JPH03233334A - 半導体圧力センサ - Google Patents
半導体圧力センサInfo
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- JPH03233334A JPH03233334A JP2030139A JP3013990A JPH03233334A JP H03233334 A JPH03233334 A JP H03233334A JP 2030139 A JP2030139 A JP 2030139A JP 3013990 A JP3013990 A JP 3013990A JP H03233334 A JPH03233334 A JP H03233334A
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 68
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L19/00—Details of, or accessories for, apparatus for measuring steady or quasi-steady pressure of a fluent medium insofar as such details or accessories are not special to particular types of pressure gauges
- G01L19/0061—Electrical connection means
- G01L19/0084—Electrical connection means to the outside of the housing
-
- G—PHYSICS
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- G01L19/14—Housings
- G01L19/147—Details about the mounting of the sensor to support or covering means
-
- G—PHYSICS
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- G01P—MEASURING LINEAR OR ANGULAR SPEED, ACCELERATION, DECELERATION, OR SHOCK; INDICATING PRESENCE, ABSENCE, OR DIRECTION, OF MOVEMENT
- G01P1/00—Details of instruments
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-
- G—PHYSICS
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- G01P—MEASURING LINEAR OR ANGULAR SPEED, ACCELERATION, DECELERATION, OR SHOCK; INDICATING PRESENCE, ABSENCE, OR DIRECTION, OF MOVEMENT
- G01P15/00—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration
- G01P15/02—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses
- G01P15/08—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体圧力センサに関し、特に温度補償及び圧
力感度校正などの機能を有する半導体圧力センサに関す
る。
力感度校正などの機能を有する半導体圧力センサに関す
る。
従来、この種の半導体圧力センサは温度補償及び圧力感
度校正などの回路を形成した絶縁基板上にセンサチップ
がマウントされている。
度校正などの回路を形成した絶縁基板上にセンサチップ
がマウントされている。
第3図はかかる従来の一例を示す半導体圧力センサの構
造断面図である。
造断面図である。
第3図に示すように、従来の半導体圧力センサは温度補
償及び圧力感度校正などの回路と圧力導入穴31dを形
成した絶縁基板31の第2の面31c側に且つ圧力導入
穴31d上に、センサチップ34がマウント側39によ
り気密接着されている。このセンサチップ34と絶縁基
板31の回路とは、Au線等のボンディングワイヤ35
により接続され、しかも絶縁基板31は外部との入出力
のために必要な端子36が接続されている。更に、この
絶縁基板31の第2面31cには、大気開放式37aを
形成したチップカバー37が接着剤33により接合され
ている。一方、この絶縁基板31の第1の面31bには
圧力導入用ボート38aを形成したボートカバー38が
接着剤33により気密接合されている。
償及び圧力感度校正などの回路と圧力導入穴31dを形
成した絶縁基板31の第2の面31c側に且つ圧力導入
穴31d上に、センサチップ34がマウント側39によ
り気密接着されている。このセンサチップ34と絶縁基
板31の回路とは、Au線等のボンディングワイヤ35
により接続され、しかも絶縁基板31は外部との入出力
のために必要な端子36が接続されている。更に、この
絶縁基板31の第2面31cには、大気開放式37aを
形成したチップカバー37が接着剤33により接合され
ている。一方、この絶縁基板31の第1の面31bには
圧力導入用ボート38aを形成したボートカバー38が
接着剤33により気密接合されている。
上述した従来の半導体圧力センサは、絶縁基板に直接セ
ンサチップをマウントする構造となっている。従って、
ワイヤーボンディングの高さは、センサチップ側の方が
センサチップの厚さ分高くなり、ワイヤーボンディング
の距離が長くなるという欠点がある。その上、絶縁基板
とセンサチップとの熱膨張差によってセンサチップの熱
歪みを生じるという欠点がある。
ンサチップをマウントする構造となっている。従って、
ワイヤーボンディングの高さは、センサチップ側の方が
センサチップの厚さ分高くなり、ワイヤーボンディング
の距離が長くなるという欠点がある。その上、絶縁基板
とセンサチップとの熱膨張差によってセンサチップの熱
歪みを生じるという欠点がある。
本発明の目的は、かかるワイヤボンディングの距離を短
縮しセンサを小型化するとともに、センサチップと絶縁
基板との熱膨張差によって生ずる熱歪を低減することの
できる半導体圧力センサを提供することにある。
縮しセンサを小型化するとともに、センサチップと絶縁
基板との熱膨張差によって生ずる熱歪を低減することの
できる半導体圧力センサを提供することにある。
本発明の半導体圧力センサは、温度補償及び圧力感度校
正などの回路とセンサチップよりも大きな貫通領域を形
成した絶縁基板の第1の面に前記貫通領域を覆う形状を
有し、且つ前記絶縁基板とは異種の第2の基板を接合さ
せ、前記絶縁基板の第2の面より前記貫通領域を通して
前記第2の基板にセンサチップをマウントして構成され
る。
正などの回路とセンサチップよりも大きな貫通領域を形
成した絶縁基板の第1の面に前記貫通領域を覆う形状を
有し、且つ前記絶縁基板とは異種の第2の基板を接合さ
せ、前記絶縁基板の第2の面より前記貫通領域を通して
前記第2の基板にセンサチップをマウントして構成され
る。
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第1図は本発明の第一の実施例を示す半導体圧力センサ
の構造断面図である。
の構造断面図である。
第1図に示すように、本実施例は温度補償及び圧力感度
校正などの回路およびセンサチップ4よりも大きな貫通
領域1aを形成した絶縁基板1の第1の面1bに貫通領
域1aを覆う形状を有し且つ絶縁基板1とは異種の第2
の基板2を接合させ、絶縁基板1の第2の面より貫通領
域1aを通して第2の基板2にセンサチップ4をマウン
トして構成される。
校正などの回路およびセンサチップ4よりも大きな貫通
領域1aを形成した絶縁基板1の第1の面1bに貫通領
域1aを覆う形状を有し且つ絶縁基板1とは異種の第2
の基板2を接合させ、絶縁基板1の第2の面より貫通領
域1aを通して第2の基板2にセンサチップ4をマウン
トして構成される。
すなわち、温度補償及び圧力感度校正などの回路および
センサチップ4よりも大きな貫通領域1aを有する絶縁
基板1の第1の面1bには貫通領域1aを覆い且つ圧力
導入穴2aを形成するとともに絶縁基板1とは異種の基
板、例えばシリコン製の第2の基板2を接着剤3により
接合している。この絶縁基板1の第2の面ICより貫通
領域1aを通して第2の基板2のチップ搭載部2bにセ
ンサチップ4をマウント剤9により気密接着する。これ
らセンサチップ4と絶縁基板1の回路とは、AU線等の
ボンディングワイヤ5により接続されている。また、絶
縁基板1には外部との入出力接続のために必要な端子6
が接続される。さらに、絶縁基板1の第2の面2Cには
、大気開放穴7aを形成したチップカバー7が接着剤3
により接合され、更に第2の基板2のチップ搭載部2b
の対面2Cには、圧力導入用ボート8aを形成したボー
トカバー8が接着剤3により気密接合される。
センサチップ4よりも大きな貫通領域1aを有する絶縁
基板1の第1の面1bには貫通領域1aを覆い且つ圧力
導入穴2aを形成するとともに絶縁基板1とは異種の基
板、例えばシリコン製の第2の基板2を接着剤3により
接合している。この絶縁基板1の第2の面ICより貫通
領域1aを通して第2の基板2のチップ搭載部2bにセ
ンサチップ4をマウント剤9により気密接着する。これ
らセンサチップ4と絶縁基板1の回路とは、AU線等の
ボンディングワイヤ5により接続されている。また、絶
縁基板1には外部との入出力接続のために必要な端子6
が接続される。さらに、絶縁基板1の第2の面2Cには
、大気開放穴7aを形成したチップカバー7が接着剤3
により接合され、更に第2の基板2のチップ搭載部2b
の対面2Cには、圧力導入用ボート8aを形成したボー
トカバー8が接着剤3により気密接合される。
かかる構成の半導体圧力センサとすることにより、絶縁
基板1とセンサチップ4の高低差を無くすことができる
ので、ボンディングワイヤ5を短縮でき、またセンサチ
ップ4が搭載される第2の基板2の材質をセンサチップ
4の材質に近く選択することができるので、熱膨張差に
よって生じる熱歪をも低減することができる。
基板1とセンサチップ4の高低差を無くすことができる
ので、ボンディングワイヤ5を短縮でき、またセンサチ
ップ4が搭載される第2の基板2の材質をセンサチップ
4の材質に近く選択することができるので、熱膨張差に
よって生じる熱歪をも低減することができる。
第2図は本発明の第二の実施例を示す半導体圧力センサ
の構造断面図である。
の構造断面図である。
第2図に示すように、本実施例は前述した第1の実施例
と同様に温度補償及び圧力感度校正などの回路およびセ
ンサチップ24より大きな貫通領域21aを形成した絶
縁基板21の第1の面21bには、貫通領域21aを覆
い且つ圧力導入穴22aを形成するとともに、絶縁基板
21とは異種の基板、例えばシリコン製の第2の基板2
2を接着剤23により接合している。また、絶縁基板2
1の第2の面21cより貫通領域21aを通して第2の
基板22のチップ搭載部22bにセンサチップ24がマ
ウント剤29により気密接着され、センサチップ24と
絶縁基板21の回路とは、Au線等のボンディングワイ
ヤ25により接続され、しかも絶縁基板21には外部と
の入出力接続に必要な端子26を接続することも同様で
ある。
と同様に温度補償及び圧力感度校正などの回路およびセ
ンサチップ24より大きな貫通領域21aを形成した絶
縁基板21の第1の面21bには、貫通領域21aを覆
い且つ圧力導入穴22aを形成するとともに、絶縁基板
21とは異種の基板、例えばシリコン製の第2の基板2
2を接着剤23により接合している。また、絶縁基板2
1の第2の面21cより貫通領域21aを通して第2の
基板22のチップ搭載部22bにセンサチップ24がマ
ウント剤29により気密接着され、センサチップ24と
絶縁基板21の回路とは、Au線等のボンディングワイ
ヤ25により接続され、しかも絶縁基板21には外部と
の入出力接続に必要な端子26を接続することも同様で
ある。
かかる第二の実施例においては、第2の基板22のチッ
プ搭載部22bの対面22cに、センサチップ24のダ
イアフラム部24aに間接的に圧力を加えるためのゲル
シリコーン210を充填するに必要なゲルケース211
を接着剤23により気密接合する。このゲルケース21
1は圧力媒体を導入するに必要な導入路212aを形式
したハウジング212が接着剤23により接合されてい
る。さらに、このハウジング212には大気開放穴21
3aを形式したハウジングキャップ213が接着剤23
により接合されている。
プ搭載部22bの対面22cに、センサチップ24のダ
イアフラム部24aに間接的に圧力を加えるためのゲル
シリコーン210を充填するに必要なゲルケース211
を接着剤23により気密接合する。このゲルケース21
1は圧力媒体を導入するに必要な導入路212aを形式
したハウジング212が接着剤23により接合されてい
る。さらに、このハウジング212には大気開放穴21
3aを形式したハウジングキャップ213が接着剤23
により接合されている。
かかる構成の半導体圧力センサにおいても、前述した第
一の実施例と同様にボンディングワイヤ5の短縮および
熱膨張差による熱歪の発生を防止することができる。
一の実施例と同様にボンディングワイヤ5の短縮および
熱膨張差による熱歪の発生を防止することができる。
以上説明したように、本発明の半導体圧力センサは、温
度補償及び圧力感度校正などの回路及びセンサチップよ
りも大きな貫通領域を形式した絶縁基板の第1の面に、
前記貫通領域を覆う形状を形式するとともに絶縁基板と
は異種の第2の基板を接合させ、前記絶縁基板の第2の
面より前記貫通領域を通して前記第2の基板にセンサチ
ップをマウントすることにより、絶縁基板の厚さとセン
サチップの厚さを調整できるので、ボンディングワイヤ
の距離を短縮できるという効果がある。これは絶縁基板
を小さくすることになり、センサ自体も小型化できると
いう効果がある。また、本発明はセンサチップがマウン
トされる部分の材質を選択することが可能になるので、
熱膨張差によって生じる熱歪を低減することができると
いう効果もある。
度補償及び圧力感度校正などの回路及びセンサチップよ
りも大きな貫通領域を形式した絶縁基板の第1の面に、
前記貫通領域を覆う形状を形式するとともに絶縁基板と
は異種の第2の基板を接合させ、前記絶縁基板の第2の
面より前記貫通領域を通して前記第2の基板にセンサチ
ップをマウントすることにより、絶縁基板の厚さとセン
サチップの厚さを調整できるので、ボンディングワイヤ
の距離を短縮できるという効果がある。これは絶縁基板
を小さくすることになり、センサ自体も小型化できると
いう効果がある。また、本発明はセンサチップがマウン
トされる部分の材質を選択することが可能になるので、
熱膨張差によって生じる熱歪を低減することができると
いう効果もある。
第1図は本発明の第一の実施例を示す半導体圧力センサ
の構造断面図、第2図は本発明の第二の実施例を示す半
導体圧力センサの構造断面図、第3図は従来の一例を示
す半導体圧力センサの構造断面図である。 1.21.31・・・絶縁基板、2.22・・・第2の
基板、3,23.33・・・接着剤、4,24.34・
・・センサチップ、5.25.35・・・Au線、6゜
26.36・・・端子、7,37・・・チップカバー、
8.38・・・ボートカバー、9,29.39・・・マ
ウント剤、210・・・ゲルシリコーン、211・・・
ゲルケース、212・・・ハウジング、213・・・ハ
ウジングキャップ。
の構造断面図、第2図は本発明の第二の実施例を示す半
導体圧力センサの構造断面図、第3図は従来の一例を示
す半導体圧力センサの構造断面図である。 1.21.31・・・絶縁基板、2.22・・・第2の
基板、3,23.33・・・接着剤、4,24.34・
・・センサチップ、5.25.35・・・Au線、6゜
26.36・・・端子、7,37・・・チップカバー、
8.38・・・ボートカバー、9,29.39・・・マ
ウント剤、210・・・ゲルシリコーン、211・・・
ゲルケース、212・・・ハウジング、213・・・ハ
ウジングキャップ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、温度補償及び圧力感度校正などの回路とセンサチッ
プよりも大きな貫通領域を形成した絶縁基板の第1の面
に前記貫通領域を覆う形状を有し、且つ前記絶縁基板と
は異種の第2の基板を接合させ、前記絶縁基板の第2の
面より前記貫通領域を通して前記第2の基板にセンサチ
ップをマウントしたことを特徴とする半導体圧力センサ
。 2、請求項1記載の半導体圧力センサにおいて、センサ
チップの下部や第2の基板の圧力導入穴およびそれに続
くケース内部にゲルシリコーンを充填することを特徴と
する半導体圧力センサ。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2030139A JPH03233334A (ja) | 1990-02-08 | 1990-02-08 | 半導体圧力センサ |
US07/652,824 US5193394A (en) | 1990-02-08 | 1991-02-08 | Transducing device for accurately transducing a physical quantity into an electric signal |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2030139A JPH03233334A (ja) | 1990-02-08 | 1990-02-08 | 半導体圧力センサ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03233334A true JPH03233334A (ja) | 1991-10-17 |
Family
ID=12295435
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2030139A Pending JPH03233334A (ja) | 1990-02-08 | 1990-02-08 | 半導体圧力センサ |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5193394A (ja) |
JP (1) | JPH03233334A (ja) |
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DE19644830C1 (de) * | 1996-10-29 | 1998-02-19 | Daimler Benz Ag | Membran-Drucksensorchip |
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TWI325958B (en) * | 2007-04-26 | 2010-06-11 | Ind Tech Res Inst | Inertial sensor and producing method thereof |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS59217375A (ja) * | 1983-05-26 | 1984-12-07 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 半導体機械−電気変換装置 |
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JPS62226029A (ja) * | 1986-03-28 | 1987-10-05 | Tokyo Electric Co Ltd | ロ−ドセルの温度補正方法 |
-
1990
- 1990-02-08 JP JP2030139A patent/JPH03233334A/ja active Pending
-
1991
- 1991-02-08 US US07/652,824 patent/US5193394A/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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