JPH03233946A - ワイヤボンディング方法 - Google Patents

ワイヤボンディング方法

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JPH03233946A
JPH03233946A JP2030464A JP3046490A JPH03233946A JP H03233946 A JPH03233946 A JP H03233946A JP 2030464 A JP2030464 A JP 2030464A JP 3046490 A JP3046490 A JP 3046490A JP H03233946 A JPH03233946 A JP H03233946A
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JP
Japan
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wire
bonding
chip
substrate
bonded
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Tatsuya Sakano
坂野 達哉
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Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、ワイヤボールを用いたワイヤボンディング方
法に関する。
(従来の技術) 従来から、ワイヤボンディングループ高さを抑えるワイ
ヤボンディング方法として、基板上のボンディング位置
とこの基板上に搭載されたICチップ上のボンディング
位置との間のワイヤボンディングは、たとえば第2図(
a)〜(e)に示すように行われていた。同図において
、1は基板、2はこの基板1上に搭載されたICチップ
を示している。
まず、キャピラリ治具3の先端から導出されるワイヤ4
の先端に形成されたワイヤボール5とともにワイヤ4の
先端を(同図(a)) 、基板1上のたとえば電極であ
るボンディング位置7にポンデイグする(同図(b))
。このボンディングは、キャピラリ治具3によりワイヤ
ボール5をボンディング位置7に押し付けつつ、超音波
や熱または超音波と熱との併用により接合することによ
り行つ0 次に、ワイヤ4を送り出しつつキャピラリ治具3を上昇
させICチップ2上のたとえば電極であるボンディング
位置6側に移動させる(同図(c))。その後、ワイヤ
4をICチップ2上のボンディング位置6に上述と同様
の方法によりボンディングする(同図(d))。
そして、キャピラリ治具3の先端からワイヤ4を一定量
導出して、キャピラリ治具3を上昇させ、ワイヤ4の先
端に電気トーチ8によりワイヤポル5を形成する(同図
(e))ことにより一連の動作が終了し、−膜内には上
記一連の動作が繰り返される。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、このようなワイヤボンディング方法では
、基板1上に搭載されたICチップ2の損傷を招来るこ
とがしばしば認められるばかりでなく、ワイヤボールの
高さがバラツキ、ボンディング強度が安定しない。すな
わち、基板1上に搭載されたICチップ2上のボンディ
ング位置6、たとえば電極面にワイヤ4の先端をンデイ
グする際、ボンデインクに要する押圧力がそのまま(直
接的に)ICチップ2面に印加されることになる。
つまり、キャピラリ治具3の先端部が、ある押圧力をも
ってICチップ2の上面に直接接触する形ないし状態と
なる。このため、ICチップ2面に不所望な傷など生じ
てICチップ2自体の性能ないし機能が損われるという
問題がある。また、基板1側に、まずワイヤボンディン
グし、引続いてICチップ2を損わないようにICチッ
プ2側にワイヤボンディングするため、キャピラリ先端
から一定量のワイヤを導出する際、ワイヤボンディング
強度不足のため、一定量のワイヤを導出しえない。した
がって、一定の大きさのワイヤボールが形成されずボン
ディングにバラツキが生し易い。
本発明はこのような問題を解決するためのもので、基板
上に搭載されたICチップに損傷などの悪影響を及ぼす
ことなく、確実にワイヤボンディングを行い得るワイヤ
ボンディング方法の提供を目的とする。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明は、基板上のボンディング位置と、この基板上に
搭載されたICチップ上のボンデインク゛位置との間で
ワイヤボンディングを行う方法において、 前記ICチップ上のボンディング位置にワイヤボールの
みをボンディングした後、前記基板上のボンディング位
置にワイヤボールとともにワイヤの先端をボンディング
し、次いで前記ワイヤを前記ICチップ上のボンディン
グ位置にボンディングされたワイヤボールにボンディン
グすることを特徴とする。
(作 用) 本発明では、ワイヤをICチップ面上のボンディング位
置にボンディングする際、予めボンディングされたワイ
ヤボールにワイヤがボンディングされる。つまり、IC
チップ面に対するボンディングは、基板側のボンディン
グを行った後、キャピラリ治具による直接の押圧力の加
わらない状態で被着形成されたワイヤボールを介在させ
て(ワイヤとワイヤボールとが最初に接触する)なされ
るため、ワイヤ側からの圧力ないしキャピラリ治具先端
が直接ICチップ面に加わることはななり、よってIC
チップ面に損傷など起すことがないため、十分の押圧力
を加えることができ、所要のボンディング強度でワイヤ
ボンディングを確実に行うことができる。
(実施例) 以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第1図(a)〜(f)は本発明の一実施例に係るワイヤ
ボンディング方法の実施態様を模式的に示す説明図であ
る。
同図において、1は基板、2はこの基板1上に搭載され
たICチップを示している。
まず、キャピラリ治具3の先端から導出されるワイヤ4
の先端に形成されたワイヤボール5′を(同図(a))
、基板1上に搭載されたICチップ2のたとえば電極で
あるボンディング位置6にボンディングする(同図(b
))。このボンディングは、キャピラリ治具3によりワ
イヤボール5′をボンディング位置6に超音波や熱また
は超音波と熱との併用により行う。ここで重要なことは
、ワイヤボール5′のみをボンディングし、ワイヤ4は
ボンディングしないことである。
次に、キャピラリ治具3の先端からワイヤ4を一定量導
出し、キャピラリ治具3を上昇させ、ワイヤ4の先端に
電気トーチ8によりワイヤボール5を形成する(同図(
C))。そして、キャピラリ治具3を基板1上のたとえ
ば電極であるボンディング位置7側に移動させ、ワイヤ
4の先端に形成されたワイヤボール5を、基板1上のボ
ンディング位置7に押えつけつつ、超音波や熱または超
音波と熱との併用によりボンディングするとともに、ワ
イヤ4の先端をボンディングする。
しかる後、ワイヤ4を送り出しつつキャピラリ治具3を
上昇させ再びICチップ2上のボンディング位置6側に
移動させる(同図(d))。次いで、ワイヤ4をICチ
ップ2上のボンディング位置6にボンディングされてい
る前記ワイヤボール5′上に上述と同様の方法によりボ
ンディングしてから(同図(e))、キャピラリ治具3
の先端からワイヤ4を一定量導出して、キャピラリ治具
3を上昇させ、ワイヤ4の先端に電気トーチ8によりワ
イヤボール5を形成する(同図(f))ことにより一連
の動作が終了し、この一連の動作が順次繰り返される。
本実施例のワイヤボンディング方法によれば、ワイヤ4
を基板1上に搭載されたICチップ2のボンディング位
置6にボンディングする際、先に(予め)ボンディング
されたワイヤボール5′にワイヤ4がボンディングされ
る。したがって、キャピラリ治具3によるワイヤ4側か
らの圧力はワイヤボール5−に最も強くかかり、かつキ
ャピラリ治具3がICチップ2のボンディング位置6に
接触することもなくなる。つまり、ICチップ2面のボ
ンディング位置6に対して、前記ワイヤポル5′がクッ
ションテキな作用を呈する形で最終的にワイヤ4がボン
ディングされるため、ICチップ2面などに損傷など生
じる恐れも全面的に回避し得るし、一定のワイヤボンデ
ィング強度も維持できる。
[発明の効果] 以上説明したように本発明によれば、ワイヤを基板上に
搭載されたICチップ面のボンディング位置にボンディ
ングする際、先にボンディングされたワイヤボールにワ
イヤがボンディングされるので、ICチップに何等損傷
などの悪影響を及ぼすことなく、ワイヤボンディングを
確実に行うことができる。また所望のボンディング強度
も得られるので、確実、簡単に高さの低いワイヤループ
を形成し得ることになり、薄型化を要求されている実装
回路の製造手段として好適するワイヤボンディング方法
といえる。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)〜(f)は本発明に係るワイヤボンディン
グ方法の一実施例の態様を模式的に示す説明図、第2図
(a)〜(e)は従来のワイヤボンディング方法の態様
を模式的に示す説明図である。 1・・・・・基板 2・・・・・・ICチップ 3・・・・・・キャピラリ治具 4・・・・・・ワイヤ 5.5−・・・ワイヤボール 6・・・・・・ICチップ上のボンディング位置7・・
・・・・基板上のボンディング位置8・・・・・・電気
トーチ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 基板上のボンディング位置と、この基板上に搭載された
    ICチップ上のボンディング位置との間でワイヤボンデ
    ィングを行う方法において、前記ICチップ上のボンデ
    ィング位置にワイヤボールのみをボンディングした後、
    前記基板上のボンディング位置にワイヤボールとともに
    ワイヤの先端をボンディングし、次いで前記ワイヤを前
    記ICチップ上のボンディング位置にボンディングされ
    たワイヤボールにボンディングすることを特徴とするワ
    イヤボンディング方法。
JP2030464A 1990-02-08 1990-02-08 ワイヤボンディング方法 Pending JPH03233946A (ja)

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JP2030464A JPH03233946A (ja) 1990-02-08 1990-02-08 ワイヤボンディング方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6946380B2 (en) 2002-02-19 2005-09-20 Seiko Epson Corporation Method for forming bump, semiconductor element having bumps and method of manufacturing the same, semiconductor device and method of manufacturing the same, circuit board, and electronic equipment

Cited By (2)

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US7176570B2 (en) 2002-02-19 2007-02-13 Seiko Epson Corporation Method for forming bump, semiconductor element having bumps and method of manufacturing the same, semiconductor device and method of manufacturing the same, circuit board, and electronic equipment

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