｇ／ｃｍ^２になるように保持した。
【００３３】
本実施例２では圧力容器３０内のＣＯ濃度が約１２００ｐｐｍになるように保持して、引き上げられるＧａＡｓ単結晶６７の炭素濃度を約３．５×１０^１５／ｃｍ^３とするために、結晶成長中は圧力容器３０内のＣＯ濃度をＣＯ濃度計６２で測定し、ＣＯ濃度が１２００ｐｐｍより高い場合には、バルブ４８を開けて、低濃度ＣＯガス供給容器５０よりＣＯガスを圧力容器３０内に導入し、かつバルブ５８を開けて圧力容器３０内の余分な雰囲気ガスを排出することにより、圧力容器３０内のＣＯ濃度が１２００ｐｐｍになるように調節した。
【００３４】
一方、圧力容器３０内のＣＯ濃度が１２００ｐｐｍより低い場合には、バルブ３８を開けて、高濃度ＣＯガス供給容器４０よりＣＯガスを圧力容器３０内に導入し、かつバルブ５８を開けて圧力容器３０内の余分な雰囲気ガスを排出することにより、圧力容器３０内のＣＯ濃度が１２００ｐｐｍになるように調節した。
【００３５】
このようにして直径約１１０ｍｍ、長さ約３５０ｍｍのＧａＡｓ単結晶を１０本引き上げた。
【００３６】
（比較例１）
図１に示す結晶成長炉６６を用いてＧａＡｓ単結晶を１０本引き上げた。
【００３７】
ガスボンベ４５，５５にはＡｒガスにＣＯガスが５％混入したガスが、ガスボンベ４７，５７にはＡｒガスがそれぞれ入っている。
【００３８】
２０Ｋｇ／ｃｍ^２の圧力下で、ｐＢＮルツボ３２にＡｓが過剰組成となるような２０ＫｇのＧａＡｓ融液３４を作製した後、バルブ３８，４４，４６の開閉により、圧力容器３０内のＣＯ濃度が５００ｐｐｍになるようにした。また、高濃度ＣＯガス供給容器４０内のＣＯ濃度が６５０ｐｐｍになるように、バルブ４４，４６の開閉によって調節し、かつ、高濃度ＣＯガス供給容器４０内の圧力が圧力容器３０内の圧力より高くなるようにした。同様に、バルブ５４，５６の開閉により低濃度ＣＯガス供給容器５０内のＣＯ濃度が３５０ｐｐｍになるように調節し、かつ、低濃度ＣＯガス供給容器５０内の圧力が圧力容器内３０の圧力より高くなるように調節した。圧力調節の際、両ＣＯガス供給容器４０，５０内のＣＯ濃度は、それぞれＣＯ濃度計４２，５２で測定した。
【００３９】
この後、ＧａＡｓ融液３４に種結晶３７を付け、結晶引上げ軸３６を回転させながら引上げ、結晶径１１０ｍｍのＧａＡｓ単結晶６７に成長させた。成長中、結晶成長炉６６内の圧力は、２０Ｋｇ／ｃｍ^２に保持した。
【００４０】
本比較例１では、結晶成長炉６６の圧力容器３０内のＣＯ濃度が５００ｐｐｍになるように保持し、引き上げられるＧａＡｓ単結晶６７の炭素濃度を２．０×１０^１５／ｃｍ^３とするため、成長中は圧力容器３０内のＣＯ濃度をＣＯ濃度計６２で測定し、圧力容器３０内のＣＯ濃度が５００ｐｐｍより高い場合には、バルブ４８を開けて、低濃度ＣＯガス供給容器５０よりＣＯガスを圧力容器３０内に導入し、かつバルブ５８を開けて圧力容器３０内の余分な雰囲気ガスを排出することにより、結晶成長炉６６内のＣＯ濃度が５００ｐｐｍになるように調節した。
【００４１】
このようにして直径１１０ｍｍ、長さ３５０ｍｍのＧａＡｓ単結晶６７を１０本引き上げた。
【００４２】
（比較例２）
図１に示す結晶成長炉６６を用いてＧａＡｓ単結晶を１０本引き上げた。
【００４３】
ガスボンベ４５，５５には、ＡｒガスにＣＯガスを５％混入したガスが、ガスボンベ４７，５７にはＡｒガスがそれぞれ入っている。
【００４４】
２０Ｋｇ／ｃｍ^２の圧力下でｐＢＮルツボ３２にＡｓが過剰組成となるような２０ＫｇのＧａＡｓ融液３４を作成した後、バルブ３８，４４，４６の開閉により、圧力容器３０内のＣＯ濃度が１２００ｐｐｍになるようにした。また高濃度ＣＯガス供給容器４０内のＣＯ濃度が１５００ｐｐｍになるように、バルブ４４，４６の開閉によって調節し、かつ高濃度ＣＯガス供給容器４０内の圧力が圧力容器３０内の圧力より高くなるようにした。同様に、バルブ５４，５６の開閉により低濃度ＣＯガス供給容器５０内のＣＯ濃度が９００ｐｐｍになるように調節し、かつ低濃度ＣＯガス供給容器５０内の圧力が圧力容器３０内の圧力より高くなるようにした。圧力容器３０内の圧力調節の際、両ＣＯガス供給容器４０，５０内のＣＯ濃度は、それぞれＣＯ濃度計４２，５２で測定した。
【００４５】
この後、ＧａＡｓ融液３４に種結晶３７を付け、結晶引上げ軸３６を回転させながら引上げ、結晶径１１０ｍｍのＧａＡｓ単結晶６７に成長させた。成長中、結晶成長炉６６内の圧力は、２０Ｋｇ／ｃｍ^２に保持した。
【００４６】
本比較例２では結晶成長炉６６の圧力容器３０内のＣＯ濃度が１２００ｐｐｍになるように保持し、引き上げられるＧａＡｓ単結晶６７のＣＯ濃度を３．５×１０^１５／ｃｍ^３とするために、成長中は圧力容器３０内のＣＯ濃度をＣＯ濃度計６２で測定し、圧力容器３０内のＣＯ濃度が１２００ｐｐｍより高い場合には、バルブ４８を開けて、低濃度ＣＯガス供給容器５０より、ＣＯガスを圧力容器３０内に導入し、かつバルブ５８を開けて圧力容器３０内の余分な雰囲気ガスを排出することにより、圧力容器３０内のＣＯ濃度が１２００ｐｐｍになるように調節した。
【００４７】
一方、圧力容器３０内のＣＯ濃度が１２００ｐｐｍより低い場合には、バルブ３８を開けて、高濃度ＣＯガス供給容器４０より、ＣＯガスを圧力容器３０内に導入し、かつバルブ５８を開けて圧力容器３０内の余分な雰囲気ガスを排出することにより、圧力容器３０内のＣＯ濃度が１２００ｐｐｍになるように調節した。
【００４８】
実施例１、実施例２、比較例１及び比較例２の方法によって成長したＧａＡｓ単結晶の中から無作為にＧａＡｓ単結晶を１本ずつ選び、それぞれのＧａＡｓ単結晶の先端から３０ｍｍおきに各位置で５ｍｍの厚さの試料を採取し、各試料の両面を研磨して鏡面にした。この後、赤外線吸収法により、それぞれの試料の炭素濃度を測定し、ＧａＡｓ結晶中の炭素濃度の分布を調べた。その結果を、表１〜表４、図２〜図５に示す。
【００４９】
【表１】

【００５０】
【表２】

【００５１】
【表３】

【００５２】
【表４】

【００５３】
表１は実施例１の方法により成長した結晶の番号、多結晶発生位置及び結晶形状の変動の関係を示している。同様に表２は実施例２の方法に対応し、表３は比較例１、表４は比較例２に対応している。
【００５４】
図２は、実施例１の方法により成長した結晶の軸方向の炭素濃度を示し、図３は実施例２の方法により成長した結晶の軸方向の炭素濃度を示す図である。図４は、比較例１の方法により成長した結晶の軸方向の炭素濃度を示し、図５は比較例２の方法により成長した結晶の軸方向の炭素濃度を示す図である。図２〜図５において、横軸は引上げ長さ軸であり、縦軸は炭素濃度軸である。
【００５５】
表１〜表４、図２〜図５より実施例１及び実施例２で得られたＧａＡｓ単結晶は、比較例１及び比較例２で得られたＧａＡｓ単結晶に比べて、ＧａＡｓ単結晶中の炭素濃度の目標値からのずれが小さいことがわかる。
【００５６】
【発明の効果】
以上要するに本発明によれば、次のような優れた効果を発揮する。
【００５７】
液体封止引上げ法によってＧａＡｓ単結晶を製造すると共に、ＧａＡｓ単結晶に含まれる炭素濃度を、結晶成長炉内の雰囲気ガス中の一酸化炭素濃度により制御するＧａＡｓ単結晶の製造方法において、結晶成長炉内に封入するガス中の一酸化炭素濃度を所定の範囲内になるように調節することにより、先端から後端にわたって希望する炭素濃度に対して均一なＧａＡｓ単結晶を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のＧａＡｓ単結晶の製造方法を適用した結晶成長炉の一実施の形態を示す概念図である。
【図２】実施例１の方法により成長した結晶の軸方向の炭素濃度を示す図である。
【図３】実施例２の方法により成長した結晶の軸方向の炭素濃度を示す図である。
【図４】比較例１の方法により成長した結晶の軸方向の炭素濃度を示す図である。
【図５】比較例２の方法により成長した結晶の軸方向の炭素濃度を示す図である。
【図６】従来のＧａＡｓ単結晶の製造方法を適用した結晶成長炉の概念図である。
【符号の説明】
３０圧力容器
３２ｐＢＮルツボ
３３ヒータ
３６結晶引上げ軸
３８，４４，４６，４８，５４，５６，５８バルブ
６６結晶成長炉
６７ＧａＡｓ単結晶

Claims

液体封止引上げ法によってＧａＡｓ単結晶を製造すると共に、ＧａＡｓ単結晶に含まれる炭素濃度を、結晶成長炉内の雰囲気ガス中の一酸化炭素濃度を測定し、一酸化炭素ガスを適宜導入することにより制御するＧａＡｓ単結晶の製造方法において、上記結晶成長炉内に封入するガス中の一酸化炭素濃度Ｃ１を、結晶成長炉内の雰囲気ガス中の一酸化炭素濃度Ｃ２に対して下記式
０．８×Ｃ２≦Ｃ１≦１．２×Ｃ２
を満足させるよう調節することを特徴とするＧａＡｓ単結晶の製造方法。